JPH1092730A - 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 - Google Patents
照明装置及びそれを用いた投影露光装置Info
- Publication number
- JPH1092730A JPH1092730A JP8263594A JP26359496A JPH1092730A JP H1092730 A JPH1092730 A JP H1092730A JP 8263594 A JP8263594 A JP 8263594A JP 26359496 A JP26359496 A JP 26359496A JP H1092730 A JPH1092730 A JP H1092730A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- lens
- diffractive optical
- optical
- projection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
- G03F7/70475—Stitching, i.e. connecting image fields to produce a device field, the field occupied by a device such as a memory chip, processor chip, CCD, flat panel display
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レチクル面上を所定形状の光強度分布で照明
し、その面上のパターンを投影光学系でウエハ面上に高
精度に投影露光することができる照明装置及びそれを用
いた投影露光装置を得ること。 【解決手段】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する出射光束を照明光学系を介して被照射面上を照
明する際、該オプティカルインテグレータは出射光束の
出射方向が互いに異なる光学素子を複数個備えること。
し、その面上のパターンを投影光学系でウエハ面上に高
精度に投影露光することができる照明装置及びそれを用
いた投影露光装置を得ること。 【解決手段】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する出射光束を照明光学系を介して被照射面上を照
明する際、該オプティカルインテグレータは出射光束の
出射方向が互いに異なる光学素子を複数個備えること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は照明装置及びそれを
用いた投影露光装置に関し、例えばＩＣやＬＳＩ等の半
導体デバイスやＣＣＤ等の撮像デバイスや液晶パネル等
の表示デバイスや磁気ヘッド等のデバイスを製造する際
に、マスクやレチクル（以下「レチクル」と総称す
る。）面上の電子回路パターンをウエハ面上に投影光学
系を介して投影露光又は走査露光するときのレチクル面
上を所定形状の照明領域で効率的に照明し、高集積度の
半導体デバイスを得るリソグラフィー工程に好適なもの
である。
用いた投影露光装置に関し、例えばＩＣやＬＳＩ等の半
導体デバイスやＣＣＤ等の撮像デバイスや液晶パネル等
の表示デバイスや磁気ヘッド等のデバイスを製造する際
に、マスクやレチクル（以下「レチクル」と総称す
る。）面上の電子回路パターンをウエハ面上に投影光学
系を介して投影露光又は走査露光するときのレチクル面
上を所定形状の照明領域で効率的に照明し、高集積度の
半導体デバイスを得るリソグラフィー工程に好適なもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来より半導体素子等をフォトリソグラ
フィー技術を用いて製造する際には、レチクル面上のパ
ターンを投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布さ
れたウエハ又はガラスプレート等の感光基板上に露光転
移する投影露光装置が使用されている。最近は半導体素
子１個のチップパターンが大型化する傾向にあり、投影
露光装置においてはレチクル上のより大きな面積のパタ
ーンを感光基板上に露光する大面積化が求められてい
る。
フィー技術を用いて製造する際には、レチクル面上のパ
ターンを投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布さ
れたウエハ又はガラスプレート等の感光基板上に露光転
移する投影露光装置が使用されている。最近は半導体素
子１個のチップパターンが大型化する傾向にあり、投影
露光装置においてはレチクル上のより大きな面積のパタ
ーンを感光基板上に露光する大面積化が求められてい
る。
【０００３】上記の転写対象パターンの大面積化に応え
るための技術としては、ステイッチング露光方法及びス
リットスキャン露光方法の投影露光装置が知られてい
る。
るための技術としては、ステイッチング露光方法及びス
リットスキャン露光方法の投影露光装置が知られてい
る。
【０００４】スリットスキャン露光方法とは、レチクル
上の所定形状の照明領域に対して相対的に所定の第１方
向にレチクル及び感光基板を同期して走査することで第
１方向に対して投影光学系の露光フィールドよりも広い
感光基板上の範囲にレチクルのパターンを投影露光する
方法である。
上の所定形状の照明領域に対して相対的に所定の第１方
向にレチクル及び感光基板を同期して走査することで第
１方向に対して投影光学系の露光フィールドよりも広い
感光基板上の範囲にレチクルのパターンを投影露光する
方法である。
【０００５】これに対してステイッチング露光方法は、
上記スリットスキャン露光方法による第１方向の露光が
行われた後、レチクルを交換するか、又はそのレチクル
を照明領域の第１方向に垂直な第２方向に所定量だけ移
動し、同時に感光基板をその照明領域の第２の方向に共
役な方向に横ずれさせる。そして再び照明領域に対して
相対的に第１方向にレチクル及び感光基板を同期して走
査することで第２列目の領域への露光を行い、結果とし
て第１方向及び第２方向の両方に対し投影光学系の露光
フィールドよりも広い感光基板上の範囲にレチクルのパ
ターンを投影露光する方法である。
上記スリットスキャン露光方法による第１方向の露光が
行われた後、レチクルを交換するか、又はそのレチクル
を照明領域の第１方向に垂直な第２方向に所定量だけ移
動し、同時に感光基板をその照明領域の第２の方向に共
役な方向に横ずれさせる。そして再び照明領域に対して
相対的に第１方向にレチクル及び感光基板を同期して走
査することで第２列目の領域への露光を行い、結果とし
て第１方向及び第２方向の両方に対し投影光学系の露光
フィールドよりも広い感光基板上の範囲にレチクルのパ
ターンを投影露光する方法である。
【０００６】また半導体素子の高集積化、微細化に応じ
投影光学系の解像度の向上も求められているが、これに
応えるためにエキシマレーザーのようなパルスレーザー
が遠紫外領域の光源として露光装置に使用されている。
投影光学系の解像度の向上も求められているが、これに
応えるためにエキシマレーザーのようなパルスレーザー
が遠紫外領域の光源として露光装置に使用されている。
【０００７】パルス光を発振するエキシマレーザーを光
源とするステップアンドスキャン方式の走査型の露光装
置においては、走査速度又はパルス発振のタイミングが
ずれた場合はマスク面上やウエハ面上で露光むらが生じ
ることがある。
源とするステップアンドスキャン方式の走査型の露光装
置においては、走査速度又はパルス発振のタイミングが
ずれた場合はマスク面上やウエハ面上で露光むらが生じ
ることがある。
【０００８】このような問題を避けた露光装置を本出願
人は先の特開昭６０−１５８４４９号公報で提案してい
る。同公報によれば被照射面上の走査方向（前述の第１
方向）の光強度分布を実質的に等脚台形又は二等辺三角
形とすることで、走査速度とパルス発振の同期の精度を
緩和している。
人は先の特開昭６０−１５８４４９号公報で提案してい
る。同公報によれば被照射面上の走査方向（前述の第１
方向）の光強度分布を実質的に等脚台形又は二等辺三角
形とすることで、走査速度とパルス発振の同期の精度を
緩和している。
【０００９】次に図１１（Ａ）〜（Ｄ）を用いて同公報
の内容の概略を説明する。図１１（Ａ）〜（Ｄ）では説
明を分かりやすくするために１つのパルスで露光が行わ
れる場合について示している。図１１（Ａ），（Ｂ）は
走査方向の光強度分布が矩形で、２番目のパルス発振の
タイミングがずれた場合の走査方向の各位置での露光量
を示している。一方、図１１（Ｃ），（Ｄ）は走査方向
の光強度分布が等脚台形の場合についてやはり２番目の
パルスのタイミングがずれた場合の走査方向の各位置で
の露光量を示している。
の内容の概略を説明する。図１１（Ａ）〜（Ｄ）では説
明を分かりやすくするために１つのパルスで露光が行わ
れる場合について示している。図１１（Ａ），（Ｂ）は
走査方向の光強度分布が矩形で、２番目のパルス発振の
タイミングがずれた場合の走査方向の各位置での露光量
を示している。一方、図１１（Ｃ），（Ｄ）は走査方向
の光強度分布が等脚台形の場合についてやはり２番目の
パルスのタイミングがずれた場合の走査方向の各位置で
の露光量を示している。
【００１０】図１１（Ａ）〜（Ｄ）から明らかなよう
に、レーザーのパルス発振のタイミングのずれが同程度
である場合には等脚台形の光強度分布の方が露光量のば
らつきは少ない。図１１（Ａ）〜（Ｄ）では１パルスで
露光が行われる例を示したが、各位置が複数のパルスで
露光される場合も図１１（Ｃ），（Ｄ）の台形分布の光
強度分布の方がパルス発振のタイミングのずれに対する
露光量むらが小さい。走査方向の光強度分布の形状は等
脚台形に限らず、図１１（Ａ）〜（Ｄ）のように重ね合
わせたときに露光量のばらつきが小さくできる形状であ
れば良い。
に、レーザーのパルス発振のタイミングのずれが同程度
である場合には等脚台形の光強度分布の方が露光量のば
らつきは少ない。図１１（Ａ）〜（Ｄ）では１パルスで
露光が行われる例を示したが、各位置が複数のパルスで
露光される場合も図１１（Ｃ），（Ｄ）の台形分布の光
強度分布の方がパルス発振のタイミングのずれに対する
露光量むらが小さい。走査方向の光強度分布の形状は等
脚台形に限らず、図１１（Ａ）〜（Ｄ）のように重ね合
わせたときに露光量のばらつきが小さくできる形状であ
れば良い。
【００１１】また同様にパルス光を発振するエキシマレ
ーザーを光源とするステイッチング露光方法に関して
も、前述の第２方向の移動によるパターンの重ね合わせ
の際に位置ずれが生じないようにするために、１回目の
スリットスキャン露光での投影露光と２回目のスリット
スキャン露光での投影露光により２回露光される接続領
域を設けるが、その際、接続部での照度むらを防ぐため
に、照明領域の前記第２方向での照度分布を台形状にす
る考案が、特開平６−１３２１９５号公報で開示されて
いる。
ーザーを光源とするステイッチング露光方法に関して
も、前述の第２方向の移動によるパターンの重ね合わせ
の際に位置ずれが生じないようにするために、１回目の
スリットスキャン露光での投影露光と２回目のスリット
スキャン露光での投影露光により２回露光される接続領
域を設けるが、その際、接続部での照度むらを防ぐため
に、照明領域の前記第２方向での照度分布を台形状にす
る考案が、特開平６−１３２１９５号公報で開示されて
いる。
【００１２】図１２（Ａ）〜（Ｃ）を用いて特開平６−
１３２１９５号公報の概要を説明する。図１２（Ａ）は
ステイッチング及びスリットスキャン露光方法で基板上
の部分１２１にパターンを露光している様子を示してい
る。
１３２１９５号公報の概要を説明する。図１２（Ａ）は
ステイッチング及びスリットスキャン露光方法で基板上
の部分１２１にパターンを露光している様子を示してい
る。
【００１３】初め転写領域は、図中、位置１２２にあ
り、そこから方向ｓ１へ走査し位置１２３へ至る。そし
て方向ｓ２へ横ずれして位置１２４へ至った後、方向ｓ
３へ走査する。この際、既に述べたように１回目の走査
露光部と２回目の走査露光部は接続領域１２５を設けて
いる。この接続領域１２５では２回露光されることとな
るが、照明領域の照度分布形状を図１２（Ｂ）のように
ステイッチングの方向に対して台形分布とすることで、
接続領域の露光むらを防ぎ、図１２（Ｃ）に示すような
均一な照度分布を得ている。
り、そこから方向ｓ１へ走査し位置１２３へ至る。そし
て方向ｓ２へ横ずれして位置１２４へ至った後、方向ｓ
３へ走査する。この際、既に述べたように１回目の走査
露光部と２回目の走査露光部は接続領域１２５を設けて
いる。この接続領域１２５では２回露光されることとな
るが、照明領域の照度分布形状を図１２（Ｂ）のように
ステイッチングの方向に対して台形分布とすることで、
接続領域の露光むらを防ぎ、図１２（Ｃ）に示すような
均一な照度分布を得ている。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】先の特開昭６０−１５
８４４９号公報では照明光の光路中にＮＤフィルター等
の減光素子を挿入して走査方向の光強度分布を所望の形
状にしている。また特開平６−１３２１９５号公報では
照度分布を台形分布にする具体的な構成については言及
がされていない。
８４４９号公報では照明光の光路中にＮＤフィルター等
の減光素子を挿入して走査方向の光強度分布を所望の形
状にしている。また特開平６−１３２１９５号公報では
照度分布を台形分布にする具体的な構成については言及
がされていない。
【００１５】本発明は照明系の一部に適切に構成したオ
プティカルインテグレータを用いることによって、被照
射面上の第１方向又はそれと直交する第２方向又はその
両方向において光の有効利用を図りつつ、所望の光強度
分布で例えば台形分布で照明することができ、また被照
射面にレチクルを配置したときはレチクル面上（１原板
上）のパターンを適切に照明し、高い解像力が容易に得
られる半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用
いた投影露光装置の提供を目的とする。
プティカルインテグレータを用いることによって、被照
射面上の第１方向又はそれと直交する第２方向又はその
両方向において光の有効利用を図りつつ、所望の光強度
分布で例えば台形分布で照明することができ、また被照
射面にレチクルを配置したときはレチクル面上（１原板
上）のパターンを適切に照明し、高い解像力が容易に得
られる半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用
いた投影露光装置の提供を目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明の照明装置は、 （１−１）光源からの光束をオプティカルインテグレー
タに入射させ、該オプティカルインテグレータから射出
する出射光束を照明光学系を介して被照射面上を照明す
る際、該オプティカルインテグレータは出射光束の出射
方向が互いに異なる光学素子を複数個備えることを特徴
としている。
タに入射させ、該オプティカルインテグレータから射出
する出射光束を照明光学系を介して被照射面上を照明す
る際、該オプティカルインテグレータは出射光束の出射
方向が互いに異なる光学素子を複数個備えることを特徴
としている。
【００１７】特に、 (1-1-1) 前記被照射面上の光強度分布が所望の形状とな
るように前記複数の光学素子の種類、配置条件を設定し
ていること、 (1-1-2) 前記光学素子は単レンズ又は複数のレンズを有
し、前記被照射面側のレンズ部は前記光源側のレンズ部
に対して、前記出射方向が傾きを持つ断面内においてシ
フト又はチルトしていること、 (1-1-3) 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と直交す
る第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出射光束
の開口数が異なるように配置した複数のシリンドリカル
レンズを有し、前記被照射面側のシリンドリカルレンズ
部は前記光源側のシリンドリカルレンズ部に対して前記
出射方向が傾きを持つ断面内においてシフト又はチルト
していること、 (1-1-4) 前記光学素子の前記第１方向と第２方向での集
光位置が略等しいこと、 (1-1-5) 前記光学素子は少なくとも１つの基板に光軸方
向に対して複数の回折光学素子を配置した構成より成っ
ていること、 (1-1-6) 前記複数の回折光学素子は同心円状のパターン
より成り、前記被照射面側の回折光学素子は前記光源側
の回折光学素子に対して、前記出射方向が傾きを持つ断
面内においてシフトしていること、 (1-1-7) 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と直交す
る第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出射光束
の開口数が異なるように配置したシリンドリカル状のパ
ワーを有する複数の回折光学素子を有していること、 (1-1-8) 前記シリンドリカル状のパワーを有する回折光
学素子はパワーを有する断面と垂直な直線状パターンよ
り成っていること、 (1-1-9) 前記被照射面側の回折光学素子は前記光源側の
回折光学素子に対して前記出射方向が傾きを持つ断面内
においてシフトしていること、 (1-1-10)前記光学素子は球面レンズと回折光学素子との
組み合わせ又はシリンドリカルレンズと回折光学素子と
の組み合わせより成っていること、 (1-1-11)前記光学素子の入射面と前記被照射面とは光学
的に共役関係となっていること等を特徴としている。
るように前記複数の光学素子の種類、配置条件を設定し
ていること、 (1-1-2) 前記光学素子は単レンズ又は複数のレンズを有
し、前記被照射面側のレンズ部は前記光源側のレンズ部
に対して、前記出射方向が傾きを持つ断面内においてシ
フト又はチルトしていること、 (1-1-3) 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と直交す
る第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出射光束
の開口数が異なるように配置した複数のシリンドリカル
レンズを有し、前記被照射面側のシリンドリカルレンズ
部は前記光源側のシリンドリカルレンズ部に対して前記
出射方向が傾きを持つ断面内においてシフト又はチルト
していること、 (1-1-4) 前記光学素子の前記第１方向と第２方向での集
光位置が略等しいこと、 (1-1-5) 前記光学素子は少なくとも１つの基板に光軸方
向に対して複数の回折光学素子を配置した構成より成っ
ていること、 (1-1-6) 前記複数の回折光学素子は同心円状のパターン
より成り、前記被照射面側の回折光学素子は前記光源側
の回折光学素子に対して、前記出射方向が傾きを持つ断
面内においてシフトしていること、 (1-1-7) 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と直交す
る第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出射光束
の開口数が異なるように配置したシリンドリカル状のパ
ワーを有する複数の回折光学素子を有していること、 (1-1-8) 前記シリンドリカル状のパワーを有する回折光
学素子はパワーを有する断面と垂直な直線状パターンよ
り成っていること、 (1-1-9) 前記被照射面側の回折光学素子は前記光源側の
回折光学素子に対して前記出射方向が傾きを持つ断面内
においてシフトしていること、 (1-1-10)前記光学素子は球面レンズと回折光学素子との
組み合わせ又はシリンドリカルレンズと回折光学素子と
の組み合わせより成っていること、 (1-1-11)前記光学素子の入射面と前記被照射面とは光学
的に共役関係となっていること等を特徴としている。
【００１８】本発明の投影露光装置は、 （２−１）構成要件（１−１）の照明装置の被照射面に
配置した第１物体面上のパターンを投影光学系で第２物
体面上に投影していることを特徴としている。
配置した第１物体面上のパターンを投影光学系で第２物
体面上に投影していることを特徴としている。
【００１９】（２−２）構成要件（１−１）の照明装置
の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを投影光
学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の双方を前
記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系の投影倍
率に対応させた速度比で同期させて走査して投影してい
ることを特徴としている。
の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを投影光
学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の双方を前
記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系の投影倍
率に対応させた速度比で同期させて走査して投影してい
ることを特徴としている。
【００２０】本発明のデバイスの製造方法は、 （３−１）構成要件（２−１）又は（２−２）の投影露
光装置を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系に
よりウエハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理
工程を介してデバイスを製造していることを特徴として
いる。
光装置を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系に
よりウエハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理
工程を介してデバイスを製造していることを特徴として
いる。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１（Ａ）は本発明の照明装置の
実施形態１の要部概略図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の一
部分の拡大説明図である。
実施形態１の要部概略図、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の一
部分の拡大説明図である。
【００２２】同図において、１はインテグレータ（オプ
ティカルインテグレータ）であり、その出射面１ｂから
の出射光束の出射方向（出射する光束の光束中心の延長
方向）が異なる数種類の光学素子（素子レンズともい
う。）１１，１２を複数個配列した集合体より成ってい
る。光源手段（不図示）からの光束はインテグレータ１
の入射面１ａに入射し、その出射面１ｂの近傍の位置１
ｃに複数の２次光源を形成している。２はコンデンサー
レンズであり、照明光学系を構成しており、インテグレ
ータ１の出射面１ｂ近傍の位置１ｃに形成した複数の２
次光源からの光束を集光し、被照射面３に一部が重ね合
わさるようにしており、これによって所望の照度分布
（光強度分布）の照明領域を形成している。
ティカルインテグレータ）であり、その出射面１ｂから
の出射光束の出射方向（出射する光束の光束中心の延長
方向）が異なる数種類の光学素子（素子レンズともい
う。）１１，１２を複数個配列した集合体より成ってい
る。光源手段（不図示）からの光束はインテグレータ１
の入射面１ａに入射し、その出射面１ｂの近傍の位置１
ｃに複数の２次光源を形成している。２はコンデンサー
レンズであり、照明光学系を構成しており、インテグレ
ータ１の出射面１ｂ近傍の位置１ｃに形成した複数の２
次光源からの光束を集光し、被照射面３に一部が重ね合
わさるようにしており、これによって所望の照度分布
（光強度分布）の照明領域を形成している。
【００２３】本実施形態のインテグレータ１は入射面１
ａからの入射光束に対して出射面１ｂからの出射光束の
出射方向が互いに異なる２つの素子レンズ１１と素子レ
ンズ１２から構成している。素子レンズ１１は全系の光
軸Ｌａに対して光束中心が角度θ１１をなす様出射し、
素子レンズ１２は同様に光束中心が角度θ１２をなす様
出射している。このとき各２次光源面の光束の重心位置
がインテグレータ１を構成する各素子レンズ１１，１２
の配列とは異なっている。以下、角度θ１１は上向き
（＋）、角度θ１２は下向き（−）として説明する。
ａからの入射光束に対して出射面１ｂからの出射光束の
出射方向が互いに異なる２つの素子レンズ１１と素子レ
ンズ１２から構成している。素子レンズ１１は全系の光
軸Ｌａに対して光束中心が角度θ１１をなす様出射し、
素子レンズ１２は同様に光束中心が角度θ１２をなす様
出射している。このとき各２次光源面の光束の重心位置
がインテグレータ１を構成する各素子レンズ１１，１２
の配列とは異なっている。以下、角度θ１１は上向き
（＋）、角度θ１２は下向き（−）として説明する。
【００２４】図１（Ａ）において、素子レンズ１１から
出射された光束はコンデンサーレンズ２を経て被照射面
３に強度分布Ｉ１１の照明領域を形成する。同様に素子
レンズ１２から出射された光束はコンデンサーレンズ２
を経て被照射面３に強度分布Ｉ１２の照明領域を形成す
る。強度分布Ｉ１１と強度分布Ｉ１２は被照射面３上の
異なる位置に形成されるので、被照射面３上には照度分
布Ｉ１１と強度分布Ｉ１２の積算光強度分布Ｉｓｕｍの
照明領域が形成される。これは図１（Ａ）から分かるよ
うに２段の略階段状の光強度分布を有する。
出射された光束はコンデンサーレンズ２を経て被照射面
３に強度分布Ｉ１１の照明領域を形成する。同様に素子
レンズ１２から出射された光束はコンデンサーレンズ２
を経て被照射面３に強度分布Ｉ１２の照明領域を形成す
る。強度分布Ｉ１１と強度分布Ｉ１２は被照射面３上の
異なる位置に形成されるので、被照射面３上には照度分
布Ｉ１１と強度分布Ｉ１２の積算光強度分布Ｉｓｕｍの
照明領域が形成される。これは図１（Ａ）から分かるよ
うに２段の略階段状の光強度分布を有する。
【００２５】本実施形態ではインテグレータ１として出
射方向が異なる素子レンズの種類を増やし、被照射面３
上で複数の階段状の光強度分布を重ね合わせて、合計の
光強度分布がなだらかになり、台形状の強度分布となる
ようにしている。
射方向が異なる素子レンズの種類を増やし、被照射面３
上で複数の階段状の光強度分布を重ね合わせて、合計の
光強度分布がなだらかになり、台形状の強度分布となる
ようにしている。
【００２６】図２は本実施形態においてインテグレータ
１として、出射光束の出射方向が互いに異なる５種類の
素子レンズから構成した場合の被照射面３上における光
強度分布を示している。図２では図１よりも更に台形に
近い照度分布を得ることができることを示している。図
１、図２中では、被照射面上における光強度分布がｙ方
向に変化する場合を示している。
１として、出射光束の出射方向が互いに異なる５種類の
素子レンズから構成した場合の被照射面３上における光
強度分布を示している。図２では図１よりも更に台形に
近い照度分布を得ることができることを示している。図
１、図２中では、被照射面上における光強度分布がｙ方
向に変化する場合を示している。
【００２７】本実施形態の照明装置を例えば走査型の露
光装置に適用する場合、このｙ方向はスキャン方向であ
ろうとステイッチング方向であろうとかまわず、露光装
置の構成に合わせて所望の光強度分布が必要な断面で出
射方向が異なる素子レンズをインテグレータに用いれば
実現することができる。
光装置に適用する場合、このｙ方向はスキャン方向であ
ろうとステイッチング方向であろうとかまわず、露光装
置の構成に合わせて所望の光強度分布が必要な断面で出
射方向が異なる素子レンズをインテグレータに用いれば
実現することができる。
【００２８】図３（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は本実施形態
においてインテグレータ１の１つの素子レンズ３１の入
射面３１ａに入射した光束が出射面３１ｂより出射する
際に出射方向が入射方向（光軸３１ｃ）と異なるように
構成するときの説明図である。
においてインテグレータ１の１つの素子レンズ３１の入
射面３１ａに入射した光束が出射面３１ｂより出射する
際に出射方向が入射方向（光軸３１ｃ）と異なるように
構成するときの説明図である。
【００２９】図３（Ａ）は中心光束３１ｄの出射方向が
変化しない、入射側のレンズ面と出射側のレンズ面とが
共軸となっている通常の素子レンズ３１である。同図で
は中心光束３１ｄの出射方向は入射光束の入射方向（ｚ
軸）３１ｃと一致している。
変化しない、入射側のレンズ面と出射側のレンズ面とが
共軸となっている通常の素子レンズ３１である。同図で
は中心光束３１ｄの出射方向は入射光束の入射方向（ｚ
軸）３１ｃと一致している。
【００３０】図３（Ｂ）は図３（Ａ）に示す素子レンズ
３１を光軸３１ｃ方向に２つの素子レンズ部３２１，３
２２に分割し、そのうちの出射側の素子レンズ部３２２
を光軸３１ｃと垂直方向（ｙ軸方向）に所定量シフトさ
せた場合を示している。
３１を光軸３１ｃ方向に２つの素子レンズ部３２１，３
２２に分割し、そのうちの出射側の素子レンズ部３２２
を光軸３１ｃと垂直方向（ｙ軸方向）に所定量シフトさ
せた場合を示している。
【００３１】図３（Ｃ）は図３（Ａ）に示す素子レンズ
３１を光軸３１ｃに対して所定の角度で２つの素子レン
ズ部３３１，３３２に分割し、そのうちの出射側の素子
レンズ部３３２をｙ軸方向に所定量チルトさせた場合を
示している。
３１を光軸３１ｃに対して所定の角度で２つの素子レン
ズ部３３１，３３２に分割し、そのうちの出射側の素子
レンズ部３３２をｙ軸方向に所定量チルトさせた場合を
示している。
【００３２】図３（Ｂ），（Ｃ）に示すように素子レン
ズ３１の入射面３１ａに入射した光軸３１ｃ上の光束は
出射面３１ｂより出射するとき、その中心光束３１ｄは
入射方向（ｚ軸方向）に対して出射方向を変えて出射し
ている。
ズ３１の入射面３１ａに入射した光軸３１ｃ上の光束は
出射面３１ｂより出射するとき、その中心光束３１ｄは
入射方向（ｚ軸方向）に対して出射方向を変えて出射し
ている。
【００３３】本実施形態では素子レンズ部３２２のシフ
ト方向やシフト量、素子レンズ部３３３のチルト方向や
チルト量を種々と変えた複数の素子レンズを用いて、中
心光束３１ｄの出射方向の傾き及び傾き量を種々と制御
している。例えばシフト量の異なる５つの素子レンズを
ｙ方向に複数個繰り返し配列して、図２に示すような光
強度分布を得るようにしている。
ト方向やシフト量、素子レンズ部３３３のチルト方向や
チルト量を種々と変えた複数の素子レンズを用いて、中
心光束３１ｄの出射方向の傾き及び傾き量を種々と制御
している。例えばシフト量の異なる５つの素子レンズを
ｙ方向に複数個繰り返し配列して、図２に示すような光
強度分布を得るようにしている。
【００３４】図３（Ｂ），（Ｃ）では素子レンズ３１を
単レンズより構成し、一部を切断して２つの素子レンズ
部に分割し、そのうちの一方を偏心させた場合を示して
いるが、インテグレータ１を構成する複数の素子レンズ
３１を単レンズで構成し、各素子レンズを照明光学系の
光軸Ｌａに対して各々偏心させて、各素子レンズを通過
する中心光束の出射方向が互いに異なるようにしても良
い。また図３（Ｂ），（Ｃ）において素子レンズ部３２
１，３２２又は素子レンズ部３３１，３３３を独立の単
レンズより構成して配列しても良い。また素子レンズ部
３２１，３２２（３３１，３３３）を一体化したモール
ド成形より構成しても良い。以上の各要素の変更は以下
に示す各実施形態においても同様である。
単レンズより構成し、一部を切断して２つの素子レンズ
部に分割し、そのうちの一方を偏心させた場合を示して
いるが、インテグレータ１を構成する複数の素子レンズ
３１を単レンズで構成し、各素子レンズを照明光学系の
光軸Ｌａに対して各々偏心させて、各素子レンズを通過
する中心光束の出射方向が互いに異なるようにしても良
い。また図３（Ｂ），（Ｃ）において素子レンズ部３２
１，３２２又は素子レンズ部３３１，３３３を独立の単
レンズより構成して配列しても良い。また素子レンズ部
３２１，３２２（３３１，３３３）を一体化したモール
ド成形より構成しても良い。以上の各要素の変更は以下
に示す各実施形態においても同様である。
【００３５】図４，図５は本発明の照明装置の実施形態
２，３で用いるインテグレータの要部概略図である。実
施形態２，３において、インテグレータ４１，５１以外
の各要素は図１の実施形態１と同じである。
２，３で用いるインテグレータの要部概略図である。実
施形態２，３において、インテグレータ４１，５１以外
の各要素は図１の実施形態１と同じである。
【００３６】図４の実施形態２では、インテグレータ４
１を中心光束の出射面４１ｂからの出射方向が互いに異
なる２つの素子レンズ４３，４４をｙ軸方向に複数個繰
り返して配列して構成している。同図では入射側のレン
ズ面に対して出射側のレンズ面を互いに偏心させてい
る。そしてインテグレータ４１の入射面４１ａが被照射
面３と光学的に共役な位置関係となるように各要素（出
射面の屈折力やコンデンサーレンズの屈折力等）を設定
している。尚、各素子レンズの入射側のレンズ面４１ａ
は全て同一形状であっても良い。
１を中心光束の出射面４１ｂからの出射方向が互いに異
なる２つの素子レンズ４３，４４をｙ軸方向に複数個繰
り返して配列して構成している。同図では入射側のレン
ズ面に対して出射側のレンズ面を互いに偏心させてい
る。そしてインテグレータ４１の入射面４１ａが被照射
面３と光学的に共役な位置関係となるように各要素（出
射面の屈折力やコンデンサーレンズの屈折力等）を設定
している。尚、各素子レンズの入射側のレンズ面４１ａ
は全て同一形状であっても良い。
【００３７】図５の実施形態３では、素子レンズ５２
（５３）を２つの素子レンズ部５１１，５１２（５２
１，５２２）より構成し、それらの組をｙ軸方向に複数
個繰り返して配列している。そして入射側の素子レンズ
部５１１，５２１に対して出射側の素子レンズ部５１
２，５２２を互いに偏心させて、中心光束の出射側５１
ｂからの出射方向が各素子レンズ毎で互いに異なるよう
にしている。そして入射側５１ａのレンズ面が被照射面
３と光学的に共役な位置関係となるように、各要素（出
射側の素子レンズ部の屈折力やコンデンサーレンズの屈
折力等）を設定している。尚、本実施形態において入射
側の素子レンズ部５１１，５２１は同一形状であっても
良い。
（５３）を２つの素子レンズ部５１１，５１２（５２
１，５２２）より構成し、それらの組をｙ軸方向に複数
個繰り返して配列している。そして入射側の素子レンズ
部５１１，５２１に対して出射側の素子レンズ部５１
２，５２２を互いに偏心させて、中心光束の出射側５１
ｂからの出射方向が各素子レンズ毎で互いに異なるよう
にしている。そして入射側５１ａのレンズ面が被照射面
３と光学的に共役な位置関係となるように、各要素（出
射側の素子レンズ部の屈折力やコンデンサーレンズの屈
折力等）を設定している。尚、本実施形態において入射
側の素子レンズ部５１１，５２１は同一形状であっても
良い。
【００３８】図６（Ａ），（Ｂ）は本発明の照明装置の
実施形態４で用いるインテグレータのｙｚ断面とｘｚ断
面の概略図である。インテグレータ以外の各要素は図１
の実施形態１と同じである。
実施形態４で用いるインテグレータのｙｚ断面とｘｚ断
面の概略図である。インテグレータ以外の各要素は図１
の実施形態１と同じである。
【００３９】本実施形態ではインテグレータ６１を複数
の素子レンズ６２，６３，６４より構成し、このうち１
つの素子レンズ（６３）を４つのシリンドリカルレンズ
（６２１，６４１，６４２，６２２）より構成した場合
を示している。
の素子レンズ６２，６３，６４より構成し、このうち１
つの素子レンズ（６３）を４つのシリンドリカルレンズ
（６２１，６４１，６４２，６２２）より構成した場合
を示している。
【００４０】シリンドリカルレンズを素子レンズの一部
として用い、ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異
ならすことで被照射面３上を矩形に照明している。シリ
ンドリカルレンズ６１１，６１２（６２１，６２２）は
ｙｚ断面内で屈折力を有し、出射面の面が偏心してお
り、出射面からの中心光束の出射方向が異なる素子レン
ズ６２（６３）を構成している。シリンドリカルレンズ
６４１，６４２（６３１，６３２）はｘｚ断面内で屈折
力を有し、互いに共軸となっており、中心光束の出射方
向は入射方向と同じになるようにしている。
として用い、ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異
ならすことで被照射面３上を矩形に照明している。シリ
ンドリカルレンズ６１１，６１２（６２１，６２２）は
ｙｚ断面内で屈折力を有し、出射面の面が偏心してお
り、出射面からの中心光束の出射方向が異なる素子レン
ズ６２（６３）を構成している。シリンドリカルレンズ
６４１，６４２（６３１，６３２）はｘｚ断面内で屈折
力を有し、互いに共軸となっており、中心光束の出射方
向は入射方向と同じになるようにしている。
【００４１】各素子レンズ６２，６３，６４の集光点は
ｚ軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成しており、
また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学的に
共役となっている。またシリンドリカルレンズ６１１と
６２１は同じものであっても良い。
ｚ軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成しており、
また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学的に
共役となっている。またシリンドリカルレンズ６１１と
６２１は同じものであっても良い。
【００４２】図７（Ａ）は本発明の照明装置の実施形態
５で用いるインテグレータ７１の要部概略図、図７
（Ｂ），（Ｃ）は各々図７（Ａ）の入射側と出射側の説
明図である。インテグレータ７１以外の各要素は図１の
実施形態１と同じである。
５で用いるインテグレータ７１の要部概略図、図７
（Ｂ），（Ｃ）は各々図７（Ａ）の入射側と出射側の説
明図である。インテグレータ７１以外の各要素は図１の
実施形態１と同じである。
【００４３】図中、７２１，７２２，７１１，７１２は
各々回折光学素子であり、このうち回折光学素子７２
１，７２２（７１１，７１２）で１つの素子レンズ７２
（７３）を構成している。同図では基板７０の物体側面
（入射面）７１ａに微小な回折光学素子７１１，７２１
が、像側面（出射面）７１ｂに回折光学素子７１２，７
２２が配置され、回折光学素子７１１と７１２、及び回
折光学素子７２１，７２２の組み合わせで中心光束の出
射方向の異なる素子レンズ７２，７３を構成している。
各々回折光学素子であり、このうち回折光学素子７２
１，７２２（７１１，７１２）で１つの素子レンズ７２
（７３）を構成している。同図では基板７０の物体側面
（入射面）７１ａに微小な回折光学素子７１１，７２１
が、像側面（出射面）７１ｂに回折光学素子７１２，７
２２が配置され、回折光学素子７１１と７１２、及び回
折光学素子７２１，７２２の組み合わせで中心光束の出
射方向の異なる素子レンズ７２，７３を構成している。
【００４４】回折光学素子７１１，７２１は図７（Ｂ）
に示すように、非偏心の球面レンズと等価な作用を持つ
ようにした同心円状かつ周辺に行く程密になるパターン
からなる回折光学素子より成っている。尚、回折光学素
子７１１，７２１は同じものであっても良い。
に示すように、非偏心の球面レンズと等価な作用を持つ
ようにした同心円状かつ周辺に行く程密になるパターン
からなる回折光学素子より成っている。尚、回折光学素
子７１１，７２１は同じものであっても良い。
【００４５】回折光学素子７１２，７２２は図７（Ｃ）
に示すように、出射方向を異ならしめるために同心円状
パターンがｙ方向にシフトした形状をしており、その同
心円中心は組となる物体側の回折光学素子の同心円中心
とずれた位置となっている。
に示すように、出射方向を異ならしめるために同心円状
パターンがｙ方向にシフトした形状をしており、その同
心円中心は組となる物体側の回折光学素子の同心円中心
とずれた位置となっている。
【００４６】本実施形態では素子レンズ７２は上側に、
素子レンズ７２は下側に傾いて中心光束を出射してい
る。また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学
的に共役な位置関係を取るよう構成している。
素子レンズ７２は下側に傾いて中心光束を出射してい
る。また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学
的に共役な位置関係を取るよう構成している。
【００４７】本実施形態のインテグレータ７１は基板７
０の前後に回折光学素子を配置して構成していたが、製
造可能な大きさの基板を組み合わせて全体として所望の
大きさのインテグレータとしても良い。また同一の基板
７０の前後に回折光学素子を配列するのではなく、各々
別々の基板に配列させても良い。回折光学素子は同一平
面上に同じパターンが多数配列することになるので、リ
ソグラフィー技術を用いて作られるバイナリ素子として
製造するのが好ましく、その際、光の利用効率から４レ
ベル以上のものが好ましい。
０の前後に回折光学素子を配置して構成していたが、製
造可能な大きさの基板を組み合わせて全体として所望の
大きさのインテグレータとしても良い。また同一の基板
７０の前後に回折光学素子を配列するのではなく、各々
別々の基板に配列させても良い。回折光学素子は同一平
面上に同じパターンが多数配列することになるので、リ
ソグラフィー技術を用いて作られるバイナリ素子として
製造するのが好ましく、その際、光の利用効率から４レ
ベル以上のものが好ましい。
【００４８】図８（Ａ），（Ｂ）は本発明の照明装置の
実施形態６に用いるインテグレータのｙｚ断面とｘｚ断
面の概略図である。インテグレータ８０１以外の各要素
は図１の実施形態１と同じである。
実施形態６に用いるインテグレータのｙｚ断面とｘｚ断
面の概略図である。インテグレータ８０１以外の各要素
は図１の実施形態１と同じである。
【００４９】図中、８４１，８５１，８４２，８５２は
各々回折光学素子であり、図９（Ａ），（Ｂ）に示すよ
うな回折光学素子より成っている。回折光学素子８４
１，８４２（８５１，８５２）で１つの素子レンズを構
成している。８６１，８６２は各々回折光学素子であ
り、図９（Ｃ），（Ｄ）に示すような回折光学素子より
成っている。
各々回折光学素子であり、図９（Ａ），（Ｂ）に示すよ
うな回折光学素子より成っている。回折光学素子８４
１，８４２（８５１，８５２）で１つの素子レンズを構
成している。８６１，８６２は各々回折光学素子であ
り、図９（Ｃ），（Ｄ）に示すような回折光学素子より
成っている。
【００５０】本実施形態ではシリンドリカルレンズ状の
パワーを有する回折光学素子を素子レンズとして用い、
ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異ならすことで
被照射面上を矩形に照明している。そして基板８０の物
体側面に回折光学素子８４１，８５１、基板８３の像側
に回折光学素子８４２，８５２を配置している。回折光
学素子８４１と８４２、回折光学素子８５１と８５２の
組み合わせでｙｚ断面でパワーを有する素子レンズ８
４，８５を構成しており、これらはｙｚ断面での出射方
向が異なっている。
パワーを有する回折光学素子を素子レンズとして用い、
ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異ならすことで
被照射面上を矩形に照明している。そして基板８０の物
体側面に回折光学素子８４１，８５１、基板８３の像側
に回折光学素子８４２，８５２を配置している。回折光
学素子８４１と８４２、回折光学素子８５１と８５２の
組み合わせでｙｚ断面でパワーを有する素子レンズ８
４，８５を構成しており、これらはｙｚ断面での出射方
向が異なっている。
【００５１】図９（Ａ），（Ｂ）に示すように、回折光
学素子８４１，８５１はｘ方向に直線なパターンの配列
で構成され、中心に最もパターンの粗な部分があり、ｙ
方向で上下に行くに連れてパターンは密となり、パワー
（屈折力）が強くなっている。尚、回折光学素子８４
１，８５１は同じものであっても構わない。回折光学素
子８４２，８５２も同じくｘ方向に直線なパターンの配
列で構成され、粗の部分がｙ方向にシフトしており、粗
の部分から上下に行くに連れてパターンは密となり、パ
ワーが強くなっている。
学素子８４１，８５１はｘ方向に直線なパターンの配列
で構成され、中心に最もパターンの粗な部分があり、ｙ
方向で上下に行くに連れてパターンは密となり、パワー
（屈折力）が強くなっている。尚、回折光学素子８４
１，８５１は同じものであっても構わない。回折光学素
子８４２，８５２も同じくｘ方向に直線なパターンの配
列で構成され、粗の部分がｙ方向にシフトしており、粗
の部分から上下に行くに連れてパターンは密となり、パ
ワーが強くなっている。
【００５２】基板８１の物体側面に図９（Ｃ）に示すよ
うな回折光学素子８６１、基板８２の像側面に図９
（Ｄ）に示すような回折光学素子８６２が配置され、こ
れらの組み合わせでｘｚ断面でパワーを有する素子レン
ズ８６を構成しており、これは中心光束が入射光束の光
軸と同方向に出射するようにしている。図９（Ｃ），
（Ｄ）に示すように、回折光学素子８６１，８６２はｙ
方向に直線なパターンの配列で構成され、中心に最もパ
ターンの粗な部分があり、ｘ方向で左右に行くに連れて
パターンは密となり、パワーが強くなっている。
うな回折光学素子８６１、基板８２の像側面に図９
（Ｄ）に示すような回折光学素子８６２が配置され、こ
れらの組み合わせでｘｚ断面でパワーを有する素子レン
ズ８６を構成しており、これは中心光束が入射光束の光
軸と同方向に出射するようにしている。図９（Ｃ），
（Ｄ）に示すように、回折光学素子８６１，８６２はｙ
方向に直線なパターンの配列で構成され、中心に最もパ
ターンの粗な部分があり、ｘ方向で左右に行くに連れて
パターンは密となり、パワーが強くなっている。
【００５３】素子レンズ８４，８５，８６の集光点はｚ
軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成されており、
また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学的に
共役になっている。
軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成されており、
また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学的に
共役になっている。
【００５４】図１０（Ａ），（Ｂ）は本発明の照明装置
の実施形態７に用いるインテグレータ１のｙｚ断面とｘ
ｚ断面の概略図である。インテグレータ1001以外の各要
素は図１の実施形態１と同じである。
の実施形態７に用いるインテグレータ１のｙｚ断面とｘ
ｚ断面の概略図である。インテグレータ1001以外の各要
素は図１の実施形態１と同じである。
【００５５】本実施形態は図６に示す実施形態４におい
て、シリンドリカルレンズ６１２，６２２をｙｚ断面で
パワーを有する回折光学素子1012，1022に置き換えたも
のである。例えば１つの素子レンズ１０３を３つのシリ
ンドリカルレンズ６２１，６４１，６４２と回折光学素
子1022より構成している。
て、シリンドリカルレンズ６１２，６２２をｙｚ断面で
パワーを有する回折光学素子1012，1022に置き換えたも
のである。例えば１つの素子レンズ１０３を３つのシリ
ンドリカルレンズ６２１，６４１，６４２と回折光学素
子1022より構成している。
【００５６】本実施形態では、３つのシリンドリカルレ
ンズと１つのシリンドリカルレンズ状のパワーを有する
回折光学素子の組み合わせで１つの素子レンズを構成
し、ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異ならすこ
とで被照射面上を矩形に照明している。シリンドリカル
レンズ６１１と回折光学素子1012、シリンドリカルレン
ズ６２１と回折光学素子1022の組み合わせでｙｚ断面で
パワーを有する素子レンズ１０２，１０３を構成してお
り、これらはｙｚ断面での中心光束の出射方向が異なっ
ている。
ンズと１つのシリンドリカルレンズ状のパワーを有する
回折光学素子の組み合わせで１つの素子レンズを構成
し、ｙ方向とｘ方向での出射光束の開口数を異ならすこ
とで被照射面上を矩形に照明している。シリンドリカル
レンズ６１１と回折光学素子1012、シリンドリカルレン
ズ６２１と回折光学素子1022の組み合わせでｙｚ断面で
パワーを有する素子レンズ１０２，１０３を構成してお
り、これらはｙｚ断面での中心光束の出射方向が異なっ
ている。
【００５７】回折光学素子1012，1022は図９（Ｂ）と同
様にｘ方向に直線なパターンの配列で構成され、やはり
同様に配列の粗の部分がｙ方向にシフトしており、粗の
部分から上下に行くに連れてパターンは密となり、パワ
ーが強くなっている。
様にｘ方向に直線なパターンの配列で構成され、やはり
同様に配列の粗の部分がｙ方向にシフトしており、粗の
部分から上下に行くに連れてパターンは密となり、パワ
ーが強くなっている。
【００５８】素子レンズ１０２，１０３，１０４の集光
点はｚ軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成してお
り、また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学
的に共役になっている。この例ではシリンドリカルレン
ズの代わりに同様のパワーを有する回折光学素子を用い
たが、図５に示す実施形態の球面レンズ５１１，５１２
を回折光学素子に置き換えても良い。特に、球面をシフ
ト或いはチルトした面形状の制作が困難である場合は、
より回折光学素子で構成する効果が高い。
点はｚ軸に垂直な略同一面上に配列するよう構成してお
り、また各々の素子レンズの入射面は被照射面３と光学
的に共役になっている。この例ではシリンドリカルレン
ズの代わりに同様のパワーを有する回折光学素子を用い
たが、図５に示す実施形態の球面レンズ５１１，５１２
を回折光学素子に置き換えても良い。特に、球面をシフ
ト或いはチルトした面形状の制作が困難である場合は、
より回折光学素子で構成する効果が高い。
【００５９】図１３は本発明の照明装置を用いた投影露
光装置の実施形態１の要部概略図である。同図におい
て、１４１は光源である。１４２はビーム整形光学系、
１はインテグレータ、２はコンデンサーレンズであり、
これらは図１の照明装置に用いているものと同じであ
る。
光装置の実施形態１の要部概略図である。同図におい
て、１４１は光源である。１４２はビーム整形光学系、
１はインテグレータ、２はコンデンサーレンズであり、
これらは図１の照明装置に用いているものと同じであ
る。
【００６０】１４３は絞りであり、図１の被照射面３の
位置に相当している。１４４は絞り結像レンズであり、
絞り１４３の開口形状を被照射面上に設けたレチクル１
４５上に投影している。レチクル１４５面上の照明領域
は絞り１４３の開口形状と相似形をなしている。１４７
は投影レンズ（投影光学系）であり、レチクル１４５面
上のパターンを感光基板（ウエハ）１４８面上に投影し
ている。１４６は駆動手段であり、レチクル１４５を駆
動している。１４９は駆動手段でありウエハ１４８を駆
動している。
位置に相当している。１４４は絞り結像レンズであり、
絞り１４３の開口形状を被照射面上に設けたレチクル１
４５上に投影している。レチクル１４５面上の照明領域
は絞り１４３の開口形状と相似形をなしている。１４７
は投影レンズ（投影光学系）であり、レチクル１４５面
上のパターンを感光基板（ウエハ）１４８面上に投影し
ている。１４６は駆動手段であり、レチクル１４５を駆
動している。１４９は駆動手段でありウエハ１４８を駆
動している。
【００６１】本実施形態ではレジスト等の感光体を塗布
したウエハ１４８上にレチクル１４５上の回路パターン
を投影レンズ１４７を介してステップアンドスキャン方
式又はステイッチング方式で投影露光している。このう
ち例えば、ステップアンドスキャン方式の露光装置で
は、レチクル１４５上のパターンを一括して照明するの
ではなく、照明エリアを例えばスリット状にしている。
そして照明エリアの内部に位置するレチクル１４５上の
パターンを投影レンズ１４７を介してウエハ１４８上の
露光エリアに転写している。
したウエハ１４８上にレチクル１４５上の回路パターン
を投影レンズ１４７を介してステップアンドスキャン方
式又はステイッチング方式で投影露光している。このう
ち例えば、ステップアンドスキャン方式の露光装置で
は、レチクル１４５上のパターンを一括して照明するの
ではなく、照明エリアを例えばスリット状にしている。
そして照明エリアの内部に位置するレチクル１４５上の
パターンを投影レンズ１４７を介してウエハ１４８上の
露光エリアに転写している。
【００６２】レチクル１４５はレチクルステージ上に載
置されており、駆動手段１４６によって例えばｘ方向に
スキャンしている。ウエハ１４８は可動ステージ上に載
置されており、該可動ステージは駆動手段１４９によっ
てｘ方向のレチクル１４５と逆方向にスキャンしてい
る。尚、レチクル１４５とウエハ１４８は投影レンズ１
４７の投影倍率に対応させた速度比で同期して互いに逆
方向にスキャンしている。この投影露光装置を用いるこ
とで、所望の光強度分布を持った照明領域でレチクル面
上のパターンを基板に露光することを可能としている。
置されており、駆動手段１４６によって例えばｘ方向に
スキャンしている。ウエハ１４８は可動ステージ上に載
置されており、該可動ステージは駆動手段１４９によっ
てｘ方向のレチクル１４５と逆方向にスキャンしてい
る。尚、レチクル１４５とウエハ１４８は投影レンズ１
４７の投影倍率に対応させた速度比で同期して互いに逆
方向にスキャンしている。この投影露光装置を用いるこ
とで、所望の光強度分布を持った照明領域でレチクル面
上のパターンを基板に露光することを可能としている。
【００６３】次に上記説明した投影露光装置を利用した
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
【００６４】図１４は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、或いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造
のフローを示す。
の半導体チップ、或いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造
のフローを示す。
【００６５】ステップ１（回路設計）では半導体デバイ
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
【００６６】一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、前記用意したマ
スクとウエハを用いてリソグラフィ技術によってウエハ
上に実際の回路を形成する。
コン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、前記用意したマ
スクとウエハを用いてリソグラフィ技術によってウエハ
上に実際の回路を形成する。
【００６７】次のステップ５（組立）は後工程と呼ば
れ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシ
ング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。
れ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシ
ング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。
【００６８】ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００６９】図１５は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。
【００７０】ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
【００７１】ステップ１７（現像）では露光したウエハ
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングがすんで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングがすんで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００７２】本実施形態の製造方法を用いれば、従来は
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
【００７３】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、照明系の
一部に適切に構成したオプティカルインテグレータを用
いることによって、被照射面上の第１方向又はそれと直
交する第２方向又はその両方向において光の有効利用を
図りつつ、所望の光強度分布で例えば台形分布で照明す
ることができ、また被照射面にレチクルを配置したとき
はレチクル面上（１原板上）のパターンを適切に照明
し、高い解像力が容易に得られる半導体素子の製造に好
適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を達成する
ことができる。
一部に適切に構成したオプティカルインテグレータを用
いることによって、被照射面上の第１方向又はそれと直
交する第２方向又はその両方向において光の有効利用を
図りつつ、所望の光強度分布で例えば台形分布で照明す
ることができ、また被照射面にレチクルを配置したとき
はレチクル面上（１原板上）のパターンを適切に照明
し、高い解像力が容易に得られる半導体素子の製造に好
適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を達成する
ことができる。
【００７４】この他、本発明によれば、パルス発振する
レーザー光源を用いて走査露光を行う際に発生する走査
速度のばらつきやパルス発振のタイミングのずれに起因
する露光量のばらつきを小さくできる光強度分布を照明
の効率の低下を防止しつつ達成することのできる照明装
置及びそれを用いた投影露光装置を達成することができ
る。
レーザー光源を用いて走査露光を行う際に発生する走査
速度のばらつきやパルス発振のタイミングのずれに起因
する露光量のばらつきを小さくできる光強度分布を照明
の効率の低下を防止しつつ達成することのできる照明装
置及びそれを用いた投影露光装置を達成することができ
る。
【図１】本発明の照明装置の実施形態１の要部概略図
【図２】本発明に係る台形状照度分布の説明図
【図３】本発明に係るインテグレータの出射面から出射
する中心光束の説明図
する中心光束の説明図
【図４】本発明の照明装置の実施形態２に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図５】本発明の照明装置の実施形態３に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図６】本発明の照明装置の実施形態４に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図７】本発明の照明装置の実施形態５に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図８】本発明の照明装置の実施形態６に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図９】本発明の照明装置の実施形態６に用いるインテ
グレータの説明図
グレータの説明図
【図１０】本発明の照明装置の実施形態７に用いるイン
テグレータの説明図
テグレータの説明図
【図１１】従来のスリットスキャン型の露光装置におけ
る露光量の説明図
る露光量の説明図
【図１２】従来のステイッチング型の露光装置における
露光量の説明図
露光量の説明図
【図１３】本発明の投影露光装置の実施形態１の要部概
略図
略図
【図１４】本発明の半導体デバイスの製造方法のフロー
チャート
チャート
【図１５】本発明の半導体デバイスの製造方法のフロー
チャート
チャート
１，４１，５１，６１，７１，８０１，1001 オプティ
カルインテグレータ ２ コンデンサーレンズ ３ 被照射面 １１，１２，３１，４３，４４，５２，５３ 光学素子
（素子レンズ） １４１ 光源 １４２ ビーム整形光学系 １４５ レチクル １４６，１４９ 駆動手段 １４７ 投影光学系 １４８ ウエハ ６１１，６１２，６２１，６２２，６３１，６３２ シ
リンドリカルレンズ ７１１，７１２，７２１，７２２，８６１，８６２ 回
折光学素子
カルインテグレータ ２ コンデンサーレンズ ３ 被照射面 １１，１２，３１，４３，４４，５２，５３ 光学素子
（素子レンズ） １４１ 光源 １４２ ビーム整形光学系 １４５ レチクル １４６，１４９ 駆動手段 １４７ 投影光学系 １４８ ウエハ ６１１，６１２，６２１，６２２，６３１，６３２ シ
リンドリカルレンズ ７１１，７１２，７２１，７２２，８６１，８６２ 回
折光学素子
Claims (15)
- 【請求項１】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する出射光束を照明光学系を介して被照射面上を照
明する際、該オプティカルインテグレータは出射光束の
出射方向が互いに異なる光学素子を複数個備えることを
特徴とする照明装置。 - 【請求項２】 前記被照射面上の光強度分布が所望の形
状となるように前記複数の光学素子の種類、配置条件を
設定していることを特徴とする請求項１の照明装置。 - 【請求項３】 前記光学素子は単レンズ又は複数のレン
ズを有し、前記被照射面側のレンズ部は前記光源側のレ
ンズ部に対して、前記出射方向が傾きを持つ断面内にお
いてシフト又はチルトしていることを特徴とする請求項
１又は２の照明装置。 - 【請求項４】 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と
直交する第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出
射光束の開口数が異なるように配置した複数のシリンド
リカルレンズを有し、前記被照射面側のシリンドリカル
レンズ部は前記光源側のシリンドリカルレンズ部に対し
て前記出射方向が傾きを持つ断面内においてシフト又は
チルトしていることを特徴とする請求項１又は２の照明
装置。 - 【請求項５】 前記光学素子の前記第１方向と第２方向
での集光位置が略等しいことを特徴とする請求項４の照
明装置。 - 【請求項６】 前記光学素子は少なくとも１つの基板に
光軸方向に対して複数の回折光学素子を配置した構成よ
り成っていることを特徴とする請求項１又は２の照明装
置。 - 【請求項７】 前記複数の回折光学素子は同心円状のパ
ターンより成り、前記被照射面側の回折光学素子は前記
光源側の回折光学素子に対して、前記出射方向が傾きを
持つ断面内においてシフトしていることを特徴とする請
求項６の照明装置。 - 【請求項８】 前記光学素子は前記照明光学系の光軸と
直交する第１方向と該第１方向と直交する第２方向で出
射光束の開口数が異なるように配置したシリンドリカル
状のパワーを有する複数の回折光学素子を有しているこ
とを特徴とする請求項１又は２の照明装置。 - 【請求項９】 前記シリンドリカル状のパワーを有する
回折光学素子はパワーを有する断面と垂直な直線状パタ
ーンより成っていることを特徴とする請求項８の照明装
置。 - 【請求項１０】 前記被照射面側の回折光学素子は前記
光源側の回折光学素子に対して前記出射方向が傾きを持
つ断面内においてシフトしていることを特徴とする請求
項９の照明装置。 - 【請求項１１】 前記光学素子は球面レンズと回折光学
素子との組み合わせ又はシリンドリカルレンズと回折光
学素子との組み合わせより成っていることを特徴とする
請求項１又は２の照明装置。 - 【請求項１２】 前記光学素子の入射面と前記被照射面
とは光学的に共役関係となっていることを特徴とする請
求項１〜１１のいずれか１項記載の照明装置。 - 【請求項１３】 請求項１〜１２のいずれか１項記載の
照明装置の被照射面に配置した第１物体面上のパターン
を投影光学系で第２物体面上に投影していることを特徴
とする投影露光装置。 - 【請求項１４】 請求項１〜１２のいずれか１項記載の
照明装置の被照射面に配置した第１物体面上のパターン
を投影光学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の
双方を前記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系
の投影倍率に対応させた速度比で同期させて走査して投
影していることを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項１５】 請求項１３又は１４記載の投影露光装
置を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系により
ウエハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理工程
を介してデバイスを製造していることを特徴とするデバ
イスの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26359496A JP3563888B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| US08/927,294 US5963305A (en) | 1996-09-12 | 1997-09-11 | Illumination system and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26359496A JP3563888B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092730A true JPH1092730A (ja) | 1998-04-10 |
| JP3563888B2 JP3563888B2 (ja) | 2004-09-08 |
Family
ID=17391722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26359496A Expired - Fee Related JP3563888B2 (ja) | 1996-09-12 | 1996-09-12 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3563888B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005101314A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Canon Inc | 照明装置及び露光装置 |
| JP2011040618A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Nikon Corp | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 |
| US9030645B2 (en) | 2008-07-14 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, and exposure method |
-
1996
- 1996-09-12 JP JP26359496A patent/JP3563888B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005101314A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Canon Inc | 照明装置及び露光装置 |
| US9030645B2 (en) | 2008-07-14 | 2015-05-12 | Nikon Corporation | Illumination optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2011040618A (ja) * | 2009-08-12 | 2011-02-24 | Nikon Corp | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3563888B2 (ja) | 2004-09-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI450048B (zh) | 照明光學系統、曝光裝置以及元件製造方法 | |
| US5963305A (en) | Illumination system and exposure apparatus | |
| JP3232473B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JP3259657B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| US6903801B2 (en) | Illumination optical system for use in projection exposure apparatus | |
| US7126757B2 (en) | Illumination apparatus, exposure apparatus using the same, and device fabricating method | |
| JPH0613289A (ja) | 照明装置及びそれを用いた露光装置 | |
| JP3057998B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| KR100485314B1 (ko) | 투영노광장치와 이것을 사용한 디바이스제조방법 | |
| JPH1041225A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPH11317348A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH09219358A (ja) | 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JP2007242775A (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2002353090A (ja) | 照明装置、露光装置、デバイス製造方法及びデバイス | |
| JP3796294B2 (ja) | 照明光学系及び露光装置 | |
| JPH11121358A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2004055856A (ja) | 照明装置、それを用いた露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2003068604A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
| JP3008744B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 | |
| JP3563888B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP4235410B2 (ja) | 露光方法 | |
| JP2003015314A (ja) | 照明光学装置および該照明光学装置を備えた露光装置 | |
| JP5531518B2 (ja) | 偏光変換ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
| JP3618944B2 (ja) | 照明光学系及びそれを用いた露光装置 | |
| JP2005331651A (ja) | ３次元構造形成方法および３次元構造形成方法を用いて製造された光学素子、光学系、装置、デバイスおよびデバイス製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040518 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040601 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040604 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |