JP6405819B2 - アライメント装置 - Google Patents
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Description
前記ウエハの周縁を跨いでウエハの径方向に伸びる帯状の撮像領域が形成されるように、当該ウエハの下方側から撮像する撮像部と、
前記撮像領域を前記ウエハの周に沿って移動させるために、前記載置部を回転させる回転機構と、
前記ウエハの下面側から前記撮像領域に向けて光を照射する照射部と、
前記ウエハの外側を通過して当該ウエハの上方に照射された前記照射部からの光を前記撮像領域へ向けて反射させ、前記撮像領域を撮像して得られるウエハの径方向の輝度分布パターンにおいて、ウエハの外側の輝度をウエハの周端の輝度よりも大きくするための反射部材と、
前記輝度分布パターンに基づいて、ウエハの周端の検出及び前記アライメントマークの検出を行う制御部と、
前記載置部及び前記反射部材が室内に設けられると共に第1のモジュールと第2のモジュールとの間に介在し、前記室内が前記第1のモジュールに前記基板を受け渡すための第1の圧力と、前記第2のモジュールに前記基板を受け渡すための第2の圧力との間で変更されるロードロックモジュールと、
を備え、
前記制御部は、前記ロードロックモジュールの室内の圧力が前記第1の圧力から前記第2の圧力へ変更される間に、前記載置部の回転と前記照射部から前記反射部材への光照射とが行われるように制御信号を出力することを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る基板処理装置1について、図1の概略平面図を参照しながら説明する。この基板処理装置1は、ウエハWに対して枚葉で(1枚ずつ)プラズマ処理を施す。このウエハWの直径は例えば450mmである。基板処理装置1は、平面視細長の五角形のトランスファモジュール11と、トランスファモジュール11の周りに放射状に配置されて当該トランスファモジュール11に接続された6つの処理モジュール12と、トランスファモジュール11に対向して配置されたローダーモジュール13と、トランスファモジュール11とローダーモジュール13との間に介在する2つのロードロックモジュール3A、3Bとを備える。
続いて、第2の実施形態に係るロードロックモジュール3Cの構成について、ロードロックモジュール3A、3Bとの差異点を中心に、図5の横断平面図と図6の縦断側面図とを参照して説明する。ウエハWのベベル部Bは本体部Aに比べて厚さが小さいため、欠ける場合がある。図5中、この欠けを60として示している。このロードロックモジュール3Cでは欠け60が生じた場合においても、ウエハWの周端の検出が行えるように構成されている。
1 基板処理装置
17 第1のウエハ搬送機構
22 第2のウエハ搬送機構
3A、3B、3C ロードロックモジュール
34 ステージ
37 駆動機構
46 光源
47 撮像素子
48 カメラ
5 制御部
51、61 反射部材
62、63 反射領域
Claims (6)
- 円形基板であるウエハを載置部に載置し、前記載置部を回転させてウエハの下面側に形成されたアライメントマークを光学的に検出し、ウエハの向きを所定の向きに合わせるアライメント装置において、
前記ウエハの周縁を跨いでウエハの径方向に伸びる帯状の撮像領域が形成されるように、当該ウエハの下方側から撮像する撮像部と、
前記撮像領域を前記ウエハの周に沿って移動させるために、前記載置部を回転させる回転機構と、
前記ウエハの下面側から前記撮像領域に向けて光を照射する照射部と、
前記ウエハの外側を通過して当該ウエハの上方に照射された前記照射部からの光を前記撮像領域へ向けて反射させ、前記撮像領域を撮像して得られるウエハの径方向の輝度分布パターンにおいて、ウエハの外側の輝度をウエハの周端の輝度よりも大きくするための反射部材と、
前記輝度分布パターンに基づいて、ウエハの周端の検出及び前記アライメントマークの検出を行う制御部と、
前記載置部及び前記反射部材が室内に設けられると共に第1のモジュールと第2のモジュールとの間に介在し、前記室内が前記第1のモジュールに前記基板を受け渡すための第1の圧力と、前記第2のモジュールに前記基板を受け渡すための第2の圧力との間で変更されるロードロックモジュールと、
を備え、
前記制御部は、前記ロードロックモジュールの室内の圧力が前記第1の圧力から前記第2の圧力へ変更される間に、前記載置部の回転と前記照射部から前記反射部材への光照射とが行われるように制御信号を出力することを特徴とするアライメント装置。 - 前記反射部材は、前記撮像部の被写界深度の外側に位置することを特徴とする請求項1記載のアライメント装置。
- 前記反射部材は、互いに正反射率が異なる第1の反射領域と、第2の反射領域とを備え、
前記第1の反射領域及び前記第2の反射領域は、ウエハの径方向に沿って交互に繰り返し設けられていることを特徴とする請求項1または2記載のアライメント装置。 - 前記撮像領域のうち、ウエハの外側に対応する領域には規則的な輝度分布パターンが形成されるように前記反射部材が構成されることを特徴とする請求項3記載のアライメント装置。
- 前記規則的な輝度分布パターンは、正弦曲線により構成されることを特徴とする請求項4記載のアライメント装置。
- 前記制御部は、ウエハの周端において欠けが生じた領域を検出し、当該欠けが生じた領域以外の領域で検出されたウエハの周端の位置に基づいて、ウエハの中心の位置を検出することを特徴とする請求項3ないし5のいずれか一つに記載のアライメント装置。
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