JPH10153866A - 照明装置および該照明装置を備えた露光装置 - Google Patents

照明装置および該照明装置を備えた露光装置

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JPH10153866A
JPH10153866A JP8327585A JP32758596A JPH10153866A JP H10153866 A JPH10153866 A JP H10153866A JP 8327585 A JP8327585 A JP 8327585A JP 32758596 A JP32758596 A JP 32758596A JP H10153866 A JPH10153866 A JP H10153866A
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light
illumination
illumination light
detecting
light source
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JP8327585A
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Osamu Tanitsu
修 谷津
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被照射面における照明光の傾きおよび位置ず
れを1つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置。 【解決手段】 光源手段(1)と被照射面(B)との間
で照明光の一部を取り出すための光分割手段(HM)
と、取り出された照明光に基づいて被照射面と光学的に
等価な所定面における照明光の基準軸(AX)に対する
位置ずれおよび傾きを検出するための検出手段(5)
と、所定の開口部を有する光制限手段(PH)とを備え
ている。そして、光制限手段は、照明光の基準軸に対す
る傾きの検出に際して光源手段と所定面との間の光路中
に設定され、照明光の基準軸に対する位置ずれの検出に
際して光路から退避するように構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は照明装置および該照
明装置を備えた露光装置に関し、特にエキシマレーザー
光源を用いた露光装置における照明光の傾きおよび位置
ずれの補正に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえば特願平7−120862号(平
成7年4月21日提出)の明細書および図面に開示され
た従来の照明装置では、第1の4分割センサを用いてレ
ーザービームの設計光軸に対する傾きを検出し、第2の
4分割センサを用いてレーザービームの設計光軸に対す
る位置ずれを検出している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、4分割
センサの測定精度は一般的に十分でなく、上述の従来技
術では、特にレーザービームの強度分布が変化すると測
定誤差が発生し易い。また、レーザービームの傾きを検
出するための第1の検出系と位置ずれを検出するための
第2の検出系とを別個に備える必要があるため、装置が
大型化し易い。
【0004】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、被照射面における照明光の傾きおよび位置ず
れを1つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置および該照明装置を備えた露光装置を提供すること
を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、所定の基準軸に沿って照明光を
被照射面に向けて供給するための光源手段と、前記光源
手段と前記被照射面との間の光路中に配置されて前記照
明光の一部を取り出すための光分割手段と、前記光分割
手段を介して取り出された前記照明光に基づいて、前記
被照射面と光学的に等価な所定面における前記照明光の
前記基準軸に対する位置ずれおよび傾きを検出するため
の検出手段と、前記検出手段を介して検出された前記照
明光の前記基準軸に対する傾きを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光の前記基準軸に対する角度を調整するための角度調
整手段と、前記検出手段を介して検出された前記照明光
の前記基準軸に対する位置ずれを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光を前記基準軸に対して平行移動させるための平行移
動手段と、所定の開口部を有する光制限手段とを備え、
前記光制限手段は、前記照明光の前記基準軸に対する傾
きの検出に際して前記光源手段と前記所定面との間の光
路中に設定され、前記照明光の前記基準軸に対する位置
ずれの検出に際して光路から退避するように構成されて
いることを特徴とする照明装置を提供する。
【0006】本発明の好ましい態様によれば、前記角度
調整手段は、頂角が互いに等しく且つ前記基準軸の周り
にそれぞれ回転可能な一対の偏角プリズムを有し、前記
平行移動手段は、前記基準軸に垂直な面において直交す
る2つの軸線の周りにそれぞれ回転可能な一対の平行平
面板を有する。また、前記検出手段は、二次元的に構成
されたCCD素子を有し、該CCD素子の撮像面は前記
所定面に配置されているか、あるいは前記所定面に配置
された透明板を有し、該透明板には指標マークが形成さ
れていることが好ましい。
【0007】また、本発明の別の局面によれば、上述の
ような本発明の照明装置と、マスクに形成された所定の
パターンを感光性基板上に露光するために、前記照明装
置の被照射面からの光の基づいて前記マスクを照明する
ための照明光学系とを備え、前記照明光学系は、前記照
明装置の被照射面からの光を受けて複数の光源を形成す
るためのオプティカルインテグレータと、該複数の光源
からの光をそれぞれ集光して前記マスクを重畳的に照明
するためのコンデンサー光学系とを有することを特徴と
する露光装置を提供する。
【0008】さらに、本発明の別の局面によれば、上述
のような本発明の露光装置を用いて、前記マスクに形成
された所定のパターンを前記感光性基板上に露光する露
光工程を含むことを特徴とする、半導体デバイスの製造
方法を提供する。この場合、前記露光工程に先立って、
前記照明光学系に導かれる照明光の位置を調整する調整
工程をさらに含み、前記調整工程は、前記光制限手段を
光路中に設定し、前記光制限手段を介して前記所定面に
達する照明光の位置を前記検出手段によって検出する第
1検出工程と、前記第1検出工程で得られた第1の検出
情報に基づいて、前記オプティカルインテグレータに入
射する照明光の傾きを前記角度調整手段によって補正す
る第1補正工程と、前記光制限手段を光路から退避さ
せ、前記所定面に達する照明光の位置を前記検出手段に
よって検出する第2検出工程と、前記第2検出工程で得
られた第2の検出情報に基づいて、前記オプティカルイ
ンテグレータに入射する照明光の位置ずれを前記平行移
動手段によって補正する第2補正工程とを含むことが好
ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】図2は、本発明の照明装置の基本
構成について説明する図である。光源手段を構成するレ
ーザー光源1から基準軸である設計光軸AXに沿って射
出された平行光束(図中実線で示す)は、一対の偏角プ
リズム2および一対の平行平面板3を介して集光レンズ
4Aに入射する。一対の偏角プリズム2は、光軸AXに
対する光束の角度を調整するための角度調整手段を構成
している。また、一対の平行平面板3は光軸AXに対し
て光束を平行移動させるための平行移動手段を構成して
いる。なお、一対の偏角プリズム2および一対の平行平
面板3の具体的な構成および動作については実施例にお
いて詳述する。
【0010】集光レンズ4Aを介して光軸AX上の点F
に一旦集光した光束は、集光レンズ4Bを介して再び平
行光束となり、光分割手段としてのハーフミラーHMに
入射する。ハーフミラーHMを透過した平行光束は、た
とえばフライアイレンズ6のようなオプティカルインテ
グレータに入射する。ここで、レーザー光源1のレーザ
ー射出面Aと照明装置の被照射面であるフライアイレン
ズ6の入射面Bとは、リレーレンズ系(4A,4B)に
より光学的に共役(すなわち光学的に等価)となってい
る。一方、ハーフミラーHMで反射された平行光束は、
たとえば二次元的に構成されたCCD素子5に入射す
る。CCD素子5の撮像面は、フライアイレンズ6の入
射面Bと共役な位置Cに配置されている。
【0011】実際の構成では、集光レンズ4Aおよび4
Bの収差、製造誤差、設置誤差などに起因して、設計上
の共役面Bと異なる面B’がレーザー光源1のレーザー
射出面Aと共役になる。その結果、レーザー光源1が光
軸AXに対して傾いて設置された場合、レーザー光源1
から光軸AXに対して傾いて射出された平行光束(図中
破線で示す)は、実際の共役面B’では位置ずれしない
が、設計上の共役面であるフライアイレンズ6の入射面
およびCCD素子5の撮像面では位置ずれすることにな
る。なお、レーザー光源1とCCD素子5との間の光路
中であってレーザー光源1、CCD素子5および集光点
Fから十分離れた適当な位置において、ピンホールPH
が光路に対して挿脱自在に設けられている。ピンホール
PHは、所定の開口部を有する光制限手段を構成してい
る。
【0012】図3は、本発明の照明装置における照明光
の傾きおよび位置ずれの検出並びにその補正の手順を説
明する図である。図3では、説明の簡単のために、図2
のリレーレンズ系(4A,4B)、ピンホールPHおよ
びCCD素子5だけを示している。まず、図3(a)に
示すように、検出および補正を行う前の状態において、
CCD素子5の撮像面に達する矩形状の照明光(図中斜
線で示す)の中心位置は光軸AXからずれている。次い
で、図3(b)に示すように、光軸AX上にピンホール
PHを配置し、ピンホールPHを介してCCD素子5の
撮像面に達するピンスポット状の照明光の中心位置を検
出する。
【0013】ところで、レーザー光源1から射出された
照明光の光軸AXに対する傾きが大きすぎると、ピンホ
ールPHに照明光が入射することなく、ピンスポット状
の照明光がCCD素子5の撮像面に達しないこともあ
る。この場合、図3(c)に示すように、一対の平行平
面板3の作用によりレーザー光源1から射出された光束
を光軸AXに対して平行移動させることにより、ピンホ
ールPHに照明光を入射させ、CCD素子5の撮像面に
達するピンスポット状の照明光の中心位置を検出するこ
とができる。検出されたピンスポット状の照明光の中心
位置は光軸AXからずれている。そして、ピンスポット
状の照明光の中心位置と光軸AXとのずれ量が、CCD
素子5の撮像面に達する照明光の光軸AXに対する傾き
に対応している。
【0014】したがって、図3(d)に示すように、一
対の偏角プリズム2の作用により光軸AXに対する照明
光の角度を調整して、CCD素子5の撮像面に達するピ
ンスポット状の照明光の中心位置を光軸AXと一致させ
ることにより、CCD素子5の撮像面に達する照明光の
光軸AXに対する傾きを、ひいては被照射面であるフラ
イアイレンズ6の入射面に達する照明光の光軸AXに対
する傾きを補正することができる。次いで、図3(e)
に示すように、ピンホールPHを光路から退避させる
と、CCD素子5の撮像面に達する矩形状の照明光(図
中斜線で示す)の中心位置は光軸AXからずれている。
このとき、矩形状の照明光の中心位置と光軸AXとのず
れ量が、CCD素子5の撮像面に達する照明光の光軸A
Xに対する位置ずれにに対応している。したがって、図
3(f)に示すように、一対の平行平面板3の作用によ
り光軸AXに対して照明光を平行移動させて、CCD素
子5の撮像面に達する矩形状の照明光の中心位置を光軸
AXと一致させることにより、CCD素子5の撮像面に
達する照明光の光軸AXに対する位置ずれを、ひいては
被照射面であるフライアイレンズ6の入射面に達する照
明光の光軸AXに対する位置ずれを補正することができ
る。
【0015】なお、一対の平行平面板3の作用により光
軸AXに対して照明光を平行移動させて矩形状の照明光
の中心位置を光軸AXと一致させる工程中において照明
光が光軸AXに対してわずかに傾くことが考えられる。
したがって、必要に応じて、図2(c)〜(f)に示す
手順を繰り返すことにより、照明光の傾きおよび位置ず
れをさらに高精度に補正することができる。このよう
に、本発明の照明装置では、たとえばCCD素子のよう
な測定精度の高いセンサにより、被照射面における照明
光の傾きおよび位置ずれを1つの検出系で高精度に検出
することができる。したがって、装置を大型化すること
なく、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正する
ことができる。また、マスクのパターンを感光性の基板
上に転写する露光装置に本発明の照明装置を組み込むこ
とにより、被照射面であるマスクおよび基板を常に適切
な状態で照明することができるので、安定した露光が可
能となる。
【0016】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図1は、本発明の実施例にかかる照明装置を備
えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図1の露
光装置は、レーザー光源として、たとえば248nmま
たは193nmの波長光を射出するエキシマレーザー光
源1を備えている。エキシマレーザー光源1から供給さ
れた矩形状の平行光束は、一対の偏角プリズム2aおよ
び2bからなる角度調整手段に入射する。偏角プリズム
2aおよび2bは頂角が互いに等しく、偏角プリズム2
aの光源側の面および偏角プリズム2bの被照射面側の
面はともに光軸AXに垂直である。また、偏角プリズム
2aおよび2bは、設計光軸AXの周りにそれぞれ回転
可能に構成されている。したがって、偏角プリズム2a
および2bを光軸AX周りにそれぞれ回転させることに
より、入射した平行光束を光軸AXを含む所望の面に沿
って所望の角度だけ傾けることができる。
【0017】一対の偏角プリズム2aおよび2bを介し
た平行光束は、一対の平行平面板3aおよび3bからな
る平行移動手段に入射する。一対の平行平面板3aおよ
び3bは、光軸AXに垂直な面において直交する2つの
軸線周りにそれぞれ回転可能に構成されている。したが
って、一対の平行平面板3aおよび3bを各軸線周りに
それぞれ回転させることにより、入射した平行光束を光
軸AXを含む所望の面において所望の距離だけ光軸AX
に対して平行移動させることができる。一対の平行平面
板3aおよび3bを介した平行光束は、集光レンズ4A
を介して、反射ミラーM1とM2との間で一旦集光した
後、集光レンズ4Bに入射する。集光レンズ4Bを介し
て再び平行光束となった照明光は、ハーフミラーHMに
入射する。
【0018】ハーフミラーHMを透過した照明光は、フ
ライアイレンズ6のようなオプティカルインテグレータ
に入射する。なお、エキシマレーザー光源1のレーザー
射出面と本実施例の照明装置の被照射面であるフライア
イレンズ6の入射面とは、リレーレンズ系(4A,4
B)により光学的に共役となっている。フライアイレン
ズ6に入射した光束は、フライアイレンズ6を構成する
複数のレンズエレメントにより二次元的に分割され、そ
の後側焦点位置に複数の光源像を形成する。複数の光源
像からの光束は、折曲げミラーM3で反射された後、コ
ンデンサーレンズ7に入射する。
【0019】コンデンサーレンズ7により集光された光
束は、所定のパターンが形成されたマスク8を重畳的に
照明する。マスク8を透過した光束は、投影光学系9を
介して、感光基板であるウエハ10上にマスク8のパタ
ーン像を形成する。なお、マスク8は、光軸AXに対し
て垂直な平面内においてマスクステージ11上に載置さ
れている。一方、ウエハ10は、光軸AXに対して垂直
な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ
12上に載置されている。こうして、投影光学系9に対
してウエハステージ12をひいてはウエハ10を移動さ
せながら露光を行うことにより、ウエハ10上の各露光
領域にマスク8のパターンを逐次転写することができ
る。
【0020】一方、ハーフミラーHMで反射された照明
光は、二次元的に構成されたCCD素子5に入射する。
CCD素子5の撮像面は、フライアイレンズ6の入射面
と光学的に共役な位置に配置されている。CCD素子5
の出力信号は、制御系13に供給される。制御系13
は、CCD素子5からの出力信号に応じて、一対の偏角
プリズム2aおよび2b並びに一対の平行平面板3aお
よび3bをそれぞれ駆動する。また、制御系13は、反
射ミラーM2とハーフミラーHMとの間の光路に対して
挿脱自在のピンホールPHを駆動する。
【0021】以下、本実施例の照明装置を備えた露光装
置における照明光の傾きおよび位置ずれの検出工程並び
にその補正工程について説明する。まず、CCD素子5
の撮像面における照明光の傾きおよび位置ずれの検出お
よび補正に先立って、一対の偏角プリズム2aおよび2
bの駆動量とCCD素子5の撮像面におけるピンスポッ
ト状の照明光の移動量との関係についてキャリブレーシ
ョン(校正)を行う。また、一対の平行平面板3aおよ
び3bの駆動量とCCD素子5の撮像面における矩形状
の照明光の移動量との関係についてもキャリブレーショ
ンを行う。
【0022】次いで、制御系13は、光軸AX上にピン
ホールPHを配置し、CCD素子5の各画素からの光電
信号に基づいて、CCD素子5の撮像面に達するピンス
ポット状の照明光の中心位置と光軸AXとのずれ量を検
出する。ここで、CCD素子5の撮像面においてピンス
ポット状の照明光を検出することができない場合、ピン
スポット状の照明光を検出することができるようになる
まで、一対の平行平面板3の作用により光束を光軸AX
に対して平行移動させる。そして、制御系13は、検出
したずれ量とキャリブレーションの結果とを参照しなが
ら、CCD素子5の撮像面におけるピンスポット状の照
明光の位置と光軸AXとが一致するように、一対の偏角
プリズム2aおよび2bを駆動する。こうして、CCD
素子5の撮像面における照明光の傾きを、ひいては被照
射面であるフライアイレンズ6の入射面における照明光
の傾きを補正することができる。
【0023】その後、制御系13は、ピンホールPHを
光路から退避させ、CCD素子5の各画素からの光電信
号に基づいて、CCD素子5の撮像面に達する矩形状の
照明光の中心位置と光軸AXとのずれ量を検出する。そ
して、制御系13は、検出したずれ量とキャリブレーシ
ョンの結果とを参照しながら、CCD素子5の撮像面に
おける矩形状の照明光の中心位置と光軸AXとが一致す
るように、一対の平行平面板3aおよび3bを駆動す
る。こうして、CCD素子5の撮像面における照明光の
位置ずれを、ひいては被照射面であるフライアイレンズ
6の入射面における照明光の位置ずれを補正することが
できる。
【0024】なお、前述したように、光軸AX上にピン
ホールPHを再度配置して照明光の傾きを補正する工
程、およびピンホールPHを光路から退避させて照明光
の位置ずれを補正する工程を必要に応じて繰り返すこと
により、補正の精度をさらに高めることができる。この
ように、本実施例では、測定精度の高いCCD素子を用
いて、被照射面における照明光の傾きおよび位置ずれを
1つの検出系で高精度に検出することができる。したが
って、装置を大型化することなく、検出した傾きおよび
位置ずれを高精度に補正することができる。また、被照
射面であるマスクおよびウエハを常に適切な状態で照明
することができるので、安定した露光が可能となる。
【0025】本実施例の露光装置による露光の工程(フ
ォトリソグラフィ工程)を経たウエハは、現像する工
程、現像したレジスト以外の部分を除去するエッチング
の工程、エッチングの工程後の不要なレジストを除去す
るレジスト除去の工程等を経てウエハプロセスが終了す
る。ウエハプロセスが終了すると、実際の組立工程にお
いて、焼き付けられた回路毎にウエハを切断してチップ
化するダイシングの工程、各チップに配線等を付与する
ボンディングの工程、各チップ毎にパッケージングする
パッケージングの工程等を経て、最終的にLSIのよう
な半導体デバイスが製造される。なお、本実施例では、
露光装置を用いたフォトリソグラフィ工程により半導体
素子を製造する例を示したが、露光装置を用いたフォト
リソグラフィ工程によって、液晶表示素子、薄膜磁気ヘ
ッド、撮像素子(CCD素子等)のような他の半導体デ
バイスを良好に製造することができる。
【0026】なお、本実施例の変形例として、CCD素
子5とハーフミラーHMとの間の光路中にもう1つのハ
ーフミラーHM2を配置し、このハーフミラーHM2で
反射した照明光を観察系に導く構成が考えられる。観察
系では、被照射面であるフライアイレンズ6の入射面と
共役な位置に、ガラスプレートのような透明板が配置さ
れている。このガラスプレートには、光軸AXや被照射
面に関する指標マークがたとえばクローム蒸着による刻
線によって形成されている。そして、ガラスプレートと
ハーフミラーHM2との間には、エキシマレーザー光の
ような紫外光の入射に対してたとえば青緑色の可視光を
発光する蛍光ガラスプレートが配置されている。ただ
し、照明光が可視光である場合には、この蛍光ガラスプ
レートが不要であることはいうまでもない。
【0027】この変形例では、観察系を介してガラスプ
レートに達する照明光の位置を目視することにより照明
光の傾きおよび位置ずれの有無を迅速に確認し、必要に
応じて制御系を作動させてその補正を自動的に行うこと
ができるので便利である。また、CCD素子5に代え
て、上述のガラスプレートを用いた観察系だけを設ける
別の変形例も可能である。この場合、観察系を介して目
視により照明光の傾きおよび位置ずれを検出し、その補
正を制御系を介してあるいは手動により行うことにな
る。
【0028】なお、上述の実施例では、一対の偏角プリ
ズムで角度調整手段を構成しているが、たとえば互いに
直交する2つの軸線周りにそれぞれ回転可能な1つの反
射ミラーで角度調整手段を構成することができる。ま
た、上述の実施例では、一対の平行平面板で平行移動手
段を構成しているが、たとえば互いに直交する2つの軸
線周りにそれぞれ回転可能な1つの平行平面板で平行移
動手段を構成することができる。さらに、上述の実施例
では、光源手段として平行光束を射出するエキシマレー
ザーを使用した例を示したが、一般の照明光を供給する
光源手段を用いた照明装置に対しても本発明を適用する
ことができる。
【0029】また、上述の実施例では、角度調整手段2
および平行移動手段3をレーザー光源1と集光レンズ4
Aとの間の光路中に配置している。一般に、装置の小型
化並びに高精度な調整を図るには、レーザー光源1とハ
ーフミラーHMとの間の光路中に角度調整手段および平
行移動手段を配置することが好ましい。しかしながら、
ハーフミラーHMとCCD素子5との間の光路中および
ハーフミラーHMとフライアイレンズ6との間の光路中
に、角度調整手段および平行移動手段を配置してもよ
い。この場合、2つの角度調整手段同士が連動して照明
光の傾きを調整し、2つの平行移動手段同士が連動して
照明光の位置ずれを調整するように構成されることが望
ましい。
【0030】
【効果】以上説明したように、本発明の照明装置では、
たとえばCCD素子のような測定精度の高いセンサによ
り照明光の傾きおよび位置ずれを1つの検出系で高精度
に検出することができるので、装置を大型化することな
く、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正するこ
とができる。したがって、露光装置に本発明の照明装置
を組み込むことにより、被照射面であるマスクおよび基
板を常に適切な状態で照明することができるので、安定
した露光が可能となる。また、本発明の露光装置を用い
て、良好な半導体デバイスを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例にかかる照明装置を備えた露光
装置の構成を概略的に示す図である。
【図2】本発明の照明装置の基本構成について説明する
図である。
【図3】本発明の照明装置における照明光の傾きおよび
位置ずれの検出並びにその補正の手順を説明する図であ
る。
【符号の説明】
1 エキシマレーザー光源 2a,2b 一対の偏角プリズム 3a,3b 一対の平行平面板 4A,4A 集光レンズ 5 CCD素子 6 フライアイレンズ 7 コンデンサーレンズ 8 マスク 9 投影光学系 10 ウエハ 11 マスクステージ 12 ウエハステージ 13 制御系 HM ハーフミラー PH ピンホール AX 光軸

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の基準軸に沿って照明光を被照射面
    に向けて供給するための光源手段と、 前記光源手段と前記被照射面との間の光路中に配置され
    て前記照明光の一部を取り出すための光分割手段と、 前記光分割手段を介して取り出された前記照明光に基づ
    いて、前記被照射面と光学的に等価な所定面における前
    記照明光の前記基準軸に対する位置ずれおよび傾きを検
    出するための検出手段と、 前記検出手段を介して検出された前記照明光の前記基準
    軸に対する傾きを補正するために、前記光源手段と前記
    被照射面との間の光路中において前記照明光の前記基準
    軸に対する角度を調整するための角度調整手段と、 前記検出手段を介して検出された前記照明光の前記基準
    軸に対する位置ずれを補正するために、前記光源手段と
    前記被照射面との間の光路中において前記照明光を前記
    基準軸に対して平行移動させるための平行移動手段と、 所定の開口部を有する光制限手段とを備え、 前記光制限手段は、前記照明光の前記基準軸に対する傾
    きの検出に際して前記光源手段と前記所定面との間の光
    路中に設定され、前記照明光の前記基準軸に対する位置
    ずれの検出に際して光路から退避するように構成されて
    いることを特徴とする照明装置。
  2. 【請求項2】 前記角度調整手段は、頂角が互いに等し
    く且つ前記基準軸の周りにそれぞれ回転可能な一対の偏
    角プリズムを有することを特徴とする請求項1に記載の
    照明装置。
  3. 【請求項3】 前記平行移動手段は、前記基準軸に垂直
    な面において直交する2つの軸線の周りにそれぞれ回転
    可能な一対の平行平面板を有することを特徴とする請求
    項1または2に記載の照明装置。
  4. 【請求項4】 前記検出手段は、二次元的に構成された
    CCD素子を有し、該CCD素子の撮像面は前記所定面
    に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のい
    ずれか1項に記載の照明装置。
  5. 【請求項5】 前記検出手段は、前記所定面に配置され
    た透明板を有し、該透明板には指標マークが形成されて
    いることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に
    記載の照明装置。
  6. 【請求項6】 前記光源手段はエキシマレーザー光源を
    有し、 前記エキシマレーザー光源と前記光分割手段との間の光
    路中には、前記エキシマレーザー光源からの照明光を集
    光するための第1集光系と、該第1集光系を介して一旦
    集光された照明光を前記被照射面に導くための第2集光
    系とが設けられ、 前記基準軸は、前記第1集光系および第2集光系の光軸
    であり、 前記所定面は、前記被照射面と光学的に共役な位置に配
    置され、 前記角度調整手段および前記平行移動手段は、前記エキ
    シマレーザー光源と前記光分割手段との間の光路中に配
    置されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれ
    か1項に記載の照明装置。
  7. 【請求項7】 前記検出手段は、前記所定面に配置され
    た透明板と、該透明板と前記光分割手段との間の光路中
    に配置されて前記エキシマレーザー光源からの照明光を
    可視光に変換するための変換素子とを有し、前記透明板
    には指標マークが形成されていることを特徴とする請求
    項6に記載の照明装置。
  8. 【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の
    照明装置と、 マスクに形成された所定のパターンを感光性基板上に露
    光するために、前記照明装置の被照射面からの光の基づ
    いて前記マスクを照明するための照明光学系とを備え、 前記照明光学系は、前記照明装置の被照射面からの光を
    受けて複数の光源を形成するためのオプティカルインテ
    グレータと、該複数の光源からの光をそれぞれ集光して
    前記マスクを重畳的に照明するためのコンデンサー光学
    系とを有することを特徴とする露光装置。
  9. 【請求項9】 前記オプティカルインテグレータは、該
    オプティカルインテグレータの入射面が前記照明装置の
    被照射面とほぼ合致するように配置されていることを特
    徴とする請求項8に記載の露光装置。
  10. 【請求項10】 請求項8または9に記載の露光装置を
    用いて、前記マスクに形成された所定のパターンを前記
    感光性基板上に露光する露光工程を含むことを特徴とす
    る、半導体デバイスの製造方法。
  11. 【請求項11】 前記露光工程に先立って、前記照明光
    学系に導かれる照明光の位置を調整する調整工程をさら
    に含み、 前記調整工程は、 前記光制限手段を光路中に設定し、前記光制限手段を介
    して前記所定面に達する照明光の位置を前記検出手段に
    よって検出する第1検出工程と、 前記第1検出工程で得られた第1の検出情報に基づい
    て、前記オプティカルインテグレータに入射する照明光
    の傾きを前記角度調整手段によって補正する第1補正工
    程と、 前記光制限手段を光路から退避させ、前記所定面に達す
    る照明光の位置を前記検出手段によって検出する第2検
    出工程と、 前記第2検出工程で得られた第2の検出情報に基づい
    て、前記オプティカルインテグレータに入射する照明光
    の位置ずれを前記平行移動手段によって補正する第2補
    正工程とを含むことを特徴とする請求項10に記載の半
    導体デバイスの製造方法。
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