JPH08293461A - 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 - Google Patents
照明装置および該装置を備えた投影露光装置Info
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- JPH08293461A JPH08293461A JP7120862A JP12086295A JPH08293461A JP H08293461 A JPH08293461 A JP H08293461A JP 7120862 A JP7120862 A JP 7120862A JP 12086295 A JP12086295 A JP 12086295A JP H08293461 A JPH08293461 A JP H08293461A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 光源位置の微調整なしに、照明光束の傾きや
位置ずれを高精度に補正できる照明装置を提供する。 【構成】 光源１から出た矩形状の平行光束がミラー２
で反射後、設計光軸ＡＸに平行になるよう光軸に対する
傾きを検出し、ミラーの直交面内でそれぞれ回転駆動に
より光束の傾きを補正する。次に反射光束が直交面内で
それぞれ回転駆動する平行平面板３に入射すると、光束
は光軸ＡＸに対し平行移動して位置ずれが補正される。
その後シリンダエクスパンダ４に入射した光束は紙面内
で拡大され、ほヾ正方形の断面をもつ光束に整形され、
ハーフミラー５による反射光は第２ハーフミラー６に入
射し、その反射光は集光レンズ８により４分割センサ９
上に結像する。センサ９の対角領域の差分身号をとれば
光束の傾きを検出でき、その出力は制御系１１に入力さ
れる。また透過光は他の４分割センサ７に結像し光束の
位置ずれを検出でき、出力も制御系に入力される。
位置ずれを高精度に補正できる照明装置を提供する。 【構成】 光源１から出た矩形状の平行光束がミラー２
で反射後、設計光軸ＡＸに平行になるよう光軸に対する
傾きを検出し、ミラーの直交面内でそれぞれ回転駆動に
より光束の傾きを補正する。次に反射光束が直交面内で
それぞれ回転駆動する平行平面板３に入射すると、光束
は光軸ＡＸに対し平行移動して位置ずれが補正される。
その後シリンダエクスパンダ４に入射した光束は紙面内
で拡大され、ほヾ正方形の断面をもつ光束に整形され、
ハーフミラー５による反射光は第２ハーフミラー６に入
射し、その反射光は集光レンズ８により４分割センサ９
上に結像する。センサ９の対角領域の差分身号をとれば
光束の傾きを検出でき、その出力は制御系１１に入力さ
れる。また透過光は他の４分割センサ７に結像し光束の
位置ずれを検出でき、出力も制御系に入力される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は照明装置および該装置を
備えた投影露光装置に関し、特にエキシマレーザーを光
源とする投影露光装置における照明光束の傾きと位置ず
れとのうち少なくとも一方の補正に関する。
備えた投影露光装置に関し、特にエキシマレーザーを光
源とする投影露光装置における照明光束の傾きと位置ず
れとのうち少なくとも一方の補正に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば特開昭６１−２４４０２８号公
報に開示されているように、従来の投影露光装置の照明
光学系では、光源位置の微調整を行うことにより、設計
光軸に対する傾きおよび位置ずれの少ない照明光を得る
方法が提案されている。
報に開示されているように、従来の投影露光装置の照明
光学系では、光源位置の微調整を行うことにより、設計
光軸に対する傾きおよび位置ずれの少ない照明光を得る
方法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述のような従来技術
は、たとえば水銀ランプのような小さな発光装置に対し
ては有効である。しかしながら、たとえば最近の投影露
光装置に用いられるエキシマレーザー光源のように巨大
な発光装置では、その位置を微調整することが困難であ
る。したがって、エキシマレーザー光源のように巨大な
発光装置を有する照明光学系に対して、特開昭６１−２
４４０２８号公報に開示の従来技術を応用することは適
当ではない。
は、たとえば水銀ランプのような小さな発光装置に対し
ては有効である。しかしながら、たとえば最近の投影露
光装置に用いられるエキシマレーザー光源のように巨大
な発光装置では、その位置を微調整することが困難であ
る。したがって、エキシマレーザー光源のように巨大な
発光装置を有する照明光学系に対して、特開昭６１−２
４４０２８号公報に開示の従来技術を応用することは適
当ではない。
【０００４】なお、エキシマレーザーからの射出光束
は、縦横比が大きく異なる矩形状の断面を有する。した
がって、４分割センサーのような光検出手段にエキシマ
レーザーからの矩形状光束をそのまま入射させると、縦
方向における光束径と横方向における光束径との違いに
起因して、縦方向における検出精度と横方向における検
出精度とで違いが発生してしまう。
は、縦横比が大きく異なる矩形状の断面を有する。した
がって、４分割センサーのような光検出手段にエキシマ
レーザーからの矩形状光束をそのまま入射させると、縦
方向における光束径と横方向における光束径との違いに
起因して、縦方向における検出精度と横方向における検
出精度とで違いが発生してしまう。
【０００５】具体的には、エキシマレーザーからの射出
光束の設計光軸に対する角度すなわち傾きを検出する場
合、集光レンズを介して光束を集光し、４分割センサー
上にスポットを形成する。上述したように、エキシマレ
ーザーからの射出光束は縦横比が大きく異なる矩形状光
束であるから、４分割センサー上において円形ではなく
偏平な楕円形のスポットが形成される。その結果、縦方
向と横方向とでは検出精度が大きく異なってしまう。
光束の設計光軸に対する角度すなわち傾きを検出する場
合、集光レンズを介して光束を集光し、４分割センサー
上にスポットを形成する。上述したように、エキシマレ
ーザーからの射出光束は縦横比が大きく異なる矩形状光
束であるから、４分割センサー上において円形ではなく
偏平な楕円形のスポットが形成される。その結果、縦方
向と横方向とでは検出精度が大きく異なってしまう。
【０００６】一方、エキシマレーザーからの射出光束の
設計光軸に対する変位すなわち位置ずれを検出する場
合、光束を集光することなく平行光束のまま４分割セン
サーに入射させる。したがって、４分割センサー上にお
いて、縦横比が大きく異なる矩形状の光束を受光するこ
とになる。その結果、縦方向と横方向とでは検出精度が
大きく異なってしまう。
設計光軸に対する変位すなわち位置ずれを検出する場
合、光束を集光することなく平行光束のまま４分割セン
サーに入射させる。したがって、４分割センサー上にお
いて、縦横比が大きく異なる矩形状の光束を受光するこ
とになる。その結果、縦方向と横方向とでは検出精度が
大きく異なってしまう。
【０００７】特に、マスクおよび感光基板を投影光学系
に対してそれぞれ走査しながら露光を行う、いわゆるス
キャン式投影露光装置では、投影露光装置の振動に起因
して露光中においてもオプティカルインテグレータに入
射する光束の傾きや位置ずれが発生する。その結果、露
光光量が変化したり照度むらが発生して、安定した露光
を行うことができなくなってしまう。
に対してそれぞれ走査しながら露光を行う、いわゆるス
キャン式投影露光装置では、投影露光装置の振動に起因
して露光中においてもオプティカルインテグレータに入
射する光束の傾きや位置ずれが発生する。その結果、露
光光量が変化したり照度むらが発生して、安定した露光
を行うことができなくなってしまう。
【０００８】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、光源を位置を微調整することなく、照明光束
の傾きと位置ずれとのうち少なくとも一方を高精度に補
正することのできる照明装置を提供することを目的とす
る。また、オプティカルインテグレータに入射する照明
光束の傾きや位置ずれを高精度に補正することによって
安定した露光を行うことのできる投影露光装置を提供す
ることを目的とする。
のであり、光源を位置を微調整することなく、照明光束
の傾きと位置ずれとのうち少なくとも一方を高精度に補
正することのできる照明装置を提供することを目的とす
る。また、オプティカルインテグレータに入射する照明
光束の傾きや位置ずれを高精度に補正することによって
安定した露光を行うことのできる投影露光装置を提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、第１発明においては、平行光束を供給するための光
供給手段と、前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方
形またはほぼ円形の断面を有する平行光束に整形するた
めの光束整形手段と、前記ほぼ正方形またはほぼ円形の
断面を有する平行光束に基づいて、前記光供給手段から
の平行光束の所定の光軸に対する位置ずれを検出するた
めの位置ずれ検出手段と、前記位置ずれを補正するため
に、前記位置ずれ検出手段の出力に基づき前記平行光束
を前記所定の光に対して平行移動させるための光束平行
移動手段と、を備えていることを特徴とする照明装置を
提供する。
に、第１発明においては、平行光束を供給するための光
供給手段と、前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方
形またはほぼ円形の断面を有する平行光束に整形するた
めの光束整形手段と、前記ほぼ正方形またはほぼ円形の
断面を有する平行光束に基づいて、前記光供給手段から
の平行光束の所定の光軸に対する位置ずれを検出するた
めの位置ずれ検出手段と、前記位置ずれを補正するため
に、前記位置ずれ検出手段の出力に基づき前記平行光束
を前記所定の光に対して平行移動させるための光束平行
移動手段と、を備えていることを特徴とする照明装置を
提供する。
【００１０】また、前記課題を解決するために、第２発
明においては、平行光束を供給するための光供給手段
と、前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方形または
ほぼ円形の断面を有する平行光束に整形するための光束
整形手段と、前記ほぼ正方形およびほぼ円形の断面を有
する平行光束に基づいて、前記光供給手段からの平行光
束の所定光軸に対する傾きを検出するための傾き検出手
段と、前記傾きを補正するために、前記傾き検出手段の
出力に基づき前記平行光束の前記所定光軸に対する角度
を調整するための光束角度調整手段と、を備えているこ
とを特徴とする照明装置を提供する。
明においては、平行光束を供給するための光供給手段
と、前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方形または
ほぼ円形の断面を有する平行光束に整形するための光束
整形手段と、前記ほぼ正方形およびほぼ円形の断面を有
する平行光束に基づいて、前記光供給手段からの平行光
束の所定光軸に対する傾きを検出するための傾き検出手
段と、前記傾きを補正するために、前記傾き検出手段の
出力に基づき前記平行光束の前記所定光軸に対する角度
を調整するための光束角度調整手段と、を備えているこ
とを特徴とする照明装置を提供する。
【００１１】本発明の好ましい態様によれば、前記第２
発明の基本構成において、前記ほぼ正方形およびほぼ円
形の断面を有する平行光束に基づいて、前記光供給手段
からの平行光束の前記所定光軸に対する位置ずれを検出
するための位置ずれ検出手段と、前記位置ずれを補正す
るために、前記位置ずれ検出手段の出力に基づき前記平
行光束を前記所定光軸に対して平行移動させるための光
束平行移動手段と、をさらに備えている。
発明の基本構成において、前記ほぼ正方形およびほぼ円
形の断面を有する平行光束に基づいて、前記光供給手段
からの平行光束の前記所定光軸に対する位置ずれを検出
するための位置ずれ検出手段と、前記位置ずれを補正す
るために、前記位置ずれ検出手段の出力に基づき前記平
行光束を前記所定光軸に対して平行移動させるための光
束平行移動手段と、をさらに備えている。
【００１２】また、本発明の別の局面によれば、上述の
ような本発明の照明装置と、前記照明装置からの平行光
束をオプティカルインテグレーターを介して所定のパタ
ーンが形成されたマスクに照射するための露光照明光学
系と、前記マスクからのパターン像を感光基板上に形成
するための投影光学系と、を備えていることを特徴とす
る投影露光装置を提供する。
ような本発明の照明装置と、前記照明装置からの平行光
束をオプティカルインテグレーターを介して所定のパタ
ーンが形成されたマスクに照射するための露光照明光学
系と、前記マスクからのパターン像を感光基板上に形成
するための投影光学系と、を備えていることを特徴とす
る投影露光装置を提供する。
【００１３】
【作用】図３は、光束の傾きを検出する原理について説
明する図である。図３に示すように、たとえばエキシマ
レーザーからの平行光束は、設計光軸ＡＸに対する光束
の角度を変化させるためのミラー２に入射する。ミラー
２が図中実線で示すように配置されている場合、ミラー
２で反射された光束は設計光軸ＡＸに沿って集光レンズ
８に入射する。そして、集光レンズ８の焦点位置に位置
決めされた４分割センサー９上には、その中心領域にお
いて光軸ＡＸを中心としたスポットが形成される。
明する図である。図３に示すように、たとえばエキシマ
レーザーからの平行光束は、設計光軸ＡＸに対する光束
の角度を変化させるためのミラー２に入射する。ミラー
２が図中実線で示すように配置されている場合、ミラー
２で反射された光束は設計光軸ＡＸに沿って集光レンズ
８に入射する。そして、集光レンズ８の焦点位置に位置
決めされた４分割センサー９上には、その中心領域にお
いて光軸ＡＸを中心としたスポットが形成される。
【００１４】一方、ミラー２が図３の紙面内において角
度θ1 だけ回転して図中破線で示す位置に回転移動する
と、ミラー２で反射された光束は、設計光軸ＡＸに対し
て角度２θ1 だけ傾いた状態で集光レンズ８に入射す
る。そして、４分割センサー９上には、その中心（すな
わち光軸ＡＸ）から距離ｙだけ間隔を隔てた位置にスポ
ットが形成される。
度θ1 だけ回転して図中破線で示す位置に回転移動する
と、ミラー２で反射された光束は、設計光軸ＡＸに対し
て角度２θ1 だけ傾いた状態で集光レンズ８に入射す
る。そして、４分割センサー９上には、その中心（すな
わち光軸ＡＸ）から距離ｙだけ間隔を隔てた位置にスポ
ットが形成される。
【００１５】距離ｙは、次の式（１）で表される。 ｙ＝ｆ1 ・ tan２θ1 （１） ここで、 ｆ1 ：集光レンズ８の焦点距離 こうして、４分割センサー９の４つの受光部に入射する
光の和信号や差信号をに基づいて、４分割センサー９上
におけるスポットの位置（すなわち中心からの距離ｙ）
を、ひいては設計光軸ＡＸに対する光束の傾き２θ1 を
検出することができる。
光の和信号や差信号をに基づいて、４分割センサー９上
におけるスポットの位置（すなわち中心からの距離ｙ）
を、ひいては設計光軸ＡＸに対する光束の傾き２θ1 を
検出することができる。
【００１６】図４は、本発明における光束の傾き検出手
段の作用について説明する図である。図４において、
（ａ）および（ｂ）は光軸ＡＸを含む２つの直交面にお
ける構成をそれぞれ示している。また、（ｃ）は４分割
センサー９の各受光部の構成および形成されたスポット
の様子を示している。図４（ａ）および（ｂ）に示すよ
うに、たとえばエキシマレーザーからの射出光束は、縦
横比が大きく異なる矩形状の断面を有する。そこで、本
発明では、一対のシリンドリカルレンズ４０ａおよび４
０ｂからなるシリンダーエキスパンダー４０を介して、
エキシマレーザーからの光束をほぼ正方形断面を有する
光束に整形する。
段の作用について説明する図である。図４において、
（ａ）および（ｂ）は光軸ＡＸを含む２つの直交面にお
ける構成をそれぞれ示している。また、（ｃ）は４分割
センサー９の各受光部の構成および形成されたスポット
の様子を示している。図４（ａ）および（ｂ）に示すよ
うに、たとえばエキシマレーザーからの射出光束は、縦
横比が大きく異なる矩形状の断面を有する。そこで、本
発明では、一対のシリンドリカルレンズ４０ａおよび４
０ｂからなるシリンダーエキスパンダー４０を介して、
エキシマレーザーからの光束をほぼ正方形断面を有する
光束に整形する。
【００１７】ほぼ正方形に整形された光束は、集光レン
ズ８を介して、４分割センサー９上に結像する。そし
て、図４（ｃ）に示すように、４つの受光部９Ａ〜９Ｄ
を有する４分割センサー９上には、スポット９１が形成
される。上述したように、シリンダーエキスパンダー４
０によって光束がほぼ正方形に整形されているので、４
分割センサー９上において形成されるスポット９１はほ
ぼ円形となる。
ズ８を介して、４分割センサー９上に結像する。そし
て、図４（ｃ）に示すように、４つの受光部９Ａ〜９Ｄ
を有する４分割センサー９上には、スポット９１が形成
される。上述したように、シリンダーエキスパンダー４
０によって光束がほぼ正方形に整形されているので、４
分割センサー９上において形成されるスポット９１はほ
ぼ円形となる。
【００１８】４分割センサー９では、各受光部９Ａ〜９
Ｄからの信号９ａ〜９ｄに基づいて、９ａ−９ｃ、９ｂ
−９ｄおよび９ａ＋９ｂ＋９ｃ＋９ｄの信号を演算す
る。上述したように、光束の中心軸線が設計光軸ＡＸと
一致している場合に、４分割センサー９の中心にスポッ
ト９１が形成されるように構成されている。したがっ
て、９ａ−９ｃ＝０、９ｂ−９ｄ＝０および９ａ＋９ｂ
＋９ｃ＋９ｄ≠０となるように、ミラー２の角度を調整
することにより、光束の中心軸線の光軸ＡＸに対する角
度を適宜変化させて、光束の傾きを補正することができ
る。
Ｄからの信号９ａ〜９ｄに基づいて、９ａ−９ｃ、９ｂ
−９ｄおよび９ａ＋９ｂ＋９ｃ＋９ｄの信号を演算す
る。上述したように、光束の中心軸線が設計光軸ＡＸと
一致している場合に、４分割センサー９の中心にスポッ
ト９１が形成されるように構成されている。したがっ
て、９ａ−９ｃ＝０、９ｂ−９ｄ＝０および９ａ＋９ｂ
＋９ｃ＋９ｄ≠０となるように、ミラー２の角度を調整
することにより、光束の中心軸線の光軸ＡＸに対する角
度を適宜変化させて、光束の傾きを補正することができ
る。
【００１９】なお、この場合の具体的な演算の一例を示
すと、図４におけるＸ方向（図中水平方向）の変位量Δ
ＸおよびＹ方向（図中鉛直方向）の変位量ΔＹは、それ
ぞれ以下のようになる。
すと、図４におけるＸ方向（図中水平方向）の変位量Δ
ＸおよびＹ方向（図中鉛直方向）の変位量ΔＹは、それ
ぞれ以下のようになる。
【数１】ΔＸ＝〔（９ｄ＋９ｃ）−（９ａ＋９ｂ）〕／
（９ａ＋９ｂ＋９ｄ＋９ｃ） ΔＹ＝〔（９ａ＋９ｄ）−（９ｂ＋９ｃ）〕／（９ａ＋
９ｂ＋９ｄ＋９ｃ） 従って、各変位量（ΔＸ、ΔＹ）が共に零となるように
ミラー２の角度を調整することにより、光束の傾きを補
正することができる。このように、本発明では、ほぼ正
方形に整形された光束に基づいて光束の傾きを検出する
ので、４分割センサーの縦方向と横方向とで精度が異な
ることなく、高精度な傾き検出ひいては高精度な傾き補
正が可能になる。
（９ａ＋９ｂ＋９ｄ＋９ｃ） ΔＹ＝〔（９ａ＋９ｄ）−（９ｂ＋９ｃ）〕／（９ａ＋
９ｂ＋９ｄ＋９ｃ） 従って、各変位量（ΔＸ、ΔＹ）が共に零となるように
ミラー２の角度を調整することにより、光束の傾きを補
正することができる。このように、本発明では、ほぼ正
方形に整形された光束に基づいて光束の傾きを検出する
ので、４分割センサーの縦方向と横方向とで精度が異な
ることなく、高精度な傾き検出ひいては高精度な傾き補
正が可能になる。
【００２０】図５は、光束の位置ずれを検出する原理に
ついて説明する図である。図５に示すように、たとえば
エキシマレーザーからの平行光束は、設計光軸ＡＸに対
して光束を平行移動させるための平行平面板３に入射す
る。平行平面板３が図中実線で示すように配置されてい
る場合、平行平面板３を通過した光束は設計光軸ＡＸに
沿って平行光束のまま４分割センサー７に達する。そし
て、４分割センサー７は、その中心領域において、光軸
ＡＸを中心とした矩形状の光束を受光する。
ついて説明する図である。図５に示すように、たとえば
エキシマレーザーからの平行光束は、設計光軸ＡＸに対
して光束を平行移動させるための平行平面板３に入射す
る。平行平面板３が図中実線で示すように配置されてい
る場合、平行平面板３を通過した光束は設計光軸ＡＸに
沿って平行光束のまま４分割センサー７に達する。そし
て、４分割センサー７は、その中心領域において、光軸
ＡＸを中心とした矩形状の光束を受光する。
【００２１】一方、平行平面板３が図５の紙面内におい
て角度θ2 だけ回転して図中破線で示す位置に回転移動
すると、平行平面板３を通過した光束は、設計光軸ＡＸ
に対して平行移動した状態で４分割センサー７に達す
る。そして、４分割センサー７上において受光される矩
形状の光束の中心は、４分割センサー７の中心（すなわ
ち光軸ＡＸ）から距離ｙ’だけ移動する。
て角度θ2 だけ回転して図中破線で示す位置に回転移動
すると、平行平面板３を通過した光束は、設計光軸ＡＸ
に対して平行移動した状態で４分割センサー７に達す
る。そして、４分割センサー７上において受光される矩
形状の光束の中心は、４分割センサー７の中心（すなわ
ち光軸ＡＸ）から距離ｙ’だけ移動する。
【００２２】距離ｙ’は、次の式（２）で表される。 ｙ’＝ｄ〔 sinθ2 − cosθ2 tan ｛sin -1(sinθ2 ／ｎ）｝〕 （２） ここで、 ｄ：平行平面板３の厚さ ｎ：平行平面板３の屈折率 こうして、４分割センサー７の４つの受光部に入射する
光の和信号や差信号をに基づいて、設計光軸ＡＸに対す
る光束の位置ずれを検出することができる。
光の和信号や差信号をに基づいて、設計光軸ＡＸに対す
る光束の位置ずれを検出することができる。
【００２３】図６は、本発明における光束の位置ずれ検
出手段の作用について説明する図である。図６におい
て、（ａ）および（ｂ）は光軸ＡＸを含む２つの直交面
における構成をそれぞれ示している。また、（ｃ）は４
分割センサー７の各受光部の構成および受光された光束
の様子を示している。図６（ａ）および（ｂ）に示すよ
うに、一対のシリンドリカルレンズ４０ａおよび４０ｂ
からなるシリンダーエキスパンダー４０を介して、たと
えばエキシマレーザーからの矩形状の光束をほぼ正方形
断面を有する光束に整形する。
出手段の作用について説明する図である。図６におい
て、（ａ）および（ｂ）は光軸ＡＸを含む２つの直交面
における構成をそれぞれ示している。また、（ｃ）は４
分割センサー７の各受光部の構成および受光された光束
の様子を示している。図６（ａ）および（ｂ）に示すよ
うに、一対のシリンドリカルレンズ４０ａおよび４０ｂ
からなるシリンダーエキスパンダー４０を介して、たと
えばエキシマレーザーからの矩形状の光束をほぼ正方形
断面を有する光束に整形する。
【００２４】ほぼ正方形に整形された光束は、平行光束
のまま４分割センサー７に達する。そして、図６（ｃ）
に示すように、４つの受光部７Ａ〜７Ｄを有する４分割
センサー７上において正方形に整形された平行光束７１
が受光される。４分割センサー７では、各受光部７Ａ〜
７Ｄからの信号７ａ〜７ｄに基づいて、７ａ−７ｃ、７
ｂ−７ｄおよび７ａ＋７ｂ＋７ｃ＋７ｄの信号を演算す
る。
のまま４分割センサー７に達する。そして、図６（ｃ）
に示すように、４つの受光部７Ａ〜７Ｄを有する４分割
センサー７上において正方形に整形された平行光束７１
が受光される。４分割センサー７では、各受光部７Ａ〜
７Ｄからの信号７ａ〜７ｄに基づいて、７ａ−７ｃ、７
ｂ−７ｄおよび７ａ＋７ｂ＋７ｃ＋７ｄの信号を演算す
る。
【００２５】上述したように、光束の中心軸線が設計光
軸ＡＸと一致している場合には、４分割センサー７の中
心領域において、光軸ＡＸを中心としたほぼ正方形の光
束を受光するように構成されている。したがって、７ａ
−７ｃ＝０、７ｂ−７ｄ＝０および７ａ＋７ｂ＋７ｃ＋
７ｄ≠０となるように、平行平面板３の角度を調整する
ことにより、光束の中心軸線を光軸ＡＸに対して適宜平
行移動させて、光束の位置ずれを補正することができ
る。
軸ＡＸと一致している場合には、４分割センサー７の中
心領域において、光軸ＡＸを中心としたほぼ正方形の光
束を受光するように構成されている。したがって、７ａ
−７ｃ＝０、７ｂ−７ｄ＝０および７ａ＋７ｂ＋７ｃ＋
７ｄ≠０となるように、平行平面板３の角度を調整する
ことにより、光束の中心軸線を光軸ＡＸに対して適宜平
行移動させて、光束の位置ずれを補正することができ
る。
【００２６】なお、この場合の具体的な演算の一例を示
すと、図６におけるＸ方向（図中水平方向）の変位量Δ
ＸおよびＹ方向（図中鉛直方向）の変位量ΔＹは、それ
ぞれ以下のようになる。
すと、図６におけるＸ方向（図中水平方向）の変位量Δ
ＸおよびＹ方向（図中鉛直方向）の変位量ΔＹは、それ
ぞれ以下のようになる。
【数２】ΔＸ＝〔（７ｄ＋７ｃ）−（７ａ＋７ｂ）〕／
（７ａ＋７ｂ＋７ｄ＋７ｃ） ΔＹ＝〔（７ａ＋７ｄ）−（７ｂ＋７ｃ）〕／（７ａ＋
７ｂ＋７ｄ＋７ｃ） 従って、各変位量（ΔＸ、ΔＹ）が共に零となるように
平行平面板３の角度を調整することにより、光束の位置
ずれを補正することができる。このように、本発明で
は、ほぼ正方形に整形された光束に基づいて光束の位置
ずれを検出するので、４分割センサーの縦方向と横方向
とで精度が異なることなく、高精度な位置ずれ検出ひい
ては高精度な位置ずれ補正が可能になる。
（７ａ＋７ｂ＋７ｄ＋７ｃ） ΔＹ＝〔（７ａ＋７ｄ）−（７ｂ＋７ｃ）〕／（７ａ＋
７ｂ＋７ｄ＋７ｃ） 従って、各変位量（ΔＸ、ΔＹ）が共に零となるように
平行平面板３の角度を調整することにより、光束の位置
ずれを補正することができる。このように、本発明で
は、ほぼ正方形に整形された光束に基づいて光束の位置
ずれを検出するので、４分割センサーの縦方向と横方向
とで精度が異なることなく、高精度な位置ずれ検出ひい
ては高精度な位置ずれ補正が可能になる。
【００２７】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる照明装置の構成
を概略的に示す図である。図示の照明装置は、たとえば
エキシマレーザーのような光源１を備えている。エキシ
マレーザー１から射出された矩形状の平行光束は、設計
光軸ＡＸに対する光束の角度を調整するためのミラー２
に入射する。
する。図１は、本発明の実施例にかかる照明装置の構成
を概略的に示す図である。図示の照明装置は、たとえば
エキシマレーザーのような光源１を備えている。エキシ
マレーザー１から射出された矩形状の平行光束は、設計
光軸ＡＸに対する光束の角度を調整するためのミラー２
に入射する。
【００２８】なお、ミラー２が図１の紙面内において図
中矢印ａで示すように回転移動すると、設計光軸ＡＸに
対する光束の角度が紙面内において変化する。あらゆる
面内方向において設計光軸ＡＸに対する光束の傾きを補
正することができるように、ミラー２は回転駆動される
ようになっている。すなわち、ミラー２の駆動機構は、
たとえば互いに直交する出力軸を有し且つ互いに独立に
駆動可能な２つのモーターを備えている。そして、この
駆動機構により、ミラー２を互いに直交する面内方向に
おいてそれぞれ回転駆動する。
中矢印ａで示すように回転移動すると、設計光軸ＡＸに
対する光束の角度が紙面内において変化する。あらゆる
面内方向において設計光軸ＡＸに対する光束の傾きを補
正することができるように、ミラー２は回転駆動される
ようになっている。すなわち、ミラー２の駆動機構は、
たとえば互いに直交する出力軸を有し且つ互いに独立に
駆動可能な２つのモーターを備えている。そして、この
駆動機構により、ミラー２を互いに直交する面内方向に
おいてそれぞれ回転駆動する。
【００２９】ミラー２で反射された光束は、光束を設計
光軸ＡＸに対して平行移動させるための平行平面板３に
入射する。なお、平行平面板３が図１の紙面内において
図中矢印ｂで示すように回転移動すると、設計光軸ＡＸ
に対して光束が紙面内において平行移動する。あらゆる
面内方向において設計光軸ＡＸに対する光束の位置ずれ
を補正することができるように、平行平面板３は回転駆
動されるようになっている。すなわち、平行平面板３の
駆動機構は、ミラー２の駆動機構と同様に、たとえば互
いに直交する出力軸を有し且つ互いに独立に駆動可能な
２つのモーターを備えている。そして、この駆動機構に
より、平行平面板３を互いに直交する面内方向において
それぞれ回転駆動する。
光軸ＡＸに対して平行移動させるための平行平面板３に
入射する。なお、平行平面板３が図１の紙面内において
図中矢印ｂで示すように回転移動すると、設計光軸ＡＸ
に対して光束が紙面内において平行移動する。あらゆる
面内方向において設計光軸ＡＸに対する光束の位置ずれ
を補正することができるように、平行平面板３は回転駆
動されるようになっている。すなわち、平行平面板３の
駆動機構は、ミラー２の駆動機構と同様に、たとえば互
いに直交する出力軸を有し且つ互いに独立に駆動可能な
２つのモーターを備えている。そして、この駆動機構に
より、平行平面板３を互いに直交する面内方向において
それぞれ回転駆動する。
【００３０】平行平面板３を通過した光束は、一対のシ
リンドリカルレンズ４ａおよび４ｂからなるシリンダー
エキスパンダー４に入射する。各シリンドリカルレンズ
４ａおよび４ｂは、図１の紙面内において屈折力を有
し、光軸ＡＸを含んで紙面と直交する面内において平行
平面板として機能する。したがって、シリンダーエキス
パンダー４に入射した光束は図１の紙面内において拡大
され、ほぼ正方形の断面を有する光束に整形された後、
ハーフミラー５に入射する。
リンドリカルレンズ４ａおよび４ｂからなるシリンダー
エキスパンダー４に入射する。各シリンドリカルレンズ
４ａおよび４ｂは、図１の紙面内において屈折力を有
し、光軸ＡＸを含んで紙面と直交する面内において平行
平面板として機能する。したがって、シリンダーエキス
パンダー４に入射した光束は図１の紙面内において拡大
され、ほぼ正方形の断面を有する光束に整形された後、
ハーフミラー５に入射する。
【００３１】ハーフミラー５を透過した光は、ほぼ正方
形の入射面を有するオプティカルインテグレータ１０を
介して、図示を省略した物体を照明する。一方、ハーフ
ミラー５で反射された光は、もう１つのハーフミラー６
に入射する。ハーフミラー６で反射された光は、集光レ
ンズ８を介して４分割センサー９上に結像する。こうし
て、４分割センサー９では、４つの分割領域のうち対角
領域の差分信号をとることにより、シリンダーエキスパ
ンダー４を介した光束の光軸ＡＸに対する傾きを検出す
ることができる。４分割センサー９の出力は、制御系１
１に入力される。
形の入射面を有するオプティカルインテグレータ１０を
介して、図示を省略した物体を照明する。一方、ハーフ
ミラー５で反射された光は、もう１つのハーフミラー６
に入射する。ハーフミラー６で反射された光は、集光レ
ンズ８を介して４分割センサー９上に結像する。こうし
て、４分割センサー９では、４つの分割領域のうち対角
領域の差分信号をとることにより、シリンダーエキスパ
ンダー４を介した光束の光軸ＡＸに対する傾きを検出す
ることができる。４分割センサー９の出力は、制御系１
１に入力される。
【００３２】一方、ハーフミラー６を透過した光は、平
行光束のまま、もう１つの４分割センサー７上に導かれ
る。こうして、４分割センサー７において、シリンダー
エキスパンダー４を介した光束の光軸ＡＸに対する位置
ずれを検出することができる。４分割センサー７の出力
も、制御系１１に入力される。
行光束のまま、もう１つの４分割センサー７上に導かれ
る。こうして、４分割センサー７において、シリンダー
エキスパンダー４を介した光束の光軸ＡＸに対する位置
ずれを検出することができる。４分割センサー７の出力
も、制御系１１に入力される。
【００３３】このように、制御系１１には、光束の傾き
および位置ずれに関する情報が、各センサーを介して入
力される。こうして、制御系１１は、入力された情報に
基づいて、ミラー２および平行平面板３を駆動制御す
る。そして、ミラー２の回転駆動により光軸ＡＸに対す
る光束の角度を調整して光束の傾きを補正するととも
に、平行平面板３の回転駆動により光軸ＡＸに対して光
束を平行移動させて光束の位置ずれを補正する。
および位置ずれに関する情報が、各センサーを介して入
力される。こうして、制御系１１は、入力された情報に
基づいて、ミラー２および平行平面板３を駆動制御す
る。そして、ミラー２の回転駆動により光軸ＡＸに対す
る光束の角度を調整して光束の傾きを補正するととも
に、平行平面板３の回転駆動により光軸ＡＸに対して光
束を平行移動させて光束の位置ずれを補正する。
【００３４】このように、ハーフミラー５は、照明装置
の光路をメイン光路とセンサー系光路とに分割する光路
分割手段である。したがって、ハーフミラー５は、光の
大部分を透過し、たとえば数パーセントの光だけを反射
するような光学特性を有する。そこで、反射防止膜を蒸
着しないノーコート面でハーフミラー５の反射面を形成
することにより、エネルギー照射による反射率の変動を
低減することができる。
の光路をメイン光路とセンサー系光路とに分割する光路
分割手段である。したがって、ハーフミラー５は、光の
大部分を透過し、たとえば数パーセントの光だけを反射
するような光学特性を有する。そこで、反射防止膜を蒸
着しないノーコート面でハーフミラー５の反射面を形成
することにより、エネルギー照射による反射率の変動を
低減することができる。
【００３５】一方、ハーフミラー６は、メイン光路から
センサー系光路に取り出された光を２つのセンサーに分
割する。したがって、ほぼ５０：５０の反射率特性を有
するようにハーフミラー６を構成すれば、２つのセンサ
ー７および９に対して光束を等分に分割することができ
る。その結果、２つのセンサー７および９において、光
束の位置ずれおよび傾きを精度良く検出することができ
る。
センサー系光路に取り出された光を２つのセンサーに分
割する。したがって、ほぼ５０：５０の反射率特性を有
するようにハーフミラー６を構成すれば、２つのセンサ
ー７および９に対して光束を等分に分割することができ
る。その結果、２つのセンサー７および９において、光
束の位置ずれおよび傾きを精度良く検出することができ
る。
【００３６】なお、本実施例の照明装置では、オプティ
カルインテグレータ１０がほぼ正方形の入射面を有す
る。したがって、ハーフミラー５よりも光源側において
シリンダーエキスパンダー４により光束をほぼ正方形断
面に整形している。しかしながら、オプティカルインテ
グレータ１０が矩形状の入射面を有する場合には、ハー
フミラー５よりもハーフミラー６側において第１の整形
光学系によりほぼ正方形断面に整形し、ハーフミラー５
よりもオプティカルインテグレータ１０側において第２
の整形光学系によりオプティカルインテグレータ１０の
入射面に合致した形状に整形する必要がある。
カルインテグレータ１０がほぼ正方形の入射面を有す
る。したがって、ハーフミラー５よりも光源側において
シリンダーエキスパンダー４により光束をほぼ正方形断
面に整形している。しかしながら、オプティカルインテ
グレータ１０が矩形状の入射面を有する場合には、ハー
フミラー５よりもハーフミラー６側において第１の整形
光学系によりほぼ正方形断面に整形し、ハーフミラー５
よりもオプティカルインテグレータ１０側において第２
の整形光学系によりオプティカルインテグレータ１０の
入射面に合致した形状に整形する必要がある。
【００３７】図２は、本発明の照明装置を組み込んだ本
発明の実施例にかかる投影露光装置の構成を概略的に示
す図である。なお、図２において、（ａ）および（ｂ）
はそれぞれ光軸を含む２つの直交面における構成を示し
ている。ところで、図２の投影露光装置には、図１の照
明装置と類似の構成を有する照明装置が組み込まれてい
る。図２の照明装置が図１の照明装置と基本的に異なる
のは、図１の照明装置では平行平面板３とハーフミラー
５との間に配置されているシリンダーエキスパンダー４
が、図１の照明装置ではハーフミラー５とハーフミラー
６との間に配置されている点だけである。したがって、
図２において、図１の構成要素と基本的に同じ機能を有
する要素には、図１と同じ参照符号を付している。
発明の実施例にかかる投影露光装置の構成を概略的に示
す図である。なお、図２において、（ａ）および（ｂ）
はそれぞれ光軸を含む２つの直交面における構成を示し
ている。ところで、図２の投影露光装置には、図１の照
明装置と類似の構成を有する照明装置が組み込まれてい
る。図２の照明装置が図１の照明装置と基本的に異なる
のは、図１の照明装置では平行平面板３とハーフミラー
５との間に配置されているシリンダーエキスパンダー４
が、図１の照明装置ではハーフミラー５とハーフミラー
６との間に配置されている点だけである。したがって、
図２において、図１の構成要素と基本的に同じ機能を有
する要素には、図１と同じ参照符号を付している。
【００３８】図２の投影露光装置は、たとえば２４８ｎ
ｍまたは１９３ｎｍの波長光を発進するエキシマレーザ
ーのようなレーザー光源１を備えている。エキシマレー
ザー１から供給された矩形状の平行光束は、ミラー２お
よび平行平面板３を介してハーフミラー５に入射する。
ハーフミラー５で反射された光束は、一対のシリンドリ
カルレンズ４ａおよび４ｂからなるシリンダーエキスパ
ンダー４を介して、ほぼ正方形の断面を有する光束に整
形された後、ハーフミラー６に入射する。
ｍまたは１９３ｎｍの波長光を発進するエキシマレーザ
ーのようなレーザー光源１を備えている。エキシマレー
ザー１から供給された矩形状の平行光束は、ミラー２お
よび平行平面板３を介してハーフミラー５に入射する。
ハーフミラー５で反射された光束は、一対のシリンドリ
カルレンズ４ａおよび４ｂからなるシリンダーエキスパ
ンダー４を介して、ほぼ正方形の断面を有する光束に整
形された後、ハーフミラー６に入射する。
【００３９】ハーフミラー６で反射された光は、集光レ
ンズ８を介して４分割センサー９上に結像する。こうし
て、４分割センサー９では、光束の光軸ＡＸに対する傾
きを検出することができる。４分割センサー９の出力
は、制御系１１に入力される。一方、ハーフミラー６を
透過した光は、平行光束のまま、もう１つの４分割セン
サー７上に導かれる。こうして、４分割センサー７にお
いて、光束の光軸ＡＸに対する位置ずれを検出すること
ができる。４分割センサー７の出力も、制御系１１に入
力される。こうして、制御系１１は、ミラー２および平
行平面板３を駆動制御し、光束の傾きおよび位置ずれを
補正する。
ンズ８を介して４分割センサー９上に結像する。こうし
て、４分割センサー９では、光束の光軸ＡＸに対する傾
きを検出することができる。４分割センサー９の出力
は、制御系１１に入力される。一方、ハーフミラー６を
透過した光は、平行光束のまま、もう１つの４分割セン
サー７上に導かれる。こうして、４分割センサー７にお
いて、光束の光軸ＡＸに対する位置ずれを検出すること
ができる。４分割センサー７の出力も、制御系１１に入
力される。こうして、制御系１１は、ミラー２および平
行平面板３を駆動制御し、光束の傾きおよび位置ずれを
補正する。
【００４０】一方、ハーフミラー５を透過した光束は、
一対のシリンドリカルレンズ１２ａおよび１２ｂからな
るシリンダーエキスパンダー１２に入射する。各シリン
ドリカルレンズ１２ａおよび１２ｂは、図２（ｂ）の紙
面内において屈折力を有し、図２（ａ）の紙面内におい
て平行平面板として機能する。したがって、シリンダー
エキスパンダー１２に入射した光束は図２（ｂ）の紙面
内において拡大され、後述する第１オプティカルインテ
グレータ１０の入射面の形状に合致するように整形され
る。
一対のシリンドリカルレンズ１２ａおよび１２ｂからな
るシリンダーエキスパンダー１２に入射する。各シリン
ドリカルレンズ１２ａおよび１２ｂは、図２（ｂ）の紙
面内において屈折力を有し、図２（ａ）の紙面内におい
て平行平面板として機能する。したがって、シリンダー
エキスパンダー１２に入射した光束は図２（ｂ）の紙面
内において拡大され、後述する第１オプティカルインテ
グレータ１０の入射面の形状に合致するように整形され
る。
【００４１】シリンダーエキスパンダー１２により整形
された光束は、多光源像形成手段である第１オプティカ
ルインテグレータ１０に入射する。第１オプティカルイ
ンテグレータ１０に入射した光束は、第１オプティカル
インテグレータ１０を構成する複数のレンズエレメント
により二次元的に分割され、第１オプティカルインテグ
レータ１０の後側焦点位置に複数の光源像すなわち二次
光源を形成する。
された光束は、多光源像形成手段である第１オプティカ
ルインテグレータ１０に入射する。第１オプティカルイ
ンテグレータ１０に入射した光束は、第１オプティカル
インテグレータ１０を構成する複数のレンズエレメント
により二次元的に分割され、第１オプティカルインテグ
レータ１０の後側焦点位置に複数の光源像すなわち二次
光源を形成する。
【００４２】複数の光源像からの光束は、一対のレンズ
からなる集光光学系１３により集光された後、第２オプ
ティカルインテグレータ１４を重畳的に照明する。第２
オプティカルインテグレータ１４に入射した光束は、第
２オプティカルインテグレータ１４を構成する複数のレ
ンズエレメントにより二次元的に分割され、第２オプテ
ィカルインテグレータ１４の後側焦点位置に複数の光源
像すなわち三次光源を形成する。
からなる集光光学系１３により集光された後、第２オプ
ティカルインテグレータ１４を重畳的に照明する。第２
オプティカルインテグレータ１４に入射した光束は、第
２オプティカルインテグレータ１４を構成する複数のレ
ンズエレメントにより二次元的に分割され、第２オプテ
ィカルインテグレータ１４の後側焦点位置に複数の光源
像すなわち三次光源を形成する。
【００４３】なお、集光光学系１３は、第１オプティカ
ルインテグレータ１０の入射面と第２オプティカルイン
テグレータ１４の入射面とを共役にするとともに、第１
オプティカルインテグレータ１０の射出面と第２オプテ
ィカルインテグレータ１４の射出面とを共役にしてい
る。また、第１オプティカルインテグレータ１０および
第２オプティカルインテグレータ１４の各レンズエレメ
ントは、たとえば両凸レンズ形状を有する。そして、各
レンズエレメントに入射した平行光束はそれぞれ集光さ
れ、各レンズエレメントの射出側に光源像が形成され
る。
ルインテグレータ１０の入射面と第２オプティカルイン
テグレータ１４の入射面とを共役にするとともに、第１
オプティカルインテグレータ１０の射出面と第２オプテ
ィカルインテグレータ１４の射出面とを共役にしてい
る。また、第１オプティカルインテグレータ１０および
第２オプティカルインテグレータ１４の各レンズエレメ
ントは、たとえば両凸レンズ形状を有する。そして、各
レンズエレメントに入射した平行光束はそれぞれ集光さ
れ、各レンズエレメントの射出側に光源像が形成され
る。
【００４４】第２オプティカルインテグレータ１４を介
して形成された複数の光源像からの光束は、コンデンサ
ーレンズ１５により集光され、所定のパターンが形成さ
れたマスク１６を重畳的に照明する。マスク１６を透過
した光束は、投影光学系１７を介して、その像面に位置
決めされたウエハ１８に達する。こうして、感光基板で
あるウエハ１８上には、マスク１６のパターンが転写さ
れる。
して形成された複数の光源像からの光束は、コンデンサ
ーレンズ１５により集光され、所定のパターンが形成さ
れたマスク１６を重畳的に照明する。マスク１６を透過
した光束は、投影光学系１７を介して、その像面に位置
決めされたウエハ１８に達する。こうして、感光基板で
あるウエハ１８上には、マスク１６のパターンが転写さ
れる。
【００４５】図２の投影露光装置では、光源の位置変動
等に起因してエキシマレーザー１からの矩形状光束が設
計光軸ＡＸに対して傾いたり位置ずれしたりしても、光
束角度調整手段であるミラー２と光束平行移動手段であ
る平行平面板３との作用により、エキシマレーザー１の
位置を調整することなく光束の傾きおよび位置ずれを高
精度に且つ自動的に補正することができる。すなわち、
投影露光装置の初期調整時ばかりでなく、露光中におい
ても光束の傾きおよび位置ずれを補正することができ
る。
等に起因してエキシマレーザー１からの矩形状光束が設
計光軸ＡＸに対して傾いたり位置ずれしたりしても、光
束角度調整手段であるミラー２と光束平行移動手段であ
る平行平面板３との作用により、エキシマレーザー１の
位置を調整することなく光束の傾きおよび位置ずれを高
精度に且つ自動的に補正することができる。すなわち、
投影露光装置の初期調整時ばかりでなく、露光中におい
ても光束の傾きおよび位置ずれを補正することができ
る。
【００４６】ところで、通常の投影露光装置ではウエハ
ステージが二次元的に移動しながら逐次露光を行うの
で、ウエハステージの二次元移動が振動を引き起こす。
特に、マスクおよび感光基板を投影光学系に対してそれ
ぞれ走査しながら露光を行うスキャン式投影露光装置で
は、マスクステージおよび基板ステージの双方が露光中
に移動し、その移動が振動を引き起こす。したがって、
特にスキャン式投影露光装置では、露光中においても、
上述の振動に起因して光束の傾きや位置ずれが発生し易
い。
ステージが二次元的に移動しながら逐次露光を行うの
で、ウエハステージの二次元移動が振動を引き起こす。
特に、マスクおよび感光基板を投影光学系に対してそれ
ぞれ走査しながら露光を行うスキャン式投影露光装置で
は、マスクステージおよび基板ステージの双方が露光中
に移動し、その移動が振動を引き起こす。したがって、
特にスキャン式投影露光装置では、露光中においても、
上述の振動に起因して光束の傾きや位置ずれが発生し易
い。
【００４７】上述の実施例にかかる投影露光装置では、
第１オプティカルインテグレータ１０の断面形状にほぼ
合致した矩形状の光束を設計光軸ＡＸに沿って傾きおよ
び位置ずれもなく入射させることができる。その結果、
第１オプティカルインテグレータ１０に入射する光束の
位置ずれに起因する露光光量の変化を最小限に抑えるこ
とができる。また、第１オプティカルインテグレータ１
０に入射する光束の傾きに起因する照度むらを最小限に
抑えることができる。その結果、露光光量の変化および
照度むらの少ない安定した露光を行うことができる。
第１オプティカルインテグレータ１０の断面形状にほぼ
合致した矩形状の光束を設計光軸ＡＸに沿って傾きおよ
び位置ずれもなく入射させることができる。その結果、
第１オプティカルインテグレータ１０に入射する光束の
位置ずれに起因する露光光量の変化を最小限に抑えるこ
とができる。また、第１オプティカルインテグレータ１
０に入射する光束の傾きに起因する照度むらを最小限に
抑えることができる。その結果、露光光量の変化および
照度むらの少ない安定した露光を行うことができる。
【００４８】さて、次に、図７を参照しながら別の実施
例について説明する。図７は、図２に示した実施例と同
様に本発明の照明装置を投影露光装置に応用した例を示
している。なお、図７において、（ａ）及び（ｂ）はそ
れぞれ光軸を含む２つの直交面における構成を示してい
る。
例について説明する。図７は、図２に示した実施例と同
様に本発明の照明装置を投影露光装置に応用した例を示
している。なお、図７において、（ａ）及び（ｂ）はそ
れぞれ光軸を含む２つの直交面における構成を示してい
る。
【００４９】上述の図２の実施例では、光束の位置ずれ
を検出する４分割センサー７と光束の傾きを検出する４
分割センサー９とにそれぞれ分割光束を導く前の光路
中、即ちハーフミラー６よりも光源側の光路中にビーム
エキスパンダー（シリンダーエキスパンダー）４を配置
して、このビームエキスパンダー４を双方の４分割セン
サーに関してのビーム整形用として機能させている。し
かしながら、ハーフミラー６により分割された各光路
中、即ち位置ずれ検出用光路及び角度ずれ検出用光路中
にビームエキスパンダーをそれぞれ配置しても良い。
を検出する４分割センサー７と光束の傾きを検出する４
分割センサー９とにそれぞれ分割光束を導く前の光路
中、即ちハーフミラー６よりも光源側の光路中にビーム
エキスパンダー（シリンダーエキスパンダー）４を配置
して、このビームエキスパンダー４を双方の４分割セン
サーに関してのビーム整形用として機能させている。し
かしながら、ハーフミラー６により分割された各光路
中、即ち位置ずれ検出用光路及び角度ずれ検出用光路中
にビームエキスパンダーをそれぞれ配置しても良い。
【００５０】そこで、図７では、位置ずれ検出用光路及
び角度ずれ検出用光路中にビームエキスパンダー（４
１、４２）をそれぞれ配置した例を示す。なお、図７の
実施例と図２の実施例とが異なる点は、ハーフミラー６
と４分割センサー７との間の位置ずれ検出用光路におい
て、負の屈折力のシリンドリカルレンズ４１ａと負の屈
折力のシリンドリカルレンズ４１ｂとからなるビームエ
キスパンダー４１を配置し、ハーフミラー６と４分割セ
ンサー９との間の角度ずれ検出用光路において、負の屈
折力のシリンドリカルレンズ４２ａと負の屈折力のシリ
ンドリカルレンズ４２ｂとからなるビームエキスパンダ
ー４２を配置した点である。
び角度ずれ検出用光路中にビームエキスパンダー（４
１、４２）をそれぞれ配置した例を示す。なお、図７の
実施例と図２の実施例とが異なる点は、ハーフミラー６
と４分割センサー７との間の位置ずれ検出用光路におい
て、負の屈折力のシリンドリカルレンズ４１ａと負の屈
折力のシリンドリカルレンズ４１ｂとからなるビームエ
キスパンダー４１を配置し、ハーフミラー６と４分割セ
ンサー９との間の角度ずれ検出用光路において、負の屈
折力のシリンドリカルレンズ４２ａと負の屈折力のシリ
ンドリカルレンズ４２ｂとからなるビームエキスパンダ
ー４２を配置した点である。
【００５１】ここで、図７のビームエキスパンダー４１
は、このビームエキスパンダー４１に入射する矩形（長
方形）の断面の光束を正方形状の断面の光束に整形する
ように、直交した方向でそれぞれ所定の倍率を持つ構成
としている。例えば、ビームエキスパンダー４１に入射
する図７の紙面方向での矩形（長方形）の断面の光束の
幅又は径をＷH11 、ビームエキスパンダー４１を射出す
る図７の紙面方向での矩形（長方形）の断面の光束の幅
又は径をＷH12 、ビームエキスパンダー４１に入射する
図７の紙面に垂直な方向での矩形（長方形）の断面の光
束の幅又は径をＷV11 、ビームエキスパンダー４１を射
出する図７の紙面に垂直な方向での矩形（長方形）の断
面の光束の幅又は径をＷV12 、ビームエキスパンダー４
１の図７の紙面方向での倍率をβH1、ビームエキスパン
ダー４１の図７の紙面に垂直な方向での倍率をβV1とす
ると、 ＷH12 ＝βH1×ＷH11 （３） ＷV12 ＝βV1×ＷV11 （４） の関係が成立する。
は、このビームエキスパンダー４１に入射する矩形（長
方形）の断面の光束を正方形状の断面の光束に整形する
ように、直交した方向でそれぞれ所定の倍率を持つ構成
としている。例えば、ビームエキスパンダー４１に入射
する図７の紙面方向での矩形（長方形）の断面の光束の
幅又は径をＷH11 、ビームエキスパンダー４１を射出す
る図７の紙面方向での矩形（長方形）の断面の光束の幅
又は径をＷH12 、ビームエキスパンダー４１に入射する
図７の紙面に垂直な方向での矩形（長方形）の断面の光
束の幅又は径をＷV11 、ビームエキスパンダー４１を射
出する図７の紙面に垂直な方向での矩形（長方形）の断
面の光束の幅又は径をＷV12 、ビームエキスパンダー４
１の図７の紙面方向での倍率をβH1、ビームエキスパン
ダー４１の図７の紙面に垂直な方向での倍率をβV1とす
ると、 ＷH12 ＝βH1×ＷH11 （３） ＷV12 ＝βV1×ＷV11 （４） の関係が成立する。
【００５２】従って、ビームエキスパンダー４１によっ
てビーム断面形状が正方形に整形されるものとすると、
ＷH12 ＝ＷV12 の関係が成立するため、上記（３）式、
（４）式を次式（５）の如く変形することができる。 βH1／βV1＝ＷV11 ／ＷH11 （５）
てビーム断面形状が正方形に整形されるものとすると、
ＷH12 ＝ＷV12 の関係が成立するため、上記（３）式、
（４）式を次式（５）の如く変形することができる。 βH1／βV1＝ＷV11 ／ＷH11 （５）
【００５３】従って、ビームエキスパンダー４１は、上
記（５）式を満足するように構成すれば良い。よって、
図７の実施例では紙面に垂直な方向での屈折力が零、即
ち倍率βV1＝１であるため、上記（５）式より、 βH1＝ＷV11 ／ＷH11 ＝ＷH12 ／ＷH11 （６） を満足するようにビームエキスパンダー４１を構成すれ
ば良い。
記（５）式を満足するように構成すれば良い。よって、
図７の実施例では紙面に垂直な方向での屈折力が零、即
ち倍率βV1＝１であるため、上記（５）式より、 βH1＝ＷV11 ／ＷH11 ＝ＷH12 ／ＷH11 （６） を満足するようにビームエキスパンダー４１を構成すれ
ば良い。
【００５４】一方、エキシマレーザー１から発振される
レーザー光において互いに直交した方向（図７の紙面方
向とその紙面方向と直交する方向）での発散角が等しい
場合には、ハーフミラー６と４分割センサー９との間の
角度ずれ検出用光路中に配置されたビームエキスパンダ
ー４２は上記（５）式又は（６）式を満足するように構
成することが良い。しかしながら、エキシマレーザー１
から発振されるレーザー光において互いに直交した方向
（図７の紙面方向とその紙面方向と直交する方向）での
発散角が異なる場合には、ビームエキスパンダー４２及
び集光レンズ８を介して４分割センサー９上に形成され
るスポットは、直交した方向でのレーザー光の発散角の
差異に応じて楕円形状となり測定精度を悪化させること
がある。従って、この場合には、４分割センサー９上に
形成されるスポットの形状が円形状となるように、ビー
ムエキスパンダー４２の直交した方向での倍率を設定す
るか、あるいは集光レンズを直交した方向で屈折力の異
なるように構成することが望ましい。
レーザー光において互いに直交した方向（図７の紙面方
向とその紙面方向と直交する方向）での発散角が等しい
場合には、ハーフミラー６と４分割センサー９との間の
角度ずれ検出用光路中に配置されたビームエキスパンダ
ー４２は上記（５）式又は（６）式を満足するように構
成することが良い。しかしながら、エキシマレーザー１
から発振されるレーザー光において互いに直交した方向
（図７の紙面方向とその紙面方向と直交する方向）での
発散角が異なる場合には、ビームエキスパンダー４２及
び集光レンズ８を介して４分割センサー９上に形成され
るスポットは、直交した方向でのレーザー光の発散角の
差異に応じて楕円形状となり測定精度を悪化させること
がある。従って、この場合には、４分割センサー９上に
形成されるスポットの形状が円形状となるように、ビー
ムエキスパンダー４２の直交した方向での倍率を設定す
るか、あるいは集光レンズを直交した方向で屈折力の異
なるように構成することが望ましい。
【００５５】なお、図７に示した実施例において、光束
の位置ずれに対してのみ高い検出精度が要求されない場
合には、ビームエキスパンダー４１のみを取り除いても
良く、また光束の角度ずれに対してのみ高い検出精度が
要求されない場合には、ビームエキスパンダー４２のみ
を取り除いても良い。また、光束の位置ずれに対して配
慮する必要がない場合には、ビームエキスパンダー４１
及び４分割センサー７を取り除き、ハーフミラー６を反
射ミラーに置き換えて、光束の角度ずれのみを４分割セ
ンサー９にて検出するようにしても良く、さらには、光
束の角度ずれに対して配慮する必要がない場合には、ハ
ーフミラー６、ビームエキスパンダー４２及び４分割セ
ンサー９を取り除き、光束の位置ずれのみを４分割セン
サー７にて検出するようにしても良い。
の位置ずれに対してのみ高い検出精度が要求されない場
合には、ビームエキスパンダー４１のみを取り除いても
良く、また光束の角度ずれに対してのみ高い検出精度が
要求されない場合には、ビームエキスパンダー４２のみ
を取り除いても良い。また、光束の位置ずれに対して配
慮する必要がない場合には、ビームエキスパンダー４１
及び４分割センサー７を取り除き、ハーフミラー６を反
射ミラーに置き換えて、光束の角度ずれのみを４分割セ
ンサー９にて検出するようにしても良く、さらには、光
束の角度ずれに対して配慮する必要がない場合には、ハ
ーフミラー６、ビームエキスパンダー４２及び４分割セ
ンサー９を取り除き、光束の位置ずれのみを４分割セン
サー７にて検出するようにしても良い。
【００５６】上述の各実施例では、光源としてエキシマ
レーザーを使用した例を示したが、矩形状または楕円状
の平行光束を供給する他の光供給手段に対して本発明を
適用することができる。また、上述の各実施例では、光
束角度調整手段として反射ミラーを光束平行移動手段と
して平行平面板をそれぞれ使用した例を示したが、プリ
ズム等の他の光学素子からなる適当な光束角度調整手段
および光束平行移動手段を用いて本発明の照明装置を構
成することもできる。
レーザーを使用した例を示したが、矩形状または楕円状
の平行光束を供給する他の光供給手段に対して本発明を
適用することができる。また、上述の各実施例では、光
束角度調整手段として反射ミラーを光束平行移動手段と
して平行平面板をそれぞれ使用した例を示したが、プリ
ズム等の他の光学素子からなる適当な光束角度調整手段
および光束平行移動手段を用いて本発明の照明装置を構
成することもできる。
【００５７】また、上述の各実施例では、負の屈折力の
シリンドリカルレンズと正の屈折力のシリンドリカルレ
ンズとでビームエキスパンダー（光束整形手段）を構成
した例を示したが、これに限ることなく、２つの正の屈
折力のシリンドリカルレンズとでビームエキスパンダー
を構成しても良く、さらには、上記（５）式から明らか
なように、直交した方向で屈折力の異なる複数のトーリ
ックレンズによってビームエキスパンダー（光束整形手
段）を構成しても良い。
シリンドリカルレンズと正の屈折力のシリンドリカルレ
ンズとでビームエキスパンダー（光束整形手段）を構成
した例を示したが、これに限ることなく、２つの正の屈
折力のシリンドリカルレンズとでビームエキスパンダー
を構成しても良く、さらには、上記（５）式から明らか
なように、直交した方向で屈折力の異なる複数のトーリ
ックレンズによってビームエキスパンダー（光束整形手
段）を構成しても良い。
【００５８】
【効果】以上説明したように、本発明の照明装置では、
光束角度調整手段や光束平行移動手段の作用により、光
源の位置を微調整することなく、光束の傾きや位置ずれ
を高精度に補正することができる。したがって、本発明
の照明装置をたとえば投影露光装置の照明装置に組み込
んだ場合、露光光量の変化や照度むらを抑えて安定した
露光を行うことができる。
光束角度調整手段や光束平行移動手段の作用により、光
源の位置を微調整することなく、光束の傾きや位置ずれ
を高精度に補正することができる。したがって、本発明
の照明装置をたとえば投影露光装置の照明装置に組み込
んだ場合、露光光量の変化や照度むらを抑えて安定した
露光を行うことができる。
【図１】本発明の実施例にかかる照明装置の構成を概略
的に示す図である。
的に示す図である。
【図２】本発明の照明装置を組み込んだ本発明の実施例
にかかる投影露光装置の構成を概略的に示す図である。
にかかる投影露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図３】光束の傾きを検出する原理について説明する図
である。
である。
【図４】本発明における光束の傾き検出手段の作用につ
いて説明する図である。
いて説明する図である。
【図５】光束の位置ずれを検出する原理について説明す
る図である。
る図である。
【図６】本発明における光束の位置ずれ検出手段の作用
について説明する図である。
について説明する図である。
【図７】図２に示した実施例の変形例を示す図である。
１ 光源 ２ ミラー ３ 平行平面板 ４ シリンダーエキスパンダー ５ ハーフミラー ６ ハーフミラー ７ ４分割センサー ８ 集光レンズ ９ ４分割センサー １０ オプティカルインテグレータ １１ 制御系 １２ シリンダーエキスパンダー １４ 第２オプティカルインテグレータ １５ コンデンサーレンズ １６ マスク １７ 投影光学系 １８ ウエハ ＡＸ 光軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/101 Ｇ０２Ｂ 27/00 Ｖ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５２７
Claims (8)
- 【請求項１】 平行光束を供給するための光供給手段
と、 前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方形またはほぼ
円形の断面を有する平行光束に整形するための光束整形
手段と、 前記ほぼ正方形またはほぼ円形の断面を有する平行光束
に基づいて、前記光供給手段からの平行光束の所定の光
軸に対する位置ずれを検出するための位置ずれ検出手段
と、 前記位置ずれを補正するために、前記位置ずれ検出手段
の出力に基づき前記平行光束を前記所定の光軸に対して
平行移動させるための光束平行移動手段と、 を備えていることを特徴とする照明装置。 - 【請求項２】 平行光束を供給するための光供給手段
と、 前記光供給手段からの平行光束をほぼ正方形またはほぼ
円形の断面を有する平行光束に整形するための光束整形
手段と、 前記ほぼ正方形およびほぼ円形の断面を有する平行光束
に基づいて、前記光供給手段からの平行光束の所定光軸
に対する傾きを検出するための傾き検出手段と、 前記傾きを補正するために、前記傾き検出手段の出力に
基づき前記平行光束の前記所定光軸に対する角度を調整
するための光束角度調整手段と、 を備えていることを特徴とする照明装置。 - 【請求項３】 前記ほぼ正方形およびほぼ円形の断面を
有する平行光束に基づいて、前記光供給手段からの平行
光束の前記所定光軸に対する位置ずれを検出するための
位置ずれ検出手段と、 前記位置ずれを補正するために、前記位置ずれ検出手段
の出力に基づき前記平行光束を前記所定光軸に対して平
行移動させるための光束平行移動手段と、 をさらに備えていることを特徴とする請求項２に記載の
照明装置。 - 【請求項４】 前記光供給手段からの平行光束の光路を
分割するための光路分割手段をさらに備え、 前記光束整形手段は、前記光供給手段と前記光路分割手
段との間の光路中に配置され、 前記傾き検出手段および前記位置ずれ検出手段は、前記
光路分割手段を介して取り出された光束に基づいて検出
を行うことを特徴とする請求項３に記載の照明装置。 - 【請求項５】 前記光供給手段からの平行光束の光路を
分割するための光路分割手段をさらに備え、 前記光束整形手段は、前記光路分割手段を介して取り出
された光束を整形して、前記傾き検出手段および前記位
置ずれ検出手段に導くことを特徴とする請求項３に記載
の照明装置。 - 【請求項６】 前記光束角度調整手段は、前記光供給手
段からの平行光束を偏向するための反射ミラーを有する
ことを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載
の照明装置。 - 【請求項７】 前記光束平行移動手段は、前記光供給手
段からの平行光束を平行移動させるための平行平面板を
有することを特徴とする請求項１および請求項３乃至６
のうちいずれか１項に記載の照明装置。 - 【請求項８】 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
照明装置と、 前記照明装置からの平行光束をオプティカルインテグレ
ーターを介して所定のパターンが形成されたマスクに照
射するための露光照明光学系と、 前記マスクからのパターン像を感光基板上に形成するた
めの投影光学系と、 を備えていることを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120862A JPH08293461A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 |
| US08/626,382 US5731577A (en) | 1995-04-21 | 1996-03-29 | Illumination apparatus and projection exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7120862A JPH08293461A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08293461A true JPH08293461A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=14796798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7120862A Pending JPH08293461A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5731577A (ja) |
| JP (1) | JPH08293461A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0849637A2 (en) * | 1996-11-22 | 1998-06-24 | Nikon Corporation | Illumination apparatus and exposure apparatus |
| JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
| JP2008258314A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Toshiba Corp | 光共振器自動補正装置及び光共振器自動補正方法 |
| WO2014083871A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 露光装置、露光方法 |
| JP2015523597A (ja) * | 2012-06-01 | 2015-08-13 | ルモプティックス・エスアーＬｅｍｏｐｔｉｘ Ｓａ | 投射デバイス |
| JP6293367B1 (ja) * | 2016-08-10 | 2018-03-14 | 三菱電機株式会社 | 光軸調整機構 |
| JP2021518582A (ja) * | 2018-03-27 | 2021-08-02 | レーザー エンジニアリング アプリケーションズ | 光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1013685A3 (nl) * | 2000-09-15 | 2002-06-04 | Strobbe Graphics Nv | Inrichting en werkwijze voor het belichten van fotogevoelige platen voor drukpersen. |
| TW554411B (en) * | 2001-08-23 | 2003-09-21 | Nikon Corp | Exposure apparatus |
| WO2004031854A2 (de) * | 2002-09-30 | 2004-04-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für eine wellenlänge ≤ 193 nm mit sensoren zur bestimmung der ausleuchtung |
| KR100574050B1 (ko) * | 2003-05-03 | 2006-04-27 | 삼성전자주식회사 | 홀로그램 정보저장장치용 서보 컨트롤 |
| JP4366163B2 (ja) * | 2003-09-25 | 2009-11-18 | キヤノン株式会社 | 照明装置及び露光装置 |
| DE102004063314A1 (de) | 2004-12-23 | 2006-07-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Filtereinrichtung für die Kompensation einer asymmetrischen Pupillenausleuchtung |
| KR20070100870A (ko) * | 2005-01-31 | 2007-10-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 레이저 광원의 제어 방법, 레이저 광원 장치 및 노광 장치 |
| JP2007150295A (ja) | 2005-11-10 | 2007-06-14 | Carl Zeiss Smt Ag | ラスタ要素を有する光学装置、及びこの光学装置を有する照射システム |
| JP2007316157A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Olympus Imaging Corp | 投光光学系及びそれを備えた投光装置 |
| DE102006039655A1 (de) * | 2006-08-24 | 2008-03-20 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines mikrostruktuierten Bauelements mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie durch dieses Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Bauelement |
| JP2009094350A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-30 | Canon Inc | 露光装置及び補正装置 |
| JP5366019B2 (ja) | 2010-08-02 | 2013-12-11 | 株式会社ニコン | 伝送光学系、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
| CN102566318B (zh) * | 2012-02-12 | 2014-05-28 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种光束传输稳定装置 |
| KR102178173B1 (ko) * | 2013-06-14 | 2020-11-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 주사 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 |
| US9116038B2 (en) * | 2013-08-19 | 2015-08-25 | International Business Machines Corporation | Integrated optical illumination reference source |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4742219A (en) * | 1981-09-17 | 1988-05-03 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Apparatus for detecting the focusing state and positional accuracy of a light beam directed onto an optical disk tracking guide in an optical read/write system |
| US4619508A (en) * | 1984-04-28 | 1986-10-28 | Nippon Kogaku K. K. | Illumination optical arrangement |
| US5153419A (en) * | 1985-04-22 | 1992-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for detecting position of a light source with source position adjusting means |
| JPH0786647B2 (ja) * | 1986-12-24 | 1995-09-20 | 株式会社ニコン | 照明装置 |
| JPH01147516A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-09 | Canon Inc | ビーム位置制御装置 |
| US5307207A (en) * | 1988-03-16 | 1994-04-26 | Nikon Corporation | Illuminating optical apparatus |
| JP2569711B2 (ja) * | 1988-04-07 | 1997-01-08 | 株式会社ニコン | 露光制御装置及び該装置による露光方法 |
| US4918583A (en) * | 1988-04-25 | 1990-04-17 | Nikon Corporation | Illuminating optical device |
| JP3033135B2 (ja) * | 1990-06-13 | 2000-04-17 | 株式会社ニコン | 投影露光装置及び方法 |
| JP3128827B2 (ja) * | 1990-12-26 | 2001-01-29 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、並びに投影露光方法、及びその投影露光方法を用いたデバイス製造方法、及びそのデバイス製造方法により製造されたデバイス |
| JP3360686B2 (ja) * | 1990-12-27 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法 |
| JP3428055B2 (ja) * | 1992-11-05 | 2003-07-22 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、半導体製造方法および露光方法 |
| JP3367569B2 (ja) * | 1992-11-26 | 2003-01-14 | 株式会社ニコン | 照明光学装置、露光装置、及び該露光装置を用いた転写方法 |
-
1995
- 1995-04-21 JP JP7120862A patent/JPH08293461A/ja active Pending
-
1996
- 1996-03-29 US US08/626,382 patent/US5731577A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0849637A2 (en) * | 1996-11-22 | 1998-06-24 | Nikon Corporation | Illumination apparatus and exposure apparatus |
| EP0849637A3 (en) * | 1996-11-22 | 2000-01-05 | Nikon Corporation | Illumination apparatus and exposure apparatus |
| US6081320A (en) * | 1996-11-22 | 2000-06-27 | Nikon Corporation | Illumination apparatus and exposure apparatus |
| JP2006253671A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Hitachi Via Mechanics Ltd | ビームドリフト補償装置及び方法 |
| JP2008258314A (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-23 | Toshiba Corp | 光共振器自動補正装置及び光共振器自動補正方法 |
| JP2015523597A (ja) * | 2012-06-01 | 2015-08-13 | ルモプティックス・エスアーＬｅｍｏｐｔｉｘ Ｓａ | 投射デバイス |
| WO2014083871A1 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 露光装置、露光方法 |
| JP2014107473A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 露光装置、露光方法 |
| JP6293367B1 (ja) * | 2016-08-10 | 2018-03-14 | 三菱電機株式会社 | 光軸調整機構 |
| JP2021518582A (ja) * | 2018-03-27 | 2021-08-02 | レーザー エンジニアリング アプリケーションズ | 光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 |
Also Published As
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| US5731577A (en) | 1998-03-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040301 |