JP2005205429A5 - - Google Patents

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  1. レーザ発振器から出力されるレーザ光の予め定める光軸上に光軸位置決め装置を配置し、この光軸位置決め装置により前記レーザ発振器から出力されるレーザ光を被加工物上に位置決めするようにしたレーザ加工機において、
    前記レーザ発振器と前記光軸位置決め装置との間に配置され、前記レーザ光の光軸を偏向自在な光軸偏向手段と、
    前記光軸位置決め装置と前記光軸偏向手段との間に配置され、前記レーザ光の光軸の位置を検出するための光軸位置検出手段と、を備え、
    前記光軸位置検出手段の検出結果に基づき、前記光軸偏向手段によって前記光軸位置決め装置に入射する前記レーザ光の光軸を前記予め定める光軸に一致させる、
    ことを特徴とするレーザ加工機。
  2. 前記光軸偏向手段は、軸の周りに回転自在の2つのミラーから構成され、
    それぞれの前記軸は、前記ミラーに入射および反射される前記予め定める光軸を含む平面に対して垂直、かつ互いにねじれの位置となるように配置されると共に、
    前記ミラーに入射又は反射される前記予め定める光軸方向に移動自在である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工機。
  3. 前記光軸位置検出手段は、前記予め定める光軸上にあって異なる2点の前記レーザ光の光軸を検出可能に配置される、
    ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のレーザ加工機。
  4. 前記光軸位置検出手段は、前記予め定める光軸が通過する異なる2点に配置され、前記レーザ光を分光する第1及び第2のビームスプリッタと、前記第1及び第2のビームスプリッタによりそれぞれ分光されたレーザ光を受光する2つの光検出装置と、を有して構成されることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のレーザ加工機。
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