JP2005101314A - 照明装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光源からの光で被照射面を照射する照明装置において、前記光源からの光で第1の複数の二次光源を形成する第1のオプティカルインテグレータと、前記第1の複数の二次光源からの光で第2の複数の二次光源を形成する第2のオプティカルインテグレータと、前記第1の複数の二次光源からの光を前記第2のオプティカルインテグレータの入射面に重ねる第1の集光光学系と、前記第2の複数の二次光源からの光を前記被照射面に重ねる第2の集光光学系とを有し、前記第1のオプティカルインテグレータは複数のレンズ群を持ち、該複数のレンズ群のいずれかを光軸と垂直な面内で平行移動することにより、前記被照射面を照明する照明光のテレセントリック性を調整する構成とした。
【選択図】 図1
Description
イ)投影系の製造時誤差による幾何光学的ずれに起因するもの
ロ)投影系の光学素子の誘電体多層膜の透過率の不均一性による光量重心のずれに起因するもの
ハ)照明系の製造時誤差、照明系の開口数と投影系の開口数の比で表される値σを変更する際や、照明モード(通常照明か斜入射照明か)を変更する際の可動部の移動誤差による幾何光学的ずれに起因するもの
ニ)照明系の光学素子の誘電体多層膜の透過率の不均一性による光量重心のずれに起因するもの
等がある。もちろんこれらが単独でおこるのみならず、これらのいくつかが同時に発生する場合もある。
2 インコヒーレント化光学系
3 光束整形手段
4 射出角度保存光学系
5 集光光学系
6 オプティカルインテグレータ系
6a オプティカルインテグレータの入射面
6b シリンドリカルレンズ群の集光面
6c コンデンサー
6d 所定面(照度が略均一)
6e 6b面での点光源をあらわしたもの
6f 6d面での光源をあらわしたもの
7 結像光学系
8 多光束発生手段
8a 多光束発生手段の光入射面
8aA 光入射面での光強度分布
8aB 光入射面での光強度分布
8b 多光束発生手段の光射出面
9 開口絞り
10 コンデンサレンズ
11 レチクル
12 投影光学系
13 ウエハ
14 検出器
21 アパーチャ
22 レンズ系
23 ハエの目レンズ
24 入射光束
24a 入射光束中心
24b 入射光束中心
25 入射光束
25a 入射光束中心
25b 入射光束中心
26a 出射角度
26b 出射角度
61 前レンズ群
62 後レンズ群
63〜66 シリンドリカルレンズ群
Claims (11)
- 光源からの光で被照射面を照射する照明装置において、
前記光源からの光で第1の複数の二次光源を形成する第1のオプティカルインテグレータと、
前記第1の複数の二次光源からの光で第2の複数の二次光源を形成する第2のオプティカルインテグレータと、
前記第1の複数の二次光源からの光を前記第2のオプティカルインテグレータの入射面に重ねる第1の集光光学系と、
前記第2の複数の二次光源からの光を前記被照射面に重ねる第2の集光光学系と、を有し、
前記第1のオプティカルインテグレータは複数のレンズ群を持ち、
該複数のレンズ群のいずれかを光軸と垂直な面内で平行移動することにより、前記被照射面を照明する照明光のテレセントリック性を調整することを特徴とする照明装置。 - 前記第1の集光光学系は、前記第1の複数の二次光源からの光を所定面に重ねるコンデンサーと、該所定面からの光を所望の倍率で前記第2のオプティカルインテグレータの入射面に結像する結像光学系とを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記複数のレンズ群のいずれかを駆動する駆動手段を有することを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- 前記駆動手段は、前記第1のオプティカルインテグレータに入射する光の損失がない範囲で前記複数のレンズ群のいずれかを光軸と直交する方向に移動させることを特徴とする請求項3記載の照明装置。
- 前記被照明面又はそれと共役な面を照明するの光のテレセントリック性を検出する検出手段を有し、該検出手段の検出結果に基づいて前記複数のレンズ群のいずれかを駆動することを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- 互いに異なる照明条件で前記被照射面を照明する複数の照明モード毎に、前記複数のレンズ群のいずれかを駆動する駆動量を記憶する記憶手段を有し、
該照明モードの変更に際して、該記憶手段に記憶された情報に基づいて前記複数のレンズ群のいずれかを駆動することを特徴とする請求項1記載の照明装置。 - 前記レンズ群は、シリンドリカルレンズ群を有することを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- 前記第1及び第2のオプティカルインテグレータは、波面分割型のオプティカルインテグレータであることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- 前記光源は、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ、F2レーザのいずれかであることを特徴とする請求項1記載の照明装置。
- レチクルを照明する請求項1〜9のいずれか一項に記載された照明装置と、前記レチクルのパターンを基板に投影する投影光学系とを有することを特徴とする露光装置。
- 請求項10記載の露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを有することを特徴とするデバイスの製造方法。
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