JP6347849B2 - センサシステム、基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
第1のモードは、いわゆるステップモードである。ステップモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンの全体が1回の照射(すなわち単一静的露光)で目標部分Cに投影される間、マスク支持構造MT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされる。そして基板テーブルWTがx方向及び/またはy方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。ステップモードでは露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で転写される目標部分Cのサイズを制限することになる。
第2のモードは、いわゆるスキャンモードである。スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間(すなわち単一動的露光の間)、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期して走査される。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。スキャンモードでは露光フィールドの最大サイズが単一動的露光での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、走査移動距離が目標部分の(走査方向の)長さを決定する。
第3のモードにおいては、支持構造MTがプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、基板テーブルWTが移動または走査される。このモードではパルス放射源が通常用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTの毎回の移動後、または走査中の連続放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述のプログラマブルミラーアレイ等のプログラム可能パターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
β=α+2γ
1)βが十分大きいとすると、反射素子傾斜角度γがβ−αの2倍以上大きい。
2)光線Bを反射後に基板の端部に通過させるため、以下の式に従うようにギャップ幅gwが十分大きい。
gw>d・(α+β)=2d・(α+γ)
結像NA:0.025NA
リフレクタ傾斜角γ:>0.7°(0.013NA)
照明NA:>0.05NA
反射素子高さ;d≦45mm
ギャップ幅;gw:>3.8mm
各センサシステムの要素を表すために、インデックス1,2,3および4が用いられている。例えばFOV−1は第1センサシステムの視野であり、FOV−2は第2センサシステムの視野である。
Claims (13)
- 端部を有する基板の位置を決定するよう構成されたセンサシステムであって、
放射束を放出するよう配置された放射源と、
反射素子と、
検出装置と、
結像系と、
前記基板を支持するための支持面を有する基板テーブルと、を備え、
前記支持面は、少なくとも部分的に平面に沿っており、
前記放射源および前記検出装置は、前記平面の第1の側に配置され、
前記反射素子は、前記第1の側と反対の前記平面の第2の側に配置され、
前記反射素子は、放射束を反射することにより反射放射束を作るよう配置され、
前記反射素子は、反射放射束で前記端部を照明するよう配置され、
前記検出装置は、反射放射束を受光するよう配置され、
前記結像系は、前記検出装置に前記端部の像を投影するように反射放射束を伝播するよう配置され、
前記反射素子は、反射放射束により、ある照明開口数で前記端部を照明するよう配置され、
前記結像系は、ある結像開口数で前記検出装置に像を投影するよう配置され、
前記照明開口数は前記結像開口数よりも大きいことを特徴とするセンサシステム。 - 前記照明開口数は、前記結像開口数よりも少なくとも2倍大きいことを特徴とする請求項1に記載のセンサシステム。
- マークを備え、
前記マークは、放射束を反射することにより第2の反射放射束を作るよう配置され、
前記結像系は、前記検出装置にマークの像を投影するように第2の反射放射束を伝播するよう配置されることを特徴とする請求項1または2に記載のセンサシステム。 - 前記マークは、前記基板テーブル上に配置されることを特徴とする請求項3に記載のセンサシステム。
- 反射放射束および第2の反射放射束の一つの長さを延長するよう配置される光路延長装置を備えることを特徴とする請求項3または4に記載のセンサシステム。
- 前記放射源は、放射束で前記基板上に配置された基板マークを照明し、前記基板マークにより放射束を反射することにより第3の反射放射束を作るよう配置され、前記結像系は、前記検出装置に前記基板マークの像を投影するように第3の反射放射束を伝播するよう配置されることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のセンサシステム。
- 前記結像系は、テレセントリック結像系を備えることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のセンサシステム。
- 前記反射素子は、ミラーを備えることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のセンサシステム。
- 前記放射源は、主方向に沿って前記反射素子に向かって放射束を放出するよう配置され、前記ミラーは、主方向に対して非垂直に配置されることを特徴とする請求項8に記載のセンサシステム。
- 前記ミラーは、主方向に対して0.5度の角度であることを特徴とする請求項9に記載のセンサシステム。
- 前記基板テーブルは、第1の位置付けから第2の位置付けに前記基板を回転させるよう配置され、第1の位置づけでは、前記端部の第1部分が前記反射素子により照明され、第2の位置付けでは、前記端部の第2部分が前記反射素子により照明され、前記第1部分は前記第2部分と異なることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載のセンサシステム。
- 請求項1から11のいずれかに記載のセンサシステムを備える基板ハンドリングシステムであって、
前記基板を前記基板テーブルにまたは前記基板テーブルから移動するよう構成された保持装置をさらに備え、
前記保持装置は、保持装置マークを備え、
前記放射源は、前記保持装置マークにより放射束を反射することにより第4の反射放射束を作るよう配置され、
前記結像系は、前記検出装置に前記保持装置マークの像を投影するように第4の反射放射束を伝播するよう配置されることを特徴とする基板ハンドリングシステム。 - 請求項1から11のいずれかに記載のセンサシステムまたは請求項12に記載の基板ハンドリングシステムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記基板上にパターンを投影するよう配置された投影系をさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
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