JP4637147B2 - 段差付きミラーを利用したパターニング用デバイス、及びそれを使用する方法 - Google Patents
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Description
本発明の種々の実施例を上に記載したが、それらはあくまでも例示であって、それらに限定されるものではない。本発明の精神と範囲に反することなく種々に変更することができるということは、関連技術の当業者には明らかなことである。本発明の範囲と精神は上記で述べた例示に限定されるものではなく、請求項とその均等物によってのみ定義されるものである。
Claims (26)
- 放射ビームを調整する照明系と、
前記放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスと、
パターンが付与されたビームを基板の目標領域に投影する投影系と、を備えるリソグラフィ装置であって、
前記パターニング用デバイスは、制御部と、前記放射ビームにパターンを付与する段差付きミラーのアレイとを備え、該アレイは複数の段差付きミラーを含む組を複数備え、段差付きミラーは前記制御部により互いに関連して制御され、各組において隣接する段差付きミラーは互いに垂直な回転軸及び互いに垂直な段差を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、各組において隣接する段差付きミラーを互いに大きさが等しく逆方向である傾斜角度に回転することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、パターンが付与されたビームに対応する像が基板上でテレセントリックであるよう形成されるように前記アレイを制御することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、均一な偏光照明プロファイルを有する像を基板上で形成するように前記アレイを制御することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 段差付きミラーの段差は4分の1波長の段差であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 段差付きミラーは多種の回転角度値に回転可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、パターンが付与されたビームに対応して形成される基板上での像がレベンソン型位相シフトマスクにより形成される像と等価となるように前記アレイを制御することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 各組において段差付きミラーの第1の対は第1の段差位置を有し、
各組において段差付きミラーの第2の対は第2の段差位置を有し、第1の段差位置と第2の段差位置との違いが波長の半分であることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 放射ビームにパターンを付与するパターニング用デバイスであって、
制御部と、
段差付きミラーのアレイと、を備え、
該アレイは複数の段差付きミラーを含む組を複数備え、段差付きミラーは前記制御部により互いに関連して制御され、各組において隣接する段差付きミラーは互いに垂直な回転軸及び互いに垂直な段差を有することを特徴とするパターニング用デバイス。 - 前記制御部は、各組において隣接する段差付きミラーを互いに大きさが等しく逆方向である傾斜角度に回転することを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 前記制御部は、テレセントリックな像を基板上に形成するように前記アレイを制御することを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 前記制御部は、均一な偏光照明プロファイルを基板またはディスプレイデバイス上で有する像を形成するように前記アレイを制御することを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 段差付きミラーの段差は4分の1波長の段差であることを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 段差付きミラーは多種の回転角度値に回転可能に構成されていることを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 前記制御部は、基板またはディスプレイデバイスでの像がレベンソン型位相シフトマスクにより形成される像と等価となるように前記アレイを制御することを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
- 各組において段差付きミラーの第1の対は第1の段差位置を有し、
各組において段差付きミラーの第2の対は第2の段差位置を有し、第1の段差位置と第2の段差位置との違いが波長の半分であることを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。 - (a)4つの段差付きミラーの組に含まれ第1の段差位置及び第1の回転方向を有する第1の段差付きミラーを第1の回転角度まで回転させ、
(b)前記組に含まれ第2の段差位置及び第2の回転方向を有する第2の段差付きミラーを前記第1の回転角度まで回転させ、
(c)前記組に含まれ第3の段差位置及び第3の回転方向を有する第3の段差付きミラーを前記第1の回転角度と大きさが等しく逆方向の第2の回転角度まで回転させ、
(d)前記組に含まれ第4の段差位置及び第4の回転方向を有する第4の段差付きミラーを前記第2の回転角度まで回転させ、
第1及び第3の段差付きミラーはX軸まわりに回転し、
第2及び第4の段差付きミラーはY軸まわりに回転することを特徴とする方法。 - 4つの段差付きミラーの組を複数用いて放射ビームにパターンを付与することと、
パターンが付与されたビームを対象物の目標領域に投影することと、をさらに備える請求項17に記載の方法。 - 前記対象物は基板またはディスプレイデバイスであることを特徴とする請求項18に記載の方法。
- ステップ(a)乃至(d)はテレセントリックな像を前記対象物に形成することを特徴とする請求項18に記載の方法。
- ステップ(a)乃至(d)は均一な偏光照明プロファイルを有する像を前記対象物に形成することを特徴とする請求項18に記載の方法。
- ステップ(a)乃至(d)における第1乃至第4の段差付きミラーのそれぞれに4分の1波長の段差を形成することをさらに備える請求項17に記載の方法。
- ステップ(a)乃至(d)はレベンソン型位相シフトマスクにより形成される像と等価な像を前記対象物に形成することを特徴とする請求項18に記載の方法。
- 各組において段差付きミラーの第1の対に第1の段差位置を用い、
各組において段差付きミラーの第2の対に第2の段差位置を用い、第1の段差位置と第2の段差位置との違いが波長の半分であることを特徴とする請求項17に記載の方法。 - 段差付きミラーの各組は4つの段差付きミラーを含むことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 段差付きミラーの各組は4つの段差付きミラーを含むことを特徴とする請求項9に記載のパターニング用デバイス。
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