JP2010153867A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、を含む。投影系は、基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影する。パターニングデバイスは、1つまたは複数のアライメントパターンを含み、リソグラフィ装置は、前記放射ビームとは別の放射によりアライメントパターンの各々を照明する副照明系を含み、投影系は、各アライメントパターンの像を基板テーブルに投影する。基板テーブルは、アライメントパターンの投影像を検出する1つまたは複数のセンサを含む。
【選択図】図4
Description
放射ビームの断面に付与されパターン付き放射ビームを形成するためのパターンを含むパターニングデバイスを支持する支持部と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影する投影系と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記パターニングデバイスは、放射ビームに付与される1つまたは複数のアライメントパターンを含み、
前記リソグラフィ装置は、前記放射ビームとは別の放射により前記アライメントパターンの各々を照明する副照明系を含み、
前記投影系は、前記基板に対し測定可能である位置に各アライメントパターンの像を生成するよう各アライメントパターンを投影し、
前記リソグラフィ装置は、前記アライメントパターンの投影像を検出する1つまたは複数のセンサを含む。
放射ビームの断面に付与されパターン付き放射ビームを形成するためのパターンを含むパターニングデバイスを支持し、
基板テーブルに基板を保持し、
基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影し、
前記パターニングデバイスは、放射ビームに付与される1つまたは複数のアライメントパターンを含み、
前記放射ビームとは別の放射により前記アライメントパターンの各々を照明し、
前記基板に対し測定可能である位置に各アライメントパターンの像を生成するよう各アライメントパターンを投影し、
各アライメントパターンの投影像を検出することを含む。
放射ビームB(例えばUV放射)を調整するよう構成されている照明系(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構成され、パラメタに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めする第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストを塗布されたウエーハ)Wを保持するよう構成され、パラメタに従って基板を正確に位置決めする第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウエーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つ以上のダイからなる)目標部分Cに投影するよう構成されている投影系(例えば屈折投影レンズ系)PSと、を備える。
1.粗い測定用の方形比マーカ。方形比マーカの中心部は小さい十字を含む。この十字はメトロロジツールによる光学品質検査の基準として使用することができる。
2.垂直格子を含むXアライメントマーカ。
3.水平格子を含むYアライメントマーカ。
Claims (15)
- 放射ビームの断面に付与されパターン付き放射ビームを形成するためのパターンを含むパターニングデバイスを支持する支持部と、
基板を保持する基板テーブルと、
基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影する投影系と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記パターニングデバイスは、1つまたは複数のアライメントパターンを含み、
前記リソグラフィ装置は、前記放射ビームとは別の放射により前記アライメントパターンの各々を照明する副照明系を含み、
前記投影系は、前記基板に対し測定可能である位置に各アライメントパターンの像を生成するよう各アライメントパターンを投影し、
前記リソグラフィ装置は、前記アライメントパターンの投影像を検出する1つまたは複数のセンサを含むことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記副照明系は、各アライメントパターンに対応するLEDを備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記副照明系は、各アライメントパターンに対応する固体レーザを備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームと、前記放射ビームとは別の放射とは、同一の波長を有することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記アライメントパターンは、前記パターニングデバイスにおいて、前記放射ビームに付与されるパターンの境界より外側に位置することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- アライメントパターンの像は前記基板テーブルに生成されることを特徴とする請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 各センサは透過イメージセンサを備えることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームの断面に付与されパターン付き放射ビームを形成するためのパターンと、1つまたは複数のアライメントパターンと、を含むパターニングデバイスを支持し、
基板テーブルに基板を保持し、
基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影し、
前記放射ビームとは別の放射により前記アライメントパターンの各々を照明し、
前記基板に対し測定可能である位置に各アライメントパターンの像を生成するよう各アライメントパターンを投影し、
各アライメントパターンの投影像を検出することを含むことを特徴とするリソグラフィ方法。 - 各アライメントパターンに対応するLEDにより別の放射が与えられることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 各アライメントパターンに対応する固体レーザにより別の放射が与えられることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記放射ビームと、前記放射ビームとは別の放射とは、同一の波長を有することを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 前記アライメントパターンは、前記パターニングデバイスにおいて、前記放射ビームに付与されるパターンの境界より外側に位置することを特徴とする請求項8に記載の方法。
- アライメントパターンの像は前記基板テーブルに生成されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記検出は透過イメージセンサを使用して実行されることを特徴とする請求項8に記載の方法。
- 放射ビームの断面に付与されパターン付き放射ビームを形成するためのパターンと、1つまたは複数のアライメントパターンと、を含むパターニングデバイスを支持し、
基板テーブルに基板を保持し、
基板の目標部分にパターン付き放射ビームを投影し、
前記放射ビームとは別の放射により前記アライメントパターンの各々を照明し、
前記基板に対し測定可能である位置に各アライメントパターンの像を生成するよう各アライメントパターンを投影し、
各アライメントパターンの投影像を検出し、
前記基板にマイクロ電子デバイスを形成することを含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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