JP5071894B2 - ステージ装置、パターン形成装置、露光装置、ステージ駆動方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
ステージ装置、パターン形成装置、露光装置、ステージ駆動方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 Download PDFInfo
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Description
なお、スケール板21とグレーティングプレート26とで、計測方向に関する計測ビームの照射位置が同一でなくても良い。すなわち、スケール板21とグレーティングプレート26とで、計測ビームの光軸が同軸でなくても良い。
この他、X軸方向及びY軸方向の少なくとも一方とZ軸方向に関する位置情報を計測可能なエンコーダを用いても良い。この場合、前述と同様、Z軸方向に関する、粗動ステージ91とスケール板21との第1位置情報と、別センサによる粗動ステージ91と微動ステージ(ウエハテーブルWTB)との第2位置情報とに基づいて、微動ステージのZ軸方向に関する位置情報を求めるようにしても良い。
また、上記実施形態では、エンコーダは、X軸方向及びY軸方向の少なくとも一方の位置情報を計測可能としたが、これに限らず、例えばZ軸方向のみ計測可能としても良い。
また、例えば投影光学系とアライメント系とが離れている露光装置などでは、投影光学系の近傍(周囲)と、アライメント系の近傍(周囲)とで別々のスケール板を配置しても良い。この場合、ウエハWの露光動作を行う際には、投影光学系の近傍に配置されたスケール板を用いて、エンコーダシステムにより、ウエハステージの位置が計測され、ウエハアライメントの際などには、アライメント系の近傍に配置されたスケール板を用いて、エンコーダシステムにより、ウエハステージの位置が計測されることとなる。
また、上記実施形態では、エンコーダシステムに加えて、ウエハ干渉計システムが設けられている場合を例示したが、ウエハ干渉計システムは、必ずしも設けなくても良い。
Claims (43)
- 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能な微動ステージとを含む粗微動ステージと;
前記粗動ステージに設けられるエンコーダヘッドを有し、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置された第1グレーティング部に第1計測ビームを照射し、前記第1グレーティング部からの回折光を受光して得られる第1位置情報と、前記粗動ステージと前記微動ステージとの相対的な第2位置情報とに基づいて、前記微動ステージの所定方向の位置情報を計測する計測装置と;を備えるステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記エンコーダヘッドと異なるセンサを含み、前記センサによって前記粗動ステージと前記微動ステージとの第2位置情報を取得するステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記エンコーダヘッドによって前記粗動ステージと前記微動ステージとの第2位置情報を取得するステージ装置。 - 請求項3に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記エンコーダヘッドによって、前記微動ステージに設けられる第2グレーティング部に第2計測ビームを照射し、前記第2グレーティング部からの回折光を受光して前記第2位置情報を得るステージ装置。 - 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能な微動ステージとを含む粗微動ステージと;
前記粗動ステージに設けられるエンコーダヘッドを有し、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置される第1グレーティング部と、前記微動ステージに配置される第2グレーティング部とにそれぞれ第1、第2計測ビームを照射し、前記第1、第2グレーティング部からの回折光を受光して、前記微動ステージの所定方向の位置情報を計測する計測装置と;を備えるステージ装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記微動ステージに設けられる光透過部を介して前記第1計測ビームを前記第1グレーティング部に照射するステージ装置。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、少なくとも前記所定平面と平行な一方向に関する前記微動ステージの位置情報を計測するステージ装置。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記粗動ステージの異なる位置に配置される複数の前記エンコーダヘッドを有し、少なくとも前記所定平面内の3自由度方向の位置情報を計測するステージ装置。 - 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能かつ少なくとも一部に光透過部を有する微動ステージとを含む粗微動ステージと;
前記粗動ステージに固定された1又は2以上のエンコーダヘッドを有し、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置された第1グレーティング部に、前記光透過部を介して第1計測ビームを照射し、前記第1グレーティング部からの回折光を前記光透過部を介して受光する、少なくとも1つの前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記所定平面内における前記粗微動ステージの位置情報を計測する計測装置と;を備えるステージ装置。 - 請求項6又は9に記載のステージ装置において、
前記粗動ステージには、前記エンコーダヘッドが複数異なる位置に固定され、前記微動ステージは、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれが対向する領域に前記光透過部を有するステージ装置。 - 請求項10に記載のステージ装置において、
前記微動ステージには、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれに対向する位置に第2グレーティング部が設けられ、
前記複数のエンコーダヘッドそれぞれは、対向する前記第2グレーティング部に第2計測ビームを照射し、該第2グレーティング部からの回折光をも受光し、
前記計測装置は、少なくとも1つの前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記所定平面内における前記微動ステージの位置情報を計測するステージ装置。 - 請求項5又は11に記載のステージ装置において、
前記第1計測ビームと前記第2計測ビームとは、同一の光源から発生した光ビームであるステージ装置。 - 請求項12に記載のステージ装置において、
前記第1計測ビーム及び前記第2計測ビームのうちの一方の計測ビームは、他方の計測ビームが対応するグレーティング部で回折された回折ビームの少なくとも一部を前記エンコーダヘッド内で取り出して生成されるステージ装置。 - 請求項11〜13のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記複数のエンコーダヘッドそれぞれは、前記第1グレーティング部に垂直な所定の中心軸を共通とする光路に沿って、前記第1、第2グレーティング部にそれぞれ前記第1、第2計測ビームを照射するステージ装置。 - 請求項11〜14のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれからの出力に基づいて、前記粗動ステージと前記第1グレーティング部との前記所定平面に平行な計測方向に関する第1の位置関係と、前記粗動ステージと前記第2グレーティング部との前記計測方向に関する第2の位置関係とを算出するとともに、前記第1及び第2の位置関係に基づいて前記微動ステージと前記第1グレーティング部との前記計測方向に関する位置関係を算出するステージ装置。 - 請求項8、11〜15のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記微動ステージは、前記所定平面に対する傾斜方向に可動であり、
前記計測装置は、前記微動ステージの傾斜に起因する、前記微動ステージの位置情報の計測に用いられる前記エンコーダヘッドの計測誤差を補正するステージ装置。 - 請求項8、10〜16のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記微動ステージは平面視矩形の部材から成り、前記微動ステージの四隅部に対応する前記粗動ステージの位置に、それぞれ前記エンコーダヘッドが配置されているステージ装置。 - 請求項10〜17のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記計測装置は、前記粗動ステージの前記所定平面に対する傾斜に起因する、前記粗微動ステージの位置情報の計測に用いられる前記エンコーダヘッドの計測誤差を補正するステージ装置。 - 請求項9又は10に記載のステージ装置において、
前記粗動ステージと前記微動ステージとの前記所定平面内における位置関係を計測するセンサをさらに備えるステージ装置。 - 請求項1〜19のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記第1グレーティング部は、前記粗微動ステージの移動範囲をカバーする2次元格子を含むステージ装置。 - 請求項1〜20のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記微動ステージは、前記粗動ステージに非接触で支持されるステージ装置。 - 物体にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記物体が、前記微動ステージ上に載置される請求項1〜21のいずれか一項に記載のステージ装置と;
前記微動ステージ上に載置された物体上にパターンを生成するパターニング装置と;
を備えるパターン形成装置。 - 請求項22に記載のパターン形成装置において、
前記物体は感応層を有し、前記パターニング装置は、エネルギビームの照射による前記感応層の露光によって前記物体上にパターンを生成するパターン形成装置。 - エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が、前記微動ステージ上に載置される請求項1〜21のいずれか一項に記載のステージ装置と;
前記微動ステージ上に載置された物体に前記エネルギビームを照射するパターニング装置と;を備える露光装置。 - 請求項24に記載の露光装置を用いて物体を露光することと;
前記露光された物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。 - 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能な微動ステージとを有する粗微動ステージを駆動するステージ駆動方法であって、
前記粗動ステージに設けられ、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置された第1グレーティング部に第1計測ビームを照射し、前記第1グレーティング部からの回折光を受光するエンコーダヘッドの出力から得られる第1位置情報と、前記粗動ステージと前記微動ステージとの相対的な第2位置情報とに基づいて、前記微動ステージの所定方向の位置情報を計測する工程を含むステージ駆動方法。 - 請求項26に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、前記エンコーダヘッドと異なるセンサによって前記粗動ステージと前記微動ステージとの第2位置情報が取得されるステージ駆動方法。 - 請求項26に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、前記エンコーダヘッドによって前記粗動ステージと前記微動ステージとの第2位置情報が取得されるステージ駆動方法。 - 請求項28に記載のステージ駆動方法において、
前記エンコーダヘッドは、前記微動ステージに設けられる第2グレーティング部に第2計測ビームを照射し、前記第2グレーティング部からの回折光を受光して前記第2位置情報を得るステージ駆動方法。 - 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能な微動ステージとを有する粗微動ステージを駆動するステージ駆動方法であって、
前記粗動ステージに設けられ、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置される第1グレーティング部と、前記微動ステージに配置される第2グレーティング部とにそれぞれ第1、第2計測ビームを照射し、前記第1、第2グレーティング部からの回折光を受光するエンコーダヘッドの出力に基づいて、前記微動ステージの所定方向の位置情報を計測する工程を含むステージ駆動方法。 - 請求項26〜30のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記エンコーダヘッドは、前記微動ステージに設けられる光透過部を介して前記第1計測ビームを前記第1グレーティング部に照射するステージ駆動方法。 - 請求項26〜31のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、少なくとも前記所定平面と平行な一方向に関する前記微動ステージの位置情報を計測するステージ駆動方法。 - 請求項26〜32のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記粗動ステージには、異なる位置に複数の前記エンコーダヘッド配置され、
前記計測する工程では、前記微動ステージの少なくとも前記所定平面内の3自由度方向の位置情報を計測するステージ駆動方法。 - 所定平面に沿って移動する粗動ステージと、該粗動ステージ上で微動可能な微動ステージとを有する粗微動ステージを駆動するステージ駆動方法であって、
前記粗動ステージに固定された1又は2以上のエンコーダヘッドのうち、前記粗微動ステージの外部に前記所定平面と実質的に平行に配置された第1グレーティング部に、前記微動ステージの光透過を介して第1計測ビームを照射し、前記第1グレーティング部からの回折光を前記光透過部を介して受光する、少なくとも1つの前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記所定平面内における前記粗微動ステージの位置情報を計測する工程と;
計測された前記粗微動ステージの位置情報に基づいて、前記粗微動ステージを駆動する工程と;
を含むステージ駆動方法。 - 請求項34に記載のステージ駆動方法において、
前記粗動ステージには、前記エンコーダヘッドが複数異なる位置に固定され、前記微動ステージは、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれが対向する領域に前記光透過部を有し、
前記計測する工程では、前記複数のエンコーダヘッドから選択された少なくとも1つのエンコーダヘッドの出力に基づいて、前記所定平面内における前記粗微動ステージの位置情報を計測するステージ駆動方法。 - 請求項35に記載のステージ駆動方法において、
前記微動ステージには、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれに対向する位置に第2グレーティング部が設けられ、
前記計測する工程では、対向する前記第2グレーティング部に第2計測ビームを照射し、該第2グレーティング部からの回折光をも受光する、少なくとも1つの前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記所定平面内における前記微動ステージの位置情報を計測し、
前記駆動する工程では、計測された前記微動ステージの位置情報をも考慮して、前記粗微動ステージを駆動するステージ駆動方法。 - 請求項30又は36に記載のステージ駆動方法において、
前記第1計測ビームと前記第2計測ビームとは、同一の光源から発生した光ビームであるステージ駆動方法。 - 請求項37に記載のステージ駆動方法において、
前記第1計測ビーム及び前記第2計測ビームのうち一方の計測ビームは、他方の計測ビームが対応するグレーティング部で回折された回折ビームの少なくとも一部を前記エンコーダヘッド内で取り出して生成されるステージ駆動方法。 - 請求項36〜38のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、前記複数のエンコーダヘッドそれぞれからの出力に基づいて、前記粗動ステージと前記第1グレーティング部との前記所定平面に平行な計測方向に関する第1の位置関係と、前記粗動ステージと前記第2グレーティング部との前記計測方向に関する第2の位置関係とを算出するとともに、前記第1及び第2の位置関係に基づいて前記微動ステージと前記第1グレーティング部との前記計測方向に関する位置関係を算出するステージ駆動方法。 - 請求項36〜39のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、前記微動ステージの傾斜に起因する,前記微動ステージの位置情報の計測に用いられる前記エンコーダヘッドの計測誤差を補正するステージ駆動方法。 - 請求項34〜40のいずれか一項に記載のステージ駆動方法において、
前記計測する工程では、前記粗動ステージの前記所定平面に対する傾斜に起因する、前記粗微動ステージの位置情報の計測に用いられる前記エンコーダヘッドの計測誤差を補正するステージ駆動方法。 - エネルギビームの照射によって物体にパターンを形成する露光方法であって、
請求項26〜41のいずれか一項に記載のステージ駆動方法を用いて、前記物体が前記微動ステージ上に載置された粗微動ステージの駆動を行う露光方法。 - 請求項42に記載の露光方法を用いて物体を露光することと;
前記露光された物体を現像することと;を含むデバイス製造方法。
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