JP5044264B2 - パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 - Google Patents
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Description
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (26)
- リソグラフィシステムにおいてパターニング用デバイスまたは該パターニング用デバイスの手前に配置される絞りを照明するための照明光学系であって、
入射したビームから複数のビームを生成する光学素子と、
第1レンズアレイ及び第2レンズアレイを含むリレー部であって、第1レンズアレイの個々のレンズがそれぞれ前記複数のビームのいずれか一部分の入射を受け、入射したビームを第2レンズアレイの対応するレンズへと入射させるリレー部と、
第2レンズアレイのレンズ数及びレンズ配列に対応しており、各々が第2レンズアレイの対応レンズからのビームを受光する複数のロッドであって、各ロッドの断面形状は当該ロッドの出射端でのビームの形状を定め、各ロッドが当該ロッド内部での複数回の反射によって入射端よりも均一化された放射照度を出射端に提供する複数のロッドと、
前記ロッドのロッド数及びロッド断面形状に対応する複数の目標エリアを含む前記パターニング用デバイスまたは前記絞りを備える対象物であって、各目標エリアが対応ロッドからのビームを該エリア境界の内側で実質的に受光する対象物と、を備え、
前記各ロッドの断面形状は、前記各目標エリアの形状に合わされていることを特徴とする光学系。 - 前記光学素子は回折光学素子または屈折光学素子を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第1レンズアレイ及び第2レンズアレイはフライアイレンズアレイを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 各ロッドはガラス製ロッドを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 各ロッドは反射性内壁を有する中空ロッドを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記リレー部は前記光学素子と前記複数のロッドとの間で像を縮小することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記対象物は前記絞りを含み、前記目標エリアは該絞りの透過領域を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記パターニング用デバイスは、前記絞りの透過領域に数及び形状が対応する動作領域を含み、
前記照明光学系は、前記絞りの透過領域から前記パターニング用デバイスの対応動作領域へと光を入射させる第2リレー部をさらに備え、
該第2リレー部は、前記対応動作領域の境界の実質的内側に光を入射させることを特徴とする請求項7に記載の光学系。 - 前記目標エリアは前記パターニング用デバイスの動作領域を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記パターニング用デバイスは個別制御可能素子のアレイを含み、各個別制御可能素子は動作領域を含むことを特徴とする請求項9に記載の光学系。
- 前記複数のロッドとパターニング用デバイスとの間に配置されている第2リレー部をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記リレー部は前記複数のビームの両側テレセントリック性を保持することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第1レンズアレイ及び第2レンズアレイはマイクロレンズアレイを含むことを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第2レンズアレイの対応レンズからのビームにより各ロッドの入射端全体が実質的に照明されることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記リレー部は前記複数のロッドの入射端が位置する平面またはその近傍に前記光学素子の像を形成することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第2レンズアレイの対応レンズからのビームにより各ロッドの入射端が部分的に照明されることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 放射ビームを生成する放射源と、
前記放射ビームを処理して複数の放射ビームを生成し、
瞳形成素子と、
コンデンサレンズと、
フィールド形成素子と、
第1レンズアレイ及び第2レンズアレイを備える第1リレー部と、
各々が入射端よりも均一化された放射照度を当該ロッド内部での複数回の反射によって出射端に提供するロッドであり、各ロッドの断面形状は当該ロッドの出射端でのビームの形状を定める複数のロッドと、
透過領域を有する絞りと、
第2リレー部と、
を備え、前記各ロッドの断面形状は、前記透過領域の形状に合わされている照明光学系と、
前記複数の放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスと、
パターンが付与されたビームを基板に投影する投影光学系と、を備え、
前記複数のロッドのロッド数及びロッド配列が前記第2レンズアレイのレンズ数及びレンズ配列に対応していることを特徴とするリソグラフィシステム。 - 放射ビームを生成する放射源と、
前記放射ビームを処理して複数の放射ビームを生成し、
瞳形成素子と、
コンデンサレンズと、
フィールド形成素子と、
第1レンズアレイ及び第2レンズアレイを備える第1リレー部と、
各々が入射端よりも均一化された放射照度を当該ロッド内部での複数回の反射によって出射端に提供するロッドであり、各ロッドの断面形状は当該ロッドの出射端でのビームの形状を定める複数のロッドと、
透過領域を有する絞りと、
第2リレー部と、
を備え、前記各ロッドの断面形状は、前記透過領域の形状に合わされている照明光学系と、
前記複数の放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスと、
パターンが付与されたビームを基板に投影する投影光学系と、を備え、
前記透過領域の数、配列、及び形状が前記複数のロッドのロッド数、ロッド配列、及びロッド断面形状に対応していることを特徴とするリソグラフィシステム。 - 前記パターニング用デバイスは、各々が動作領域を有する個別制御可能素子のアレイを含んでおり、各動作領域の数、配列、及び形状は前記透過領域の数、配列、及び形状に対応していることを特徴とする請求項17または18に記載のリソグラフィシステム。
- 前記複数のロッドはガラス製ロッドまたは中空ロッドを備えることを特徴とする請求項17または18に記載のリソグラフィシステム。
- 前記第1及び第2レンズアレイは、第1及び第2のフライアイレンズアレイまたは第1及び第2のマイクロレンズアレイを含むことを特徴とする請求項17または18に記載のリソグラフィシステム。
- リソグラフィシステムにおいてパターニング用デバイスまたは該パターニング用デバイスの手前に配置される絞りを照明する方法であって、
光学素子を用いてビーム群を生成し、
第1レンズアレイの各レンズでビーム群を受け、
第1レンズアレイを用いて第2レンズアレイの対応レンズへとビーム群を向け、
第2レンズアレイを用いて第2レンズアレイのレンズ数及びレンズ配列に対応している複数のロッドの対応ロッドへとビーム群を向け、
複数のロッドを用いて複数のロッドのロッド数及びロッド断面形状に対応する数及び形状である複数の目標エリアを有する前記パターニング用デバイスまたは前記絞りを備える対象物の対応目標エリアの境界の実質的内側へとビーム群を向けることを含み、
前記複数のロッドは各々が入射端よりも均一化された放射照度を当該ロッド内部での複数回の反射によって出射端に提供し、各ロッドの断面形状は当該ロッドの出射端でのビームの形状を定めるロッドであり、前記各ロッドの断面形状は、前記対応目標エリアの形状に合わされていることを特徴とする方法。 - 対象物の目標エリアとして絞りの透過領域を用いることをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
- リレー光学系を用いて透過領域からパターニング用デバイスの動作領域へとビーム群を向け、
パターニング用デバイスの動作領域を用いてビーム群にパターンを付与し、
パターンが付与されたビームを基板に投影することをさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の方法。 - 基板として半導体ウエハまたはフラットパネルガラス基板を用いることをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
- 対象物の目標エリアとしてパターニング用デバイスの動作領域を用いることをさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の方法。
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