JP2003280209A - 光学装置 - Google Patents

光学装置

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JP2003280209A
JP2003280209A JP2002078734A JP2002078734A JP2003280209A JP 2003280209 A JP2003280209 A JP 2003280209A JP 2002078734 A JP2002078734 A JP 2002078734A JP 2002078734 A JP2002078734 A JP 2002078734A JP 2003280209 A JP2003280209 A JP 2003280209A
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light source
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etendue
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Toshihiko Omori
利彦 大森
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 放電タイプの光源及びこの光源からの光を案
内するファイバー、さらに空間変調素子で制御して所定
のスポット径を生成し、画像を記録、造形等を行なうた
めの光学系において、光源からの光の伝搬効率を向上
し、高生産性を実現する。 【解決手段】 一般なSI型やGI型のマルチモード光
ファイバのコア径は50μm〜100μmであり、高生
産性を実現するために、光源14の光量を増加するとい
った対応では不十分であった。しかし、必要なスポット
像のスポット像、NA並びに空間変調素子30の仕様に
基づいて、逆算して最適な光ファイバ20のコア径を演
算し、かつショートアーク型の光源を使用することで、
従来にない高効率での光の伝搬が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源及びこの点光
源からの光を案内するファイバー、さらにファイバーか
ら出射する光を空間光変調素子で制御し、所定のスポッ
ト径の光ビームを生成して、像を記録、造形等の像形成
を行なうための光学装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】印刷
版、特にPS版と称される感光材料に直接画像を記録す
る画像記録装置が普及しつつある。
【0003】この種の画像記録装置において、印刷版を
回転ドラムの周面に巻付けた状態で高速で回転させなが
ら(主走査)、この回転ドラムの軸線方向に記録ヘッド
を移動させることで(副走査)、前記印刷版の感光層
(乳剤面)に直接レーザビーム等で画像を記録する技術
が開発されてきている(印刷版露光装置)。このような
技術では、印刷版への迅速な画像記録が可能となってい
る(CTP)。
【0004】画像記録に際しては、回転ドラムの回転を
サーボモータを用いてその回転を制御し、回転ドラムの
回転に同期するように画像データを記録ヘッドへ送出し
ている。
【0005】上記CTPにおいては、特殊なPS版が適
用され、光源には通常レーザーが適用される。また、近
年では、一般に適用されているコンベンショナルなPS
版に画像を記録するCTPが知られている。これは、例
えば、UV−CTPと言われている。通常、コンベショ
ナルなPS版は、波長が350nm〜450nmの光に
感度を持っているが、この波長域のレーザーが入手困難
であるため、UV−CTPでは、水銀ランプ(UV光
源)等を光源として適用している。
【0006】上記水銀ランプ等の光源においては、設計
や装置構成の容易さから光ファイバーを利用するシステ
ムが提案されている(一例としてWO9847042
(以下、先行技術という)参照)。
【0007】上記先行技術によれば、光源に水銀ランプ
を使用し、光ファイバーを用いて空間光変調素子を照明
し、画像を記録するシステムが開示されている。
【0008】ところが、上記先行技術に記載されたシス
テムを実際に適用した場合、高生産性を実現するには、
以下のような問題点がある。
【0009】すなわち、光学系に関して、Etendue(以
下、エタンデューという)と呼ばれる概念がある。 (エタンデューについての説明)図4に従い、エタンデ
ューについての詳細を説明する。
【0010】図4は、光源100と、この光源100か
ら照射される光を集光する透過率100%、無収差の理
想的なレンズ102と、レンズ102によって集光され
た像スポット104と、示す光学系であり、光学倍率を
βとすると、像スポット104の面積S2は光源100
の面積S1に対してβ2に比例する。
【0011】S2=β21・・・(1) また、光源100からの出射光における光軸Lに対する
角度θ1と、像スポット104への入射光における光軸
Lに対する角度θ2と、の関係は、角度θ1が角度θ2
対して、倍率βに逆比例する。
【0012】θ2=θ1/β・・・(2) 上記(1)、(2)式から S1θ1 2=S2θ2 2・・・(3) ここで、光源100から照射される光の広がりを示す立
体角Ω1、像スポット104に入射される光の広がりを
示す立体角Ω2は、それぞれθ1 2、θ2 2に比例するた
め、(3)式は以下のようになる。
【0013】Ω1・S1=Ω2・S2・・・(4) すなわち、光源100の面積S1と立体角Ω1の積と、像
スポット104の面積S2と立体角Ω2の積は、一定とな
る。
【0014】ここで、厳密には、理想的なレンズ102
による光束の伝達は、光束をeとすると、 e=∫S∫Ωcosθ・dS・dΩ・・・(5) で表される。θが十分に小さい(F2.5以上)の時に
は,cosθ=1となるため、 e=Ω1・S1≒Ω2・S2・・・(6) ということができる。
【0015】このΩ・SがEtendue(エタンデュー)で
ある.理想的な無収差・透過率100%の光学系を想定
すると、エタンデューは保存される。なお、共役な関係
でなくても、エタンデューは保存されることが知られて
いる。
【0016】前記先行技術のシステムをこのエタンデュ
ーより検討すると、光源側のエタンデューと記録側のエ
タンデューが同じであれば、損失なく光源からの光を全
て利用することができる。
【0017】光源側のエタンデューとは、光源から発す
る光束の空間的な広がりを表し、記録側のエタンデュー
とは、記録面(印刷版)側で受け入れられることのでき
る記録光の広がりを表す。なお、光源側のエタンデュー
は使用する光源によって決まり、記録側のエタンデュー
は記録サイズや記録光の広がりで決まる。
【0018】画像記録システムとして、高生産性を実現
するために、明るい高出力光源を使用しても、一般的な
高出力の光源はアーク長が長くなり、すなわち、光源の
面積が大きくなり、上記エタンデューの値が記録側のエ
タンデューよりも非常に大きくなるため、損失が大きく
なる。
【0019】また、一般的なSI型やGI型のマルチモ
ード光ファイバーは、コア径が50〜100μmで、N
Aは0.2程度であるため、ファイバーのエタンデュー
が非常に小さい。このため、光源のエタンデューと比べ
てもはるかに小さく、光源からの光をファイバーに入射
させるためには、非常に損失が大きくなる。従って、結
果的に光量が得られず高生産性を実現することが困難と
なる。
【0020】本発明は上記事実を考慮し、放電タイプの
光源及びこの光源からの光を案内するファイバー、さら
に空間光変調素子で制御し、所定のスポット径を生成し
て画像を記録、造形等を行なうための光学系において、
光源からの光の伝搬効率を向上し、高生産性を実現する
ことができる光学装置を得ることが目的である。
【0021】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、光源及びこの光源からの光を案内するファイバー、
さらにファイバーから出射する光を空間光変調素子で制
御し、所定のスポット径の光ビームを生成して、像を記
録、造形等の像形成を行なうための光学装置であって、
前記光源の仕様、必要な光ビームのスポット径、前記空
間光変調素子の仕様に基づいて、出力する光ビームの光
量が所望の値となるように、前記光ファイバーのコア径
を設定することを特徴としている。
【0022】請求項1記載の発明によれば、一般にファ
イバーは、低コストでかつ入手が容易なSI型やGI型
のマルチモードファイバでコア径が50〜100μm程
度でNAが0.2程度のものが適用される場合が多い。
この場合、ファイバーの出射口のエタンデューと、スポ
ット径におけるエタンデューとの大きな差が生じ、必要
な光量を得るために単純に光源の光量の増加を図って
も、ある程度まで至ると、後は損失となる。
【0023】そこで、ファイバーのコア径を、光源の仕
様、必要な光ビームのスポット径及びNA前記空間光変
調素子の仕様から逆算して設定することで、損失を最小
限に抑えることができる。また、電極間が短く光源に近
いショートアーク型の放電ランプ等を使用することで、
ファイバ入射時の損失を最小限に抑えることができるの
で、必要以上のパワーの光源を適用する必要もなくな
り、消費電力の面からも省エネを図ることができる。
【0024】請求項2に記載の発明は、前記請求項1に
記載の発明において、前記光ファイバーのコア径が0.
5mm以上であることを特徴としている。
【0025】請求項2に記載の発明によれば、一般的な
SI型やGI型のマルチモード光ファイバーはコア径が
50μm〜100μmであり、エタンデューが極めて小
さい。このため、光源の光量をいくら増加しても、適性
光量が得られなかった。そこで、コア径を0.5mm以
上、好ましくは1.0mm以上とすることで、エタンデ
ューを演算する上での面積を拡大することができ、光ビ
ームのスポット径で必要な光量を得るための光源の光量
を軽減することができる。
【0026】請求項3に記載の発明は、前記請求項1又
は請求項2に記載の発明において、前記光ファイバー
が、クラッドを除くコア径が0.5mm以上となるバン
ドル光ファイバーであることを特徴としている。
【0027】請求項3に記載の発明によれば、SI型や
GI型のマルチモード光ファイバーにおいて一般的なコ
ア径(50μm〜100μm)を適用する場合には、こ
れをクラッドを除くコア径が0.5mm以上、好ましく
は1.0mm以上となるようにバンドルすることで対応
可能である。
【0028】請求項4に記載の発明は、前記請求項1乃
至請求項3の何れか1項記載の発明において、前記光源
がアーク長2.5mm以下のショートアーク型の放電ラ
ンプであることを特徴としている。
【0029】請求項4に記載の発明によれば、ショート
アーク型の放電ランプ、すなわち、光源の電極間が短い
光源に近い光源とすることで、エタンデューの演算時の
面積を小さくすることができ、光ファイバーの入口のエ
タンデューとの差を軽減することができる。
【0030】請求項5に記載の発明は、前記請求項1乃
至請求項4の何れか1項記載の発明において、前記光源
が、ショートアーク型の超高圧水銀ランプ又はメタルハ
ライドランプであることを特徴としている。
【0031】請求項5に記載の発明によれば、前記請求
項4の実施態様であり、具体的に超高圧水銀ランプ又は
メタルハライドランプが適用可能である。
【0032】
【発明の実施の形態】図1には、本実施の形態に係る画
像記録装置10の光学系12が示されている。
【0033】光源14から照射される光は、直接又は発
光点14Aの周囲に設けられたリフレクタ16に反射さ
れて、光ファイバー群18のそれぞれの入力端へ案内さ
れる。
【0034】光源14は、ショートアーク型の放電ラン
プが適用されている。ショートアークの具体的数値、す
なわち電極間の距離は、2.5mm以下である。さらに
具体的には、超高圧水銀ランプやメタルハライドランプ
が適用可能である。
【0035】光ファイバー群18は、複数の光ファイバ
ー20が束ねられて密集配置されている。この密集の構
造としては、六角細密充填構造が好ましい。
【0036】図2に示される如く、光ファイバー20
は、外周を形成するクラッド22と、このクラッド22
の内周面に充填されるコア24との同心二重円構造とな
っており、可撓性を有している。この光ファイバー20
では、コア24が光の伝搬路となって、一端面から入射
した光を、ほとんど損失なく他端面へと案内し、出射さ
せることができる。
【0037】光源14からの光が入射された光ファイバ
ー群18は、所定の屈曲経路を経て、他端面がコンデン
サレンズ26に対向する位置に配置されている。
【0038】このため光ファイバー群18の他端面から
出射した拡散光は、コンデンサレンズ26に入力され
る。コンデンサレンズ26は、拡散光を集光光に変換す
るパワーを持っており、コンデンサレンズ26の下流側
に位置するコリメーティングレンズ(マイクロレンズア
レイ)28を備えた空間光変調素子30に入力されるよ
うになっている。
【0039】空間光変調素子30は、液晶やDMDのよ
うに、細分化された領域(画素)毎に透過率を変更可能
な素子であり、各画素毎に前記コリメーティングレンズ
28が配設されている。なお、本実施の形態に適用され
る空間光変調素子30は、画素サイズが180μm、画
素ピッチが200μm、開口率80%,20×20画素
の仕様となっている。
【0040】空間光変調素子によって制御された各画素
の光はコレメーティングレンズ28によって集光され、
フォーカシングレンズ32を介して、所定の位置に結像
するようになっている。この結像点のスポット径は20
μmでNAは0.3である。
【0041】理論的には、この結像点に記録媒体34を
配置することで、画像の記録が可能であるが、物理的に
困難であるため、リレーレンズ系(テレセントリックレ
ンズ系)36を介して、記録媒体34を配置する構造と
なっている。これにより、記録媒体34上に、前記スポ
ット径が20μm、NA0.3のスポット像を形成する
ことができる。
【0042】上記構成の光学系において、本実施の形態
に適用される光ファイバー20のコア径は、1.0mm
としている。これは、一般的なSI型やGI型のマルチ
モード光ファイバのコア径(50μm〜100μm)よ
りも桁違い(10倍程度)に大きい径である。
【0043】このコア径を設定するにあたり、パラメー
タとして前記記録材料34に形成するスポット像のスポ
ット径(20μm)とNA(0.3)、並びに空間光変
調素子30の仕様を適用している。
【0044】これらは、画像記録装置34を設計する段
階で、要求される解像度や画質、深度などから決まるも
のであり、このような数値から逆算して、前記コア径を
1.0mmと定めている。
【0045】このコア径の演算は、エタンデューの差を
軽減することを目的としている。
【0046】すなわち、光ファイバー20の出射端20
B(ここでは、光源となる)と、記録材料34上のスポ
ット像とエタンデューの差をなくすためには、既に決定
しているスポット像側のエタンデューを演算し、物理的
に可能な範囲における光ファイバー20のコア径を設定
すると、1.0mmとなる。なお、必要なスポット像の
スポット径及びNAにもよるが、画像記録装置全般とし
ては、光ファイバー20のコア径は0.5mm以上が適
性値となる。
【0047】本実施の形態の光学系では、上記光ファイ
バー20の出射端20Bと、スポット像とのエタンデュ
ーの他、光源14と、光ファイバー20の入射端20A
との間のエタンデューを考慮する必要がある。
【0048】すなわち、多くの光量を得るために単純に
光源14の光量を増加しても、この光源14のエタンデ
ューが、光ファイバー20の入射端20Aのエタンデュ
ーとの間で大差があると、増加した分の光が光ファイバ
ー20のコア24に入射せず、損失分を増やすのみとな
る。
【0049】本実施の形態では、前記光ファイバー20
のコア径が決定した時点で、この光ファイバー20のコ
ア径に近づくエタンデューを得るべく、光源14の発光
点14Aにおけるアーク長を2.5mm以下としてい
る。
【0050】すなわち、光源14のエタンデュー(発光
面積×広がり(立体角))を設定する場合、光源の広が
りを制御することは困難である。そこで、アーク長を短
くすることで、発光面積を小さくし、前記光ファイバー
20のコア径での入射端20Aのエタンデューに近づけ
るようにしている。これにより、効率よく光源14から
の光を光ファイバー20のコア24へ入力させることが
できる。
【0051】以下に本実施の形態の作用を説明する。
【0052】画像記録の指示があると、光源14が点灯
し、光を照射する。この光は、発光点14Aから直接又
はリフレクタ16に反射して、光ファイバー20の入射
端20Aへ案内される。
【0053】ここで、光ファイバー20のコア径は、
1.0mmとされており、光源14はこのコア径でのエ
タンデューになるべく近づくように、アーク長を2.5
mm以下とした放電ランプを適用している。光源14の
エタンデューを設定する1つの要素である光の広がりは
制御することは困難である。そこで、上記のようにアー
ク長を短くし、発光点14A自体の面積を小さくするこ
とで、エタンデューを光ファイバー20の入射端20A
のエタンデューに近づけることができる。これにより、
光源14から照射された光は、効率よく光ファイバー2
0のコア24へ入力する。
【0054】光ファイバー群18のそれぞれの光ファイ
バー20のコア24に入射した光は、ほとんど損失な
く、他端面である出射端20Bから発散光となって出射
する。
【0055】この光ファイバー20の出射端20Bから
出射した拡散光は、コンデンサレンズ26によって集光
光に変換され、空間光変調素子30へ入力する。
【0056】空間光変調素子30では、画像データに応
じて各画素が制御され、これに応じて、各画素の光は、
それぞれコリメーティングレンズ28を通過し、フォー
カシングレンズ32によって所定の位置に結像する。
【0057】本実施の形態では、さらにリレーレンズ系
36によって結像点をフォーカシングレンズ32から離
れた位置へ移動させ、このリレーレンズ系36によって
結像される位置に記録材料34が配設されており、露光
等により画像が形成される。
【0058】ここで、記録材料34に形成するスポット
像は、20μm、NA0.3と決められている。一方、
光ファイバー20の出射端20Bを光源とした系で考え
ると、効率よくスポット像を形成するためには、出射端
20Bのエタンデューとスポット像のエタンデューの差
を小さくすることが必要である。この場合、スポット像
に関しては、設計上、優先的に定められるものであり、
変更することは困難である。
【0059】そこで、本実施の形態では、記録材料34
に形成するスポット像のスポット径、NA並びに空間光
変調素子30の仕様に基づいて、光ファイバー20の出
射端20B、すなわちコア径を設定することで、前記エ
タンデューの差を軽減している。
【0060】上記記録材料34に形成するスポット像の
スポット径、NA並びに空間光変調素子30の仕様に基
づく演算の結果で、物理的に可能な光ファイバー20の
コア径は、1.0mmとなる。
【0061】一般的なSI型やGI型のマルチモード光
ファイバのコア径は50μm〜100μmであり、高生
産性を実現するために光源14の光量を増加するといっ
た対応では不十分であった。しかし、本実施の形態で
は、必要なスポット像のスポット像、NA並びに空間光
変調素子30の仕様に基づいて、逆算して最適な光ファ
イバー20のコア径を演算し、かつショートアーク型の
光源を使用することで、従来にない高効率での光の伝搬
が可能となる。
【0062】(第2の実施の形態)上記第1の実施の形
態では、記録材料34に画像を形成(記録)するための
画像記録装置の光学系を示したが、本発明はこのような
画像記録装置10のみならず、図3に示す光造形装置4
0にも適用可能である。なお、前記画像記録装置10に
おける光学系14と同一構成部分については、同一の符
号を付しその構成の説明を省略する。
【0063】この造形装置40は、一括面露光によるワ
ーク引き上げ方式の例であり、空間光変調素子30で制
御された光が、最終段でリレーレンズ系36を透過し、
投影ガラス42に光像を投影するようになっている。
【0064】投影ガラス42上には、光が照射されると
硬化する樹脂液44が満たされた樹脂液槽46が設けら
れている。光が照射され樹脂液44が硬化し、ステージ
48を図3の上方に移動すると、1層分の樹脂液44が
硬化した光硬化造形物50が引き上げられる。これを順
次行なうことで、光造形物50が造形される。
【0065】なお、本実施の形態では、単一の光ファイ
バー20のコア径を1.0mm(0.5mm以上)とし
たが、コア径が50μm〜100μmの一般的なSI型
やGI型のマルチモード光ファイバーを用い、全体のコ
ア径が1.0mmとなるようにバンドルして適用しても
よい。
【0066】
【発明の効果】以上説明した如く本発明では、放電タイ
プの光源及びこの光源からの光を案内するファイバー、
さらに空間光変調素子で制御し、所定のスポット径を生
成して画像を記録、造形等を行なうための光学系におい
て、光源からの光の伝搬効率を向上し、高生産性を実現
することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態に係る画像記録装置の光学系
の概略図である。
【図2】光ファイバーの入射端又は出射端の斜視図であ
る。
【図3】第2の実施の形態に係る光造形装置の光学系の
概略図である。
【図4】エタンデューの考え方を示す光学系の概略図で
ある。
【符号の説明】
10 画像記録装置 12 光学系(光学装置) 14 光源(点光源) 14A 発光点 18 光ファイバー群 20 光ファイバー(ファイバー) 22 クラッド 24 コア 26 コンデンサレンズ 28 コリメーティングレンズ(マイクロレンズアレ
イ) 30 空間光変調素子 32 フォーカシングレンズ 34 記録媒体 36 リレーレンズ系

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源及びこの光源からの光を案内するフ
    ァイバー、さらにファイバーから出射する光を空間光変
    調素子で制御し、所定のスポット径の光ビームを生成し
    て、像を記録、造形等の像形成を行なうための光学装置
    であって、 前記光源の仕様、必要な光ビームのスポット径、前記空
    間光変調素子の仕様に基づいて、出力する光ビームの光
    量が所望の値となるように、前記光ファイバーのコア径
    を設定することを特徴とする光学装置。
  2. 【請求項2】 前記光ファイバーのコア径が0.5mm
    以上であることを特徴とする請求項1記載の光学装置。
  3. 【請求項3】 前記光ファイバーが、クラッドを除くコ
    ア径が0.5mm以上となるバンドル光ファイバーであ
    ることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の光学装
    置。
  4. 【請求項4】 前記光源がアーク長2.5mm以下のシ
    ョートアーク型の放電ランプであることを特徴とする請
    求項1乃至請求項3の何れか1項記載の光学装置。
  5. 【請求項5】前記光源が、ショートアーク型の超高圧水
    銀ランプ又はメタルハライドランプであることを特徴と
    する請求項1乃至請求項4の何れか1項記載の光学装
    置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006343684A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
JP2007329455A (ja) * 2006-04-13 2007-12-20 Asml Holding Nv パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006343684A (ja) * 2005-06-10 2006-12-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd パターン描画装置
JP2007329455A (ja) * 2006-04-13 2007-12-20 Asml Holding Nv パターニング用デバイスへの照明効率を改善する光学系

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