JP2009177176A - 偏光制御装置および偏光制御方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】偏光制御ユニットは、放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を調整するよう構成されている。測定アレンジメントは、続いて、放射ビームの一部の偏光状態を測定するよう構成されている。フィードバックユニットは、所望の偏光状態からの、放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正するために、測定された偏光状態に基づいて偏光制御アレンジメントに信号を供給するよう構成されている。例えば、この補正は、確実に放射ビームの一部の偏光状態が所望の偏光状態となる、または所望の偏光状態に戻るようにする。
【選択図】図6
Description
Claims (35)
- 放射ビームの偏光状態を制御する装置であって、
放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を調整するよう構成された偏光制御装置と、
前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するよう構成された測定装置と、
測定された偏光状態に基づいて前記偏光制御装置に信号を供給するよう構成されたフィードバック装置と、を備え、
前記フィードバック装置は、所望の偏光状態からの、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正することを特徴とする装置。 - 前記偏光制御装置の構成要素が、前記偏差を補正するために移動されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記偏光制御装置の構成要素の温度が、前記偏差を補正するために変化されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記偏光制御装置の構成要素の電気的特性が、前記偏差を補正するために変化されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記電気的特性は、前記偏光制御装置の構成要素を横断して印加される電界であることを特徴とする請求項4に記載の装置。
- 前記偏光制御装置の構成要素の位置が、前記偏差を補正するために変化されることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記偏光制御装置は、制御可能な複屈折性を示す構成要素を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記偏光制御装置は、ポッケルスセル、カーセル、またはファラデー変調器を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記偏光制御装置は、複屈折性材料のウェッジを備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記放射ビームの一部を第1成分と第2成分とに分離するよう構成されたビームスプリッタをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記測定装置は、前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するために少なくとも前記第1成分の偏光状態を測定するよう構成されていることを特徴とする請求項10に記載の装置。
- 前記放射ビームの一部を2つの直交成分に分離するよう構成された偏光ビームスプリッタをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記直交成分の各々の強度を検出するよう構成された少なくとも1つの検出器をさらに備えることを特徴とする請求項12に記載の装置。
- 前記フィードバック装置は、前記2つの直交成分の強度間の差を測定する少なくとも1つの構成要素を備えることを特徴とする請求項13に記載の装置。
- 前記フィードバック装置は、前記2つの直交成分の強度の差に応じて、偏光状態制御装置の一部を制御するよう構成された制御装置を備えることを特徴とする請求項14に記載の装置。
- 前記フィードバック装置は、前記偏差に応じて偏光状態制御装置の一部を制御するよう構成された制御装置を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記放射ビームの一部が偏光状態制御装置を通過した後に、前記放射ビームの一部のうち少なくとも一部の方向を向け直して偏光状態制御装置を通過させるリダイレクト装置をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 偏光状態制御装置に供給された前記信号が負の信号であるとき、該信号を反転またはネゲートするよう構成された電子装置を備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 直線偏光放射ビームを非直線偏光放射ビームに変換するよう構成された光学装置をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記光学装置は、4分の1λ波長板であることを特徴とする請求項19に記載の装置。
- 前記測定装置は、前記放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を光学的に測定するよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記測定装置は、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を光学的に測定するよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記測定装置は、偏光状態制御装置の1つまたは複数の構成要素の温度を用いて、前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記測定装置は、偏光状態制御装置の1つまたは複数の構成要素の温度の変化を用いて、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を測定するよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記所望の偏光状態は、直線偏光状態であることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記放射ビームの一部は、放射ビームパルスであることを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 光検光子と、
前記光検光子を通過する前記放射ビームの一部の量を制御するよう構成された光学装置と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 放射ビームを調整するよう構成された照明系と、
前記放射ビームにパターンを付与するよう構成されたパターニング用デバイスと、
パターン付き放射ビームを基板上に投影するよう構成された投影系と、
偏光状態制御装置と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記偏光状態制御装置は、
前記放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を設定するよう構成された偏光制御装置と、
前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するよう構成された測定装置と、
測定された偏光状態に基づいて前記偏光制御装置に信号を供給するよう構成されたフィードバック装置と、を備え、
前記フィードバック装置は、所望の偏光状態からの、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記放射ビームは、複数の放射ビームパルスを備えることを特徴とする請求項28に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームの偏光状態を制御する方法であって、
(a)放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を調整するステップと、
(b)前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するステップと、
(c)測定された偏光状態に基づいて、前記放射ビームの一部の偏光状態の調整を制御して、所望の偏光状態からの、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正するステップと、
を備えることを特徴とする方法。 - ステップ(b)を周期的に繰り返すステップをさらに備えることを特徴とする請求項30に記載の方法。
- ステップ(b)を連続的に繰り返すステップをさらに備えることを特徴とする請求項30に記載の方法。
- ステップ(c)を周期的に繰り返すステップをさらに備えることを特徴とする請求項30に記載の方法。
- ステップ(c)を連続的に繰り返すステップをさらに備えることを特徴とする請求項30に記載の方法。
- (a)放射ビームの少なくとも一部の偏光状態を調整するステップと、
(b)前記放射ビームの一部の偏光状態を測定するステップと、
(c)測定された偏光状態に基づいて、前記放射ビームの一部の偏光状態の調整を制御して、所望の偏光状態からの、前記放射ビームの一部の偏光状態の偏差を補正するステップと、
を備える方法により少なくとも1つのプロセッサを制御する指示を含むコンピュータ読取可能媒体。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012160728A1 (ja) * | 2011-05-23 | 2012-11-29 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
WO2012169090A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
JP2013003277A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | National Institute Of Information & Communication Technology | 波長選択偏波制御器 |
JP2013520820A (ja) * | 2010-02-23 | 2013-06-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2016121756A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
JP2016153893A (ja) * | 2016-02-22 | 2016-08-25 | 株式会社ニコン | 光源装置および露光装置 |
KR20200095189A (ko) * | 2019-01-31 | 2020-08-10 | 전북대학교산학협력단 | 마스크리스 리소그래피 시스템 및 방법 |
US11346791B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-05-31 | Hitachi High-Tech Corporation | Inspection device and inspection method thereof |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8514475B2 (en) * | 2010-10-27 | 2013-08-20 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Electro-optic device with gap-coupled electrode |
DE102013200961A1 (de) * | 2013-01-22 | 2014-07-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Polarisationsmessvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage |
WO2016189650A1 (ja) * | 2015-05-26 | 2016-12-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
JP7059105B2 (ja) * | 2018-05-18 | 2022-04-25 | キヤノン株式会社 | データ処理装置、データ処理方法、プログラム、およびデータ処理システム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03208006A (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-11 | Ando Electric Co Ltd | 偏光制御装置 |
JP2005005521A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、および偏光状態測定装置 |
JP2007180088A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nikon Corp | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
JP2007220767A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2976764A (en) * | 1958-12-04 | 1961-03-28 | American Optical Corp | Polarimeters |
US3532891A (en) * | 1967-12-26 | 1970-10-06 | Trw Inc | Means for stabilization of transverse pockels' cells |
US3780296A (en) * | 1972-12-22 | 1973-12-18 | Rca Ltd | Automatic optical bias control for light modulators |
US3971930A (en) * | 1974-04-24 | 1976-07-27 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Polarization compensator for optical communications |
US3988704A (en) * | 1974-04-26 | 1976-10-26 | Mcdonnell Douglas Corporation | Broadband electrooptical modulator |
US4071751A (en) * | 1976-04-26 | 1978-01-31 | Rca Limited | Automatic optical bias control for light modulators |
JP4048368B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2008-02-20 | Kddi株式会社 | ノイズ抑圧方法及び装置 |
US7408616B2 (en) * | 2003-09-26 | 2008-08-05 | Carl Zeiss Smt Ag | Microlithographic exposure method as well as a projection exposure system for carrying out the method |
US7391499B2 (en) * | 2004-12-02 | 2008-06-24 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7525712B2 (en) * | 2005-09-29 | 2009-04-28 | Teledyne Scientific & Imaging, Llc | Broad spectral range polarization rotator |
-
2009
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03208006A (ja) * | 1990-01-10 | 1991-09-11 | Ando Electric Co Ltd | 偏光制御装置 |
JP2005005521A (ja) * | 2003-06-12 | 2005-01-06 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、および偏光状態測定装置 |
JP2007180088A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Nikon Corp | 照明光学装置、照明光学装置の調整方法、露光装置、およびデバイスの製造方法 |
JP2007220767A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013520820A (ja) * | 2010-02-23 | 2013-06-06 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
KR101469588B1 (ko) * | 2010-02-23 | 2014-12-05 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
WO2012160728A1 (ja) * | 2011-05-23 | 2012-11-29 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
WO2012169090A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2012-12-13 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
JPWO2012169090A1 (ja) * | 2011-06-06 | 2015-02-23 | 株式会社ニコン | 照明方法、照明光学装置、及び露光装置 |
JP2013003277A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | National Institute Of Information & Communication Technology | 波長選択偏波制御器 |
WO2016121756A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 検査装置 |
US10107762B2 (en) | 2015-01-30 | 2018-10-23 | Hitachi High-Technologies Corporation | Examination device |
US10401304B2 (en) | 2015-01-30 | 2019-09-03 | Hitachi High-Technologies Corporation | Examination device |
JP2016153893A (ja) * | 2016-02-22 | 2016-08-25 | 株式会社ニコン | 光源装置および露光装置 |
US11346791B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-05-31 | Hitachi High-Tech Corporation | Inspection device and inspection method thereof |
KR20200095189A (ko) * | 2019-01-31 | 2020-08-10 | 전북대학교산학협력단 | 마스크리스 리소그래피 시스템 및 방법 |
KR102201986B1 (ko) * | 2019-01-31 | 2021-01-12 | 전북대학교산학협력단 | 마스크리스 리소그래피 시스템 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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