JP2000098619A - 光源装置 - Google Patents
光源装置Info
- Publication number
- JP2000098619A JP2000098619A JP10268094A JP26809498A JP2000098619A JP 2000098619 A JP2000098619 A JP 2000098619A JP 10268094 A JP10268094 A JP 10268094A JP 26809498 A JP26809498 A JP 26809498A JP 2000098619 A JP2000098619 A JP 2000098619A
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- Japan
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- light
- lens
- light source
- source device
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光源から照射される光の使用率が高く、被露
光基板に照射される光の照度を低下させることなく矩形
形状の照射領域を形成することのできる露光装置に用い
られる光源装置を提供する。 【解決手段】 第１レンズ１０６Ｂは、光の光軸に対し
て交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩
形形状レンズ１０６ｂの集合体からなる。第２レンズ１
０６Ｃも第１レンズ１０６Ｂと同様に、光の光軸に対し
て交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩
形形状レンズ１０６ｃの集合体からなる。
光基板に照射される光の照度を低下させることなく矩形
形状の照射領域を形成することのできる露光装置に用い
られる光源装置を提供する。 【解決手段】 第１レンズ１０６Ｂは、光の光軸に対し
て交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩
形形状レンズ１０６ｂの集合体からなる。第２レンズ１
０６Ｃも第１レンズ１０６Ｂと同様に、光の光軸に対し
て交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩
形形状レンズ１０６ｃの集合体からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光源装置に関
し、より特定的には、光の照度分布を向上させながら、
照射領域を矩形形状にすることのできる、露光装置に用
いられる光源装置に関する。
し、より特定的には、光の照度分布を向上させながら、
照射領域を矩形形状にすることのできる、露光装置に用
いられる光源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近
年、露光装置に用いられる光源装置において、フォトマ
スクを通して光を被露光基板に照射す場合平行光束が用
いられるが、その照射領域の形状は、正方形の形状、正
方形に近い形状、または、円形の形状が採用されてい
る。
年、露光装置に用いられる光源装置において、フォトマ
スクを通して光を被露光基板に照射す場合平行光束が用
いられるが、その照射領域の形状は、正方形の形状、正
方形に近い形状、または、円形の形状が採用されてい
る。
【０００３】そのため、光源装置において、集光ミラー
によって集光された光束の位置、または、その前後の位
置において、被露光基板に照射する光の照度分布の向上
のために設けられる集合体レンズの個々のレンズの形状
には、正方形、六角形、または、円形の形状が採用され
ている。
によって集光された光束の位置、または、その前後の位
置において、被露光基板に照射する光の照度分布の向上
のために設けられる集合体レンズの個々のレンズの形状
には、正方形、六角形、または、円形の形状が採用され
ている。
【０００４】たとえば、照射領域の形状が正方形の場
合、図３に示すように集合体レンズ１２０に用いられる
個々のレンズは、Ｗ２＝Ｌ２の正方形の形状を有するレ
ンズ１２０ａの集合体からなる。
合、図３に示すように集合体レンズ１２０に用いられる
個々のレンズは、Ｗ２＝Ｌ２の正方形の形状を有するレ
ンズ１２０ａの集合体からなる。
【０００５】ここで、走査型の露光装置においては矩形
形状の照射領域が必要となる場合がある。この場合に
は、上記光源装置に矩形形状の窓を有する遮光板を用い
て、矩形形状の照射領域を形成する。しかし、矩形形状
の窓を有する遮光板を用いた場合、光源から照射される
光を一部遮断するため、光の使用率が低く、被露光基板
に照射される光の照度が低下する問題が生じる。
形状の照射領域が必要となる場合がある。この場合に
は、上記光源装置に矩形形状の窓を有する遮光板を用い
て、矩形形状の照射領域を形成する。しかし、矩形形状
の窓を有する遮光板を用いた場合、光源から照射される
光を一部遮断するため、光の使用率が低く、被露光基板
に照射される光の照度が低下する問題が生じる。
【０００６】したがって、この発明の目的は、光源から
照射される光の使用率が高く、被露光基板に照射される
光の照度を低下させることなく矩形形状の照射領域を形
成することのできる光源装置を提供することにある。
照射される光の使用率が高く、被露光基板に照射される
光の照度を低下させることなく矩形形状の照射領域を形
成することのできる光源装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に基づいた光源
装置においては、フォトマスクを通して光を被露光基板
に照射することにより、上記フォトマスクに描かれたパ
ターンを上記被露光基板上に転写する露光装置に用いら
れる光源装置であって、光源と、上記光源から照射され
た光を集光するための集光ミラーと、上記集光ミラーに
よって集光された光束の位置、または、その前後の位置
において、上記被露光基板に照射する光の照度分布の向
上のために設けられる複数のレンズからなる集合体レン
ズとを備え、上記集合体レンズの個々の上記レンズは、
上記光の光軸方向から見て矩形形状レンズが用いられ
る。
装置においては、フォトマスクを通して光を被露光基板
に照射することにより、上記フォトマスクに描かれたパ
ターンを上記被露光基板上に転写する露光装置に用いら
れる光源装置であって、光源と、上記光源から照射され
た光を集光するための集光ミラーと、上記集光ミラーに
よって集光された光束の位置、または、その前後の位置
において、上記被露光基板に照射する光の照度分布の向
上のために設けられる複数のレンズからなる集合体レン
ズとを備え、上記集合体レンズの個々の上記レンズは、
上記光の光軸方向から見て矩形形状レンズが用いられ
る。
【０００８】この光源装置によれば、集合体レンズの個
々の上記レンズは、矩形形状レンズが用いられるため矩
形形状の照射領域を形成することが可能になる。また、
光源から照射される光を全て利用できるため、光源から
照射される光の使用率が高く、被露光基板に照射される
光の照度を向上させることが可能になる。
々の上記レンズは、矩形形状レンズが用いられるため矩
形形状の照射領域を形成することが可能になる。また、
光源から照射される光を全て利用できるため、光源から
照射される光の使用率が高く、被露光基板に照射される
光の照度を向上させることが可能になる。
【０００９】上記発明をより好ましい状態で実施するた
めに、以下に示す構成が採用される。たとえば、上記集
合体レンズは、好ましくは、図形収差を小さくするた
め、上記光の光軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置
される第１レンズと第２レンズとを有し、上記第１レン
ズまたは上記第２レンズの少なくともいずれか一方は、
上記光の光軸に対して交差する方向に横切る平面に沿っ
て複数配置される上記矩形形状レンズの集合体からな
る。
めに、以下に示す構成が採用される。たとえば、上記集
合体レンズは、好ましくは、図形収差を小さくするた
め、上記光の光軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置
される第１レンズと第２レンズとを有し、上記第１レン
ズまたは上記第２レンズの少なくともいずれか一方は、
上記光の光軸に対して交差する方向に横切る平面に沿っ
て複数配置される上記矩形形状レンズの集合体からな
る。
【００１０】また、好ましくは、上記フォトマスクを通
して上記被露光基板に照射される光の照射エリアの形状
が、上記上記矩形形状レンズの縦長さ寸法と横長さ寸法
との比に比例する矩形形状となるように、上記集合体レ
ンズを通った広がりを持つ上記光束を平行光束にするた
めの平面ミラーおよび曲面ミラーをさらに含んでいる。
して上記被露光基板に照射される光の照射エリアの形状
が、上記上記矩形形状レンズの縦長さ寸法と横長さ寸法
との比に比例する矩形形状となるように、上記集合体レ
ンズを通った広がりを持つ上記光束を平行光束にするた
めの平面ミラーおよび曲面ミラーをさらに含んでいる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、この発明に基づいた露光装
置に用いられる光源装置の実施の形態について、図を参
照して説明する。
置に用いられる光源装置の実施の形態について、図を参
照して説明する。
【００１２】まず、図１（ａ）、（ｂ）を参照して、本
実施の形態における光源装置１００について説明する。
なお、図１（ａ）は、本実施の形態における光源装置１
００によって得られる照射領域を示す平面図であり、図
１（ｂ）は、本実施の形態における光源装置１００の概
略構成を示す側面図である。
実施の形態における光源装置１００について説明する。
なお、図１（ａ）は、本実施の形態における光源装置１
００によって得られる照射領域を示す平面図であり、図
１（ｂ）は、本実施の形態における光源装置１００の概
略構成を示す側面図である。
【００１３】本実施の形態における光源装置１００は、
光源ボックス１０１を有する。この光源ボックス１０１
には、光源としてのショートアークランプ１０２と、シ
ョートアークランプ１０２から照射される光１０２ａを
集光するための集光ミラー１０３と、集光ミラー１０３
によって集光された光１０２ａを反射させるための平面
ミラー１０４と、集光ミラー１０３によって集光された
光束の位置、または、その前後の位置において、被露光
基板１０９に照射する光の照度分布の向上のために設け
られる複数のレンズからなる集合体レンズ１０６とが設
けられる。
光源ボックス１０１を有する。この光源ボックス１０１
には、光源としてのショートアークランプ１０２と、シ
ョートアークランプ１０２から照射される光１０２ａを
集光するための集光ミラー１０３と、集光ミラー１０３
によって集光された光１０２ａを反射させるための平面
ミラー１０４と、集光ミラー１０３によって集光された
光束の位置、または、その前後の位置において、被露光
基板１０９に照射する光の照度分布の向上のために設け
られる複数のレンズからなる集合体レンズ１０６とが設
けられる。
【００１４】また、光源ボックス１０１の外部には、集
合体レンズ１０６を通った光を反射させるための平面ミ
ラー１０７と、この平面ミラー１０７によって反射され
た光を平行光束１０２Ａにして、被露光基板１０９に照
射する曲面ミラー１０８とが設けられる。曲面ミラー１
０８と被露光基板１０９との間には、所定のパターンが
形成されたフォトマスク２００が配置される。
合体レンズ１０６を通った光を反射させるための平面ミ
ラー１０７と、この平面ミラー１０７によって反射され
た光を平行光束１０２Ａにして、被露光基板１０９に照
射する曲面ミラー１０８とが設けられる。曲面ミラー１
０８と被露光基板１０９との間には、所定のパターンが
形成されたフォトマスク２００が配置される。
【００１５】なお、光源ボックス１０１の内部におい
て、平面ミラー１０４と集合体レンズ１０６との間には
シャッタ１０５が配置される。また、平面ミラー１０４
と平面ミラー１０７とは、光源装置１００の小型化およ
び光源装置１００を用いる装置に適用するために設けら
れるものであって、光源装置１００を構成する上で必須
のものではない。 平行光束１０２Ａの照射領域１１０
は、図１（ａ）に示すように長辺の長さがＷ、短辺の長
さがＬの矩形形状となる。
て、平面ミラー１０４と集合体レンズ１０６との間には
シャッタ１０５が配置される。また、平面ミラー１０４
と平面ミラー１０７とは、光源装置１００の小型化およ
び光源装置１００を用いる装置に適用するために設けら
れるものであって、光源装置１００を構成する上で必須
のものではない。 平行光束１０２Ａの照射領域１１０
は、図１（ａ）に示すように長辺の長さがＷ、短辺の長
さがＬの矩形形状となる。
【００１６】ここで、集合体レンズ１０６の詳細な構造
について、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を参照して説明
する。なお、図２（ａ）は集合体レンズ１０６の平面
図、図２（ｂ）は集合体レンズ１０６の側面図、図２
（ｃ）は集合体レンズ１０６の光源側（Ａ）から見た図
である。
について、図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）を参照して説明
する。なお、図２（ａ）は集合体レンズ１０６の平面
図、図２（ｂ）は集合体レンズ１０６の側面図、図２
（ｃ）は集合体レンズ１０６の光源側（Ａ）から見た図
である。
【００１７】集合体レンズ１０６は、ガイドフレーム１
０６Ａの内部に、図形収差を小さくするために、光の光
軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置される第１レン
ズ１０６Ｂと第２レンズ１０６Ｃとを有している。
０６Ａの内部に、図形収差を小さくするために、光の光
軸方向に沿って所定の間隔を隔てて配置される第１レン
ズ１０６Ｂと第２レンズ１０６Ｃとを有している。
【００１８】第１レンズ１０６Ｂは、光の光軸に対して
交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩形
形状レンズ１０６ｂの集合体からなる。本実施の形態に
おいては、長辺の長さがＷ１、短辺の長さがＬ１の矩形
形状レンズ１０６ｂが３×６個用いられている。
交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される矩形
形状レンズ１０６ｂの集合体からなる。本実施の形態に
おいては、長辺の長さがＷ１、短辺の長さがＬ１の矩形
形状レンズ１０６ｂが３×６個用いられている。
【００１９】第２レンズ１０６Ｃも第１レンズ１０６Ｂ
と同様に、長辺の長さがＷ１、短辺の長さがＬ１の矩形
形状レンズ１０６ｃが３×６個用いられ、光の光軸に対
して交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される
矩形形状レンズ１０６ｃの集合体からなる。
と同様に、長辺の長さがＷ１、短辺の長さがＬ１の矩形
形状レンズ１０６ｃが３×６個用いられ、光の光軸に対
して交差する方向に横切る平面に沿って複数配置される
矩形形状レンズ１０６ｃの集合体からなる。
【００２０】以上のように、第１レンズ１０６Ｂおよび
第２レンズ１０６Ｃに、長辺の長さがＷ１、短辺の長さ
がＬ１の矩形形状レンズ１０６ｂ、１０６ｃを用いるこ
とにより、Ｗ１：Ｌ１＝Ｗ：Ｌとなる矩形形状の照射領
域１１０を形成することが可能になる。また、光源から
照射される光を全て利用できるため、光の使用率が高
く、被露光基板１０９に照射される光の照度を向上させ
ることが可能になる。
第２レンズ１０６Ｃに、長辺の長さがＷ１、短辺の長さ
がＬ１の矩形形状レンズ１０６ｂ、１０６ｃを用いるこ
とにより、Ｗ１：Ｌ１＝Ｗ：Ｌとなる矩形形状の照射領
域１１０を形成することが可能になる。また、光源から
照射される光を全て利用できるため、光の使用率が高
く、被露光基板１０９に照射される光の照度を向上させ
ることが可能になる。
【００２１】なお、今回開示した上記各実施の形態はす
べての点で例示であって制限的なものではないと考えら
れるべきである。よって、本発明の範囲は上記した説明
ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の
範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含ま
れることが意図される。
べての点で例示であって制限的なものではないと考えら
れるべきである。よって、本発明の範囲は上記した説明
ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の
範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含ま
れることが意図される。
【図１】（ａ）は、本実施の形態における光源装置１０
０によって得られる照射領域を示す平面図である。
（ｂ）は、本実施の形態における光源装置１００の概略
構成を示す側面図である。
０によって得られる照射領域を示す平面図である。
（ｂ）は、本実施の形態における光源装置１００の概略
構成を示す側面図である。
【図２】（ａ）は、光源装置１００に用いられる集合体
レンズ１０６の平面図である。（ｂ）は、光源装置１０
０に用いられる集合体レンズ１０６の側面図である。
（ｃ）は、集合体レンズ１０６の光源側（Ａ）から見た
図である。
レンズ１０６の平面図である。（ｂ）は、光源装置１０
０に用いられる集合体レンズ１０６の側面図である。
（ｃ）は、集合体レンズ１０６の光源側（Ａ）から見た
図である。
【図３】従来の技術における光源装置に用いられる集合
体レンズ１２０の光源から見た図である。
体レンズ１２０の光源から見た図である。
１００ 光源装置 １０１ 光源ボックス １０２ ショートアークランプ １０２Ａ 平行光束 １０２ａ 光 １０３ 集光ミラー １０４ 平面ミラー １０５ シャッタ １０６ 集合体レンズ １０６Ａ ガイドフレーム １０６Ｂ 第１レンズ １０６Ｃ 第２レンズ １０６ｂ 矩形形状レンズ １０６ｃ 矩形形状レンズ １０７ 平面ミラー １０８ 曲面ミラー １０９ 被露光基板 １１０ 照射領域 １２０ 集合体レンズ ２００ フォトフレーム
Claims (3)
- 【請求項１】 フォトマスクを通して光を被露光基板に
照射することにより、前記フォトマスクに描かれたパタ
ーンを前記被露光基板上に転写する露光装置に用いられ
る光源装置であって、 光源と、 前記光源から照射された光を集光するための集光ミラー
と、 前記集光ミラーによって集光された光束の位置、また
は、その前後の位置において、前記被露光基板に照射す
る光の照度分布の向上を主な目的に設けられる複数のレ
ンズからなる集合体レンズと、を備え、 前記集合体レンズの個々の前記レンズは、前記光の光軸
方向から見て矩形形状レンズである、光源装置。 - 【請求項２】 前記集合体レンズは、前記光の光軸方向
に沿って所定の間隔を隔てて配置される第１レンズおよ
び第２レンズを有し、 前記第１レンズまたは前記第２レンズの少なくともいず
れか一方は、前記光の光軸に対して交差する方向に横切
る平面に沿って複数配置される前記矩形形状レンズの集
合体からなる、請求項１に記載の光源装置。 - 【請求項３】 前記フォトマスクを通して前記被露光基
板に照射される光の照射エリアの形状が、前記矩形形状
レンズの縦長さ寸法と横長さ寸法との比に比例する矩形
形状となるように、前記集合体レンズを通った広がりを
持つ前記光束を平行光束にするための曲面ミラーをさら
に含む、請求項１または請求項２に記載の光源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10268094A JP2000098619A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10268094A JP2000098619A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000098619A true JP2000098619A (ja) | 2000-04-07 |
Family
ID=17453816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10268094A Withdrawn JP2000098619A (ja) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | 光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000098619A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510341A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
| US6721038B2 (en) | 2000-10-25 | 2004-04-13 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Device for step-and-repeat exposure of a substrate |
| JP2005190954A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Harison Toshiba Lighting Corp | 照明装置 |
| JP2007329455A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 |
| CN101916044A (zh) * | 2010-07-27 | 2010-12-15 | 浙江大学 | 一种用于双四极均匀照明的自由曲面透镜 |
| CN103616801A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-03-05 | 东莞科视自动化科技有限公司 | 一种pcb表面油墨曝光专用高均匀度光源的制备方法及设备 |
-
1998
- 1998-09-22 JP JP10268094A patent/JP2000098619A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510341A (ja) * | 2000-09-29 | 2004-04-02 | カール ツァイス シュティフトゥング トレイディング アズ カール ツァイス | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
| JP4804704B2 (ja) * | 2000-09-29 | 2011-11-02 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 特にマイクロリソグラフィ用の照明光学系 |
| US6721038B2 (en) | 2000-10-25 | 2004-04-13 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Device for step-and-repeat exposure of a substrate |
| JP2005190954A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Harison Toshiba Lighting Corp | 照明装置 |
| JP2007329455A (ja) * | 2006-04-13 | 2007-12-20 | Asml Holding Nv | パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系 |
| CN101916044A (zh) * | 2010-07-27 | 2010-12-15 | 浙江大学 | 一种用于双四极均匀照明的自由曲面透镜 |
| CN103616801A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-03-05 | 东莞科视自动化科技有限公司 | 一种pcb表面油墨曝光专用高均匀度光源的制备方法及设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060110 |