KR20070064950A - 보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부 - Google Patents

보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부 Download PDF

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KR20070064950A
KR20070064950A KR1020050125592A KR20050125592A KR20070064950A KR 20070064950 A KR20070064950 A KR 20070064950A KR 1020050125592 A KR1020050125592 A KR 1020050125592A KR 20050125592 A KR20050125592 A KR 20050125592A KR 20070064950 A KR20070064950 A KR 20070064950A
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Abstract

보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 제공한다. 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부는 발광부 및 수광부를 포함하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서를 구비한다. 상기 발광부로부터 나온 빛을 반사시키는 반사판이 배치된다. 적어도 상기 발광부를 덮는 보호커버가 배치된다.
보호커버, 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서, 발광부, 수광부, 랙

Description

보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부{Wafer flat zone align sensor part having cover for protection}
도 1은 종래기술에서의 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서의 개략적인 구성도이다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예들에 따른 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 갖는 랙(RACK)을 보여주는 사시도들이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 갖는 랙(RACK)을 보여주는 사시도이다.
본 발명은 반도체 장치에 관한 것으로써, 보다 상세하게는 보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부에 관한 것이다.
최근 들어 전자 산업, 정보 통신 산업, 세부적으로 컴퓨터 산업의 빠른 기술 혁신과 개발이 지속적으로 이루어지고 있는 바, 이들 산업들의 빠른 기술 혁신 및 개발의 근원은 단시간 내 많은 양의 정보를 처리함과 동시에 처리된 정보를 임시적 또는 영구적으로 저장할 수 있으면서도 그 크기가 매우 작은 반도체 제품을 생산하는 반도체 산업의 발달에 기인함을 알 수 있다.
이와 같이 고집적, 고성능 반도체 제품을 생산하기 위해서는 매우 복잡하면서도 다양한 반도체 공정을 수십∼수백 번 반복적으로 진행하여야 한다. 이때, 반도체 제품의 모재료가 되는 순수 실리콘 웨이퍼가 다양한 반도체 공정을 수행하기 위해서는 필수적으로 실리콘 웨이퍼를 안전하게 복수 매 수납할 수 있는 웨이퍼 카세트를 필요로 한다. 이와 같은 목적을 갖는 웨이퍼 카세트에는 일례로 25매의 웨이퍼가 수납되도록 슬롯이 형성된다.
반도체 생산라인은 웨이퍼의 구경이 200mm에서 300mm로 변화되어감에 따라 설비의 크기만 변하는 것이 아니라 작업자에 대한 의존도가 낮은 자동화된 생산라인이 적용되고 있는 추세이다. 자동화된 생산라인은 체계적이고 효율적인 제조공정을 위해서 설비와 설비 사이 또는 설비 내에서의 웨이퍼 이송이 자동화된 시스템에 의해 제어된다. 이를 위해서, 생산라인은 웨이퍼의 이송, 저장, 정렬 및 기타 불량발생 요인을 제어할 수 있는 장치들이 설비 및 생산라인에 설치되어 있다.
자동화된 생산라인에서, 웨이퍼 카세트 이송장치에 의해 운반된 웨이퍼 카세트가 반도체 설비의 로드 포트내의 랙(RACK)에 놓여지면, 로드 포트에 설치되어 있는 웨이퍼 맵핑 수단은 각 슬롯의 웨이퍼 유무를 판별하는 맵핑 과정을 거친다. 또한, 상기 랙(RACK)에 부착되어 있는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서를 이용하여 상기 웨이퍼들의 플랫 존들이 얼라인 되었는지를 검사한다. 이어, 상기 웨이퍼의 플랫 존들이 얼라인 되어 있을 때만 상기 반도체 설비의 공정챔버로 이송되어 반도체 공정을 진행한다. 이후, 공정챔버 내에서 반도체 공정이 종료된 웨이퍼들은 상기 로드 포트 내의 웨이퍼 카세트 내로 이송되어 랙(RACK)에 놓이게 되고, 다시 후속공 정으로 이송되기 이전에 웨이퍼 맵핑 및 정렬검사를 다시 실시하여 상기 웨이퍼의 매수가 반도체 공정을 진행하기 이전 매수와 동일할 때에만 후속 공정으로 이송된다.
도 1은 종래기술에서의 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서의 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 통상적인 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서는 발광부(11)를 구비한다. 상기 발광부(11)는 빛을 방출하는(emitting) 광센서이다. 상기 발광부(11)로부터 소정 거리 만큼 이격된 위치에 수광부(13)가 배치된다. 상기 수광부(13)는 빛을 받아들이는(receiving) 광센서이다. 상기 수광부(13)는 지지대(15) 상에 체결 고정된다. 상기 발광부(11)와 상기 수광부(13)는 대향되게 배치된다. 상기 발광부(11)와 상기 수광부(13) 사이에 웨이퍼(17)가 위치한다. 상기 웨이퍼(17)의 외주부에 플랫 존(19)이 위치한다.
상기 발광부(11)로부터 방출된 빛은 상기 수광부(13)에 의해 받아들이게 된다. 이 경우에, 상기 발광부(11)로부터 방출되는 빛이 상기 발광부(11)와 상기 수광부(13) 사이에서 차단되면, 상기 발광부(11)로부터 방출된 빛이 상기 수광부(13)에 도달되지 않게 된다. 따라서, 상기 발광부(11)로부터 방출된 빛이 상기 플랫 존(19)이 형성된 웨이퍼 외주부를 경유하는 경우에는 상기 빛이 통과되어 상기 수광부(13)가 받아들인다. 반면에, 상기 플랫 존(19)이 형성되지 않은 웨이퍼 외주부를 빛이 통과하는 경우에는 웨이퍼에 의해 빛이 차단되어 상기 수광부(13)는 상기 발광부(11)의 빛을 받아들일 수 없다. 따라서, 웨이퍼의 플랫 존들의 정렬 여부를 검사할 수 있게 된다.
상기 웨이퍼의 플랫 존들의 정렬 여부의 검사 과정은 각 설비의 랙에서 진행된다. 따라서, 반도체 설비들 중 고온공정을 지속적으로 수행하는 설비인 경우, 예를 들어 확산설비의 경우, 확산공정 챔버내에서 반도체 공정이 종료된 웨이퍼들이 상기 로드 포트 내의 웨이퍼 카세트 내로 이송되어 랙에 보관되게 되는데, 이때, 상기 랙에 장착된 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서가 상기 확산설비 내에서의 공정에 의해 가열되어있는 웨이퍼들에 의해 열을 받게 된다. 즉, 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서가 매 공정진행마다 열에 그대로 노출됨에 따라 상기 센서의 수명이 단축되게 되고, 또한 에러 발생률이 높아진다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 반도체 확산설비 내에서 확산공정이 진행된 웨이퍼들에 의해 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서가 열화되는 현상을 최소화하기에 적합한 보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 제공하는 데 있다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 제공한다. 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부는 발광부 및 수광부를 포함하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서를 구비한다. 상기 발광부로부터 나온 빛을 반사시키는 반사판이 배치된다. 적어도 상기 발광부를 덮는 보호커버가 배치된다.
본 발명의 몇몇 실시예들에서, 상기 보호커버는 빛을 투과시키는 물질인 것이 바람직하다.
다른 실시예들에서, 상기 보호커버는 투명 아크릴 또는 석영유리일 수 있다.
또 다른 실시예들에서, 상기 보호커버는 탈 부착이 가능할 수 있다.
또 다른 실시예들에서, 상기 보호커버는 발광부만을 덮거나 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서를 덮을 수 있다.
본 발명의 다른 일 양태에 따르면, 보호커버를 갖는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 제공한다. 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부는 발광부 및 상기 발광부와 일정 거리를 두고 배치된 수광부를 구비한다. 상기 발광부를 덮는 보호커버가 배치된다.
본 발명의 몇몇 실시예들에서, 상기 보호커버는 빛을 투과시키는 물질인 것이 바람직하다.
다른 실시예들에서, 상기 보호커버는 투명 아크릴 또는 석영유리일 수 있다.
또 다른 실시예들에서, 상기 보호커버는 탈 부착이 가능할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시 예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하여 위하여 과장되어진 것이다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 실시예들에 따른 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부 를 갖는 랙(RACK)을 보여주는 사시도들이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 상기 랙(200)은 상기 웨이퍼 카세트가 안착되는 안착부(210), 상기 웨이퍼 카세트의 상방에 위치되는 지지부(220) 및 상기 안착부(210)와 상기 지지부(220) 사이를 이격하는 지지축들(230)을 구비할 수 있다. 또한, 상기 랙(200)은 상기 지지부(220)에 장착되되, 상기 웨이퍼 카세트로부터 상방에 장착되도록 배치되며, 상기 웨이퍼들의 플랫 존으로부터 수직으로 소정 거리 이격되어 배치되는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250)를 구비할 수 있다.
웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250)는 빛을 방출하는 발광부(260) 및 수광부(270)를 포함할 수 있다. 상기 발광부(260)는 빛을 방출하는(emitting) 광센서이다. 상기 수광부(270)는 빛을 받아들이는(receiving) 광센서이다. 상기 안착부(210)에 상기 발광부(260)로부터 나온 빛을 반사시키는 반사판(280)이 배치된다. 상기 지지부(220)에 부착되어 적어도 상기 발광부(260)를 덮는 보호커버(300a,300b)가 배치된다. 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250), 상기 반사판(280) 및 상기 보호커버(300a,300b)는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 구성할 수 있다.
상기 보호커버(300a)는 상기 발광부(260)만을 덮을 수도 있고, 또는 도 2b에서처럼, 상기 보호커버(300b)는 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250)를 덮을 수 도 있다. 상기 보호커버(300a,300b)는 빛을 투과시키는 물질인 것이 바람직하다. 상기 보호커버(300a,300b)는 투명 아크릴 또는 석영유리일 수 있다. 상기 보호커버(300a,300b)는 탈 부착이 가능할 수 있다.
따라서, 상기 발광부(260) 또는 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250)를 보호커버(300a,300b) 내부에 배치함으로써 반도체 확산설비 내에서 확산공정이 진행된 웨이퍼들이 웨이퍼 카세트에 다시 로딩되어 상기 랙(200)에 배치되었을 때 상기 웨이퍼들의 열에 의해 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서(250)가 열화되는 현상을 최소화할 수 있다
도 3은 본 발명의 다른 실시예들에 따른 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 갖는 랙(RACK)을 보여주는 사시도이다.
도 3을 참조하면, 상기 랙(200)은 상기 웨이퍼 카세트가 안착되는 안착부(210), 상기 웨이퍼 카세트의 상방에 위치되는 지지부(220) 및 상기 안착부(210)와 상기 지지부(220) 사이를 이격하는 지지축들(230)을 구비할 수 있다. 또한, 상기 랙(200)은 상기 지지부(220)에 부착된 발광부(400) 및 상기 발광부(400)와 일정 거리를 두고 상기 안착부(210)에 배치된 수광부(420)를 구비할 수 있다. 상기 발광부(400)는 빛을 방출하는(emitting) 광센서이다. 상기 수광부(420)는 빛을 받아들이는(receiving) 광센서이다. 상기 발광부(400)를 덮는 보호커버(430)가 배치된다.
상기 발광부(400), 상기 수광부(420) 및 상기 보호커버(430)는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부를 구성할 수 있다. 상기 보호커버(430)는 빛을 투과시키는 물질인 것이 바람직하다. 상기 보호커버(430)는 투명 아크릴 또는 석영유리일 수 있다. 상기 보호커버(430)는 탈 부착이 가능할 수 있다.
따라서, 상기 발광부(400)를 보호커버(430) 내부에 배치함으로써 반도체 확산설비 내에서 확산공정이 진행된 웨이퍼들이 웨이퍼 카세트에 다시 로딩되어 상기 랙(200)에 배치되었을 때 상기 웨이퍼들의 열에 의해 상기 발광부(400)가 열화되는 현상을 최소화할 수 있다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서 또는 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서의 발광부를 보호커버 내부에 배치함으로써 반도체 확산설비 내에서 확산공정이 진행된 웨이퍼들이 웨이퍼 카세트에 다시 로딩되어 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서가 있는 위치에 배치되었을 때 상기 웨이퍼들의 열에 의해 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서가 열화되는 현상을 최소화할 수 있다. 그 결과, 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서의 수명을 연장시켜 제조원가를 감소시킬 수 있다.

Claims (9)

  1. 발광부 및 수광부를 포함하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서;
    상기 발광부로부터 나온 빛을 반사시키는 반사판; 및
    적어도 상기 발광부를 덮는 보호커버를 포함하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 보호커버는 빛을 투과시키는 물질인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 보호커버는 투명 아크릴 또는 석영유리인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 보호커버는 탈 부착이 가능한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 보호커버는 발광부만을 덮거나 상기 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서를 덮는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  6. 발광부;
    상기 발광부와 일정 거리를 두고 배치된 수광부; 및
    상기 발광부를 덮는 보호커버를 포함하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 보호커버는 빛을 투과시키는 물질인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 보호커버는 투명 아크릴 또는 석영유리인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 보호커버는 탈 부착이 가능한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 플랫 존 얼라인 센서부.
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US10007197B2 (en) 2014-03-12 2018-06-26 Asml Netherlands B.V. Sensor system, substrate handling system and lithographic apparatus

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