JP2008034813A - 非偏光を生成するシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】偏光ビームから非偏光ビームを生成するためのシステムと方法が用いられる。当該システムは放射源と非偏光システムを備える。放射源は直線偏光ビームを生成する。非偏光システムは、第1光路および第2光路を備え、直線偏光ビームを分割する。分割された第1ビームは、第1光路長を有する第1光路に沿って進む。分割された第2ビームは、光路長が異なる第2光路長を有する第2光路に沿って進む。分割された第1ビームと第2ビームは、非偏光ビームを生成するために合成される。
【選択図】図5
Description
図5、6及び7は、非偏光システムUPSを含む各種の放射生成システム500、600及び700をそれぞれ示す。
図8は、本発明の一実施形態に係る非偏光システムUPSを示す。非偏光システムUPSは、2分の1波長板802、ビームスプリッタ804、パターン変更部806及び合成部808を備える。なお、2分の1波長板802は省略されてもよい。
図13は、本発明の一実施形態に係る非偏光の生成方法1300を示すフローチャートである。方法1300は、非偏光504を生成する上述のシステムのいずれを用いて実行されてもよい。
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (38)
- 直線偏光ビームを生成する放射源と、
非偏光システムと、
を備え、
前記非偏光システムは、
前記直線偏光ビームを第1ビームと第2ビームとに分割するスプリッタと、
第1光路長を有し、分割された第1ビームが沿って進む第1光路と、
光路長が異なる第2光路長を有し、分割された第2ビームが沿って進む第2光路と、
第1ビームと第2ビームを合成し、非偏光ビームを形成する合成部と、
を備えることを特徴とするシステム。 - 前記非偏光システムは、前記スプリッタの上流に位置する2分の1波長板であって、前記非偏光ビームにおける複数の偏光方向間のビーム強度を調整する2分の1波長板をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記スプリッタは、偏光ビーム分割システムであって、前記直線偏光ビームの各偏光方向に従って当該直線偏光ビームを分割するシステムであり、
前記合成部は、偏光ビーム合成システムであって、分割された第1ビームと第2ビームをそれぞれの各偏光方向に従って合成するシステムであることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記偏光ビーム分割システムは、キューブ状のビームスプリッタであり、
前記偏光ビーム合成システムは、キューブ状のビーム合成部であることを特徴とする請求項3に記載のシステム。 - 前記偏光ビーム分割システムは、
ビームスプリッタと、
反射装置と、
を備え、
前記偏光ビーム合成システムは、
ビーム合成部と、
反射装置と、
を備えることを特徴とする請求項3に記載のシステム。 - 前記非偏光システムは、
前記第1光路を構成する光学素子と、
前記第2光路を構成するガス空間と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記ガス空間は、真空であるまたは空気を含んでいることを特徴とする請求項6に記載のシステム。
- 前記第1光路と前記第2光路のうちの少なくとも1つの光路長は、前記直線偏光ビームの時間的コヒーレンス長よりも長いことを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記第1光路と前記第2光路は相互に屈折率の異なる部位を有することによって、前記第1光路長と前記第2光路長とが異なることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記非偏光ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスと、
パターンが付与されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影系と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記非偏光ビームを処理し、当該非偏光ビームをパターニング用デバイスに向ける照明系をさらに備えることを特徴とする請求項10に記載のシステム。
- 前記照明系は、
前記放射源と
前記非偏光システムと、
を備えることを特徴とする請求項11に記載のシステム。 - 照明放射ビームを生成する照明系と、
前記照明放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスと、
パターンが付与されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影系と、
を備え、
前記照明系は、
放射源と、
非偏光システムと、
を備え、
前記非偏光システムは、
スプリッタと、
第1光路及び第2光路と、
合成部と、
を備えることを特徴とする露光システム。 - 前記非偏光システムは、前記スプリッタの上流に位置する2分の1波長板であって、前記非偏光ビームにおける複数の偏光方向間のビーム強度を調整する2分の1波長板をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の露光システム。
- 前記スプリッタは、偏光ビーム分割システムであって、前記放射源により生成された直線偏光ビームを各偏光方向に従って第1ビームと第2ビームとに分割するシステムであり、
前記合成部は、偏光ビーム合成システムであって、分割された第1ビームと第2ビームをそれぞれの各偏光方向に従って合成するシステムであることを特徴とする請求項13に記載の露光システム。 - 前記非偏光システムは、
前記第1光路を構成する光学素子と、
前記第2光路を構成し、ガスを含む空間と、
をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の露光システム。 - 前記第1光路と前記第2光路のうちの少なくとも1つの光路長は、前記直線偏光ビームの時間的コヒーレンス長よりも長いことを特徴とする請求項13に記載の露光システム。
- 前記第1光路と前記第2光路は相互に屈折率の異なる部位を有することによって、前記第1光路長と前記第2光路長とが異なることを特徴とする請求項13に記載の露光システム。
- (a)直線偏光ビームを第1ビームと第2ビームとに分割するステップと、
(b)前記第1ビームを、第1光路長を有する第1光路に沿って進ませるステップと、
(c)前記第2ビームを、光路長が異なる第2光路長を有する第2光路に沿って進ませるステップと、
(d)前記第1光路からの前記第1ビームと前記第2光路からの前記第2ビームを合成し、非偏光ビームを生成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記非偏光ビームにおける複数の偏光方向間の強度を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の方法。
- ステップ(b)は、前記直線偏光ビームの偏光方向に従って行われ、
ステップ(d)は、前記第1ビームと前記第2ビームのそれぞれの偏光方向に従って行われることを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 前記第1光路と前記第2光路のうちの少なくとも1つの光路長は、前記直線偏光ビームの時間的コヒーレンス長よりも長いことを特徴とする請求項19に記載の方法。
- 前記第1光路と前記第2光路は相互に屈折率の異なる部位を有することによって、前記第1光路長と前記第2光路長とが異なることを特徴とする請求項19に記載の方法。
- 前記非偏光ビームにパターンを付与するステップと、
パターンが付与されたビームを基板のターゲット部分に投影するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 請求項24に記載の方法を用いることでウエハ上に集積回路を形成することを特徴とする方法。
- 請求項24に記載の方法を用いることでフラットパネルガラス基板上にフラットパネルデバイスを形成することを特徴とする方法。
- 非偏光ビームを出力するレーザであって、
直線偏光ビームを生成する放射源と、
非偏光システムと、
を備え、
前記非偏光システムは、
前記直線偏光ビームを第1ビームと第2ビームとに分割するスプリッタと、
第1光路長を有し、分割された第1ビームが沿って進む第1光路と、
光路長が異なる第2光路長を有し、分割された第2ビームが沿って進む第2光路と、
前記第1ビームと前記第2ビームを合成し、非偏光ビームを生成する合成部と、
を備えることを特徴とするレーザ。 - 前記非偏光システムは、前記スプリッタの上流に位置する2分の1波長板であって、前記非偏光ビームにおける複数の偏光方向間のビーム強度を調整する2分の1波長板をさらに備えることを特徴とする請求項27に記載のレーザ。
- 前記スプリッタは、偏光ビーム分割システムであって、前記直線偏光ビームの各偏光方向に従って当該直線偏光ビームを分割するシステムであり、
前記合成部は、偏光ビーム合成システムであって、分割された第1ビームと第2ビームをそれぞれの各偏光方向に従って合成するシステムであることを特徴とする請求項27に記載のレーザ。 - 前記非偏光システムは、
前記第1光路を構成する光学素子と、
前記第2光路を構成し、ガスを含む空間と、
をさらに備えることを特徴とする請求項27に記載のレーザ。 - 前記第1光路と前記第2光路のうちの少なくとも1つの光路長は、前記直線偏光ビームの時間的コヒーレンス長よりも長いことを特徴とする請求項27に記載のレーザ。
- 前記第1光路と前記第2光路は相互に屈折率の異なる部位を有することによって、前記第1光路長と前記第2光路長とが異なることを特徴とする請求項27に記載のレーザ。
- 非偏光ビームを出力する照明器であって、
直線偏光ビームを生成する放射源と、
非偏光システムと、
を備え、
前記非偏光システムは、
前記直線偏光ビームを第1ビームと第2ビームとに分割するスプリッタと、
第1光路長を有し、分割された第1ビームが沿って進む第1光路と、
光路長が異なる第2光路長を有し、分割された第2ビームが沿って進む第2光路と、
前記第1ビームと前記第2ビームを合成し、非偏光ビームを生成する合成部と、
を備えることを特徴とする照明器。 - 前記非偏光システムは、前記スプリッタの上流に位置する2分の1波長板であって、前記非偏光ビームにおける複数の偏光方向間のビーム強度を調整する2分の1波長板をさらに備えることを特徴とする請求項33に記載の照明器。
- 前記スプリッタは、偏光ビーム分割システムであって、前記直線偏光ビームの各偏光方向に従って当該直線偏光ビームを分割するシステムであり、
前記合成部は、偏光ビーム合成システムであって、分割された第1ビームと第2ビームをそれぞれの各偏光方向に従って合成するシステムであることを特徴とする請求項33に記載の照明器。 - 前記非偏光システムは、
前記第1光路を構成する光学素子と、
前記第2光路を構成し、ガスを含む空間と、
をさらに備えることを特徴とする請求項33に記載の照明器。 - 前記第1光路と前記第2光路のうちの少なくとも1つの光路長は、前記直線偏光ビームの時間的コヒーレンス長よりも長いことを特徴とする請求項33に記載の照明器。
- 前記第1光路と前記第2光路は相互に屈折率の異なる部位を有することによって、前記第1光路長と前記第2光路長とが異なることを特徴とする請求項33に記載の照明器。
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