JPH1092729A - 照明装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 - Google Patents

照明装置及びそれを用いた走査型投影露光装置

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JPH1092729A
JPH1092729A JP8263593A JP26359396A JPH1092729A JP H1092729 A JPH1092729 A JP H1092729A JP 8263593 A JP8263593 A JP 8263593A JP 26359396 A JP26359396 A JP 26359396A JP H1092729 A JPH1092729 A JP H1092729A
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light
scanning
illumination
light source
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JP8263593A
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Satoshi Mizouchi
聡 溝内
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステップアンドスキャン方式を用いた走査型
露光装置でマスク面上の照度分布の均一化を図ることに
より高解像力化を図った照明装置及びそれを用いた走査
型露光装置を得ること。 【解決手段】 光源からの光束をビーム整形光学系を介
して所定形状のビーム形状に整形した後に、光軸と直交
する第１平面内において屈折力を有し、該第１平面内に
おいて駆動可能な第１オプティカルインテグレータと該
第１平面と直交する第２平面内において屈折力を有し、
該第２平面内において駆動可能な第２オプティカルイン
テグレータとを有する照度均一化手段を介して被照射面
を照射していること。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は照明装置及びそれを
用いた走査型投影露光装置に関し、ＩＣ、ＬＳＩ、ＣＣ
Ｐ、磁気ヘッド、液晶パネル等のデバイスを製造する為
のリソグラフィー工程において、マスク面を均一な照度
分布で照明することによって高集積度のデバイスを製造
する際に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より半導体素子等をフォトリソグラ
フィー技術を用いて製造する際に、フォトマスクのパタ
ーンを投影光学系を介してフォトレジスト等が塗布され
たウエハ又はガラスプレート等の感光基板上に露光転写
する投影露光装置が種々と提案されている。最近は半導
体素子１個のチップパターンが大型化する傾向にあり、
投影露光装置においてはマスク上のより大きな面積のパ
ターンを感光基板上に露光する大面積化が求められてい
る。また半導体素子の高集積化、微細化に応じ、投影光
学系の解像度の向上も求められている。
【０００３】これらの要望に対して最近では高解像力が
得られ、且つ画面サイズを拡大できるステップアンドス
キャン方式の走査型投影露光装置（露光装置）が種々と
提案されている。この走査型露光装置ではマスク面上の
パターンをスリット状光束により照明し、該スリット状
光束により照明されたパターンを投影系（投影光学系）
を介し、スキャン動作によりウエハ上に露光転写してい
る。
【０００４】また上記の高解像度化に応えるために、エ
キシマレーザーのようなパルスレーザーが遠紫外領域の
光源として露光装置に使用されている。
【０００５】エキシマレーザー等のコヒーレント光源か
らの光束でマスクやレチクル等の回路パターンを照明す
る場合に生じる問題として照度分布の不均一性が上げら
れる。この不均一性はコヒーレント光源からの光束が形
成する干渉縞に起因するものであり、この干渉縞による
照度分布の不均一性を解消するために従来から様々なタ
イプの照明装置が提案されている。
【０００６】しかし従来のものの多くは走査型投影露光
装置に関するものではなく、静止した基板に対する照明
であったため、基板上の照明の単純な照度均一化を図れ
ばよかった。そのため上述した照明系を走査型投影露光
装置に使用した場合、走査方向は時間の経過に伴い少し
づつ移動した照明領域の重ね合わせとなるので、より均
一化が進むのに対し、走査方向と垂直な方向（走査直交
方向）はそうならない。従って基板上の走査方向と走査
直交方向とで照度均一化の状態が異なるため高解像度化
が難しいという問題点があった。
【０００７】更に前述のスキャン方式において基板の感
光感度の違い等による露光量の調整をスリットの幅や基
板の走査速度によって調整する方法があるが、スリット
の幅と走査速度を可変とすると、前述の基板の走査方向
での照明領域の重ね合わせ状態が変化する。その結果、
基板上の走査方向の均一化も変化し、転写されるパター
ンの像質も変化するという問題があった。
【０００８】次に、この問題を図５〜図７を用いて説明
する。
【０００９】図５（Ａ）は１パルスでの基板上の走査方
向断面での光強度分布を表し、縦軸は強度、横軸は基板
上の位置、Ｄｘは１パルスで同時に照射される基板上の
幅を表す。コヒーレントな光源のため干渉縞が発生して
おり強度の山と谷のグラフ３１が発生している。
【００１０】次にこの基板が３パルスで露光を完了する
例を図６に示す。図６（Ａ）は同じく走査方向断面での
３パルスの照射状態を表す図である。グラフ４１，４
２，４３は１パルスづつでの光強度分布であり、それぞ
れの強度のピーク位置が均等にずれているような走査速
度の場合である。図６（Ｂ）は、この場合の積算された
光強度分布を示した図であり、１パルスのときよりも照
度の均一化が進んでいる。
【００１１】図７（Ａ）は同じく走査方向断面での３パ
ルスの照射状態を表す図である。グラフ５１，５２，５
３は１パルスづつでの光強度分布であるが、強度のピー
ク位置が均等にずれていないような走査速度の場合であ
る。図７（Ｂ）は、この場合の積算された光強度分布を
示した図であり、１パルスのときよりも更に均一化は悪
化している。
【００１２】以上述べた例は走査方向断面での強度分布
についてであるが、走査直交方向に対しても干渉縞によ
る強度の不均一性が発生している。図５（Ｂ）はそれを
表した図であり、図５（Ａ）と同様に、縦軸は強度、横
軸は非走査方向の位置、Ｄｙは走査直交方向の基板上の
照射幅を表している。コヒーレンスの異方性のある光束
を放射する光源を使用すると、照明装置に用いるオプテ
ィカルインテグレータの構成にもよるが、一般的にはコ
ヒーレンスの高い方向にビジビリティーの高い干渉縞が
発生する。
【００１３】図５〜図７の例では走査方向とコヒーレン
スの高い方向を一致した例であり、従って走査直交方向
の干渉縞は走査方向よりもビジビリティーが低い。しか
しながら、この干渉縞は走査による自然な均一化はのぞ
めないので、程度によっては問題となる。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】走査型投影露光装置で
はウエハ面を適切なる均一の照度分布で露光すること
が、大画面化を図りつつ、投影解像力を向上させる為の
大きな要素となっている。特にエキシマレーザー等のコ
ヒーレントなパルス光束を放射する光源からの照明光束
でマスクやレチクル等の回路パターンを照明する場合、
照明系を通過する間にスペックルパターンと呼ばれる干
渉縞が発生して、これによって被照射面（マスク）上に
照度むらが発生して、解像力を低下させる大きな原因と
なっていた。
【００１５】本発明はコヒーレントな照明光束でマスク
面（第１物体）を照明し、該マスク面のパターンを投影
光学系によりウエハ（第２物体）上に走査露光方式を利
用して投影露光する際、照明系の一部に所定の方向に屈
折力を有する２つのオプティカルインテグレータを走査
方向とそれと直交する走査直交方向とで駆動可能に設け
ることによって照明光束を２方向で振動させることによ
って、第１物体面上の照度むらの低減化を図り、高解像
力でしかも大画面への投影露光を容易にした照明装置及
びそれを用いた走査型露光装置の提供を目的とする。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明の照明装置は、 （１−１）光源からの光束をビーム整形光学系を介して
所定形状のビーム形状に整形した後に、光軸と直交する
第１平面内において屈折力を有し、該第１平面内におい
て駆動可能な第１オプティカルインテグレータと該第１
平面と直交する第２平面内において屈折力を有し、該第
２平面内において駆動可能な第２オプティカルインテグ
レータとを有する照度均一化手段を介して被照射面を照
射していることを特徴としている。
【００１７】特に、 (1-1-1) 前記第２オプティカルインテグレータの出射面
近傍には複数の２次光源が形成されており、該複数の２
次光源からの光束が照明光学系を介して被照射面で各々
重ね合わさるようにして被照射面を照明していること、 (1-1-2) 前記第１、第２オプティカルインテグレータを
構成するレンズ要素の出射側の開口数を異ならしめて所
望の形状の照明領域を形成していること、 (1-1-3) 前記光源はコヒーレントなパルス光を出射して
おり、該光源のパルス発光に同期させて、前記第１、第
２オプティカルインテグレータを駆動させていること、 (1-1-4) 前記光源は異方性を有するコヒーレントなパル
ス光を出射しており、前記第１、第２オプティカルイン
テグレータを駆動させて被照射面上における該第１、第
２オプティカルインテグレータの駆動方向における照度
分布を均一化していること等を特徴としている。
【００１８】本発明の走査型投影露光装置は、 （２−１）照明装置からの照明光束で第１可動ステージ
に載置した第１物体面上のパターンを照明し、該第１物
体面上のパターンを投影光学系により第２可動ステージ
に載置した第２物体面上に該第１可動ステージと該第２
可動ステージを光軸と直交する第１方向に該投影光学系
の投影倍率に対応させた速度比で同期させて相対的に走
査させながら投影露光する走査型投影露光装置におい
て、該照明装置は光源からの光束をビーム整形光学系を
介して所定形状のビーム形状に整形した後に、該第１方
向に屈折力を有し、該第１方向に駆動可能な第１オプテ
ィカルインテグレータと該第１方向と直交する第２方向
に駆動可能な第２オプティカルインテグレータとを有す
る照度均一化手段を介して該第１物体面上を照明してい
ることを特徴としている。
【００１９】特に、 (2-1-1) 前記第２オプティカルインテグレータの出射面
近傍には複数の２次光源が形成されており、該複数の２
次光源からの光束が照明光学系を介して該第１物体面で
各々重ね合わさるようにして第１物体面を照明している
こと、 (2-1-2) 前記第１、第２オプティカルインテグレータを
構成するレンズ要素の出射側の開口数を異ならしめて所
望の形状の照明領域を形成していること、 (2-1-3) 前記光源はコヒーレントなパルス光を出射して
おり、該光源のパルス発光に同期させて、前記第１、第
２オプティカルインテグレータを駆動させていること、 (2-1-4) 前記光源は異方性を有するコヒーレントなパル
ス光を出射しており、前記第１、第２オプティカルイン
テグレータを駆動させて被照射面上における該第１、第
２オプティカルインテグレータの駆動方向における照度
分布を均一化していること等を特徴としている。
【００２０】本発明のデバイスの製造方法は、構成要件
（２−１）の走査型露光装置を用いて投影露光したウエ
ハを現像処理工程を介して製造していることを特徴とし
ている。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１，図２は本発明の照明装置を
用いた走査型の投影露光装置の実施形態１の要部概略図
である。図１は第１平面（走査断面）としてのＸ−Ｚ平
面、図２は第２平面（走査直交断面）としてのＹ−Ｚ平
面を示している。
【００２２】同図において、１は水銀ランプやエキシマ
レーザ等のコヒーレント光、又は／及びパルス光を放射
する光源である。２はビームコンプレッサ等を含んだビ
ーム整形光学系であり、光源１からの光束を所定のビー
ム形状に整形して光量調整手段３に導光している。光量
調整手段３で光量調整した光束を照度分布の均一化を図
る為の照度均一化手段６の一要素を構成する第１オプテ
ィカルインテグレータ２０の光入射面２０ａへ入射させ
ている。
【００２３】照度均一化手段６は図１の走査方向断面
（Ｘ−Ｚ平面）で屈折力を有するレンズ要素の集合体か
ら成る第１オプティカルインテグレータ２０と図２の走
査方向と直交する走査直交断面（Ｙ−Ｚ平面）で屈折力
を有するレンズ要素の集合体から成る第２オプティカル
インテグレータ２２とを有している。そして第１オプテ
ィカルインテグレータ２０は駆動手段２１によって、例
えば光源１のパルス発光に同期させて走査方向断面内で
駆動可能となっており、また第２オプティカルインテグ
レータ２２は駆動手段２３によって同時に走査直交断面
内で駆動可能となっている。
【００２４】本実施形態では走査方向（Ｘ方向）が第１
方向、それと直交する走査直交方向（Ｙ方向）が第２方
向となっている。第１オプティカルインテグレータ２０
の入射面２０ａに入射した光束は第２オプティカルイン
テグレータ２２に入射し、その出射面２２ｂに複数の２
次光源を形成している。また第１、第２オプティカルイ
ンテグレータ２０，２２を構成するレンズ素子の出射側
の開口数を異ならしめて所望の形状の照明領域を形成し
ている。
【００２５】７はコンデンサーレンズ（照明光学系）で
あり、第２オプティカルインテグレータ２２の出射面２
２ｂ近傍に形成した複数の２次光源からの各光束を各々
集光して絞り８面上を重ね合わせるようにして照明して
いる。絞り８はその開口形状が任意に変えられる変更手
段を有している。９は絞り結像レンズであり、絞り８の
開口形状を被照射面上に設けたマスク１０上に投影して
いる。マスク１０面上の照明領域は絞り８の開口形状と
相似形をなしている。
【００２６】１２は投影レンズ（投影光学系）であり、
マスク１０面上のパターンを感光基板（ウエハ）１３面
上に投影している。１１は駆動手段（マスク駆動手段）
であり、マスク１０を駆動している。１４は駆動手段
（ウエハ駆動手段）でありウエハ１３を駆動している。
【００２７】本実施形態ではレジスト等の感光体を塗布
したウエハ１３上にマスク１０上の回路パターンを投影
レンズ１２を介してステップアンドスキャン方式で投影
露光している。ステップアンドスキャン方式の露光装置
では、マスク１０上のパターンを一括して照明するので
はなく、絞り８を利用して照明エリアを例えばスリット
状にしている。そして照明エリアの内部に位置するマス
ク１０上のパターンを投影レンズ１２を介してウエハ１
３上の露光エリアに転写している。
【００２８】マスク１０はマスクステージ上に載置され
ており、駆動手段１１によって例えばＸ方向にスキャン
している。ウエハ１３は可動ステージ（ウエハステー
ジ）上に載置されており、該可動ステージは駆動手段１
４によってＸ方向のマスク１０と逆方向にスキャンして
いる。尚、マスク１０とウエハ１３は投影レンズ１２の
投影倍率に対応させた速度比で同期して互いに逆方向に
スキャンしている。
【００２９】本実施形態において、光源１としてコヒー
レントな異方性のある光束を出射する光源を用いると、
それらが干渉を起こし、ウエハ１３面上に干渉縞（スペ
ックルパターン）が発生して被照射面（マスク１０）の
照度分布が不均一になってくる。
【００３０】そこで本実施形態では、照度均一化手段６
を構成する第１オプティカルインテグレータ２０を走査
方向に駆動することで被照射面（１３）上の干渉縞を走
査方向に移動している。これによってオプティカルイン
テグレータが１つの場合において、そのオプティカルイ
ンテグレータを走査方向に駆動した場合と等価な効果を
得ている。そして走査方向に対して照度分布を十分に均
一化している。同様に第２オプティカルインテグレータ
２２を走査直交方向に駆動することで被照射面（１３）
上の干渉縞を走査直交方向に移動している。これによっ
て被照射面上の走査直交方向に対して照度分布を十分に
均一化している。
【００３１】以上のように本実施形態では、光源のコヒ
ーレンスの異方性により照明領域中の、走査方向とそれ
と走査直交方向のどちらの干渉縞のビジビリティーが高
くても、各々の方向の照度分布を独立して均一化し、こ
れによって照度分布をバランスよく十分に均一化してい
る。
【００３２】また露光量調整のための走査速度やマスク
１０を照明するスリット幅を変化させたときには第１オ
プティカルインテグレータ２０の駆動のみを調整すれば
よく、これによれば照度分布を容易に均一化することが
できる。
【００３３】このように本実施形態では、第１及び第２
のオプティカルインテグレータ２０，２２を各々個別に
駆動手段２１，２３で駆動することで基板１３上に照射
される照明領域中の干渉縞等を自在に移動させている。
これによって光源１から発振するパルス光のパルス発振
に同期して各々のオプティカルインテグレータの位置を
コントロールすることで、基板１３上の走査方向と走査
直交方向においてほぼ均一な照明を可能としている。
【００３４】尚、本実施形態においてオプティカルイン
テグレータの具体的な構成としては、例えばシリンドリ
カルレンズや回折型光学素子、マイクロレンズアレイ等
が適用できる。
【００３５】次に上記説明した走査型の投影露光装置を
利用した半導体デバイスの製造方法の実施形態を説明す
る。
【００３６】図３は半導体デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、或いは液晶パネルやＣＣＤ等）の製造の
フローを示す。
【００３７】ステップ１（回路設計）では半導体デバイ
スの回路設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では
設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。
【００３８】一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリ
コン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、前記用意したマ
スクとウエハを用いてリソグラフィ技術によってウエハ
上に実際の回路を形成する。
【００３９】次のステップ５（組立）は後工程と呼ば
れ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導
体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシ
ング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。
【００４０】ステップ６（検査）ではステップ５で作製
された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト
等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイス
が完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００４１】図４は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。
【００４２】ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に
電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打
込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では前記説明した露光装置によってマ
スクの回路パターンをウエハに焼付露光する。
【００４３】ステップ１７（現像）では露光したウエハ
を現像する。ステップ１８（エッチング）では現像した
レジスト以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジス
ト剥離）ではエッチングがすんで不要となったレジスト
を取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことに
よってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００４４】本実施形態の製造方法を用いれば、従来は
製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを容易に製
造することができる。
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば以上のように、コヒーレ
ントな照明光束でマスク面（第１物体）を照明し、該マ
スク面のパターンを投影光学系によりウエハ（第２物
体）上に走査露光方式を利用して投影露光する際、照明
系の一部に所定の方向に屈折力を有する２つのオプティ
カルインテグレータを走査方向とそれと直交する走査直
交方向とで駆動可能に設けることによって照明光束を２
方向で振動させることによって、第１物体面上の照度む
らの低減化を図り、高解像力でしかも大画面への投影露
光を容易にした照明装置及びそれを用いた走査型露光装
置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の照明装置を用いた走査型投影露光装置
の実施形態１のＸＺ断面図
【図２】本発明の照明装置を用いた走査型投影露光装置
の実施形態１のＹＺ断面図
【図３】本発明のデバイスの製造方法のフローチャート
【図４】本発明のデバイスの製造方法のフローチャート
【図５】１パルスでの基板上の走査方向断面と、それと
直交する走査直交方向断面での光強度分布
【図６】基板上の３パルスによる露光と３パルスが積算
された光強度分布を表す図
【図７】基板上の３パルスによる露光と３パルスが積算
された光強度分布を表す図
【符号の説明】
１ 光源 ２ 光束整形光学系 ３ 光量調整手段 ４ オプティカルインテグレータ ５ 駆動手段 ６ 照度均一化手段 ７ コンデンサーレンズ ８ 絞り ９ 絞り面結像レンズ １０ マスク １１ マスク駆動手段 １２ 投影光学系 １３ 基板 １４ 基板駆動手段 ２０ 第１オプティカルインテグレータ ２１ 第１駆動手段 ２２ 第２オプティカルインテグレータ ２３ 第２駆動手段

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光源からの光束をビーム整形光学系を介
    して所定形状のビーム形状に整形した後に、光軸と直交
    する第１平面内において屈折力を有し、該第１平面内に
    おいて駆動可能な第１オプティカルインテグレータと該
    第１平面と直交する第２平面内において屈折力を有し、
    該第２平面内において駆動可能な第２オプティカルイン
    テグレータとを有する照度均一化手段を介して被照射面
    を照射していることを特徴とする照明装置。
  2. 【請求項２】 前記第２オプティカルインテグレータの
    出射面近傍には複数の２次光源が形成されており、該複
    数の２次光源からの光束が照明光学系を介して被照射面
    で各々重ね合わさるようにして被照射面を照明している
    ことを特徴とする請求項１の照明装置。
  3. 【請求項３】 前記第１、第２オプティカルインテグレ
    ータを構成するレンズ要素の出射側の開口数を異ならし
    めて所望の形状の照明領域を形成していることを特徴と
    する請求項１又は２の照明装置。
  4. 【請求項４】 前記光源はコヒーレントなパルス光を出
    射しており、該光源のパルス発光に同期させて、前記第
    １、第２オプティカルインテグレータを駆動させている
    ことを特徴とする請求項１，２又は３の照明装置。
  5. 【請求項５】 前記光源は異方性を有するコヒーレント
    なパルス光を出射しており、前記第１、第２オプティカ
    ルインテグレータを駆動させて被照射面上における該第
    １、第２オプティカルインテグレータの駆動方向におけ
    る照度分布を均一化していることを特徴とする請求項
    １，２又は３の照明装置。
  6. 【請求項６】 照明装置からの照明光束で第１可動ステ
    ージに載置した第１物体面上のパターンを照明し、該第
    １物体面上のパターンを投影光学系により第２可動ステ
    ージに載置した第２物体面上に該第１可動ステージと該
    第２可動ステージを光軸と直交する第１方向に該投影光
    学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させて相対的
    に走査させながら投影露光する走査型投影露光装置にお
    いて、該照明装置は光源からの光束をビーム整形光学系
    を介して所定形状のビーム形状に整形した後に、該第１
    方向に屈折力を有し、該第１方向に駆動可能な第１オプ
    ティカルインテグレータと該第１方向と直交する第２方
    向に駆動可能な第２オプティカルインテグレータとを有
    する照度均一化手段を介して該第１物体面上を照明して
    いることを特徴とする走査型投影露光装置。
  7. 【請求項７】 前記第２オプティカルインテグレータの
    出射面近傍には複数の２次光源が形成されており、該複
    数の２次光源からの光束が照明光学系を介して該第１物
    体面で各々重ね合わさるようにして第１物体面を照明し
    ていることを特徴とする請求項６の走査型投影露光装
    置。
  8. 【請求項８】 前記第１、第２オプティカルインテグレ
    ータを構成するレンズ要素の出射側の開口数を異ならし
    めて所望の形状の照明領域を形成していることを特徴と
    する請求項６又は７の走査型投影露光装置。
  9. 【請求項９】 前記光源はコヒーレントなパルス光を出
    射しており、該光源のパルス発光に同期させて、前記第
    １、第２オプティカルインテグレータを駆動させている
    ことを特徴とする請求項６，７又は８の走査型投影露光
    装置。
  10. 【請求項１０】 前記光源は異方性を有するコヒーレン
    トなパルス光を出射しており、前記第１、第２オプティ
    カルインテグレータを駆動させて被照射面上における該
    第１、第２オプティカルインテグレータの駆動方向にお
    ける照度分布を均一化していることを特徴とする請求項
    ６，７又は８の走査型投影露光装置。
  11. 【請求項１１】 請求項６から１０のいずれか１項記載
    の走査型投影露光装置を用いてデバイスを製造すること
    を特徴とするデバイスの製造方法。
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