JP2006343684A - パターン描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン描画装置1は、バンドルファイバ41、ランプハウス6、基板9を保持するステージユニット2、複数の描画ヘッド40を有する描画ユニット4、並びに、ステージユニット2と描画ユニット4とを相対的に移動する機構を有する。描画ヘッド40には、反射光を変調する微小ミラー群を有するDMDが設けられ、基板9が描画ヘッド40に対して相対的に移動しつつ、描画ヘッド40から空間変調された光が基板9上へ照射されることによりパターンの描画が行われる。パターン描画装置1では、光源に複数の小出力ショートアークランプを使用し、ランプハウス6内の複数の光源からの光をバンドルファイバ41により1つの経路に合成して描画ヘッド40に光を導くことで、装置構造を簡素化して安価なパターン描画装置を提供することができる。
【選択図】図1
Description
2 ステージユニット
6 ランプハウス
9 基板
31 ステージ移動機構
32 描画ユニット移動機構
40 描画ヘッド
41 バンドルファイバ
42 DMD
62 光源
411 入力端
412 出力端
412b バンドルファイバ出力端
431 光量調整機構
432 インテグレータ
Claims (5)
- 光の照射により基板にパターンを描画するパターン描画装置であって、
基板を保持する保持部と、
複数の光源と、
前記複数の光源からの光が複数の入力端からそれぞれ入射し、前記複数の入力端からの前記光を合成して1つの出力端へと導くバンドルファイバと、
前記出力端から出力される光を空間変調して前記保持部に保持された基板に向けて出射する光照射部と、
前記光照射部を前記保持部に対して相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記複数の入力端のそれぞれにおいて、光源からの光束の断面の照度が前記断面内における最大値の30%以上70%以下の範囲から前記光束を取り込むことを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1に記載のパターン描画装置であって、
前記複数の光源のそれぞれが、ショートアークランプであることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1または2に記載のパターン描画装置であって、
前記複数の光源を内部に収納し、前記光照射部とは別体とされるランプハウスをさらに備えることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記光照射部において、前記バンドルファイバの前記出力端が、断面が多角形のインテグレータに近接され、前記出力端の端面の形状が前記インテグレータの前記断面と略同一とされることを特徴とするパターン描画装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン描画装置であって、
前記光照射部が、独立して偏向可能な2次元に配列された複数の微小ミラーにより光を空間変調する空間光変調デバイスを備えることを特徴とするパターン描画装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005171493A JP4775842B2 (ja) | 2005-06-10 | 2005-06-10 | パターン描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005171493A JP4775842B2 (ja) | 2005-06-10 | 2005-06-10 | パターン描画装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006343684A true JP2006343684A (ja) | 2006-12-21 |
JP4775842B2 JP4775842B2 (ja) | 2011-09-21 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4775842B2 (ja) |
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