JP2013069874A - 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】処理ステーション3と、カセット載置台12と、処理ステーション3とカセット載置台12との間に配置されたウェハ搬送機構21a、21bと、を備えた基板処理システム1において、処理ステーション3とウェハ搬送機構21a、21bとの間には、カセット載置台12と処理ステーション3との間で搬送されるウェハ、及び各処理ユニットの各段の間で搬送される基板を一時的に収容する複数の受け渡しユニットが多段に設けられた受け渡しブロック22が配置されている。ウェハ搬送機構21a、21bは、カセット載置台12と受け渡しブロック22との間でウェハを搬送する第1の搬送アームと、受け渡しユニットの各段の間でウェハを搬送する第2の搬送アームとを備え、ウェハ搬送機構21a、21bは、上下方向に並べて設けられている。
【選択図】図2
Description
前記基板搬送機構は、前記カセット載置部と前記各受け渡しユニットとの間で基板を搬送する第1の搬送アームと、前記各受け渡しユニットの各段の間で基板を搬送する第2の搬送アームとを備えていることを特徴としている。
基板を搬送していない他の基板搬送機構により、前記各受け渡しユニットの各段の間における搬送を行ってもよい。
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光ユニット
5 インターフェイスステーション
6 制御装置
10 カセット搬入出部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13 カセット載置板
20 搬送路
21 ウェハ搬送機構
22 受け渡しブロック
30〜35 受け渡しユニット
40 下部反射防止膜形成ユニット
41 レジスト塗布ユニット
42 上部反射防止膜形成ユニット
43 現像処理ユニット
50〜52 熱処理ユニット
53 アドヒージョンユニット
54 周辺露光ユニット
60〜65 受け渡しユニット
70〜75 ウェハ搬送機構
90 ウェハ搬送機構
100 第1の搬送アーム
101 第2の搬送アーム
102 保持部
110 アーム駆動部
111 基台
112 回転駆動部
113 シャフト
120 直動レール
121、122 昇降基台
123、124 昇降機構
125 モータ
126 プーリ
130 筐体
140〜146 プレート
150 貫通孔
151 昇降ピン
W ウェハ
F カップ
D ウェハ搬送領域
C カセット
Claims (11)
- 基板を処理する複数の処理ユニットが上下方向に多段に設けられた処理ステーションと、複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間に配置された基板搬送機構と、を備えた基板処理システムにおいて、
前記処理ステーションと前記基板搬送機構との間には、前記カセット載置部と前記処理ステーションとの間で搬送される基板、及び前記処理ユニットの各段の間で搬送される基板を一時的に収容する複数の受け渡しユニットが多段に設けられ、
前記基板搬送機構は、前記カセット載置部と前記各受け渡しユニットとの間で基板を搬送する第1の搬送アームと、前記各受け渡しユニットの各段の間で基板を搬送する第2の搬送アームとを備え、
前記基板搬送機構は、上下方向に複数並べて設けられていることを特徴とする、基板処理システム。 - 前記複数の処理ユニットは、当該処理ユニットで処理される基板の搬送経路が最短となるように上下方向に基板の処理順に並べて配置され、
前記処理ステーションには、前記処理順に配置された処理ユニット群が、上下方向に少なくとも2段設けられていることを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。 - 前記基板搬送機構の動作を制御する制御装置を備え、
前記制御装置は、前記第1の搬送アームによる基板搬送のタイミングと、前記第2の搬送アームによる基板搬送のタイミングが重複した場合には、基板が待機状態となる時間が最小限となるように、いずれか一方の搬送アームにより優先して基板を搬送する制御を行うことを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の基板処理システム。 - 前記基板搬送機構の動作を制御する制御装置を備え、
前記制御装置は、前記第1の搬送アームによる基板搬送のタイミングと、前記第2の搬送アームによる基板搬送のタイミングが重複した場合には、前記第1の搬送アームによる前記カセット載置部と前記各受け渡しユニットとの間の基板搬送を優先するように制御し、基板を搬送していない他の基板搬送機構により、前記各受け渡しユニットの各段の間で搬送を行うように制御することを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の基板処理システム。 - 前記搬送機構は、前記第1の搬送アーム及び前記第2の搬送アームを水平方向及び上下方向に移動させるアーム駆動部を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の基板処理システム。
- 基板を処理する複数の処理ユニットが上下方向に多段に設けられた処理ステーションと、複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間に配置された基板搬送機構と、を備えた基板処理システムにおける基板の搬送方法であって、
前記基板搬送機構は、上下方向に複数並べて設けられ、
前記処理ステーションと前記基板搬送機構との間には、前記カセット載置部と前記処理ステーションとの間で搬送される基板、及び前記処理ユニットの各段の間で搬送される基板を一時的に収容する複数の受け渡しユニットが多段に設けられ、
前記カセット載置部と前記各受け渡しユニットとの間の基板搬送は、前記基板搬送機構の第1の搬送アームにより行われ、前記各受け渡しユニットの各段の間での基板搬送は、前記基板搬送機構の第2の搬送アームにより行われることを特徴とする、基板搬送方法。 - 前記第1の搬送アームによる基板搬送のタイミングと、前記第2の搬送アームによる基板搬送のタイミングが重複した場合には、基板が待機状態となる時間が最小限となるように、いずれか一方の搬送アームにより優先して基板を搬送することを特徴とする、請求項6に記載の基板搬送方法。
- 前記第1の搬送アームによる基板搬送のタイミングと、前記第2の搬送アームによる基板搬送のタイミングが重複した場合には、前記第1の搬送アームによる前記カセット載置部と前記各受け渡しユニットとの間の基板搬送を優先して行い、
基板を搬送していない他の基板搬送機構により、前記各受け渡しユニットの各段の間における搬送を行うことを特徴とする、請求項6に記載の基板搬送方法。 - 前記複数の処理ユニットは、当該処理ユニットで処理される基板の搬送経路が最短となるように上下方向に基板の処理順に並べて配置され、
前記処理ステーションには、前記処理順に配置された処理ユニット群が、少なくとも上下方向に2段設けられていることを特徴とする、請求項6〜8のいずれかに記載の基板搬送方法。 - 請求項6〜9のいずかに記載の基板搬送方法を基板処理システムによって実行させるために、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項10に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207466A JP2013069874A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
TW101132054A TWI523134B (zh) | 2011-09-22 | 2012-09-03 | 基板處理系統、基板搬運方法、及電腦記憶媒體 |
US13/623,189 US9082800B2 (en) | 2011-09-22 | 2012-09-20 | Substrate treatment system, substrate transfer method and non-transitory computer-readable storage medium |
KR1020120105203A KR101930555B1 (ko) | 2011-09-22 | 2012-09-21 | 기판 처리 시스템, 기판 반송 방법 및 컴퓨터 기억 매체 |
CN201210356691.XA CN103021915B (zh) | 2011-09-22 | 2012-09-21 | 基板处理系统、基板搬送方法、程序和计算机存储介质 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207466A JP2013069874A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013069874A true JP2013069874A (ja) | 2013-04-18 |
Family
ID=48475213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011207466A Pending JP2013069874A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2013069874A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150077341A (ko) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
JP2016063166A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 日新イオン機器株式会社 | 基板処理装置 |
CN110634770A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 |
KR20240016213A (ko) | 2022-07-28 | 2024-02-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003309160A (ja) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置用ユニットおよび基板処理装置並びにその装置の組立方法 |
JP2009094461A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理方法及び基板の処理システム |
JP2009278027A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム |
JP2010056223A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010129603A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
-
2011
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003309160A (ja) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置用ユニットおよび基板処理装置並びにその装置の組立方法 |
JP2009094461A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-30 | Tokyo Electron Ltd | 基板の処理方法及び基板の処理システム |
JP2009278027A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム |
JP2010056223A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-03-11 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2010129603A (ja) * | 2008-11-25 | 2010-06-10 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150077341A (ko) * | 2013-12-27 | 2015-07-07 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
JP2015128102A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
US9666463B2 (en) | 2013-12-27 | 2017-05-30 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
KR102263542B1 (ko) | 2013-12-27 | 2021-06-10 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 장치 |
JP2016063166A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 日新イオン機器株式会社 | 基板処理装置 |
CN110634770A (zh) * | 2018-06-25 | 2019-12-31 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理装置、基板处理方法以及存储介质 |
KR20240016213A (ko) | 2022-07-28 | 2024-02-06 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법 |
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