JP2006332558A - 基板の処理システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 処理ステーション3の第1のブロックB1と第3のブロックB3には,複数の熱処理ユニットが積層される。第2のブロックB2には,複数の液処理ユニットが水平方向に配列される。第1と第3のブロックの熱処理ユニットには,第2のブロックB2の液処理ユニットにウェハWを搬送する搬送装置が設けられる。第1及び第3のブロックの熱処理ユニットは上下動自在であり,第2のブロックB2の液処理ユニットは水平方向に移動自在である。第1及び第3のブロックと第2のブロックB2との間でウェハWを搬送する際には,第1及び第3のブロックのユニットと第2のブロックB2のユニットが相対的に移動し,搬送装置によってウェハWが搬送される。
【選択図】 図8
Description
3 処理ステーション
B1〜B3 ブロック
W ウェハ
Claims (13)
- 基板を収容可能な複数のユニットを備え,
前記複数のユニットの少なくともいずれかは,基板の処理を行う処理ユニットであり,
前記複数のユニットのうちの特定のユニットは,ユニット相互間の基板の搬送を行う搬送装置を備え,
前記複数のユニットのうちの前記特定のユニットとそれ以外のユニットが相対的に移動して,前記搬送装置による前記ユニット間の基板の搬送経路が形成されることを特徴とする,基板の処理システム。 - 基板を収容可能な第1のユニットと第2のユニットを有し,
前記第1のユニット又は第2のユニットの少なくともいずれかは,複数備えられ,
前記第1のユニット又は第2のユニットの少なくともいずれかには,基板の処理を行う処理ユニットが含まれ,
前記第1のユニット又は第2のユニットの少なくともいずれかは,前記第1のユニットと前記第2のユニットとの間の基板の搬送を行う搬送装置を備え,
前記第1のユニット又は第2のユニットの少なくともいずれかが移動して,前記搬送装置による基板の搬送を行うことができることを特徴とする,基板の処理システム。 - 前記第1のユニット又は前記第2のユニットのいずれかが水平移動可能であり,
前記第1のユニット又は前記第2のユニットのいずれかが水平方向に並列されていることを特徴とする,請求項2に記載の基板の処理システム。 - 前記第1のユニット又は前記第2のユニットのいずれかが上下移動可能であり,
前記第1のユニット又は前記第2のユニットのいずれかが上下方向に積層されていることを特徴とする,請求項2又は3のいずれかに記載の基板の処理システム。 - 前記第1のユニットには,基板の熱処理を行う熱処理ユニットが含まれ,
前記第2のユニットには,基板の液処理を行う液処理ユニットが含まれていることを特徴とする,請求項2〜4のいずれかに記載の基板の処理システム。 - 前記熱処理ユニットは,基板を加熱する加熱板と,基板を冷却する冷却板と,前記搬送装置を備えていることを特徴とする,請求項5に記載の基板の処理システム。
- 前記熱処理ユニットは,複数備えられ,
前記複数の熱処理ユニットには,基板のアドヒージョン処理を行うアドヒージョン処理ユニットが含まれていることを特徴とする,請求項6に記載の基板の処理システム。 - 基板を収容可能な複数又は単数の第3のユニットを有し,
前記第3のユニットは,前記第2のユニットとの間で基板の搬送が行われるものであり,
前記第2のユニットが前記搬送装置を備える場合には,前記第2のユニット又は前記第3のユニットの少なくともいずれかが移動して,前記搬送装置による前記第2のユニットと前記第3のユニットとの間の基板の搬送を行うことができ,
前記第2のユニットが前記搬送装置を備えない場合には,第3のユニットは,前記第2のユニットと前記第3のユニットとの間の基板の搬送を行う他の搬送装置を備え,前記第2のユニット又は前記第3のユニットの少なくともいずれかが移動して,前記他の搬送装置による前記第2のユニットと前記第3のユニットとの間の基板の搬送を行うことができることを特徴とする,請求項2〜7のいずれかに記載の基板の処理システム。 - 前記第2のユニットが水平移動する場合には,前記第2のユニット又は前記第3のユニットのいずれかが水平方向に並列されていることを特徴とする,請求項8のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 前記第2のユニットが上下動する場合には,前記第2のユニット又は前記第3のユニットのいずれかが上下方向に積層されていることを特徴とする,請求項8のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 前記第3のユニットには,基板の熱処理を行う熱処理ユニットが含まれていることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載の基板の処理システム。
- 前記第3のユニットの熱処理ユニットは,基板を加熱する加熱板と,基板を冷却する冷却板と,前記搬送装置を備えていることを特徴とする,請求項11に記載の基板の処理システム。
- 前記熱処理ユニットは,複数備えられ,
前記複数の熱処理ユニットには,基板のアドヒージョン処理を行うアドヒージョン処理ユニットが含まれていることを特徴とする,請求項12に記載の基板の処理システム。
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Families Citing this family (5)
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6119131A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-28 | Toshiba Corp | レジスト処理装置 |
JPS6312126A (ja) * | 1986-05-19 | 1988-01-19 | マシン テクノロジ− インコ−ポレイテツド | プレファブ式処理装置 |
JPH11233421A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-27 | Tokyo Electron Ltd | 塗布・現像処理システム |
JP2002016037A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
JP2000124301A (ja) * | 1998-10-13 | 2000-04-28 | Tokyo Electron Ltd | 容器載置ユニット、容器収納装置、及び処理装置 |
JP3495292B2 (ja) * | 1999-06-09 | 2004-02-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP4342147B2 (ja) * | 2002-05-01 | 2009-10-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6119131A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-28 | Toshiba Corp | レジスト処理装置 |
JPS6312126A (ja) * | 1986-05-19 | 1988-01-19 | マシン テクノロジ− インコ−ポレイテツド | プレファブ式処理装置 |
JPH11233421A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-27 | Tokyo Electron Ltd | 塗布・現像処理システム |
JP2002016037A (ja) * | 2000-06-30 | 2002-01-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014033042A (ja) * | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Tokyo Electron Ltd | 熱処理装置、熱処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
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