JP2021518582A - 光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 - Google Patents
光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021518582A JP2021518582A JP2020550746A JP2020550746A JP2021518582A JP 2021518582 A JP2021518582 A JP 2021518582A JP 2020550746 A JP2020550746 A JP 2020550746A JP 2020550746 A JP2020550746 A JP 2020550746A JP 2021518582 A JP2021518582 A JP 2021518582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- focusing means
- focal length
- matrix
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 131
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 24
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 12
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 7
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
- B23K26/042—Automatically aligning the laser beam
- B23K26/043—Automatically aligning the laser beam along the beam path, i.e. alignment of laser beam axis relative to laser beam apparatus
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/70—Auxiliary operations or equipment
- B23K26/702—Auxiliary equipment
- B23K26/705—Beam measuring device
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B11/27—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
- G01B11/272—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
- G02B19/0004—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
- G02B19/0009—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lenses (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
上記光ビームから、
第1の光路に沿った第1の光ビーム、および
第2の光路に沿った第2の光ビーム
を得るためのビームスプリッタと、
上記第1の光ビームから集束光ビームを得るための、上記第1の光ビームの第1の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた焦点モジュールであり、上記集束光ビームは、上記焦点モジュールと関連付けられている焦点面内に位置決めされた第1の光ビームマトリクス検出手段に向けられる、焦点モジュールと、
上記第2の光ビームから平行光ビームを得るための、第2の光ビームの第2の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた無限焦点モジュールであり、上記平行光ビームは、第2の光ビームマトリクス検出手段に向けられる、無限焦点モジュールと
を備える、光学装置を提案する。
−遠方場における上記光ビームのドリフトを検出するための集束光学系を規定する焦点距離f1を有する集束手段を備える第1のチャネルと、
−近接場における上記光ビームのドリフトを検出する無限焦点光学系を含む第2のチャネルであって、
上記第2のチャネルに沿ったドリフトを検出するための第2の光ビームマトリクス検出手段、
焦点距離f2を有する第2の集束手段、
焦点距離f3を有する第3の集束手段
を備え、
上記第2の集束手段および第3の集束手段は、上記第2の光ビームマトリクス検出手段上で入射平行光ビームから平行光ビームを得るように、上記第2の集束手段と第3の集束手段との間の光学距離がf2+f3に等しくなるように位置決めされている、第2のチャネルと、
−上記光ビームのドリフトの検出を上記第1の光ビームマトリクス検出手段および第2の光ビームマトリクス検出手段に分離するためのビームスプリッタと
を備える者として説明することができる。
例えば、この実施形態は、単一の集束手段を形成する第1の集束手段および第2の集束手段によって説明することができ、ビーム分離装置は、第1の集束手段の後ろに位置決めされ、したがって第1の集束手段は第3の集束手段に取って代わる。
例えば、チャネル2は、2つの集束手段であって、すなわちチャネル1と共通の第1の集束手段、および第2の集束手段であり、2つの集束手段は、無限焦点光学系を構成する、2つの集束手段と、入射瞳と、第2の光ビームマトリクス検出手段とからなる。第2の光ビームマトリクス検出手段は、例えば第1の収束レンズおよび第2の収束レンズからなる無限焦点アセンブリを介して得られる入射瞳の像面内に配置される。
好ましくは、マトリクス検出器は、CCDまたはCMOSセンサである。
焦点距離f2を有する第2の集束手段、
焦点距離f3を有する第3の集束手段
を備え、
上記第2の集束手段および第3の集束手段は、上記第2の光ビームマトリクス検出手段上で上記第2の光ビームから平行光ビームを得るように、上記第2の集束手段と第3の集束手段との間の光学距離がf2+f3に等しくなるように位置決めされている。
上記焦点距離f1を有する上記第1の集束手段、
焦点距離f2を有する第2の集束手段、
上記第1の集束手段および第2の集束手段は、上記第2の光ビームマトリクス検出手段上で上記第2の光ビームから平行光ビームを得るように、上記第1の集束手段と第2の集束手段との間の光学距離がf1+f2に等しくなるように位置決めされている。
例えば、本発明の装置は、以下のように説明することができる。光ビームのドリフトを検出するための光学装置であって、
−上記光ビームからの平行入射光ビームから集束光ビームを得るための焦点距離f1を有する第1の集束手段であり、上記集束光ビームは、上記焦点距離f1にある焦点を規定する、第1の集束手段と、
−上記集束光ビームを第1の集束光ビームと第2の集束光ビームとに分割するためのビームスプリッタと、
−焦点において上記第1の集束光ビームを検出するように、上記第1の集束手段の上記焦点距離f1に位置決めされている第1の光ビームマトリクス検出手段であり、上記ビームスプリッタは、第1の集束光ビームおよび第2の集束光ビームの経路に沿って上記集束光ビームと上記第1の光ビームマトリクス検出手段との間に配置される、第1の光ビームマトリクス検出手段と、
−上記第2の集束光ビームを検出するための第2の光ビームマトリクス検出手段と
を備え、
上記光学装置は、上記第2の分離された集束光ビームから、上記第2の光ビームマトリクス検出手段上でコリメートされている第2の光ビームを得るために、上記集束光ビームおよび上記第2の集束光ビームの経路に沿って測定される、上記第1の集束手段と第2の集束手段との間の距離がf1+f2に等しくなるように、上記ビームスプリッタと上記第2の光ビームマトリクス検出手段との間に位置決めされている、焦点距離f2を有する第2の集束手段を備えることを特徴とする、光学装置。
−上記光ビームの一部を収集するための第2の光ビームスプリッタであり、上記光ビームの上記収集される部分は以下の光学装置に向けられる、第2の光ビームスプリッタと、
−上記収集されたビーム部分からの上記光ビームのドリフトを検出することが可能である、本発明の第1の態様による光学装置と、
−上記第1のマトリクス光ビーム検出器からの第1の情報および上記第2のマトリクス光ビーム検出器からの第2の情報を受信する中央ユニットであり、上記第1の情報および第2の情報は、第1のマトリクス光ビーム検出器および第2のマトリクス光ビーム検出器上の上記第1の光ビームおよび第2の平行光ビームの位置を規定する、中央ユニットと、
−レーザ加工システムの上記光ビームを位置整合するために、上記第1の情報および第2の情報に従って上記中央ユニットによって位置がサーボ制御される2つの電動ミラーと
を備える、光学システムに関する。
a.以下の光学素子、すなわち、
−上記光ビームから、
第1の光路に沿った第1の光ビーム、および
第2の光路に沿った第2の光ビーム
を得るためのビームスプリッタと、
−焦点モジュール、
−無限焦点モジュール、
−第1の光ビームマトリクス検出手段、
−第2の光ビームマトリクス検出手段
を提供するステップと、
b.上記第1の光ビームから集束光ビームを得るために、上記焦点モジュールを、上記第1の光ビームの第1の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めするステップであり、上記集束光ビームは、上記焦点モジュールと関連付けられている焦点面内に位置決めされた上記第1の光ビームマトリクス検出手段に向けられる、上記焦点モジュールを位置決めするステップと、
c.上記第2の光ビームから平行光ビームを得るために、上記無限焦点モジュールを、第2の光ビームの第2の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めするステップであり、上記平行光ビームは、第2の光ビームマトリクス検出手段に向けられる、上記無限焦点モジュールを位置決めするステップと
を含む、方法を提案する。
d.上記第1の集束手段および第2の集束手段を、第2の光ビームから上記第2の光ビームマトリクス検出手段に向かう第2の平行光ビームを得るために、f1+f2に等しい光学距離だけ離れるように位置決めするステップを含む。
焦点距離f2を有する第2の集束手段、
焦点距離f3を有する第3の集束手段
を備え、
上記方法は、以下の追加のステップ、すなわち、
d.上記第2の光ビームから、上記第2の光ビームマトリクス検出手段上の平行光ビームを得るように、上記第2の集束手段および第3の集束手段を、当該集束手段を分離するf2+f3に等しい光学距離に位置決めするステップを含む。
レーザ加工システムの光ビームのドリフトを検出するための光学装置であって、
−ビームスプリッタであり、
第1の光路に沿った第1の光ビーム、および
第2の光路に沿った第2の光ビーム
を得るためのビームスプリッタと、
−集束光ビームを得るために、第1の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた焦点モジュールであり、上記集束光ビームは、上記焦点モジュールと関連付けられている焦点面内に位置決めされた第1のマトリクス光ビーム検出手段に向けられる、焦点モジュールと、
−平行光ビームを得るために、第2の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた無限焦点モジュールであり、上記平行光ビームは、第2の光ビームマトリクス検出手段に向けられる、無限焦点モジュールと
を備える、光学装置。
Claims (30)
- レーザ加工システムの光ビームのドリフトを検出するための光学装置(100)であって、
前記光ビームから、
第1の光路に沿った第1の光ビーム(3)、および
第2の光路に沿った第2の光ビーム(4)
を得るためのビームスプリッタ(50)と、
前記第1の光ビーム(3)から集束光ビームを得るための、前記第1の光ビーム(3)の第1の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた焦点モジュール(300)であり、前記集束光ビームは、前記焦点モジュール(300)と関連付けられている焦点面(12)内に位置決めされた第1の光ビームマトリクス検出手段(30)に向けられる、焦点モジュール(300)と、
前記第2の光ビーム(4)から平行光ビーム(5)を得るための、前記第2の光ビーム(4)の第2の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めされた無限焦点モジュール(400)であり、前記平行光ビーム(5)は、第2の光ビームマトリクス検出手段(40)に向けられる、無限焦点モジュール(400)と
を備える、光学装置(100)。 - 前記焦点モジュール(300)は、前記焦点面(12)内で前記光ビームから集束光ビーム(2)を得るための焦点距離f1を有する第1の集束手段(10)を備えることを特徴とする、請求項1に記載の光学装置(100)。
- レーザ加工システムの前記光ビームは、実質的にコリメートされた光ビームであることを特徴とする、請求項2に記載の光学装置(100)。
- 前記焦点面(12)は、焦点面(12)内で前記集束光ビーム(2)を検出するように、前記第1の集束手段(10)の前記焦点距離f1に等しい距離に配置されることを特徴とする、請求項3に記載の光学装置(100)。
- 前記焦点モジュール(300)は、前記第1の光ビーム(3)の第1の光路に沿って位置決めされること、前記無限焦点モジュール(400)は前記第2の光ビーム(4)の第2の光路に沿って位置決めされること、および、前記無限焦点モジュール(400)は、
焦点距離f2を有する第2の集束手段(20)、
焦点距離f3を有する第3の集束手段(70)
を備え、
前記第2の集束手段(20)および前記第3の集束手段(30)は、前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)上で前記第2の光ビーム(4)から平行光ビーム(5)を得るように、前記第2の集束手段(20)と前記第3の集束手段(70)との間の光学距離がf2+f3に等しくなるように位置決めされていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学装置(100)。 - 前記分離手段(50)は、前記集束手段(10)と前記第1の光ビームマトリクス検出手段(30)との間に位置決めされることを特徴とする、請求項2に記載の光学装置(100)。
- 前記無限焦点モジュール(400)は、
前記焦点距離f1を有する前記第1の集束手段(10)、
焦点距離f2を有する第2の集束手段(20)
を備え、
前記第1の集束手段(10)および前記第2の集束手段(20)は、前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)上で前記第2の光ビーム(4)から平行光ビーム(5)を得るように、前記第1の集束手段(10)と前記第2の集束手段(20)との間の光学距離がf1+f2に等しくなるように位置決めされることを特徴とする、請求項6に記載の光学装置(100)。 - 前記ビームスプリッタ(50)は、前記第1の集束手段(10)から150mm〜350mmの距離、好ましくは200mm〜325mmの距離、さらにより好ましくは250mm〜320mmの距離、例えば300mmの距離に配置されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)は、前記第2の集束手段(20)の第2の焦点距離f2とは異なる距離に位置決めされることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記ビームスプリッタ(50)は、前記第1の光ビーム(3)を透過し、前記第2の光ビーム(4)を反射するように構成されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記焦点距離f1は100mm〜1000mm、好ましくは200mm〜800mm、さらにより好ましくは300mm〜600mmであり、例えば焦点距離f1は400mmであることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 請求項2に従属する場合、前記第1の集束手段(10)が収束レンズであることを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の装置(100)。
- 請求項5または7に従属する場合、前記第2の集束手段(20)が収束レンズであることを特徴とする、請求項1〜12のいずれかに記載の装置(100)。
- 請求項5または7に従属する場合、前記焦点距離f2は10mm〜100mm、好ましくは20mm〜80mm、さらにより好ましくは25mm〜50mmであり、例えば前記焦点距離f2は30mmであることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 請求項2に従属する場合、前記焦点距離f1は100mm〜1000mm、好ましくは200mm〜800mm、さらにより好ましくは300mm〜600mmであり、例えば前記焦点距離f1は400mmであることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 請求項7に従属する場合、前記第1の集束手段(10)の焦点距離f1および前記第2の集束手段(20)の焦点距離f2は、1<f1/f2<20、好ましくは、7<f1/f2<16、さらにより好ましくは、9<f1/f2<14、たとえばf1/f2=40/3となるように、比f1/f2を規定することを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第2の集束手段(20)の焦点距離f2および前記第3の集束手段(70)の焦点距離f3は、1<f2/f3<20、好ましくは、7<f2/f3<16、さらにより好ましくは、9<f2/f3<14、たとえばf2/f3=40/3となるように、比f2/f3を規定することを特徴とする、請求項5に従属するときの請求項1〜16のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 請求項5に従属する場合、前記第2の集束手段(10)および前記第3の集束手段(70)は収束レンズであることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第1のマトリクス光ビーム検出手段(30)は、前記ビームスプリッタ(50)から50mm〜500mm、好ましくは65mm〜400mm、さらにより好ましくは75mm〜250mm、例えば100mmの距離に位置決めされることを特徴とする、請求項1〜18のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記ビームスプリッタ(50)は、スプリッタキューブまたは半反射ミラーであることを特徴とする、請求項1〜19のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)上の前記平行光ビーム(5)は、前記光ビームの横方向シフトの測定を本質的に可能にするスポットであることを特徴とする、請求項1〜20のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第1の光ビームマトリクス検出手段(40)上の前記第1の分離された集束光ビーム(3)は、本質的に前記光ビームの角度シフトの測定を可能にする点であることを特徴とする、請求項1〜21のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)上のスポットは、前記第1の光ビームマトリクス検出手段(30)上の点よりも大きい面積を有することを特徴とする、請求項21または22に記載の装置(100)。
- 請求項7に従属する場合、前記第1の集束手段(10)、前記ビームスプリッタ(50)および前記第2の集束手段(20)は、前記第2の集束手段(20)に向けられた前記光ビームのために、無限焦点光学系を構成することを特徴とする、請求項1〜23のいずれか一項に記載の装置(100)。
- 前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)は、前記第2の集束手段(20)から、焦点距離f2とは異なる距離にあることを特徴とする、請求項1〜24のいずれか一項に記載の装置(100)。
- レーザ加工システムの光ビームの自動位置整合のための光学システムであって、
前記光ビームの一部を収集するための第2の光ビームスプリッタであり、前記光ビームの収集される部分は以下の光学装置(100)に向けられる、第2の光ビームスプリッタと、
前記収集されたビーム部分からの前記光ビームのドリフトを検出することが可能である、請求項1〜25のいずれか一項に記載の光学装置(100)と、
前記第1のマトリクス光ビーム検出器(30)からの第1の情報(31)および前記第2のマトリクス光ビーム検出器(40)からの第2の情報(41)を受信する中央ユニット(110)であり、前記第1の情報(31)および前記第2の情報(41)は、前記第1のマトリクス光ビーム検出器(30)および前記第2のマトリクス光ビーム検出器(40)上の前記第1の光ビーム(3)および前記第2の平行光ビーム(5)の位置を規定する、中央ユニット(110)と、
レーザ加工システムの前記光ビームを位置整合するために、前記第1の情報(31)および前記第2の情報(41)に従って前記中央ユニット(110)によって位置がサーボ制御される2つの電動ミラー(120)と
を備える、光学システム。 - レーザ加工システムの光ビーム(1)のドリフトを検出するために光学素子を位置決めするための方法であって、
a.以下の光学素子、すなわち、
前記光ビームから、
第1の光路に沿った第1の光ビーム(3)、および
第2の光路に沿った第2の光ビーム(4)
を得るためのビームスプリッタ(50)、
焦点モジュール(300)、
無限焦点モジュール(400)、
第1の光ビームマトリクス検出手段(30)、
第2の光ビームマトリクス検出手段(40)
を提供するステップと、
b.前記第1の光ビーム(3)から集束光ビームを得るために、前記焦点モジュール(300)を、前記第1の光ビーム(3)の第1の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めするステップであり、前記集束光ビームは、前記焦点モジュール(300)と関連付けられている焦点面(12)内に位置決めされた前記第1の光ビームマトリクス検出手段(30)に向けられる、前記焦点モジュール(300)を位置決めするステップと、
c.前記第2の光ビーム(4)から平行光ビーム(5)を得るために、前記無限焦点モジュール(400)を、前記第2の光ビーム(4)の第2の光路に少なくとも部分的に沿って位置決めするステップであり、前記平行光ビーム(5)は、第2の光ビームマトリクス検出手段(40)に向けられる、前記無限焦点モジュール(400)を位置決めするステップと
を含む、方法。 - 前記焦点モジュール(300)は、前記焦点面(12)内で前記光ビームから集束光ビーム(2)を得るための焦点距離f1を有する第1の集束手段(10)を備えることを特徴とする、請求項27に記載の方法。
- 前記無限焦点モジュールは、前記第1の集束手段(10)および第2の集束手段(20)を備えること、および、前記方法は、以下の追加のステップ、すなわち、
d.前記第1の集束手段(10)および前記第2の集束手段(20)を、前記第2の光ビーム(4)から前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)に向かう第2の平行光ビーム(5)を得るために、f1+f2に等しい光学距離だけ分離されるように位置決めするステップを含むことを特徴とする、請求項27または28に記載の方法。 - 前記無限焦点モジュールは、
焦点距離f2を有する第2の集束手段(20)、
焦点距離f3を有する第3の集束手段(70)
を備えること、
および、前記方法は、以下の追加のステップ、すなわち、
d.前記第2の光ビーム(4)から、前記第2の光ビームマトリクス検出手段(40)上の平行光ビーム(5)を得るように、前記第2の集束手段(20)および前記第3の集束手段(70)を、該集束手段を分離するf2+f3に等しい光学距離に位置決めするステップを含むことを特徴とする、請求項26または27に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
BEBE2018/5205 | 2018-03-27 | ||
BE2018/5205A BE1026154B1 (fr) | 2018-03-27 | 2018-03-27 | Système optique |
PCT/EP2019/057425 WO2019185542A1 (en) | 2018-03-27 | 2019-03-25 | Optical device and method for detecting the drift of a light beam |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021518582A true JP2021518582A (ja) | 2021-08-02 |
JP7324220B2 JP7324220B2 (ja) | 2023-08-09 |
Family
ID=61868101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020550746A Active JP7324220B2 (ja) | 2018-03-27 | 2019-03-25 | 光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11344970B2 (ja) |
EP (1) | EP3774156B1 (ja) |
JP (1) | JP7324220B2 (ja) |
BE (1) | BE1026154B1 (ja) |
WO (1) | WO2019185542A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102021130944A1 (de) | 2021-11-25 | 2023-05-25 | Jenoptik Optical Systems Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen eines Strahlverlaufs eines Strahls und Laseranlage |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08293461A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Nikon Corp | 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 |
JPH11274605A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Laser Atom Separation Eng Res Assoc Of Japan | ビーム合成測定方法及びその装置並びにこれを用いたレーザ装置 |
JP2000114636A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-21 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レ―ザ光線安定化方法及び装置とその装置を備えたレ―ザシステム |
EP2538170A1 (en) * | 2010-12-24 | 2012-12-26 | Beijing Institute Of Technology | Method and device for measuring multiple parameters of differential confocal interference component |
CN206177254U (zh) * | 2016-09-23 | 2017-05-17 | 江苏海虹电子有限公司 | 一种光束位置与姿态检测系统 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0743251B2 (ja) * | 1992-06-19 | 1995-05-15 | 工業技術院長 | 光学式変位計 |
US5923418A (en) * | 1995-02-21 | 1999-07-13 | Clark-Mxr, Inc. | Apparatus for controlling the position and direction of a laser beam |
JP3859416B2 (ja) * | 2000-02-29 | 2006-12-20 | 株式会社日立製作所 | 対物レンズ、これを用いた光ヘッドおよび光ディスク装置 |
JP4576664B2 (ja) * | 2000-03-08 | 2010-11-10 | 株式会社ニコン | 光路ズレ検知装置、および共焦点顕微鏡 |
US6721094B1 (en) * | 2001-03-05 | 2004-04-13 | Sandia Corporation | Long working distance interference microscope |
DE10111824B4 (de) * | 2001-03-13 | 2017-04-06 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren zum Justieren eines Mikroskops und Mikroskop mit Einrichtung zum Justieren des Lichtstrahls |
GB2409033C (en) * | 2003-12-12 | 2006-05-24 | Lein Applied Diagnostics Ltd | Extended focal region measuring apparatus and method |
US9404869B2 (en) * | 2012-10-09 | 2016-08-02 | Howard Hughes Medical Institute | Multiview light-sheet microscopy |
US9955863B2 (en) * | 2015-05-28 | 2018-05-01 | Cylite Pty Ltd | High resolution 3-D spectral domain optical imaging apparatus and method |
-
2018
- 2018-03-27 BE BE2018/5205A patent/BE1026154B1/fr active IP Right Grant
-
2019
- 2019-03-25 JP JP2020550746A patent/JP7324220B2/ja active Active
- 2019-03-25 EP EP19712209.6A patent/EP3774156B1/en active Active
- 2019-03-25 US US17/040,436 patent/US11344970B2/en active Active
- 2019-03-25 WO PCT/EP2019/057425 patent/WO2019185542A1/en unknown
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08293461A (ja) * | 1995-04-21 | 1996-11-05 | Nikon Corp | 照明装置および該装置を備えた投影露光装置 |
JPH11274605A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Laser Atom Separation Eng Res Assoc Of Japan | ビーム合成測定方法及びその装置並びにこれを用いたレーザ装置 |
JP2000114636A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-21 | Lambda Physik G Zur Herstellung Von Lasern Mbh | レ―ザ光線安定化方法及び装置とその装置を備えたレ―ザシステム |
EP2538170A1 (en) * | 2010-12-24 | 2012-12-26 | Beijing Institute Of Technology | Method and device for measuring multiple parameters of differential confocal interference component |
CN206177254U (zh) * | 2016-09-23 | 2017-05-17 | 江苏海虹电子有限公司 | 一种光束位置与姿态检测系统 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE1026154A1 (fr) | 2019-10-22 |
EP3774156B1 (en) | 2022-05-11 |
EP3774156A1 (en) | 2021-02-17 |
JP7324220B2 (ja) | 2023-08-09 |
US11344970B2 (en) | 2022-05-31 |
WO2019185542A1 (en) | 2019-10-03 |
BE1026154B1 (fr) | 2019-10-29 |
US20210114137A1 (en) | 2021-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10245683B2 (en) | Apparatus and method for beam diagnosis on laser processing optics | |
US6856381B2 (en) | Method for carrying out the non-contact measurement of geometries of objects | |
US7723657B2 (en) | Focus detection apparatus having extended detection range | |
CA2297611C (en) | Virtual multiple aperture 3-d range sensor | |
CN113365773A (zh) | 用于工件的受控加工的方法和设备 | |
US20130100461A1 (en) | Methods and apparatuses for position and force detection | |
KR101891182B1 (ko) | 자동초점 조절장치 | |
JP2005205429A5 (ja) | ||
JP7324220B2 (ja) | 光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法 | |
US20170067732A1 (en) | Method of improving lateral resolution for height sensor using differential detection technology for semiconductor inspection and metrology | |
TW200521481A (en) | Focusing system and method | |
JP3726028B2 (ja) | 3次元形状計測装置 | |
JP4197340B2 (ja) | 三次元形状測定装置 | |
JP2019178923A (ja) | 測距ユニット及び光照射装置 | |
US20190285398A1 (en) | Method and device for determining the spatial position of an object by means of interferometric length measurement | |
KR102008253B1 (ko) | 간섭계 기반의 다채널 광 계측기 | |
KR101799775B1 (ko) | 레이저 간섭계 및 이를 이용한 측정방법 | |
JP2020071414A (ja) | コリメート調整用測定装置及びコリメート光学系の調整方法 | |
JP3870196B2 (ja) | 光空間伝送装置 | |
JP2007079387A (ja) | 光結合器およびそれを用いた光学システム | |
JP4323230B2 (ja) | 光学系偏心測定装置及び光学系偏心測定方法 | |
CN110678290A (zh) | 用于反射或透射扫描仪射束的扫描头设备和方法、具有扫描头设备的扫描设备和扫描仪 | |
JP2874712B2 (ja) | 空間光送信装置 | |
RU2447468C2 (ru) | Способ автоматической фокусировки рабочего излучения на 3d оптическую поверхность | |
JP2526794B2 (ja) | 傾き検出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20201119 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211224 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220906 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20221202 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230329 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230621 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230728 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7324220 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |