JPH10153866A - 照明装置および該照明装置を備えた露光装置 - Google Patents
照明装置および該照明装置を備えた露光装置Info
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- JPH10153866A JPH10153866A JP8327585A JP32758596A JPH10153866A JP H10153866 A JPH10153866 A JP H10153866A JP 8327585 A JP8327585 A JP 8327585A JP 32758596 A JP32758596 A JP 32758596A JP H10153866 A JPH10153866 A JP H10153866A
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- illumination light
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被照射面における照明光の傾きおよび位置ず
れを１つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置。 【解決手段】 光源手段（１）と被照射面（Ｂ）との間
で照明光の一部を取り出すための光分割手段（ＨＭ）
と、取り出された照明光に基づいて被照射面と光学的に
等価な所定面における照明光の基準軸（ＡＸ）に対する
位置ずれおよび傾きを検出するための検出手段（５）
と、所定の開口部を有する光制限手段（ＰＨ）とを備え
ている。そして、光制限手段は、照明光の基準軸に対す
る傾きの検出に際して光源手段と所定面との間の光路中
に設定され、照明光の基準軸に対する位置ずれの検出に
際して光路から退避するように構成されている。
れを１つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置。 【解決手段】 光源手段（１）と被照射面（Ｂ）との間
で照明光の一部を取り出すための光分割手段（ＨＭ）
と、取り出された照明光に基づいて被照射面と光学的に
等価な所定面における照明光の基準軸（ＡＸ）に対する
位置ずれおよび傾きを検出するための検出手段（５）
と、所定の開口部を有する光制限手段（ＰＨ）とを備え
ている。そして、光制限手段は、照明光の基準軸に対す
る傾きの検出に際して光源手段と所定面との間の光路中
に設定され、照明光の基準軸に対する位置ずれの検出に
際して光路から退避するように構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は照明装置および該照
明装置を備えた露光装置に関し、特にエキシマレーザー
光源を用いた露光装置における照明光の傾きおよび位置
ずれの補正に関する。
明装置を備えた露光装置に関し、特にエキシマレーザー
光源を用いた露光装置における照明光の傾きおよび位置
ずれの補正に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば特願平７−１２０８６２号（平
成７年４月２１日提出）の明細書および図面に開示され
た従来の照明装置では、第１の４分割センサを用いてレ
ーザービームの設計光軸に対する傾きを検出し、第２の
４分割センサを用いてレーザービームの設計光軸に対す
る位置ずれを検出している。
成７年４月２１日提出）の明細書および図面に開示され
た従来の照明装置では、第１の４分割センサを用いてレ
ーザービームの設計光軸に対する傾きを検出し、第２の
４分割センサを用いてレーザービームの設計光軸に対す
る位置ずれを検出している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、４分割
センサの測定精度は一般的に十分でなく、上述の従来技
術では、特にレーザービームの強度分布が変化すると測
定誤差が発生し易い。また、レーザービームの傾きを検
出するための第１の検出系と位置ずれを検出するための
第２の検出系とを別個に備える必要があるため、装置が
大型化し易い。
センサの測定精度は一般的に十分でなく、上述の従来技
術では、特にレーザービームの強度分布が変化すると測
定誤差が発生し易い。また、レーザービームの傾きを検
出するための第１の検出系と位置ずれを検出するための
第２の検出系とを別個に備える必要があるため、装置が
大型化し易い。
【０００４】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、被照射面における照明光の傾きおよび位置ず
れを１つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置および該照明装置を備えた露光装置を提供すること
を目的とする。
のであり、被照射面における照明光の傾きおよび位置ず
れを１つの検出系で高精度に検出することのできる照明
装置および該照明装置を備えた露光装置を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、所定の基準軸に沿って照明光を
被照射面に向けて供給するための光源手段と、前記光源
手段と前記被照射面との間の光路中に配置されて前記照
明光の一部を取り出すための光分割手段と、前記光分割
手段を介して取り出された前記照明光に基づいて、前記
被照射面と光学的に等価な所定面における前記照明光の
前記基準軸に対する位置ずれおよび傾きを検出するため
の検出手段と、前記検出手段を介して検出された前記照
明光の前記基準軸に対する傾きを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光の前記基準軸に対する角度を調整するための角度調
整手段と、前記検出手段を介して検出された前記照明光
の前記基準軸に対する位置ずれを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光を前記基準軸に対して平行移動させるための平行移
動手段と、所定の開口部を有する光制限手段とを備え、
前記光制限手段は、前記照明光の前記基準軸に対する傾
きの検出に際して前記光源手段と前記所定面との間の光
路中に設定され、前記照明光の前記基準軸に対する位置
ずれの検出に際して光路から退避するように構成されて
いることを特徴とする照明装置を提供する。
に、本発明においては、所定の基準軸に沿って照明光を
被照射面に向けて供給するための光源手段と、前記光源
手段と前記被照射面との間の光路中に配置されて前記照
明光の一部を取り出すための光分割手段と、前記光分割
手段を介して取り出された前記照明光に基づいて、前記
被照射面と光学的に等価な所定面における前記照明光の
前記基準軸に対する位置ずれおよび傾きを検出するため
の検出手段と、前記検出手段を介して検出された前記照
明光の前記基準軸に対する傾きを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光の前記基準軸に対する角度を調整するための角度調
整手段と、前記検出手段を介して検出された前記照明光
の前記基準軸に対する位置ずれを補正するために、前記
光源手段と前記被照射面との間の光路中において前記照
明光を前記基準軸に対して平行移動させるための平行移
動手段と、所定の開口部を有する光制限手段とを備え、
前記光制限手段は、前記照明光の前記基準軸に対する傾
きの検出に際して前記光源手段と前記所定面との間の光
路中に設定され、前記照明光の前記基準軸に対する位置
ずれの検出に際して光路から退避するように構成されて
いることを特徴とする照明装置を提供する。
【０００６】本発明の好ましい態様によれば、前記角度
調整手段は、頂角が互いに等しく且つ前記基準軸の周り
にそれぞれ回転可能な一対の偏角プリズムを有し、前記
平行移動手段は、前記基準軸に垂直な面において直交す
る２つの軸線の周りにそれぞれ回転可能な一対の平行平
面板を有する。また、前記検出手段は、二次元的に構成
されたＣＣＤ素子を有し、該ＣＣＤ素子の撮像面は前記
所定面に配置されているか、あるいは前記所定面に配置
された透明板を有し、該透明板には指標マークが形成さ
れていることが好ましい。
調整手段は、頂角が互いに等しく且つ前記基準軸の周り
にそれぞれ回転可能な一対の偏角プリズムを有し、前記
平行移動手段は、前記基準軸に垂直な面において直交す
る２つの軸線の周りにそれぞれ回転可能な一対の平行平
面板を有する。また、前記検出手段は、二次元的に構成
されたＣＣＤ素子を有し、該ＣＣＤ素子の撮像面は前記
所定面に配置されているか、あるいは前記所定面に配置
された透明板を有し、該透明板には指標マークが形成さ
れていることが好ましい。
【０００７】また、本発明の別の局面によれば、上述の
ような本発明の照明装置と、マスクに形成された所定の
パターンを感光性基板上に露光するために、前記照明装
置の被照射面からの光の基づいて前記マスクを照明する
ための照明光学系とを備え、前記照明光学系は、前記照
明装置の被照射面からの光を受けて複数の光源を形成す
るためのオプティカルインテグレータと、該複数の光源
からの光をそれぞれ集光して前記マスクを重畳的に照明
するためのコンデンサー光学系とを有することを特徴と
する露光装置を提供する。
ような本発明の照明装置と、マスクに形成された所定の
パターンを感光性基板上に露光するために、前記照明装
置の被照射面からの光の基づいて前記マスクを照明する
ための照明光学系とを備え、前記照明光学系は、前記照
明装置の被照射面からの光を受けて複数の光源を形成す
るためのオプティカルインテグレータと、該複数の光源
からの光をそれぞれ集光して前記マスクを重畳的に照明
するためのコンデンサー光学系とを有することを特徴と
する露光装置を提供する。
【０００８】さらに、本発明の別の局面によれば、上述
のような本発明の露光装置を用いて、前記マスクに形成
された所定のパターンを前記感光性基板上に露光する露
光工程を含むことを特徴とする、半導体デバイスの製造
方法を提供する。この場合、前記露光工程に先立って、
前記照明光学系に導かれる照明光の位置を調整する調整
工程をさらに含み、前記調整工程は、前記光制限手段を
光路中に設定し、前記光制限手段を介して前記所定面に
達する照明光の位置を前記検出手段によって検出する第
１検出工程と、前記第１検出工程で得られた第１の検出
情報に基づいて、前記オプティカルインテグレータに入
射する照明光の傾きを前記角度調整手段によって補正す
る第１補正工程と、前記光制限手段を光路から退避さ
せ、前記所定面に達する照明光の位置を前記検出手段に
よって検出する第２検出工程と、前記第２検出工程で得
られた第２の検出情報に基づいて、前記オプティカルイ
ンテグレータに入射する照明光の位置ずれを前記平行移
動手段によって補正する第２補正工程とを含むことが好
ましい。
のような本発明の露光装置を用いて、前記マスクに形成
された所定のパターンを前記感光性基板上に露光する露
光工程を含むことを特徴とする、半導体デバイスの製造
方法を提供する。この場合、前記露光工程に先立って、
前記照明光学系に導かれる照明光の位置を調整する調整
工程をさらに含み、前記調整工程は、前記光制限手段を
光路中に設定し、前記光制限手段を介して前記所定面に
達する照明光の位置を前記検出手段によって検出する第
１検出工程と、前記第１検出工程で得られた第１の検出
情報に基づいて、前記オプティカルインテグレータに入
射する照明光の傾きを前記角度調整手段によって補正す
る第１補正工程と、前記光制限手段を光路から退避さ
せ、前記所定面に達する照明光の位置を前記検出手段に
よって検出する第２検出工程と、前記第２検出工程で得
られた第２の検出情報に基づいて、前記オプティカルイ
ンテグレータに入射する照明光の位置ずれを前記平行移
動手段によって補正する第２補正工程とを含むことが好
ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】図２は、本発明の照明装置の基本
構成について説明する図である。光源手段を構成するレ
ーザー光源１から基準軸である設計光軸ＡＸに沿って射
出された平行光束（図中実線で示す）は、一対の偏角プ
リズム２および一対の平行平面板３を介して集光レンズ
４Ａに入射する。一対の偏角プリズム２は、光軸ＡＸに
対する光束の角度を調整するための角度調整手段を構成
している。また、一対の平行平面板３は光軸ＡＸに対し
て光束を平行移動させるための平行移動手段を構成して
いる。なお、一対の偏角プリズム２および一対の平行平
面板３の具体的な構成および動作については実施例にお
いて詳述する。
構成について説明する図である。光源手段を構成するレ
ーザー光源１から基準軸である設計光軸ＡＸに沿って射
出された平行光束（図中実線で示す）は、一対の偏角プ
リズム２および一対の平行平面板３を介して集光レンズ
４Ａに入射する。一対の偏角プリズム２は、光軸ＡＸに
対する光束の角度を調整するための角度調整手段を構成
している。また、一対の平行平面板３は光軸ＡＸに対し
て光束を平行移動させるための平行移動手段を構成して
いる。なお、一対の偏角プリズム２および一対の平行平
面板３の具体的な構成および動作については実施例にお
いて詳述する。
【００１０】集光レンズ４Ａを介して光軸ＡＸ上の点Ｆ
に一旦集光した光束は、集光レンズ４Ｂを介して再び平
行光束となり、光分割手段としてのハーフミラーＨＭに
入射する。ハーフミラーＨＭを透過した平行光束は、た
とえばフライアイレンズ６のようなオプティカルインテ
グレータに入射する。ここで、レーザー光源１のレーザ
ー射出面Ａと照明装置の被照射面であるフライアイレン
ズ６の入射面Ｂとは、リレーレンズ系（４Ａ，４Ｂ）に
より光学的に共役（すなわち光学的に等価）となってい
る。一方、ハーフミラーＨＭで反射された平行光束は、
たとえば二次元的に構成されたＣＣＤ素子５に入射す
る。ＣＣＤ素子５の撮像面は、フライアイレンズ６の入
射面Ｂと共役な位置Ｃに配置されている。
に一旦集光した光束は、集光レンズ４Ｂを介して再び平
行光束となり、光分割手段としてのハーフミラーＨＭに
入射する。ハーフミラーＨＭを透過した平行光束は、た
とえばフライアイレンズ６のようなオプティカルインテ
グレータに入射する。ここで、レーザー光源１のレーザ
ー射出面Ａと照明装置の被照射面であるフライアイレン
ズ６の入射面Ｂとは、リレーレンズ系（４Ａ，４Ｂ）に
より光学的に共役（すなわち光学的に等価）となってい
る。一方、ハーフミラーＨＭで反射された平行光束は、
たとえば二次元的に構成されたＣＣＤ素子５に入射す
る。ＣＣＤ素子５の撮像面は、フライアイレンズ６の入
射面Ｂと共役な位置Ｃに配置されている。
【００１１】実際の構成では、集光レンズ４Ａおよび４
Ｂの収差、製造誤差、設置誤差などに起因して、設計上
の共役面Ｂと異なる面Ｂ’がレーザー光源１のレーザー
射出面Ａと共役になる。その結果、レーザー光源１が光
軸ＡＸに対して傾いて設置された場合、レーザー光源１
から光軸ＡＸに対して傾いて射出された平行光束（図中
破線で示す）は、実際の共役面Ｂ’では位置ずれしない
が、設計上の共役面であるフライアイレンズ６の入射面
およびＣＣＤ素子５の撮像面では位置ずれすることにな
る。なお、レーザー光源１とＣＣＤ素子５との間の光路
中であってレーザー光源１、ＣＣＤ素子５および集光点
Ｆから十分離れた適当な位置において、ピンホールＰＨ
が光路に対して挿脱自在に設けられている。ピンホール
ＰＨは、所定の開口部を有する光制限手段を構成してい
る。
Ｂの収差、製造誤差、設置誤差などに起因して、設計上
の共役面Ｂと異なる面Ｂ’がレーザー光源１のレーザー
射出面Ａと共役になる。その結果、レーザー光源１が光
軸ＡＸに対して傾いて設置された場合、レーザー光源１
から光軸ＡＸに対して傾いて射出された平行光束（図中
破線で示す）は、実際の共役面Ｂ’では位置ずれしない
が、設計上の共役面であるフライアイレンズ６の入射面
およびＣＣＤ素子５の撮像面では位置ずれすることにな
る。なお、レーザー光源１とＣＣＤ素子５との間の光路
中であってレーザー光源１、ＣＣＤ素子５および集光点
Ｆから十分離れた適当な位置において、ピンホールＰＨ
が光路に対して挿脱自在に設けられている。ピンホール
ＰＨは、所定の開口部を有する光制限手段を構成してい
る。
【００１２】図３は、本発明の照明装置における照明光
の傾きおよび位置ずれの検出並びにその補正の手順を説
明する図である。図３では、説明の簡単のために、図２
のリレーレンズ系（４Ａ，４Ｂ）、ピンホールＰＨおよ
びＣＣＤ素子５だけを示している。まず、図３（ａ）に
示すように、検出および補正を行う前の状態において、
ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の照明光（図中斜
線で示す）の中心位置は光軸ＡＸからずれている。次い
で、図３（ｂ）に示すように、光軸ＡＸ上にピンホール
ＰＨを配置し、ピンホールＰＨを介してＣＣＤ素子５の
撮像面に達するピンスポット状の照明光の中心位置を検
出する。
の傾きおよび位置ずれの検出並びにその補正の手順を説
明する図である。図３では、説明の簡単のために、図２
のリレーレンズ系（４Ａ，４Ｂ）、ピンホールＰＨおよ
びＣＣＤ素子５だけを示している。まず、図３（ａ）に
示すように、検出および補正を行う前の状態において、
ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の照明光（図中斜
線で示す）の中心位置は光軸ＡＸからずれている。次い
で、図３（ｂ）に示すように、光軸ＡＸ上にピンホール
ＰＨを配置し、ピンホールＰＨを介してＣＣＤ素子５の
撮像面に達するピンスポット状の照明光の中心位置を検
出する。
【００１３】ところで、レーザー光源１から射出された
照明光の光軸ＡＸに対する傾きが大きすぎると、ピンホ
ールＰＨに照明光が入射することなく、ピンスポット状
の照明光がＣＣＤ素子５の撮像面に達しないこともあ
る。この場合、図３（ｃ）に示すように、一対の平行平
面板３の作用によりレーザー光源１から射出された光束
を光軸ＡＸに対して平行移動させることにより、ピンホ
ールＰＨに照明光を入射させ、ＣＣＤ素子５の撮像面に
達するピンスポット状の照明光の中心位置を検出するこ
とができる。検出されたピンスポット状の照明光の中心
位置は光軸ＡＸからずれている。そして、ピンスポット
状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量が、ＣＣＤ
素子５の撮像面に達する照明光の光軸ＡＸに対する傾き
に対応している。
照明光の光軸ＡＸに対する傾きが大きすぎると、ピンホ
ールＰＨに照明光が入射することなく、ピンスポット状
の照明光がＣＣＤ素子５の撮像面に達しないこともあ
る。この場合、図３（ｃ）に示すように、一対の平行平
面板３の作用によりレーザー光源１から射出された光束
を光軸ＡＸに対して平行移動させることにより、ピンホ
ールＰＨに照明光を入射させ、ＣＣＤ素子５の撮像面に
達するピンスポット状の照明光の中心位置を検出するこ
とができる。検出されたピンスポット状の照明光の中心
位置は光軸ＡＸからずれている。そして、ピンスポット
状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量が、ＣＣＤ
素子５の撮像面に達する照明光の光軸ＡＸに対する傾き
に対応している。
【００１４】したがって、図３（ｄ）に示すように、一
対の偏角プリズム２の作用により光軸ＡＸに対する照明
光の角度を調整して、ＣＣＤ素子５の撮像面に達するピ
ンスポット状の照明光の中心位置を光軸ＡＸと一致させ
ることにより、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する照明光の
光軸ＡＸに対する傾きを、ひいては被照射面であるフラ
イアイレンズ６の入射面に達する照明光の光軸ＡＸに対
する傾きを補正することができる。次いで、図３（ｅ）
に示すように、ピンホールＰＨを光路から退避させる
と、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の照明光（図
中斜線で示す）の中心位置は光軸ＡＸからずれている。
このとき、矩形状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのず
れ量が、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する照明光の光軸Ａ
Ｘに対する位置ずれにに対応している。したがって、図
３（ｆ）に示すように、一対の平行平面板３の作用によ
り光軸ＡＸに対して照明光を平行移動させて、ＣＣＤ素
子５の撮像面に達する矩形状の照明光の中心位置を光軸
ＡＸと一致させることにより、ＣＣＤ素子５の撮像面に
達する照明光の光軸ＡＸに対する位置ずれを、ひいては
被照射面であるフライアイレンズ６の入射面に達する照
明光の光軸ＡＸに対する位置ずれを補正することができ
る。
対の偏角プリズム２の作用により光軸ＡＸに対する照明
光の角度を調整して、ＣＣＤ素子５の撮像面に達するピ
ンスポット状の照明光の中心位置を光軸ＡＸと一致させ
ることにより、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する照明光の
光軸ＡＸに対する傾きを、ひいては被照射面であるフラ
イアイレンズ６の入射面に達する照明光の光軸ＡＸに対
する傾きを補正することができる。次いで、図３（ｅ）
に示すように、ピンホールＰＨを光路から退避させる
と、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の照明光（図
中斜線で示す）の中心位置は光軸ＡＸからずれている。
このとき、矩形状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのず
れ量が、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する照明光の光軸Ａ
Ｘに対する位置ずれにに対応している。したがって、図
３（ｆ）に示すように、一対の平行平面板３の作用によ
り光軸ＡＸに対して照明光を平行移動させて、ＣＣＤ素
子５の撮像面に達する矩形状の照明光の中心位置を光軸
ＡＸと一致させることにより、ＣＣＤ素子５の撮像面に
達する照明光の光軸ＡＸに対する位置ずれを、ひいては
被照射面であるフライアイレンズ６の入射面に達する照
明光の光軸ＡＸに対する位置ずれを補正することができ
る。
【００１５】なお、一対の平行平面板３の作用により光
軸ＡＸに対して照明光を平行移動させて矩形状の照明光
の中心位置を光軸ＡＸと一致させる工程中において照明
光が光軸ＡＸに対してわずかに傾くことが考えられる。
したがって、必要に応じて、図２（ｃ）〜（ｆ）に示す
手順を繰り返すことにより、照明光の傾きおよび位置ず
れをさらに高精度に補正することができる。このよう
に、本発明の照明装置では、たとえばＣＣＤ素子のよう
な測定精度の高いセンサにより、被照射面における照明
光の傾きおよび位置ずれを１つの検出系で高精度に検出
することができる。したがって、装置を大型化すること
なく、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正する
ことができる。また、マスクのパターンを感光性の基板
上に転写する露光装置に本発明の照明装置を組み込むこ
とにより、被照射面であるマスクおよび基板を常に適切
な状態で照明することができるので、安定した露光が可
能となる。
軸ＡＸに対して照明光を平行移動させて矩形状の照明光
の中心位置を光軸ＡＸと一致させる工程中において照明
光が光軸ＡＸに対してわずかに傾くことが考えられる。
したがって、必要に応じて、図２（ｃ）〜（ｆ）に示す
手順を繰り返すことにより、照明光の傾きおよび位置ず
れをさらに高精度に補正することができる。このよう
に、本発明の照明装置では、たとえばＣＣＤ素子のよう
な測定精度の高いセンサにより、被照射面における照明
光の傾きおよび位置ずれを１つの検出系で高精度に検出
することができる。したがって、装置を大型化すること
なく、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正する
ことができる。また、マスクのパターンを感光性の基板
上に転写する露光装置に本発明の照明装置を組み込むこ
とにより、被照射面であるマスクおよび基板を常に適切
な状態で照明することができるので、安定した露光が可
能となる。
【００１６】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説
明する。図１は、本発明の実施例にかかる照明装置を備
えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図１の露
光装置は、レーザー光源として、たとえば２４８ｎｍま
たは１９３ｎｍの波長光を射出するエキシマレーザー光
源１を備えている。エキシマレーザー光源１から供給さ
れた矩形状の平行光束は、一対の偏角プリズム２ａおよ
び２ｂからなる角度調整手段に入射する。偏角プリズム
２ａおよび２ｂは頂角が互いに等しく、偏角プリズム２
ａの光源側の面および偏角プリズム２ｂの被照射面側の
面はともに光軸ＡＸに垂直である。また、偏角プリズム
２ａおよび２ｂは、設計光軸ＡＸの周りにそれぞれ回転
可能に構成されている。したがって、偏角プリズム２ａ
および２ｂを光軸ＡＸ周りにそれぞれ回転させることに
より、入射した平行光束を光軸ＡＸを含む所望の面に沿
って所望の角度だけ傾けることができる。
明する。図１は、本発明の実施例にかかる照明装置を備
えた露光装置の構成を概略的に示す図である。図１の露
光装置は、レーザー光源として、たとえば２４８ｎｍま
たは１９３ｎｍの波長光を射出するエキシマレーザー光
源１を備えている。エキシマレーザー光源１から供給さ
れた矩形状の平行光束は、一対の偏角プリズム２ａおよ
び２ｂからなる角度調整手段に入射する。偏角プリズム
２ａおよび２ｂは頂角が互いに等しく、偏角プリズム２
ａの光源側の面および偏角プリズム２ｂの被照射面側の
面はともに光軸ＡＸに垂直である。また、偏角プリズム
２ａおよび２ｂは、設計光軸ＡＸの周りにそれぞれ回転
可能に構成されている。したがって、偏角プリズム２ａ
および２ｂを光軸ＡＸ周りにそれぞれ回転させることに
より、入射した平行光束を光軸ＡＸを含む所望の面に沿
って所望の角度だけ傾けることができる。
【００１７】一対の偏角プリズム２ａおよび２ｂを介し
た平行光束は、一対の平行平面板３ａおよび３ｂからな
る平行移動手段に入射する。一対の平行平面板３ａおよ
び３ｂは、光軸ＡＸに垂直な面において直交する２つの
軸線周りにそれぞれ回転可能に構成されている。したが
って、一対の平行平面板３ａおよび３ｂを各軸線周りに
それぞれ回転させることにより、入射した平行光束を光
軸ＡＸを含む所望の面において所望の距離だけ光軸ＡＸ
に対して平行移動させることができる。一対の平行平面
板３ａおよび３ｂを介した平行光束は、集光レンズ４Ａ
を介して、反射ミラーＭ１とＭ２との間で一旦集光した
後、集光レンズ４Ｂに入射する。集光レンズ４Ｂを介し
て再び平行光束となった照明光は、ハーフミラーＨＭに
入射する。
た平行光束は、一対の平行平面板３ａおよび３ｂからな
る平行移動手段に入射する。一対の平行平面板３ａおよ
び３ｂは、光軸ＡＸに垂直な面において直交する２つの
軸線周りにそれぞれ回転可能に構成されている。したが
って、一対の平行平面板３ａおよび３ｂを各軸線周りに
それぞれ回転させることにより、入射した平行光束を光
軸ＡＸを含む所望の面において所望の距離だけ光軸ＡＸ
に対して平行移動させることができる。一対の平行平面
板３ａおよび３ｂを介した平行光束は、集光レンズ４Ａ
を介して、反射ミラーＭ１とＭ２との間で一旦集光した
後、集光レンズ４Ｂに入射する。集光レンズ４Ｂを介し
て再び平行光束となった照明光は、ハーフミラーＨＭに
入射する。
【００１８】ハーフミラーＨＭを透過した照明光は、フ
ライアイレンズ６のようなオプティカルインテグレータ
に入射する。なお、エキシマレーザー光源１のレーザー
射出面と本実施例の照明装置の被照射面であるフライア
イレンズ６の入射面とは、リレーレンズ系（４Ａ，４
Ｂ）により光学的に共役となっている。フライアイレン
ズ６に入射した光束は、フライアイレンズ６を構成する
複数のレンズエレメントにより二次元的に分割され、そ
の後側焦点位置に複数の光源像を形成する。複数の光源
像からの光束は、折曲げミラーＭ３で反射された後、コ
ンデンサーレンズ７に入射する。
ライアイレンズ６のようなオプティカルインテグレータ
に入射する。なお、エキシマレーザー光源１のレーザー
射出面と本実施例の照明装置の被照射面であるフライア
イレンズ６の入射面とは、リレーレンズ系（４Ａ，４
Ｂ）により光学的に共役となっている。フライアイレン
ズ６に入射した光束は、フライアイレンズ６を構成する
複数のレンズエレメントにより二次元的に分割され、そ
の後側焦点位置に複数の光源像を形成する。複数の光源
像からの光束は、折曲げミラーＭ３で反射された後、コ
ンデンサーレンズ７に入射する。
【００１９】コンデンサーレンズ７により集光された光
束は、所定のパターンが形成されたマスク８を重畳的に
照明する。マスク８を透過した光束は、投影光学系９を
介して、感光基板であるウエハ１０上にマスク８のパタ
ーン像を形成する。なお、マスク８は、光軸ＡＸに対し
て垂直な平面内においてマスクステージ１１上に載置さ
れている。一方、ウエハ１０は、光軸ＡＸに対して垂直
な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ
１２上に載置されている。こうして、投影光学系９に対
してウエハステージ１２をひいてはウエハ１０を移動さ
せながら露光を行うことにより、ウエハ１０上の各露光
領域にマスク８のパターンを逐次転写することができ
る。
束は、所定のパターンが形成されたマスク８を重畳的に
照明する。マスク８を透過した光束は、投影光学系９を
介して、感光基板であるウエハ１０上にマスク８のパタ
ーン像を形成する。なお、マスク８は、光軸ＡＸに対し
て垂直な平面内においてマスクステージ１１上に載置さ
れている。一方、ウエハ１０は、光軸ＡＸに対して垂直
な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ
１２上に載置されている。こうして、投影光学系９に対
してウエハステージ１２をひいてはウエハ１０を移動さ
せながら露光を行うことにより、ウエハ１０上の各露光
領域にマスク８のパターンを逐次転写することができ
る。
【００２０】一方、ハーフミラーＨＭで反射された照明
光は、二次元的に構成されたＣＣＤ素子５に入射する。
ＣＣＤ素子５の撮像面は、フライアイレンズ６の入射面
と光学的に共役な位置に配置されている。ＣＣＤ素子５
の出力信号は、制御系１３に供給される。制御系１３
は、ＣＣＤ素子５からの出力信号に応じて、一対の偏角
プリズム２ａおよび２ｂ並びに一対の平行平面板３ａお
よび３ｂをそれぞれ駆動する。また、制御系１３は、反
射ミラーＭ２とハーフミラーＨＭとの間の光路に対して
挿脱自在のピンホールＰＨを駆動する。
光は、二次元的に構成されたＣＣＤ素子５に入射する。
ＣＣＤ素子５の撮像面は、フライアイレンズ６の入射面
と光学的に共役な位置に配置されている。ＣＣＤ素子５
の出力信号は、制御系１３に供給される。制御系１３
は、ＣＣＤ素子５からの出力信号に応じて、一対の偏角
プリズム２ａおよび２ｂ並びに一対の平行平面板３ａお
よび３ｂをそれぞれ駆動する。また、制御系１３は、反
射ミラーＭ２とハーフミラーＨＭとの間の光路に対して
挿脱自在のピンホールＰＨを駆動する。
【００２１】以下、本実施例の照明装置を備えた露光装
置における照明光の傾きおよび位置ずれの検出工程並び
にその補正工程について説明する。まず、ＣＣＤ素子５
の撮像面における照明光の傾きおよび位置ずれの検出お
よび補正に先立って、一対の偏角プリズム２ａおよび２
ｂの駆動量とＣＣＤ素子５の撮像面におけるピンスポッ
ト状の照明光の移動量との関係についてキャリブレーシ
ョン（校正）を行う。また、一対の平行平面板３ａおよ
び３ｂの駆動量とＣＣＤ素子５の撮像面における矩形状
の照明光の移動量との関係についてもキャリブレーショ
ンを行う。
置における照明光の傾きおよび位置ずれの検出工程並び
にその補正工程について説明する。まず、ＣＣＤ素子５
の撮像面における照明光の傾きおよび位置ずれの検出お
よび補正に先立って、一対の偏角プリズム２ａおよび２
ｂの駆動量とＣＣＤ素子５の撮像面におけるピンスポッ
ト状の照明光の移動量との関係についてキャリブレーシ
ョン（校正）を行う。また、一対の平行平面板３ａおよ
び３ｂの駆動量とＣＣＤ素子５の撮像面における矩形状
の照明光の移動量との関係についてもキャリブレーショ
ンを行う。
【００２２】次いで、制御系１３は、光軸ＡＸ上にピン
ホールＰＨを配置し、ＣＣＤ素子５の各画素からの光電
信号に基づいて、ＣＣＤ素子５の撮像面に達するピンス
ポット状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量を検
出する。ここで、ＣＣＤ素子５の撮像面においてピンス
ポット状の照明光を検出することができない場合、ピン
スポット状の照明光を検出することができるようになる
まで、一対の平行平面板３の作用により光束を光軸ＡＸ
に対して平行移動させる。そして、制御系１３は、検出
したずれ量とキャリブレーションの結果とを参照しなが
ら、ＣＣＤ素子５の撮像面におけるピンスポット状の照
明光の位置と光軸ＡＸとが一致するように、一対の偏角
プリズム２ａおよび２ｂを駆動する。こうして、ＣＣＤ
素子５の撮像面における照明光の傾きを、ひいては被照
射面であるフライアイレンズ６の入射面における照明光
の傾きを補正することができる。
ホールＰＨを配置し、ＣＣＤ素子５の各画素からの光電
信号に基づいて、ＣＣＤ素子５の撮像面に達するピンス
ポット状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量を検
出する。ここで、ＣＣＤ素子５の撮像面においてピンス
ポット状の照明光を検出することができない場合、ピン
スポット状の照明光を検出することができるようになる
まで、一対の平行平面板３の作用により光束を光軸ＡＸ
に対して平行移動させる。そして、制御系１３は、検出
したずれ量とキャリブレーションの結果とを参照しなが
ら、ＣＣＤ素子５の撮像面におけるピンスポット状の照
明光の位置と光軸ＡＸとが一致するように、一対の偏角
プリズム２ａおよび２ｂを駆動する。こうして、ＣＣＤ
素子５の撮像面における照明光の傾きを、ひいては被照
射面であるフライアイレンズ６の入射面における照明光
の傾きを補正することができる。
【００２３】その後、制御系１３は、ピンホールＰＨを
光路から退避させ、ＣＣＤ素子５の各画素からの光電信
号に基づいて、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の
照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量を検出する。そ
して、制御系１３は、検出したずれ量とキャリブレーシ
ョンの結果とを参照しながら、ＣＣＤ素子５の撮像面に
おける矩形状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとが一致す
るように、一対の平行平面板３ａおよび３ｂを駆動す
る。こうして、ＣＣＤ素子５の撮像面における照明光の
位置ずれを、ひいては被照射面であるフライアイレンズ
６の入射面における照明光の位置ずれを補正することが
できる。
光路から退避させ、ＣＣＤ素子５の各画素からの光電信
号に基づいて、ＣＣＤ素子５の撮像面に達する矩形状の
照明光の中心位置と光軸ＡＸとのずれ量を検出する。そ
して、制御系１３は、検出したずれ量とキャリブレーシ
ョンの結果とを参照しながら、ＣＣＤ素子５の撮像面に
おける矩形状の照明光の中心位置と光軸ＡＸとが一致す
るように、一対の平行平面板３ａおよび３ｂを駆動す
る。こうして、ＣＣＤ素子５の撮像面における照明光の
位置ずれを、ひいては被照射面であるフライアイレンズ
６の入射面における照明光の位置ずれを補正することが
できる。
【００２４】なお、前述したように、光軸ＡＸ上にピン
ホールＰＨを再度配置して照明光の傾きを補正する工
程、およびピンホールＰＨを光路から退避させて照明光
の位置ずれを補正する工程を必要に応じて繰り返すこと
により、補正の精度をさらに高めることができる。この
ように、本実施例では、測定精度の高いＣＣＤ素子を用
いて、被照射面における照明光の傾きおよび位置ずれを
１つの検出系で高精度に検出することができる。したが
って、装置を大型化することなく、検出した傾きおよび
位置ずれを高精度に補正することができる。また、被照
射面であるマスクおよびウエハを常に適切な状態で照明
することができるので、安定した露光が可能となる。
ホールＰＨを再度配置して照明光の傾きを補正する工
程、およびピンホールＰＨを光路から退避させて照明光
の位置ずれを補正する工程を必要に応じて繰り返すこと
により、補正の精度をさらに高めることができる。この
ように、本実施例では、測定精度の高いＣＣＤ素子を用
いて、被照射面における照明光の傾きおよび位置ずれを
１つの検出系で高精度に検出することができる。したが
って、装置を大型化することなく、検出した傾きおよび
位置ずれを高精度に補正することができる。また、被照
射面であるマスクおよびウエハを常に適切な状態で照明
することができるので、安定した露光が可能となる。
【００２５】本実施例の露光装置による露光の工程（フ
ォトリソグラフィ工程）を経たウエハは、現像する工
程、現像したレジスト以外の部分を除去するエッチング
の工程、エッチングの工程後の不要なレジストを除去す
るレジスト除去の工程等を経てウエハプロセスが終了す
る。ウエハプロセスが終了すると、実際の組立工程にお
いて、焼き付けられた回路毎にウエハを切断してチップ
化するダイシングの工程、各チップに配線等を付与する
ボンディングの工程、各チップ毎にパッケージングする
パッケージングの工程等を経て、最終的にＬＳＩのよう
な半導体デバイスが製造される。なお、本実施例では、
露光装置を用いたフォトリソグラフィ工程により半導体
素子を製造する例を示したが、露光装置を用いたフォト
リソグラフィ工程によって、液晶表示素子、薄膜磁気ヘ
ッド、撮像素子（ＣＣＤ素子等）のような他の半導体デ
バイスを良好に製造することができる。
ォトリソグラフィ工程）を経たウエハは、現像する工
程、現像したレジスト以外の部分を除去するエッチング
の工程、エッチングの工程後の不要なレジストを除去す
るレジスト除去の工程等を経てウエハプロセスが終了す
る。ウエハプロセスが終了すると、実際の組立工程にお
いて、焼き付けられた回路毎にウエハを切断してチップ
化するダイシングの工程、各チップに配線等を付与する
ボンディングの工程、各チップ毎にパッケージングする
パッケージングの工程等を経て、最終的にＬＳＩのよう
な半導体デバイスが製造される。なお、本実施例では、
露光装置を用いたフォトリソグラフィ工程により半導体
素子を製造する例を示したが、露光装置を用いたフォト
リソグラフィ工程によって、液晶表示素子、薄膜磁気ヘ
ッド、撮像素子（ＣＣＤ素子等）のような他の半導体デ
バイスを良好に製造することができる。
【００２６】なお、本実施例の変形例として、ＣＣＤ素
子５とハーフミラーＨＭとの間の光路中にもう１つのハ
ーフミラーＨＭ２を配置し、このハーフミラーＨＭ２で
反射した照明光を観察系に導く構成が考えられる。観察
系では、被照射面であるフライアイレンズ６の入射面と
共役な位置に、ガラスプレートのような透明板が配置さ
れている。このガラスプレートには、光軸ＡＸや被照射
面に関する指標マークがたとえばクローム蒸着による刻
線によって形成されている。そして、ガラスプレートと
ハーフミラーＨＭ２との間には、エキシマレーザー光の
ような紫外光の入射に対してたとえば青緑色の可視光を
発光する蛍光ガラスプレートが配置されている。ただ
し、照明光が可視光である場合には、この蛍光ガラスプ
レートが不要であることはいうまでもない。
子５とハーフミラーＨＭとの間の光路中にもう１つのハ
ーフミラーＨＭ２を配置し、このハーフミラーＨＭ２で
反射した照明光を観察系に導く構成が考えられる。観察
系では、被照射面であるフライアイレンズ６の入射面と
共役な位置に、ガラスプレートのような透明板が配置さ
れている。このガラスプレートには、光軸ＡＸや被照射
面に関する指標マークがたとえばクローム蒸着による刻
線によって形成されている。そして、ガラスプレートと
ハーフミラーＨＭ２との間には、エキシマレーザー光の
ような紫外光の入射に対してたとえば青緑色の可視光を
発光する蛍光ガラスプレートが配置されている。ただ
し、照明光が可視光である場合には、この蛍光ガラスプ
レートが不要であることはいうまでもない。
【００２７】この変形例では、観察系を介してガラスプ
レートに達する照明光の位置を目視することにより照明
光の傾きおよび位置ずれの有無を迅速に確認し、必要に
応じて制御系を作動させてその補正を自動的に行うこと
ができるので便利である。また、ＣＣＤ素子５に代え
て、上述のガラスプレートを用いた観察系だけを設ける
別の変形例も可能である。この場合、観察系を介して目
視により照明光の傾きおよび位置ずれを検出し、その補
正を制御系を介してあるいは手動により行うことにな
る。
レートに達する照明光の位置を目視することにより照明
光の傾きおよび位置ずれの有無を迅速に確認し、必要に
応じて制御系を作動させてその補正を自動的に行うこと
ができるので便利である。また、ＣＣＤ素子５に代え
て、上述のガラスプレートを用いた観察系だけを設ける
別の変形例も可能である。この場合、観察系を介して目
視により照明光の傾きおよび位置ずれを検出し、その補
正を制御系を介してあるいは手動により行うことにな
る。
【００２８】なお、上述の実施例では、一対の偏角プリ
ズムで角度調整手段を構成しているが、たとえば互いに
直交する２つの軸線周りにそれぞれ回転可能な１つの反
射ミラーで角度調整手段を構成することができる。ま
た、上述の実施例では、一対の平行平面板で平行移動手
段を構成しているが、たとえば互いに直交する２つの軸
線周りにそれぞれ回転可能な１つの平行平面板で平行移
動手段を構成することができる。さらに、上述の実施例
では、光源手段として平行光束を射出するエキシマレー
ザーを使用した例を示したが、一般の照明光を供給する
光源手段を用いた照明装置に対しても本発明を適用する
ことができる。
ズムで角度調整手段を構成しているが、たとえば互いに
直交する２つの軸線周りにそれぞれ回転可能な１つの反
射ミラーで角度調整手段を構成することができる。ま
た、上述の実施例では、一対の平行平面板で平行移動手
段を構成しているが、たとえば互いに直交する２つの軸
線周りにそれぞれ回転可能な１つの平行平面板で平行移
動手段を構成することができる。さらに、上述の実施例
では、光源手段として平行光束を射出するエキシマレー
ザーを使用した例を示したが、一般の照明光を供給する
光源手段を用いた照明装置に対しても本発明を適用する
ことができる。
【００２９】また、上述の実施例では、角度調整手段２
および平行移動手段３をレーザー光源１と集光レンズ４
Ａとの間の光路中に配置している。一般に、装置の小型
化並びに高精度な調整を図るには、レーザー光源１とハ
ーフミラーＨＭとの間の光路中に角度調整手段および平
行移動手段を配置することが好ましい。しかしながら、
ハーフミラーＨＭとＣＣＤ素子５との間の光路中および
ハーフミラーＨＭとフライアイレンズ６との間の光路中
に、角度調整手段および平行移動手段を配置してもよ
い。この場合、２つの角度調整手段同士が連動して照明
光の傾きを調整し、２つの平行移動手段同士が連動して
照明光の位置ずれを調整するように構成されることが望
ましい。
および平行移動手段３をレーザー光源１と集光レンズ４
Ａとの間の光路中に配置している。一般に、装置の小型
化並びに高精度な調整を図るには、レーザー光源１とハ
ーフミラーＨＭとの間の光路中に角度調整手段および平
行移動手段を配置することが好ましい。しかしながら、
ハーフミラーＨＭとＣＣＤ素子５との間の光路中および
ハーフミラーＨＭとフライアイレンズ６との間の光路中
に、角度調整手段および平行移動手段を配置してもよ
い。この場合、２つの角度調整手段同士が連動して照明
光の傾きを調整し、２つの平行移動手段同士が連動して
照明光の位置ずれを調整するように構成されることが望
ましい。
【００３０】
【効果】以上説明したように、本発明の照明装置では、
たとえばＣＣＤ素子のような測定精度の高いセンサによ
り照明光の傾きおよび位置ずれを１つの検出系で高精度
に検出することができるので、装置を大型化することな
く、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正するこ
とができる。したがって、露光装置に本発明の照明装置
を組み込むことにより、被照射面であるマスクおよび基
板を常に適切な状態で照明することができるので、安定
した露光が可能となる。また、本発明の露光装置を用い
て、良好な半導体デバイスを製造することができる。
たとえばＣＣＤ素子のような測定精度の高いセンサによ
り照明光の傾きおよび位置ずれを１つの検出系で高精度
に検出することができるので、装置を大型化することな
く、検出した傾きおよび位置ずれを高精度に補正するこ
とができる。したがって、露光装置に本発明の照明装置
を組み込むことにより、被照射面であるマスクおよび基
板を常に適切な状態で照明することができるので、安定
した露光が可能となる。また、本発明の露光装置を用い
て、良好な半導体デバイスを製造することができる。
【図１】本発明の実施例にかかる照明装置を備えた露光
装置の構成を概略的に示す図である。
装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】本発明の照明装置の基本構成について説明する
図である。
図である。
【図３】本発明の照明装置における照明光の傾きおよび
位置ずれの検出並びにその補正の手順を説明する図であ
る。
位置ずれの検出並びにその補正の手順を説明する図であ
る。
１ エキシマレーザー光源 ２ａ，２ｂ 一対の偏角プリズム ３ａ，３ｂ 一対の平行平面板 ４Ａ，４Ａ 集光レンズ ５ ＣＣＤ素子 ６ フライアイレンズ ７ コンデンサーレンズ ８ マスク ９ 投影光学系 １０ ウエハ １１ マスクステージ １２ ウエハステージ １３ 制御系 ＨＭ ハーフミラー ＰＨ ピンホール ＡＸ 光軸
Claims (11)
- 【請求項１】 所定の基準軸に沿って照明光を被照射面
に向けて供給するための光源手段と、 前記光源手段と前記被照射面との間の光路中に配置され
て前記照明光の一部を取り出すための光分割手段と、 前記光分割手段を介して取り出された前記照明光に基づ
いて、前記被照射面と光学的に等価な所定面における前
記照明光の前記基準軸に対する位置ずれおよび傾きを検
出するための検出手段と、 前記検出手段を介して検出された前記照明光の前記基準
軸に対する傾きを補正するために、前記光源手段と前記
被照射面との間の光路中において前記照明光の前記基準
軸に対する角度を調整するための角度調整手段と、 前記検出手段を介して検出された前記照明光の前記基準
軸に対する位置ずれを補正するために、前記光源手段と
前記被照射面との間の光路中において前記照明光を前記
基準軸に対して平行移動させるための平行移動手段と、 所定の開口部を有する光制限手段とを備え、 前記光制限手段は、前記照明光の前記基準軸に対する傾
きの検出に際して前記光源手段と前記所定面との間の光
路中に設定され、前記照明光の前記基準軸に対する位置
ずれの検出に際して光路から退避するように構成されて
いることを特徴とする照明装置。 - 【請求項２】 前記角度調整手段は、頂角が互いに等し
く且つ前記基準軸の周りにそれぞれ回転可能な一対の偏
角プリズムを有することを特徴とする請求項１に記載の
照明装置。 - 【請求項３】 前記平行移動手段は、前記基準軸に垂直
な面において直交する２つの軸線の周りにそれぞれ回転
可能な一対の平行平面板を有することを特徴とする請求
項１または２に記載の照明装置。 - 【請求項４】 前記検出手段は、二次元的に構成された
ＣＣＤ素子を有し、該ＣＣＤ素子の撮像面は前記所定面
に配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のい
ずれか１項に記載の照明装置。 - 【請求項５】 前記検出手段は、前記所定面に配置され
た透明板を有し、該透明板には指標マークが形成されて
いることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に
記載の照明装置。 - 【請求項６】 前記光源手段はエキシマレーザー光源を
有し、 前記エキシマレーザー光源と前記光分割手段との間の光
路中には、前記エキシマレーザー光源からの照明光を集
光するための第１集光系と、該第１集光系を介して一旦
集光された照明光を前記被照射面に導くための第２集光
系とが設けられ、 前記基準軸は、前記第１集光系および第２集光系の光軸
であり、 前記所定面は、前記被照射面と光学的に共役な位置に配
置され、 前記角度調整手段および前記平行移動手段は、前記エキ
シマレーザー光源と前記光分割手段との間の光路中に配
置されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれ
か１項に記載の照明装置。 - 【請求項７】 前記検出手段は、前記所定面に配置され
た透明板と、該透明板と前記光分割手段との間の光路中
に配置されて前記エキシマレーザー光源からの照明光を
可視光に変換するための変換素子とを有し、前記透明板
には指標マークが形成されていることを特徴とする請求
項６に記載の照明装置。 - 【請求項８】 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の
照明装置と、 マスクに形成された所定のパターンを感光性基板上に露
光するために、前記照明装置の被照射面からの光の基づ
いて前記マスクを照明するための照明光学系とを備え、 前記照明光学系は、前記照明装置の被照射面からの光を
受けて複数の光源を形成するためのオプティカルインテ
グレータと、該複数の光源からの光をそれぞれ集光して
前記マスクを重畳的に照明するためのコンデンサー光学
系とを有することを特徴とする露光装置。 - 【請求項９】 前記オプティカルインテグレータは、該
オプティカルインテグレータの入射面が前記照明装置の
被照射面とほぼ合致するように配置されていることを特
徴とする請求項８に記載の露光装置。 - 【請求項１０】 請求項８または９に記載の露光装置を
用いて、前記マスクに形成された所定のパターンを前記
感光性基板上に露光する露光工程を含むことを特徴とす
る、半導体デバイスの製造方法。 - 【請求項１１】 前記露光工程に先立って、前記照明光
学系に導かれる照明光の位置を調整する調整工程をさら
に含み、 前記調整工程は、 前記光制限手段を光路中に設定し、前記光制限手段を介
して前記所定面に達する照明光の位置を前記検出手段に
よって検出する第１検出工程と、 前記第１検出工程で得られた第１の検出情報に基づい
て、前記オプティカルインテグレータに入射する照明光
の傾きを前記角度調整手段によって補正する第１補正工
程と、 前記光制限手段を光路から退避させ、前記所定面に達す
る照明光の位置を前記検出手段によって検出する第２検
出工程と、 前記第２検出工程で得られた第２の検出情報に基づい
て、前記オプティカルインテグレータに入射する照明光
の位置ずれを前記平行移動手段によって補正する第２補
正工程とを含むことを特徴とする請求項１０に記載の半
導体デバイスの製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8327585A JPH10153866A (ja) | 1996-11-22 | 1996-11-22 | 照明装置および該照明装置を備えた露光装置 |
| KR1019970059449A KR19980042321A (ko) | 1996-11-12 | 1997-11-12 | 조명 장치, 조명 장치를 구비한 노광 장치 및 반도체 디바이스 제조방법 |
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