JP2011040618A - 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 - Google Patents
回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011040618A JP2011040618A JP2009187469A JP2009187469A JP2011040618A JP 2011040618 A JP2011040618 A JP 2011040618A JP 2009187469 A JP2009187469 A JP 2009187469A JP 2009187469 A JP2009187469 A JP 2009187469A JP 2011040618 A JP2011040618 A JP 2011040618A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- light
- diffractive optical
- illumination
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】光源装置から射出される光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系と、所定のパターンの像をウエハ上に投影する投影光学系と、を備えた露光装置に設けられ、光を回折して所定のパターンを重畳的に照明する第1回折光学素子24及び第2回折光学素子26の設計方法であって、ウエハ上の複数の位置に照射される光の角度方向の光強度分布がそれぞれ等しくなるように、第1回折光学素子24及び第2回折光学素子26によって回折される光の角度方向の光強度分布を設定する。
【選択図】図2
Description
本発明の回折光学素子の設計方法は、光源(12)から射出される光(EL)に基づいて所定のパターン(R)を照明する照明光学系(13)と、前記所定のパターン(R)の像を被照射面(Wa)に投影する投影光学系(15)と、を備えた露光装置(11)に設けられ、前記光(EL)を回折して前記所定のパターン(R)を重畳的に照明する回折光学素子(24,26)の設計方法であって、前記被照射面(Wa)上の複数の位置に照射される光の角度方向の光強度分布がそれぞれ等しくなるように、前記回折光学素子(24,26)によって回折される光の角度方向の光強度分布を設定する。
そして次に、ステップS23にて設定された照明条件L2の条件下で、ステップS22にて決定した回折光学素子D1が入射面及び射出面に設けられたオプティカルインテグレータ23を露光光ELの光路上に配置する。そして、瞳強度分布計測装置39が、光源装置12からオプティカルインテグレータ23を介して静止露光領域ER2内の各点P1b,P2b,P3bに入射する入射光によって形成される第1瞳強度分布42及び第2瞳強度分布43をそれぞれ計測する(ステップS24)。
(1)第1回折光学素子24及び第2回折光学素子26は、照明領域ER1内の各点P1a,P2a,P3a及び静止露光領域ER2内の各点P1b,P2b,P3bに入射する光が形成する角度方向の光強度分布をそれぞれ等しくするように、各回折光学素子24,26に入射する光に対する回折力が設定されている。そのため、照明領域ER1内の各点P1a,P2a,P3a及び静止露光領域ER2内の各点P1b,P2b,P3bに入射する光の光強度を均一に調整することができる。
・上記実施形態において、例えば、レチクルR上に形成される回路パターンの種類が局所的に異なる場合には、レチクルR上の照明領域ER1の各点P1a,P2a,P3aに入射する露光光ELが形成する角度方向の光強度分布を互いに異ならせる設定としてもよい。ただし、静止露光領域ER2内の各点P1b,P2b,P3bに入射する露光光ELの光強度をそれぞれ等しくするように、各回折光学素子24,26から射出される露光光ELの角度方向の光強度分布を設定することが望ましい。
ステップS111(酸化ステップ)においては、基板の表面を酸化させる。ステップS112(CVDステップ)においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップS113(電極形成ステップ)においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップS114(イオン打込みステップ)においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップS111〜ステップS114のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (8)
- 光源から射出される光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を被照射面に投影する投影光学系と、を備えた露光装置に設けられ、前記光を回折して前記所定のパターンを重畳的に照明する回折光学素子の設計方法であって、
前記被照射面上の複数の位置に照射される光の角度方向の光強度分布がそれぞれ等しくなるように、前記回折光学素子によって回折される光の角度方向の光強度分布を設定することを特徴とする回折光学素子の設計方法。 - 請求項1に記載の回折光学素子の設計方法であって、
前記光源から前記被照射面に至る光の光路上に設けられた光学素子の光学特性に基づいて、前記被照射面上の複数の位置毎の前記角度方向の光強度分布が互いに等しくなるように前記光の回折時における角度方向の光強度分布を設定された回折光学素子モデルを設計する第1の設計段階と、
前記第1の設計段階にて設計された前記回折光学素子モデルが前記光路上に配置された状態で、前記被照射面上の前記各位置を照射する光の角度方向の光強度分布を計測する光強度計測段階と、
前記光強度計測段階において計測された角度方向の光強度分布に基づいて、前記被照射面上の前記各位置に照射される光の角度方向の光強度分布が互いに等しくなるように前記回折光学素子モデルによる前記光の回折時における角度方向の光強度分布を補正することにより、前記回折光学素子を設計する第2の設計段階と、
を備えたことを特徴とする回折光学素子の設計方法。 - 請求項1又は請求項2に記載の回折光学素子の設計方法であって、
前記回折光学素子は、前記被照射面に対して光学的にフーリエ変換の関係にある照明瞳面上に形成される複数種類の光強度分布に対して併用可能に構成されることを特徴とする回折光学素子の設計方法。 - 光源から射出される光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を被照射面に投影する投影光学系と、を備えた露光装置に設けられ、前記光を回折して前記所定のパターンを重畳的に照明する回折光学素子であって、
前記回折光学素子は、該回折光学素子から射出される光が前記照明光学系の光軸と略平行に延びる主光線を中心として角度方向に非対称な光強度分布を有するように構成されることを特徴とする回折光学素子。 - 請求項4に記載の回折光学素子であって、
前記回折光学素子は、前記被照射面上の複数の位置に照射される光の角度方向の光強度が互いに等しくなるように、前記光の回折時における角度方向の光強度分布が設定されることを特徴とする回折光学素子。 - 光源から射出された光に基づいて所定のパターンを照明する照明光学系であって、
請求項4又は請求項5に記載の回折光学素子と、
前記回折光学素子からの光を集光して前記所定のパターンを重畳的に照明する集光光学系と、を備えたことを特徴とする照明光学系。 - 請求項6に記載の照明光学系と、
前記所定のパターンの像を前記被照射面に投影可能な投影光学系と、を備えたことを特徴とする露光装置。 - デバイスの製造方法において、
請求項7に記載の露光装置を用いて所定のパターンを感光性基板に露光する工程と、
前記露光された基板を現像し、前記のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する工程と、を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009187469A JP2011040618A (ja) | 2009-08-12 | 2009-08-12 | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009187469A JP2011040618A (ja) | 2009-08-12 | 2009-08-12 | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011040618A true JP2011040618A (ja) | 2011-02-24 |
Family
ID=43768071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009187469A Pending JP2011040618A (ja) | 2009-08-12 | 2009-08-12 | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011040618A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110032035A (zh) * | 2019-04-29 | 2019-07-19 | 合肥工业大学 | 一种投影照明系统及其应用的投影机 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09190969A (ja) * | 1996-01-10 | 1997-07-22 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JPH1041225A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH1092730A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2000269114A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Nikon Corp | 照明装置、露光装置及び露光方法 |
JP2003330106A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Seiko Epson Corp | 照明装置および投射型表示装置 |
WO2005036619A1 (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
JP2005148759A (ja) * | 2004-12-22 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 照明光学系 |
JP2006059834A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Nikon Corp | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
JP2007033576A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 照明装置及び画像表示装置、並びにプロジェクタ |
JP2008539454A (ja) * | 2005-04-29 | 2008-11-13 | シーリアル、テクノロジーズ、ゲーエムベーハー | 制御可能照明装置 |
JP2009036916A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Canon Inc | 計算機ホログラム、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009162984A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 照明装置、画像表示装置及びプロジェクタ |
-
2009
- 2009-08-12 JP JP2009187469A patent/JP2011040618A/ja active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09190969A (ja) * | 1996-01-10 | 1997-07-22 | Canon Inc | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
JPH1041225A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JPH1092730A (ja) * | 1996-09-12 | 1998-04-10 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
JP2000269114A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-29 | Nikon Corp | 照明装置、露光装置及び露光方法 |
JP2003330106A (ja) * | 2002-05-10 | 2003-11-19 | Seiko Epson Corp | 照明装置および投射型表示装置 |
WO2005036619A1 (ja) * | 2003-10-09 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 照明光学装置、露光装置および露光方法 |
JP2006059834A (ja) * | 2004-08-17 | 2006-03-02 | Nikon Corp | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、および露光方法 |
JP2005148759A (ja) * | 2004-12-22 | 2005-06-09 | Olympus Corp | 照明光学系 |
JP2008539454A (ja) * | 2005-04-29 | 2008-11-13 | シーリアル、テクノロジーズ、ゲーエムベーハー | 制御可能照明装置 |
JP2007033576A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Seiko Epson Corp | 照明装置及び画像表示装置、並びにプロジェクタ |
JP2009036916A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Canon Inc | 計算機ホログラム、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009162984A (ja) * | 2008-01-07 | 2009-07-23 | Seiko Epson Corp | 照明装置、画像表示装置及びプロジェクタ |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110032035A (zh) * | 2019-04-29 | 2019-07-19 | 合肥工业大学 | 一种投影照明系统及其应用的投影机 |
CN110032035B (zh) * | 2019-04-29 | 2020-11-10 | 合肥工业大学 | 一种投影照明系统及其应用的投影机 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6525045B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
KR100674045B1 (ko) | 조명장치, 노광장치 및 디바이스 제조방법 | |
KR101960153B1 (ko) | 조명 광학계, 노광 장치 및 디바이스의 제조 방법 | |
US20050024619A1 (en) | Exposure apparatus | |
JP2010114266A (ja) | 露光装置およびその制御方法、ならびにデバイス製造方法 | |
WO2013094733A1 (ja) | 計測方法、メンテナンス方法及びその装置 | |
JP2008124308A (ja) | 露光方法及び露光装置、それを用いたデバイス製造方法 | |
WO2012060083A1 (ja) | 照明装置、露光装置、プログラムおよび照明方法 | |
JP5453804B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5239829B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2011040618A (ja) | 回折光学素子、照明光学系、露光装置、デバイスの製造方法、及び回折光学素子の設計方法 | |
JP5239830B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
KR100781297B1 (ko) | 기판 노광 공정에서의 베스트 포커스 결정 방법 및 이의수행이 가능한 기판 노광 장치 | |
JP5396885B2 (ja) | 遮光ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5532620B2 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
CN114286966B (zh) | 曝光装置以及物品制造方法 | |
WO2010073801A1 (ja) | 照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP5293456B2 (ja) | 光強度検出装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2009194158A (ja) | 光量計測装置、照明光学系、投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2014203905A (ja) | 照明方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
JP2009111175A (ja) | 照明光学装置、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2009277928A (ja) | 偏光状態計測装置、露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP2011171776A (ja) | 照明光学系及び露光装置 | |
JP2001297959A (ja) | 照明装置及び露光装置 | |
KR20070078438A (ko) | 노광 장치의 모니터링 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130702 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130830 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140513 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141001 |