JPH11121358A - 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 - Google Patents
照明装置及びそれを用いた投影露光装置Info
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- JPH11121358A JPH11121358A JP9296359A JP29635997A JPH11121358A JP H11121358 A JPH11121358 A JP H11121358A JP 9296359 A JP9296359 A JP 9296359A JP 29635997 A JP29635997 A JP 29635997A JP H11121358 A JPH11121358 A JP H11121358A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70208—Multiple illumination paths, e.g. radiation distribution devices, microlens illumination systems, multiplexers or demultiplexers for single or multiple projection systems
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レチクル面上の矩形状の照明領域を効率良く
照明することができる半導体素子の製造に好適な照明装
置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 【解決手段】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する光束で被照射面を照明する照明装置において、
該被照射面の照明領域は第１方向とそれと直交する第２
方向で大きさが異なる矩形状をしており、該オプティカ
ルインテグレータは該第１方向と第２方向とで屈折力の
異なるレンズ集合体を複数有し、該レンズ集合体は複数
のレンズを所定のピッチで配列して構成しており、該複
数のレンズ集合体を光軸方向に投射したとき、該レンズ
集合体の各レンズが交差して形成される１つのエレメン
トが略正方形状をしていること。
照明することができる半導体素子の製造に好適な照明装
置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。 【解決手段】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する光束で被照射面を照明する照明装置において、
該被照射面の照明領域は第１方向とそれと直交する第２
方向で大きさが異なる矩形状をしており、該オプティカ
ルインテグレータは該第１方向と第２方向とで屈折力の
異なるレンズ集合体を複数有し、該レンズ集合体は複数
のレンズを所定のピッチで配列して構成しており、該複
数のレンズ集合体を光軸方向に投射したとき、該レンズ
集合体の各レンズが交差して形成される１つのエレメン
トが略正方形状をしていること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は照明装置及びそれを
用いた投影露光装置に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ、磁気ヘ
ッド、液晶パネル、ＣＣＤ等の微細構造を有するデバイ
スを製造する際に好適なものであり、具体的にはデバイ
スの製造装置であるステップアンドリピート方式やステ
ップアンドスキャン方式の、所謂ステッパーにおいて、
レチクル面上のパターンを効率的に照明し高い解像力が
容易に得られるようにしたものである。
用いた投影露光装置に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ、磁気ヘ
ッド、液晶パネル、ＣＣＤ等の微細構造を有するデバイ
スを製造する際に好適なものであり、具体的にはデバイ
スの製造装置であるステップアンドリピート方式やステ
ップアンドスキャン方式の、所謂ステッパーにおいて、
レチクル面上のパターンを効率的に照明し高い解像力が
容易に得られるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体デバ
イスの微細加工技術としてマスク（レチクル）の回路パ
ターン像を投影光学系により感光基板上に形成し、感光
基板をステップアンドリピート方式で露光する縮小型の
投影露光装置（ステッパー）が種々と提案されている。
イスの微細加工技術としてマスク（レチクル）の回路パ
ターン像を投影光学系により感光基板上に形成し、感光
基板をステップアンドリピート方式で露光する縮小型の
投影露光装置（ステッパー）が種々と提案されている。
【０００３】このステッパーにおいては、レチクル上の
回路パターンを所定の縮小倍率をもった投影光学系を介
してウエハ面上の所定の位置に縮小投影して転写を行
い、１回の投影転写終了後、ウエハが載ったステージを
所定の量、移動して再び転写を行うステップを繰り返し
てウエハ全面の露光を行っている。
回路パターンを所定の縮小倍率をもった投影光学系を介
してウエハ面上の所定の位置に縮小投影して転写を行
い、１回の投影転写終了後、ウエハが載ったステージを
所定の量、移動して再び転写を行うステップを繰り返し
てウエハ全面の露光を行っている。
【０００４】これらの投影露光装置のうち、最近では高
解像力が得られ、且つ画面サイズを拡大できる走査機構
を用いたステップアンドスキャン方式（走査型）の投影
露光装置が種々と提案されている。このステップアンド
スキャン方式の投影露光装置ではスリット状の露光領域
を有し、ショットの露光はレチクルとウエハとを走査す
ることにより行っている。そして１つのショットの走査
露光が終了すると、ウエハは次のショットにステップ
し、次のショットの露光を開始している。これを繰り返
してウエハ全体の露光を行っている。
解像力が得られ、且つ画面サイズを拡大できる走査機構
を用いたステップアンドスキャン方式（走査型）の投影
露光装置が種々と提案されている。このステップアンド
スキャン方式の投影露光装置ではスリット状の露光領域
を有し、ショットの露光はレチクルとウエハとを走査す
ることにより行っている。そして１つのショットの走査
露光が終了すると、ウエハは次のショットにステップ
し、次のショットの露光を開始している。これを繰り返
してウエハ全体の露光を行っている。
【０００５】走査型の投影露光装置では、マスクとウエ
ハを同期して走査しながら露光しており、マスク面上の
照射領域は走査方向に短く非走査方向に長い矩形形状と
なっている。この様な、矩形形状を効率良く照明する方
法として、光源からの光束を集光して複数の２次光源像
を形成するオプティカルインテグレータとしてのハエの
目レンズを用い、その断面を、照明領域の形状と相似形
状にする方式が、例えば特開平8-203780号公報に開示さ
れている。また、別の方法として、オプティカルインテ
グレータとしてシリンドリカルレンズ集合体を複数有す
るように構成することによって矩形領域を効率良く照明
する構成が特公平4-78002 号公報に開示されている。
ハを同期して走査しながら露光しており、マスク面上の
照射領域は走査方向に短く非走査方向に長い矩形形状と
なっている。この様な、矩形形状を効率良く照明する方
法として、光源からの光束を集光して複数の２次光源像
を形成するオプティカルインテグレータとしてのハエの
目レンズを用い、その断面を、照明領域の形状と相似形
状にする方式が、例えば特開平8-203780号公報に開示さ
れている。また、別の方法として、オプティカルインテ
グレータとしてシリンドリカルレンズ集合体を複数有す
るように構成することによって矩形領域を効率良く照明
する構成が特公平4-78002 号公報に開示されている。
【０００６】図１３は同公報で提案されている照明装置
の要部概略図である。図１３（Ａ）においては光源２１
からの光束を楕円鏡２２で反射集光して４つのレンズ集
合体６ａ〜６ｄより成るオプティカルインテグレータ６
に入射させ、該オプティカルインテグレータで形成され
る２次光源像からの光束でコンデンサーレンズ８を介し
て被照射面Ｒ上を照明している。オプティカルインテグ
レータ６の出射面には図１３（Ｂ）に示すような楕円形
状の２次光源像が形成されている。図１３（Ｂ）では２
次光源像が楕円に歪んでいる。
の要部概略図である。図１３（Ａ）においては光源２１
からの光束を楕円鏡２２で反射集光して４つのレンズ集
合体６ａ〜６ｄより成るオプティカルインテグレータ６
に入射させ、該オプティカルインテグレータで形成され
る２次光源像からの光束でコンデンサーレンズ８を介し
て被照射面Ｒ上を照明している。オプティカルインテグ
レータ６の出射面には図１３（Ｂ）に示すような楕円形
状の２次光源像が形成されている。図１３（Ｂ）では２
次光源像が楕円に歪んでいる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】オプティカルインテグ
レータとしてハエの目レンズを用い、該ハエの目レンズ
の外形状を矩形にした場合、Ｘ方向とＹ方向で２次光源
像の配列にピッチ差が生じ、この結果Ｘ方向のパターン
とＹ方向のパターンで解像性能に差が生じてしまうとい
う問題点があった。
レータとしてハエの目レンズを用い、該ハエの目レンズ
の外形状を矩形にした場合、Ｘ方向とＹ方向で２次光源
像の配列にピッチ差が生じ、この結果Ｘ方向のパターン
とＹ方向のパターンで解像性能に差が生じてしまうとい
う問題点があった。
【０００８】また、複数のシリンドリカルレンズを２次
元的に配列したハエの目レンズを使用した場合において
も図１３（Ｂ）に示すように、光源からの光束がハエの
目に入射する入射角度が等方的である場合は、複数のシ
リンドリカルレンズの配列がＸＹ方向で同じであって
も、１つのエレメント内での２次光源像の形状が方向に
よる屈折力の違いによって変形し、２次光源全体でのＸ
Ｙ方向の形状に方向差が生じるという問題点があった。
元的に配列したハエの目レンズを使用した場合において
も図１３（Ｂ）に示すように、光源からの光束がハエの
目に入射する入射角度が等方的である場合は、複数のシ
リンドリカルレンズの配列がＸＹ方向で同じであって
も、１つのエレメント内での２次光源像の形状が方向に
よる屈折力の違いによって変形し、２次光源全体でのＸ
Ｙ方向の形状に方向差が生じるという問題点があった。
【０００９】本発明は照明装置の一部に適切に構成した
オプティカルインテグレータを用いることによって、第
１方向とそれに直交する第２方向での２次光源像のピッ
チを等しくし、又、２次光源像の形状に方向差がないよ
うにして被照射面上を光の有効利用を図りつつ、所望の
光強度分布で照明することができ、又、被照射面にレチ
クルを配置したときはレチクル面上（１原板上）のパタ
ーンを適切に照明し、高い解像力が容易に得られる半導
体素子等のデバイスの製造に好適な照明装置及びそれを
用いた投影露光装置の提供を目的とする。
オプティカルインテグレータを用いることによって、第
１方向とそれに直交する第２方向での２次光源像のピッ
チを等しくし、又、２次光源像の形状に方向差がないよ
うにして被照射面上を光の有効利用を図りつつ、所望の
光強度分布で照明することができ、又、被照射面にレチ
クルを配置したときはレチクル面上（１原板上）のパタ
ーンを適切に照明し、高い解像力が容易に得られる半導
体素子等のデバイスの製造に好適な照明装置及びそれを
用いた投影露光装置の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の照明装置は （１−１）光源からの光束をオプティカルインテグレー
タに入射させ、該オプティカルインテグレータから射出
する光束で被照射面を照明する照明装置において、該被
照射面の照明領域は第１方向とそれと直交する第２方向
で大きさが異なる矩形状をしており、該オプティカルイ
ンテグレータは該第１方向と第２方向とで屈折力の異な
るレンズ集合体を複数有し、該レンズ集合体は複数のレ
ンズを所定のピッチで配列して構成しており、該複数の
レンズ集合体を光軸方向に投射したとき、該レンズ集合
体の各レンズが交差して形成される１つのエレメントが
略正方形状をしており、該オプティカルインテグレータ
に入射する光束の該第１方向と第２方向の入射最大角を
θ１、θ２、該オプティカルインテグレータの該第１方
向と第２方向の屈折力をφ１、φ２としたとき
タに入射させ、該オプティカルインテグレータから射出
する光束で被照射面を照明する照明装置において、該被
照射面の照明領域は第１方向とそれと直交する第２方向
で大きさが異なる矩形状をしており、該オプティカルイ
ンテグレータは該第１方向と第２方向とで屈折力の異な
るレンズ集合体を複数有し、該レンズ集合体は複数のレ
ンズを所定のピッチで配列して構成しており、該複数の
レンズ集合体を光軸方向に投射したとき、該レンズ集合
体の各レンズが交差して形成される１つのエレメントが
略正方形状をしており、該オプティカルインテグレータ
に入射する光束の該第１方向と第２方向の入射最大角を
θ１、θ２、該オプティカルインテグレータの該第１方
向と第２方向の屈折力をφ１、φ２としたとき
【００１１】
【数４】 を満足することを特徴としている。
【００１２】特に （１−１−１）前記レンズ集合体は複数のシリンドリカ
ルレンズを一方向に配列したシリンドリカルレンズ集合
体より成っていること。
ルレンズを一方向に配列したシリンドリカルレンズ集合
体より成っていること。
【００１３】（１−１−２）前記複数のレンズ集合体は
前記第１方向に屈折力を有する２つのシリンドリカルレ
ンズ集合体と、前記第２方向に屈折力を有する２つのシ
リンドリカルレンズ集合体であること。
前記第１方向に屈折力を有する２つのシリンドリカルレ
ンズ集合体と、前記第２方向に屈折力を有する２つのシ
リンドリカルレンズ集合体であること。
【００１４】（１−１−３）前記光源と、前記オプティ
カルインテグレータとの間に２次光源像を形成する為の
微小レンズを２次元的に配列したハエの目レンズを配置
したこと。
カルインテグレータとの間に２次光源像を形成する為の
微小レンズを２次元的に配列したハエの目レンズを配置
したこと。
【００１５】（１−１−４）前記ハエの目レンズの前記
第１方向と第２方向の長さを各々α、βとしたとき、前
記オプティカルインテグレータの第１方向と第２方向の
焦点距離を各々ｆ１、ｆ２としたとき
第１方向と第２方向の長さを各々α、βとしたとき、前
記オプティカルインテグレータの第１方向と第２方向の
焦点距離を各々ｆ１、ｆ２としたとき
【００１６】
【数５】 を満足すること。
【００１７】（１−１−５）前記光源からの光束を反射
部材によって反射集光して所定面上に光源像を形成し、
該光源像からの光束を前記第１方向に屈折力を有する第
１シリンドリカルレンズと前記第２方向に屈折力を有す
る第２シリンドリカルレンズによって集光して、前記オ
プティカルインテグレータに導光していること。
部材によって反射集光して所定面上に光源像を形成し、
該光源像からの光束を前記第１方向に屈折力を有する第
１シリンドリカルレンズと前記第２方向に屈折力を有す
る第２シリンドリカルレンズによって集光して、前記オ
プティカルインテグレータに導光していること。
【００１８】（１−１−６）前記オプティカルインテグ
レータに入射する光束の前記第１方向と第２方向のＮＡ
を各々ＮＡ１、ＮＡ２としたとき
レータに入射する光束の前記第１方向と第２方向のＮＡ
を各々ＮＡ１、ＮＡ２としたとき
【００１９】
【数６】 を満足すること等を特徴としている。
【００２０】本発明の投影露光装置は （２−１）構成要件（１−１）の照明装置の被照射面に
配置した第１物体面上のパターンを投影光学系で第２物
体面上に投影していることを特徴としている。
配置した第１物体面上のパターンを投影光学系で第２物
体面上に投影していることを特徴としている。
【００２１】（２−２）構成要件（１−１）の照明装置
の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを投影光
学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の双方を前
記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系の投影倍
率に対応させた速度比で同期させて走査して投影してい
ることを特徴としている。
の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを投影光
学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の双方を前
記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系の投影倍
率に対応させた速度比で同期させて走査して投影してい
ることを特徴としている。
【００２２】本発明のデバイスの製造方法は （３−１）構成（２−１）又は（２−２）の投影露光装
置を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系により
ウエハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理工程
を介してデバイスを製造していることを特徴としてい
る。
置を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系により
ウエハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理工程
を介してデバイスを製造していることを特徴としてい
る。
【００２３】
【発明の実施の形態】図１は本発明の照明装置を用いた
投影露光装置の実施形態１のＸＺ平面内の要部概略図で
ある。図２は、同じく本発明の投影露光装置の実施形態
１を図１とは垂直方向のＹＺ平面内の要部概略図であ
る。図３は図１の一部分の拡大説明図、図４は図２の一
部分の拡大説明図である。
投影露光装置の実施形態１のＸＺ平面内の要部概略図で
ある。図２は、同じく本発明の投影露光装置の実施形態
１を図１とは垂直方向のＹＺ平面内の要部概略図であ
る。図３は図１の一部分の拡大説明図、図４は図２の一
部分の拡大説明図である。
【００２４】本実施形態はステップアンドリピート方式
やステップアンドスキャン方式のステッパーに適用した
場合を示している。まず、図１の要部の概略図について
説明する。
やステップアンドスキャン方式のステッパーに適用した
場合を示している。まず、図１の要部の概略図について
説明する。
【００２５】１は光源であり、エキシマレーザーや超高
圧水銀灯等から成り、所定の形状をした平行光束を発す
る。２は凹レンズ、３は凸レンズであり、凹レンズ２と
凸レンズ３は光源１からの光束の形状を所定の形状に変
換し、射出するアフォーカルコンバータＡＣを構成して
いる。アフォーカルコンバータＡＣによって整形された
光束を、四角錘状の分割ミラー４によって４つの光束Ｌ
ａ、Ｌｂ、Ｌｃ、Ｌｄに分割し反射している。図１で
は、ＸＺ平面内に折り曲げられた２つの光束Ｌａ、Ｌｂ
の光路を図示している。分割ミラー４で分割した２つの
光束Ｌａ、Ｌｂは折り曲げミラー５ａ、５ｂによって光
路を折り曲げている。６はオプティカルインテグレータ
で複数のシリンドリカルレンズを２次元的に配列したシ
リンドリカルレンズ集合体（レンズ集合体）を４つ有し
ている。ここで６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄはシリンドリカ
ルレンズ集合体（レンズ集合体）である。シリンドリカ
ルレンズ集合体６ｂ、６ｃはＸＺ平面内（Ｘ方向、第１
方向）に屈折力を有し、シリンドリカルレンズ集合体６
ａ、６ｂはこれと直交するＹＺ平面内に（Ｙ方向、第２
方向）に屈折力を有している。ミラー５ａ、５ｂによっ
て折り曲げた光束Ｌａ、Ｌｂは図３に示すようにシリン
ドリカルレンズ集合体６ｂの入射面近傍で、それぞれの
主光線が光軸ＯＡと交わるように、かつ光軸ＯＡに対し
て互いに反対の方向から所定の角度θ１で入射する。オ
プティカルインテグレータ６に入射した光束はその射出
面近傍（絞り７の位置、又はその近傍）に２次光源を形
成している。
圧水銀灯等から成り、所定の形状をした平行光束を発す
る。２は凹レンズ、３は凸レンズであり、凹レンズ２と
凸レンズ３は光源１からの光束の形状を所定の形状に変
換し、射出するアフォーカルコンバータＡＣを構成して
いる。アフォーカルコンバータＡＣによって整形された
光束を、四角錘状の分割ミラー４によって４つの光束Ｌ
ａ、Ｌｂ、Ｌｃ、Ｌｄに分割し反射している。図１で
は、ＸＺ平面内に折り曲げられた２つの光束Ｌａ、Ｌｂ
の光路を図示している。分割ミラー４で分割した２つの
光束Ｌａ、Ｌｂは折り曲げミラー５ａ、５ｂによって光
路を折り曲げている。６はオプティカルインテグレータ
で複数のシリンドリカルレンズを２次元的に配列したシ
リンドリカルレンズ集合体（レンズ集合体）を４つ有し
ている。ここで６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄはシリンドリカ
ルレンズ集合体（レンズ集合体）である。シリンドリカ
ルレンズ集合体６ｂ、６ｃはＸＺ平面内（Ｘ方向、第１
方向）に屈折力を有し、シリンドリカルレンズ集合体６
ａ、６ｂはこれと直交するＹＺ平面内に（Ｙ方向、第２
方向）に屈折力を有している。ミラー５ａ、５ｂによっ
て折り曲げた光束Ｌａ、Ｌｂは図３に示すようにシリン
ドリカルレンズ集合体６ｂの入射面近傍で、それぞれの
主光線が光軸ＯＡと交わるように、かつ光軸ＯＡに対し
て互いに反対の方向から所定の角度θ１で入射する。オ
プティカルインテグレータ６に入射した光束はその射出
面近傍（絞り７の位置、又はその近傍）に２次光源を形
成している。
【００２６】７は絞りである。８はコンデンサーレンズ
であり、オプティカルインテグレータ６の射出面近傍に
形成した２次光源からの光束を集光し、レチクルＲ上の
範囲Ａを照明している。９はレチクルＲ上に描かれた回
路パターンをウエハＷ面上に投影する投影光学系であ
る。１０はウエハＷを保持しＸＹＺに駆動するウエハス
テージである。
であり、オプティカルインテグレータ６の射出面近傍に
形成した２次光源からの光束を集光し、レチクルＲ上の
範囲Ａを照明している。９はレチクルＲ上に描かれた回
路パターンをウエハＷ面上に投影する投影光学系であ
る。１０はウエハＷを保持しＸＹＺに駆動するウエハス
テージである。
【００２７】次に図２のＹＺ断面内について説明する。
【００２８】図２は分割ミラー４によって分割し、ＹＺ
平面内に折り曲げた光束５ｃ、５ｄの光路を示してい
る。分割ミラー４によって折り曲げられた２つの光束Ｌ
ｃ、Ｌｄはミラー５ｃ、５ｄによって折り曲げて、図４
に示すように、シリンドリカルレンズ集合体６ａの入射
面近傍に光束Ｌｃ、Ｌｄのそれぞれの主光線が光軸ＯＡ
と交差する様に入射する。光束Ｌｃ、Ｌｄの光軸ＯＡに
対する入射角はθ２である。オプティカルインテグレー
タ６からの光束は、コンデンサーレンズ８によって、レ
チクル上の範囲Ｂを照明している。
平面内に折り曲げた光束５ｃ、５ｄの光路を示してい
る。分割ミラー４によって折り曲げられた２つの光束Ｌ
ｃ、Ｌｄはミラー５ｃ、５ｄによって折り曲げて、図４
に示すように、シリンドリカルレンズ集合体６ａの入射
面近傍に光束Ｌｃ、Ｌｄのそれぞれの主光線が光軸ＯＡ
と交差する様に入射する。光束Ｌｃ、Ｌｄの光軸ＯＡに
対する入射角はθ２である。オプティカルインテグレー
タ６からの光束は、コンデンサーレンズ８によって、レ
チクル上の範囲Ｂを照明している。
【００２９】ここで、シリンドリカルレンズ集合体６
ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを構成する個々のレンズの外形状
は互いに同じである。即ち、レンズ集合体は６ｂ、６ｃ
を構成する個々のシリンドリカルレンズ６ｂ０、６ｃ０
のＸＺ断面内におけるＸ方向の長さＸａと、シリンドリ
カルレンズ６ａ、６ｄのＹＺ断面内におけるＹ方向の長
さＹａは等しい。
ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを構成する個々のレンズの外形状
は互いに同じである。即ち、レンズ集合体は６ｂ、６ｃ
を構成する個々のシリンドリカルレンズ６ｂ０、６ｃ０
のＸＺ断面内におけるＸ方向の長さＸａと、シリンドリ
カルレンズ６ａ、６ｄのＹＺ断面内におけるＹ方向の長
さＹａは等しい。
【００３０】シリンドリカルレンズ集合体６ｂ、６ｃの
焦点距離をｆ１（屈折力をφ１）、シリンドリカルレン
ズ集合体６ａ、６ｄの焦点距離をｆ２（屈折力をφ
２）、ＸＺ断面内とＹＺ断面内の光束のオプティカルイ
ンテグレータ６への入射角（最大入射角）をθ１、θ２
としたとき
焦点距離をｆ１（屈折力をφ１）、シリンドリカルレン
ズ集合体６ａ、６ｄの焦点距離をｆ２（屈折力をφ
２）、ＸＺ断面内とＹＺ断面内の光束のオプティカルイ
ンテグレータ６への入射角（最大入射角）をθ１、θ２
としたとき
【００３１】
【数７】 を満足するようにしている。
【００３２】即ち
【００３３】
【数８】 を満足するようにしている。
【００３４】図３、図４は図１の実施形態１のオプティ
カルインテグレータ６に入射する光線と、絞り７面での
光源の位置の関係を、それぞれＸＺ平面とＹＺ平面で示
している。図３で、シリンドリカルレンズ集合体６ｂの
光軸ＯＡ上にある１つのシリンドリカルレンズ６ｂ０に
入射角θ１で入射する平行光束は、シリンドリカルレン
ズ６ｂ０と同じく軸上のシリンドリカルレンズ６ｃ０に
よって、絞り７面上で光軸からの距離ＤＸの位置ＰＸに
集光する。
カルインテグレータ６に入射する光線と、絞り７面での
光源の位置の関係を、それぞれＸＺ平面とＹＺ平面で示
している。図３で、シリンドリカルレンズ集合体６ｂの
光軸ＯＡ上にある１つのシリンドリカルレンズ６ｂ０に
入射角θ１で入射する平行光束は、シリンドリカルレン
ズ６ｂ０と同じく軸上のシリンドリカルレンズ６ｃ０に
よって、絞り７面上で光軸からの距離ＤＸの位置ＰＸに
集光する。
【００３５】同じく図４では、シリンドリカルレンズ６
ａ０に平行に入射角θ２で入射する光束は、シリンドリ
カルレンズ６ａ０とシリンドリカルレンズ６ｄ０によっ
て屈折され、絞り７面上で光軸から距離ＤＹの位置ＰＹ
に集光する。ここでＤＸ＝ＰＹである。又、絞り７近傍
に集光した光束によって２次光源を形成している。
ａ０に平行に入射角θ２で入射する光束は、シリンドリ
カルレンズ６ａ０とシリンドリカルレンズ６ｄ０によっ
て屈折され、絞り７面上で光軸から距離ＤＹの位置ＰＹ
に集光する。ここでＤＸ＝ＰＹである。又、絞り７近傍
に集光した光束によって２次光源を形成している。
【００３６】この様に、（１）式を満足する条件で入射
した光束の集光点の位置は、ＸＹ方向に関して等しい位
置に集光する。図５は絞り７面上の集光点の位置を示し
た図である。図５において、４つのシリンドリカルレン
ズ６ａ０、６ｂ０、６ｃ０、６ｄ０から成る１つのエレ
メント６０によって作られる集光点（光源像）は、ＸＹ
方向に関して等しく、図１の様に、レチクルＲ上を矩形
状に照明する場合であっても、光源からの光束を（１）
式を満足する条件でオプティカルインテグレータ６に入
射されることによって、２次光源のＸＹ方向差を解消し
ている。
した光束の集光点の位置は、ＸＹ方向に関して等しい位
置に集光する。図５は絞り７面上の集光点の位置を示し
た図である。図５において、４つのシリンドリカルレン
ズ６ａ０、６ｂ０、６ｃ０、６ｄ０から成る１つのエレ
メント６０によって作られる集光点（光源像）は、ＸＹ
方向に関して等しく、図１の様に、レチクルＲ上を矩形
状に照明する場合であっても、光源からの光束を（１）
式を満足する条件でオプティカルインテグレータ６に入
射されることによって、２次光源のＸＹ方向差を解消し
ている。
【００３７】以上の様に、本実施形態では、光源からの
光束で矩形領域を照明するようにした照明装置におい
て、方向によって屈折力の異なる複数のレンズ集合体６
ａ〜６ｄから構成されたオプティカルインテグレータ６
を使用して、該オプティカルインテグレータを構成する
各レンズ集合体を光軸方向に投射したときの各レンズが
重なり合って形成される１つのエレメントの外形状がＸ
Ｙ方向に関してほぼ等しく（Ｘａ＝Ｙａ）することによ
って、オプティカルインテグレータの１つのエレメント
６０の形状をほぼ正方形としている。これによってＸＹ
方向で２次光源像の配列ピッチがほぼ等しくなるように
している。
光束で矩形領域を照明するようにした照明装置におい
て、方向によって屈折力の異なる複数のレンズ集合体６
ａ〜６ｄから構成されたオプティカルインテグレータ６
を使用して、該オプティカルインテグレータを構成する
各レンズ集合体を光軸方向に投射したときの各レンズが
重なり合って形成される１つのエレメントの外形状がＸ
Ｙ方向に関してほぼ等しく（Ｘａ＝Ｙａ）することによ
って、オプティカルインテグレータの１つのエレメント
６０の形状をほぼ正方形としている。これによってＸＹ
方向で２次光源像の配列ピッチがほぼ等しくなるように
している。
【００３８】更に、オプティカルインテグレータ６に入
射する光束のＸ方向とＹ方向の入射最大角をθ１、θ
２、オプティカルインテグレータのＸ方向とＹ方向の焦
点距離をｆ１、ｆ２としたとき（即ち、Ｘ方向とＹ方向
の屈折力をφ１、φ２としたとき）、条件式（１）を満
足するようにしている。
射する光束のＸ方向とＹ方向の入射最大角をθ１、θ
２、オプティカルインテグレータのＸ方向とＹ方向の焦
点距離をｆ１、ｆ２としたとき（即ち、Ｘ方向とＹ方向
の屈折力をφ１、φ２としたとき）、条件式（１）を満
足するようにしている。
【００３９】このように、入射最大角θ１、θ２の比を
ＸＹ方向のそれぞれの方向に関する屈折力の比率とほぼ
等しくすることにより、１つのエレメント内での２次光
源像の形状に方向差が無くなるようにしている。
ＸＹ方向のそれぞれの方向に関する屈折力の比率とほぼ
等しくすることにより、１つのエレメント内での２次光
源像の形状に方向差が無くなるようにしている。
【００４０】これによって、ＸＹ方向において、２次光
線像の配列ピッチが等しく、且つ１つのエレメント内で
も光源の形状差が無いようにし、オプティカルインテグ
レータ全体として２次光源像のＸＹ方向差を解消してい
る。
線像の配列ピッチが等しく、且つ１つのエレメント内で
も光源の形状差が無いようにし、オプティカルインテグ
レータ全体として２次光源像のＸＹ方向差を解消してい
る。
【００４１】図６、図７は、本発明の投影露光装置の実
施形態２のＸＺ断面とＹＺ断面の要部概略図である。図
６、図７では光源１からシリンドリカルレンズの集合体
で構成されたオプティカルインテグレータ６までの光路
を示している。１は光源であるエキシマレーザーであ
り、矩形の断面形状を有する平行光束を発している。光
源１からの光束は凹レンズ２と凸レンズ３からなるアフ
ォーカスコンバータＡＣによって所定の大きさに拡大さ
せて、矩形に配列したハエの目レンズ１１に入射してい
る。ここで、ハエの目レンズ１１は球面の小レンズの集
合体から構成されており、その大きさは図６のＸＺ平面
においてα、ＹＺ平面においてβである。ハエの目レン
ズ１１に入射した光束は、その射出面に２次光源を形成
している。ハエの目レンズ１１の射出面近傍を２次光源
とする光束は、レンズ１２によって、３次光源を形成す
るためのオプティカルインテグレータ６に入射角がそれ
ぞれ図６ではθ１、図７ではθ２で入射している。ここ
で、オプティカルインテグレータ６のＸＺ、ＹＺ各面内
の焦点距離（屈折力）をそれぞれｆ１、ｆ２（φ１、φ
２）としたとき、入射角θ１、θ２は前述の（１）式
（（１ａ）式）を満足するようにしている。
施形態２のＸＺ断面とＹＺ断面の要部概略図である。図
６、図７では光源１からシリンドリカルレンズの集合体
で構成されたオプティカルインテグレータ６までの光路
を示している。１は光源であるエキシマレーザーであ
り、矩形の断面形状を有する平行光束を発している。光
源１からの光束は凹レンズ２と凸レンズ３からなるアフ
ォーカスコンバータＡＣによって所定の大きさに拡大さ
せて、矩形に配列したハエの目レンズ１１に入射してい
る。ここで、ハエの目レンズ１１は球面の小レンズの集
合体から構成されており、その大きさは図６のＸＺ平面
においてα、ＹＺ平面においてβである。ハエの目レン
ズ１１に入射した光束は、その射出面に２次光源を形成
している。ハエの目レンズ１１の射出面近傍を２次光源
とする光束は、レンズ１２によって、３次光源を形成す
るためのオプティカルインテグレータ６に入射角がそれ
ぞれ図６ではθ１、図７ではθ２で入射している。ここ
で、オプティカルインテグレータ６のＸＺ、ＹＺ各面内
の焦点距離（屈折力）をそれぞれｆ１、ｆ２（φ１、φ
２）としたとき、入射角θ１、θ２は前述の（１）式
（（１ａ）式）を満足するようにしている。
【００４２】ハエの目レンズ１１の外形の大きさα、β
は
は
【００４３】
【数９】 を満足するようにしている。この実施形態においても、
３次光源としてオプティカルインテグレータ６の射出面
に形成される光源像は、ＸＹ方向差の無い分布が得られ
る。
３次光源としてオプティカルインテグレータ６の射出面
に形成される光源像は、ＸＹ方向差の無い分布が得られ
る。
【００４４】図８、図９は本発明の投影露光装置の実施
形態３のＸＺ断面とＹＺ断面の要部概略図である。図
８、図９において、２１は光源であり、例えば超高圧水
銀灯より成っている光源２１は楕円ミラー（反射部材）
２２の第１焦点位置に最も輝度の高いアーク部２１ａが
位置するようにしている。光源２１からの発散光束は、
楕円ミラー２２によって第２焦点位置Ｆに集光してい
る。第２焦点位置Ｆの近傍に集光した光束は図９のＹＺ
断面においてシリンドリカルレンズ２３、２４、２５、
２６によってオプティカルインテグレータ６に集光して
いる。ここでシリンドリカルレンズ２４、２６はＸＺ平
面に屈折力を有し、シリンドリカルレンズ２３、２５は
ＹＺ平面内に屈折力を有している。オプティカルインテ
グレータ６は図１、図２と同様な４つのシリンドリカル
レンズ集合体（レンズ集合体）６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ
を有している。
形態３のＸＺ断面とＹＺ断面の要部概略図である。図
８、図９において、２１は光源であり、例えば超高圧水
銀灯より成っている光源２１は楕円ミラー（反射部材）
２２の第１焦点位置に最も輝度の高いアーク部２１ａが
位置するようにしている。光源２１からの発散光束は、
楕円ミラー２２によって第２焦点位置Ｆに集光してい
る。第２焦点位置Ｆの近傍に集光した光束は図９のＹＺ
断面においてシリンドリカルレンズ２３、２４、２５、
２６によってオプティカルインテグレータ６に集光して
いる。ここでシリンドリカルレンズ２４、２６はＸＺ平
面に屈折力を有し、シリンドリカルレンズ２３、２５は
ＹＺ平面内に屈折力を有している。オプティカルインテ
グレータ６は図１、図２と同様な４つのシリンドリカル
レンズ集合体（レンズ集合体）６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄ
を有している。
【００４５】一方、図８においては、シリンドリカルレ
ンズ２４、２６によって、第２焦点位置Ｆから所定の距
離だけ光軸方向に離れた位置Ｆ’を、シリンドリカルレ
ンズ集合体６ｂの入射面に所定の倍率β１で結像させて
いる。
ンズ２４、２６によって、第２焦点位置Ｆから所定の距
離だけ光軸方向に離れた位置Ｆ’を、シリンドリカルレ
ンズ集合体６ｂの入射面に所定の倍率β１で結像させて
いる。
【００４６】ここで、オプティカルインテグレータ６に
入射するＮＡ（開口数）は図８のＸＺ平面においてＮＡ
１、図９のＹＺ平面内ではＮＡ２となっており、シリン
ドリカルレンズ集合体６ｂ、６ｃの焦点距離（屈折力）
をｆ１（φ１）、シリンドリカルレンズ集合体６ａ、６
ｄの焦点距離（屈折力）をｆ２（φ２）とした時、
入射するＮＡ（開口数）は図８のＸＺ平面においてＮＡ
１、図９のＹＺ平面内ではＮＡ２となっており、シリン
ドリカルレンズ集合体６ｂ、６ｃの焦点距離（屈折力）
をｆ１（φ１）、シリンドリカルレンズ集合体６ａ、６
ｄの焦点距離（屈折力）をｆ２（φ２）とした時、
【００４７】
【数１０】 を満足するようにしている。
【００４８】オプティカルインテグレータ６にこの条件
（３）で光束が入射することで、２次光源が形成される
その射出面において、ＸＹ方向差の無い光現像を得てい
る。
（３）で光束が入射することで、２次光源が形成される
その射出面において、ＸＹ方向差の無い光現像を得てい
る。
【００４９】さらに、シリンドリカルレンズ集合体６
ａ、６ｂの入射面での光量の分布が同じになる様に図８
のＸＺ平面では、シリンドリカルレンズ２３、２４、２
５、２６の結像倍率を考慮して、楕円ミラー２２の第２
焦点位置Ｆの光量分布よりも拡がった光量分布の得られ
る位置Ｆ’をシリンドリカルレンズ集合体６ｂの入射面
に結像させている。
ａ、６ｂの入射面での光量の分布が同じになる様に図８
のＸＺ平面では、シリンドリカルレンズ２３、２４、２
５、２６の結像倍率を考慮して、楕円ミラー２２の第２
焦点位置Ｆの光量分布よりも拡がった光量分布の得られ
る位置Ｆ’をシリンドリカルレンズ集合体６ｂの入射面
に結像させている。
【００５０】図１０は本発明の実施形態３の構成を持っ
た投影露光装置の２次光源の分布を示している。
た投影露光装置の２次光源の分布を示している。
【００５１】図１０の本実施形態によればオプティカル
インテグレータの個々のエレメントの配列にはＸＹ方向
の差は無いが、図１３に示す従来の照明装置では光源像
が楕円に歪んでいるため、２次光源としてはＸＹ差が生
じている。
インテグレータの個々のエレメントの配列にはＸＹ方向
の差は無いが、図１３に示す従来の照明装置では光源像
が楕円に歪んでいるため、２次光源としてはＸＹ差が生
じている。
【００５２】本発明の実施形態においては、オプティカ
ルインテグレータとしてシリンドリカルレンズの集合体
を複数使用しているが、直交する方向で屈折力が異なる
ものであればどのような構成でも良い。例えば、通常の
球面レンズとシリンドリカルレンズを組み合わせたハエ
の目レンズでも良いし、トーリック面を有するハエの目
レンズでも良い。
ルインテグレータとしてシリンドリカルレンズの集合体
を複数使用しているが、直交する方向で屈折力が異なる
ものであればどのような構成でも良い。例えば、通常の
球面レンズとシリンドリカルレンズを組み合わせたハエ
の目レンズでも良いし、トーリック面を有するハエの目
レンズでも良い。
【００５３】次に上記説明した投影露光装置を利用した
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明する。
【００５４】図１１は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、或は液晶パネルやＣＣＤ等）の製造方
法のフローを示す。
の半導体チップ、或は液晶パネルやＣＣＤ等）の製造方
法のフローを示す。
【００５５】ステップ１（回路設計）では半導体デバイ
スの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設
計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
スの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設
計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
【００５６】一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コン等の材料を用いてウエハを製造する。
コン等の材料を用いてウエハを製造する。
【００５７】ステップ４（ウエハプロセス）は前行程と
呼ばれ、前記用意したマスクとウエハを用いてリソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組立）は後行程と呼ばれ、ステップ４に
よって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工
程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。
呼ばれ、前記用意したマスクとウエハを用いてリソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組立）は後行程と呼ばれ、ステップ４に
よって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工
程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディン
グ）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含
む。
【００５８】ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００５９】図１２は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。
ーを示す。
【００６０】ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を
酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。
酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に
絶縁膜を形成する。
【００６１】ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
【００６２】ステップ１７（現像）では露光したウエハ
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジスト
を取り除く。
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジスト
を取り除く。
【００６３】これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００６４】本実施形態の製造方法を用いれば、従来は
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
【００６５】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、照明装置
の一部に適切に構成したオプティカルインテグレータを
用いることによって、第１方向とそれに直交する第２方
向での２次光源像のピッチを等しくし、又、２次光源像
の形状に方向差がないようにして被照射面上を光の有効
利用を図りつつ、所望の光強度分布で照明することがで
き、又、被照射面にレチクルを配置したときはレチクル
面上（１原板上）のパターンを適切に照明し、高い解像
力が容易に得られる半導体素子等のデバイスの製造に好
適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を達成する
ことができる。
の一部に適切に構成したオプティカルインテグレータを
用いることによって、第１方向とそれに直交する第２方
向での２次光源像のピッチを等しくし、又、２次光源像
の形状に方向差がないようにして被照射面上を光の有効
利用を図りつつ、所望の光強度分布で照明することがで
き、又、被照射面にレチクルを配置したときはレチクル
面上（１原板上）のパターンを適切に照明し、高い解像
力が容易に得られる半導体素子等のデバイスの製造に好
適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を達成する
ことができる。
【図１】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態１のＸＺ断面図
施形態１のＸＺ断面図
【図２】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態１のＹＺ断面図
施形態１のＹＺ断面図
【図３】 図１の一部分の拡大説明図
【図４】 図２の一部分の拡大説明図
【図５】 図１の一部分の拡大説明図
【図６】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態２のＸＺ断面図
施形態２のＸＺ断面図
【図７】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態２のＹＺ断面図
施形態２のＹＺ断面図
【図８】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態３のＸＺ断面図
施形態３のＸＺ断面図
【図９】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の実
施形態３のＹＺ断面図
施形態３のＹＺ断面図
【図１０】 本発明の照明装置を用いた投影露光装置の
実施形態３の２次光源分布の説明図
実施形態３の２次光源分布の説明図
【図１１】 本発明のデバイスの製造方法のフローチャ
ート
ート
【図１２】 本発明のデバイスの製造方法のフローチャ
ート
ート
【図１３】 従来の照明装置の要部概略図
１ 光源 ２ 凹レンズ ３ 凸レンズ ＡＣ アフォーカルコンバータ ４ 分割ミラー ５ａ、５ｂ ミラー ６ オプティカルインテグレータ ６ａ、６ｂ レンズ集合体 ７ 絞り ８ コンデンサーレンズ Ｒ レチクル ９ 投影光学系 Ｗ ウエハ １０ ウエハステージ １１ ハエの目レンズ ２３〜２６ シリンドリカルレンズ
Claims (10)
- 【請求項１】 光源からの光束をオプティカルインテグ
レータに入射させ、該オプティカルインテグレータから
射出する光束で被照射面を照明する照明装置において、
該被照射面の照明領域は第１方向とそれと直交する第２
方向で大きさが異なる矩形状をしており、該オプティカ
ルインテグレータは該第１方向と第２方向とで屈折力の
異なるレンズ集合体を複数有し、該レンズ集合体は複数
のレンズを所定のピッチで配列して構成しており、該複
数のレンズ集合体を光軸方向に投射したとき、該レンズ
集合体の各レンズが交差して形成される１つのエレメン
トが略正方形状をしており、該オプティカルインテグレ
ータに入射する光束の該第１方向と第２方向の入射最大
角をθ１、θ２、該オプティカルインテグレータの該第
１方向と第２方向の屈折力をφ１、φ２としたとき 【数１】 を満足することを特徴とする照明装置。 - 【請求項２】 前記レンズ集合体は複数のシリンドリカ
ルレンズを一方向に配列したシリンドリカルレンズ集合
体より成っていることを特徴とする請求項１の照明装
置。 - 【請求項３】 前記複数のレンズ集合体は前記第１方向
に屈折力を有する２つのシリンドリカルレンズ集合体
と、前記第２方向に屈折力を有する２つのシリンドリカ
ルレンズ集合体であることを特徴とする請求項１の照明
装置。 - 【請求項４】 前記光源と、前記オプティカルインテグ
レータとの間に２次光源像を形成する為の微小レンズを
２次元的に配列したハエの目レンズを配置したことを特
徴とする請求項１、２又は３の照明装置。 - 【請求項５】 前記ハエの目レンズの前記第１方向と第
２方向の長さを各々α、βとしたとき、前記オプティカ
ルインテグレータの第１方向と第２方向の焦点距離を各
々ｆ１、ｆ２としたとき 【数２】 を満足することを特徴とする請求項４の照明装置。 - 【請求項６】 前記光源からの光束を反射部材によって
反射集光して所定面上に光源像を形成し、該光源像から
の光束を前記第１方向に屈折力を有する第１シリンドリ
カルレンズと前記第２方向に屈折力を有する第２シリン
ドリカルレンズによって集光して、前記オプティカルイ
ンテグレータに導光していることを特徴とする請求項１
の照明装置。 - 【請求項７】 前記オプティカルインテグレータに入射
する光束の前記第１方向と第２方向のＮＡを各々ＮＡ
１、ＮＡ２としたとき 【数３】 を満足することを特徴とする請求項６の照明装置。 - 【請求項８】 請求項１から７のいずれか１項記載の照
明装置の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを
投影光学系で第２物体面上に投影していることを特徴と
する投影露光装置。 - 【請求項９】 請求項１から７のいずれか１項記載の照
明装置の被照射面に配置した第１物体面上のパターンを
投影光学系で第２物体面上に該第１物体と第２物体の双
方を前記投影光学系の光軸と垂直方向に該投影光学系の
投影倍率に対応させた速度比で同期させて走査して投影
していることを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項１０】 請求項８または９記載の投影露光装置
を用いてレチクル面上のパターンを投影光学系によりウ
エハ面上に投影露光した後、該ウエハを現像処理工程を
介してデバイスを製造していることを特徴とするデバイ
スの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29635997A JP3559694B2 (ja) | 1997-10-14 | 1997-10-14 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| US09/172,165 US6285440B1 (en) | 1997-10-14 | 1998-10-14 | Illumination system and projection exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29635997A JP3559694B2 (ja) | 1997-10-14 | 1997-10-14 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11121358A true JPH11121358A (ja) | 1999-04-30 |
| JP3559694B2 JP3559694B2 (ja) | 2004-09-02 |
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ID=17832542
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US6285440B1 (ja) |
| JP (1) | JP3559694B2 (ja) |
Cited By (2)
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