JP3961963B2 - 露光装置 - Google Patents

露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3961963B2
JP3961963B2 JP2003014477A JP2003014477A JP3961963B2 JP 3961963 B2 JP3961963 B2 JP 3961963B2 JP 2003014477 A JP2003014477 A JP 2003014477A JP 2003014477 A JP2003014477 A JP 2003014477A JP 3961963 B2 JP3961963 B2 JP 3961963B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
exposure
light source
optical fiber
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003014477A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004228343A (ja
Inventor
利彦 大森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2003014477A priority Critical patent/JP3961963B2/ja
Priority to KR1020030094487A priority patent/KR101051646B1/ko
Priority to TW093101362A priority patent/TWI294045B/zh
Priority to CNB200410002928XA priority patent/CN1308710C/zh
Priority to US10/761,417 priority patent/US7122780B2/en
Publication of JP2004228343A publication Critical patent/JP2004228343A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3961963B2 publication Critical patent/JP3961963B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/447Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources
    • B41J2/46Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources characterised by using glass fibres
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0927Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0955Lenses
    • G02B27/0961Lens arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/0994Fibers, light pipes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B2006/0098Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings for scanning
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/04Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres
    • G02B6/06Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings formed by bundles of fibres the relative position of the fibres being the same at both ends, e.g. for transporting images
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00Details of television systems
    • H04N5/74Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor
    • H04N5/7416Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor involving the use of a spatial light modulator, e.g. a light valve, controlled by a video signal
    • H04N5/7458Projection arrangements for image reproduction, e.g. using eidophor involving the use of a spatial light modulator, e.g. a light valve, controlled by a video signal the modulator being an array of deformable mirrors, e.g. digital micromirror device [DMD]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置に関し、更に詳細には、照明効率を向上させると共に均一に露光できる露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
LCD(液晶素子)やDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)等の2次元空間光変調素子(以下2次元SLMという)を光源からの光で照明し、この照明光学系を有し2次元SLMで制御された光像を感材に露光する露光装置が知られている。このような露光装置では、2次元SLMを均一に照明する必要があり、照明光学系にはオプティカルインテグレータが用いられ、露光装置以外にもプロジェクターで一般的に使用されている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
オプティカルインテグレータとは、光束を分割し、異なる経路を通した後再合成することにより、強度と位置の相関関係(強度分布)を解消して均一化するものであるが、光束の分割方式の違いにより、2つの方式がある。(1)一つは、2次元にレンズを配置したレンズアレイ(フライアイレンズ)を使用して空間的に光束を分割するフライアイタイプであり、(2)もう一つは、ガラスのロッドや内面をミラーにした中空のロッドを使用して、多重反射により角度的に分割するロッドタイプである。
【0004】
フライアイタイプでは、2枚のフライアイレンズを使用し、1枚目のフライアイレンズで2枚目のフライアイレンズの各レンズセルに光を集光するような構成にされている。そして、2枚目のフライアイレンズの各レンズセルには光源像が結ばれ、2枚目のフライアイレンズは、1枚目のフライアイレンズの各レンズセルの像を2次元SLM上に結像するような構成となっている。一方、ロッドタイプの場合では、ロッドの入射面に光源像が結ばれ、ロッドの射出面の像を2次元SLM上に結像するような構成となっている。
【0005】
光源に、超高圧水銀ランプ等のランプを使用する場合、ランプの光射出部形状と2次元SLMの照明エリア形状(すなわち、2次元SLMを照明するエリア形状)が全く異なるが、上記のインテグレータを使用することで、2次元SLMの必要な使用エリアのみ均一に照明することが可能となっている。
【0006】
【特許文献1】
特開平3−111806号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、実際には、ランプのようにエタンデュー(Etendue)が大きくかつ光射出部の形状が、2次元SLMに到達した照明光の照明エリアの形状と異なる場合、ランプから射出された光を全て有効に利用することが困難であり、照明効率が低くなっているのが現状である。
【0008】
具体例を挙げて説明すると、例えば、ランプとフライアイタイプのインテグレータとを使用した場合、1枚目のフライアイレンズにより、2枚目のフライアイレンズの各セルに、ランプのアークの像が結ばれることになる。2次元SLM上の使用エリアが長方形のような場合では、フライアイレンズのレンズセル形状も照明するエリアと相似形の形状として、レンズセルの像が結像されるような構成とし、ランプのアーク像が2枚目のフライアイレンズのレンズサイズ以下となるように設計するが、実際は、光源サイズ(ランプの光射出部サイズすなわちアークサイズ)、光の広がり、レンズの収差等により、光源の像の全てがレンズセルに入射することが困難であり、このため、光学性能が劣化し、照明効率の低下や照明均一度が悪くなるなどの問題が発生する。
【0009】
本発明は、上記事実を考慮して、高い照明効率が得られると共に均一に露光することができる露光装置を提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、フライアイレンズのレンズセル形状(ロッドの射出部形状)と略相似形、すなわちオプティカルインテグレータの射出面の輪郭形状と略相似形となるような光射出部を持つ光源とすれば、光射出部から出た光の大部分を照明エリアに導くことが可能になり、照明効率及び照明均一度の向上が期待されることに着目した。そして、光ファイバの端部をバンドルとして束ねた光射出部は、通常、図10に示すように六角形状(略円形)であるが、この形状は任意の形状にすることができることに気付き、更に検討を重ね、本発明を完成するに到った。
【0011】
請求項1に記載の発明は、光源と、前記光源から光が供給されるオプティカルインテグレータと、前記オプティカルインテグレータを経由した光で照明されるデジタル・マイクロミラー・デバイスと、を有する露光装置であって、前記光源は、光ファイバを並べて配列し、前記光ファイバから光を出射する光ファイババンドルからなる光源であり、前記光源のエタンデューが前記デジタル・マイクロミラー・デバイスのエタンデューよりも小さく、主走査方向に対して前記デジタル・マイクロミラー・デバイスが傾斜しており、出射側から見た前記光ファイババンドルの端部で形成される出射エリアの形状と、前記オプティカルインテグレータの射出面の輪郭形状と、を略相似形にして多重露光することを特徴とする。
【0012】
本明細書で光ファイババンドルとは、多数本の光ファイバの端部を1束に束ねた端部をいう。光ファイババンドルは任意の形状にされ得る。
【0013】
光ファイババンドルの入射側に光を供給するには、ランプを用いてもよいし、LD(半導体レーザ)を用いてもよく、特に限定はしない。LDを用いる場合、光ファイバの入射側にLDを結合する。また、1本の光ファイバに複数個のLDを結合してもよく、これにより、エタンデュー(Etendue)を小さくしたまま光のパワーを増大させることができる。更に、複数のエミッタをアレイ状に配列したブロードエリアタイプの半導体レーザを用いてもよい。
【0014】
請求項1に記載の発明により、光ファイババンドル端部から出射した光の大部分を、デジタル・マイクロミラー・デバイスに到達した照明光の照明エリアに導くことができるので、高い照明効率が得られると共に均一に露光することができる。
【0015】
前記オプティカルインテグレータは、フライアイタイプ又はロッドタイプであることが多い。
【0016】
なお、光ファイバの本数が多くなると、光ファイババンドル端部のサイズが大きくなる、すなわち、光源側のエタンデューが大きくなる。この光源側のエタンデューが2次元光変調素子側のエタンデューに比べて大きくなると、照明効率が低下する。このため、光ファイバの本数が多い場合、光ファイバのコア径やクラッド径を小さくすることにより、照明効率の低下を防止することができる。
【0017】
また、DMDの各ミラー面の光軸に対して所定の角度で光を斜めに入射し、かつ、各ミラーが傾く方向から入射させるので(すなわち、各ミラー面の所定の対角方向から入射させるので)、出射側から見た光ファイババンドル端部の形状が例えば長方形であっても、各DMDの面上では、長方形を変形させた形状になる。しかし、変形量が小さいので略長方形と考えても良い。従って、2次元空間変調素子としてDMDを使用する場合でも、出射側から見た光ファイババンドル端部の形状と、オプティカルインテグレータの射出面の輪郭形状と、を略相似形にすれば良い。
【0018】
DMDは、LCD(液晶素子)のようにUV光で劣化することがないので、これにより、UV光に対して感度を有する感光材料を高い照明効率で露光することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、実施形態を挙げ、本発明の実施の形態について説明する。本発明の一実施形態に係る露光装置142は、図1に示すように、シート状の感光材料150を表面に吸着して保持する平板状のステージ152を備えている。4本の脚部154に支持された肉厚板状の設置台156の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた2本のガイド158が設置されている。ステージ152は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド158によって往復移動可能に支持されている。なお、この露光装置142には、ステージ152をガイド158に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられている。
【0020】
設置台156の中央部には、ステージ152の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート160が設けられている。ゲート160の端部の各々は、設置台156の両側面に固定されている。このゲート160を挟んで一方の側にはスキャナ162が設けられ、他方の側には感光材料150の先端及び後端を検知する複数(例えば、2個)の検知センサ164が設けられている。スキャナ162及び検知センサ164はゲート160に各々取り付けられて、ステージ152の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ162及び検知センサ164は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
【0021】
スキャナ162は、図2及び図3(B)に示すように、m行n列(例えば、3行5列)の略マトリックス状に配列された複数(例えば、14個)の露光ヘッド166を備えている。この例では、感光材料150の幅との関係で、3行目には4個の露光ヘッド166を配置した。なお、m行目のn列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド166mnと表記する。各露光ヘッドの構成は同じである。
【0022】
露光ヘッド166による露光エリア168は、副走査方向Vを短辺とする矩形状である。従って、ステージ152の移動に伴い、感光材料150には露光ヘッド166毎に帯状の露光済み領域170が形成される。なお、m行目のn列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア168mnと表記する。
【0023】
また、図3(A)及び(B)に示すように、帯状の露光済み領域170が副走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、配列方向に所定間隔(露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では2倍)ずらして配置されている。このため、1行目の露光エリア16811と露光エリア16812との間の露光できない部分は、2行目の露光エリア16821と3行目の露光エリア16831とにより露光することができる。
【0024】
[露光ヘッドの構成]
露光ヘッド16611〜166mnの構成は、何れも同じなので、以下、一の露光ヘッドについてその構成を説明する。
【0025】
露光ヘッド166は、図4に示すように、出射側端部が束ねられて光ファイババンドル端部174Eとされた多数本の光ファイバ174と、多数本の光ファイバ174とLDを結合させた光源と、を光源として備えている。
【0026】
また、露光ヘッド166は、光ファイババンドル端部174Eから出射された光が入射する照明光学系としてオプティカルインテグレータ176を備えている。オプティカルインテグレータ176は、光ファイババンドル端部174Eからの光を集光するコリメータレンズ178と、コリメータレンズ178を透過した収束光が順次透過する2枚のフライアイレンズ180A、180B、及び、フィールドレンズ182を備えている。
【0027】
更に、露光ヘッド166には、フィールドレンズ182を透過した光を変調する2次元SLM(2次元空間変調素子)186が設けられている。
【0028】
図5に示すように、2次元SLM186に照明すべき意図した照明設定エリア190は長方形状にされている。また、図6に示すように、光ファイババンドル端部174Eは、出射側から見て、照明設定エリア190と略相似形の出射エリア192を形成している。これにより、光ファイババンドル端部174Eからの光を照明光として無駄なく利用でき、高い照明効率が得られる。
【0029】
なお、フライアイレンズタイプでなく、図7に示すように、ガラスからなるロッド194を用いたロッドタイプの露光ヘッドを有する露光装置であってもよい。これにより、装置構成を簡素にすることができる。
【0030】
[照明光学系の特性、配置位置]
照明光学系の簡略図の一例を図4に示す。フライアイレンズ180Aは、レンズセルサイズS1、レンズセル数N1、縦方向長さA1、焦点距離ML1F、とされており、集光サイズはZ1(=2×ML1F×NA1)である。フライアイレンズ180Bは、レンズサイズS2(=S1)、レンズセル数N2(=N1)、及び、縦方向長さA2(=A1)が何れもフライアイレンズ180Aと同じであり、焦点距離ML2Fとされている。フィールドレンズ182は、縦方向長さFLDがA2とほぼ同じである。また、フィールドレンズ182の焦点距離FLFが、フライアイレンズ180Bと2次元SLM186との距離L4とほぼ同じになるように2次元SLM186が配置されている。
【0031】
光ファイババンドル端部174Eとコリメータレンズ178との距離L1、及び、コリメータレンズ178とフライアイレンズ180Aとの距離L2は、何れも、コリメータレンズ178の焦点距離CL2Fと同じにされている。フライアイレンズ180Aとフライアイレンズ180Bとの距離L3は、フライアイレンズ180Aの焦点距離ML1Fと同じにされている。
【0032】
ここで、光ファイババンドル端部174Eのある一方向長さをA0、光ファイババンドル端部174Eからの光の放散角度をNA0、フライアイレンズ180Aへの集光角度をNA1、とすると、照明系の基本式は以下の式で与えられる。
【0033】
A0・NA0=A1・NA1
(すなわち、A0・NA0=N1・S1・NA1)
【0034】
また、結像特性は以下の式で与えられる。
1/L3+1/L4=1/ML2F
(すなわち、1/ML1F+1/L4=1/ML2F)
【0035】
倍率特性は以下の式で与えられる。
ACS/S1=L4/L3
(すなわち、ACS/S1=L4/ML1F)
【0036】
集光特性は、フライアイレンズ180Aによる集光サイズ(直径)をZ1とすると、以下の式で与えられる。
Z1=2・ML1F・NA1
照明FN0は、
SFN0=FLF/FLD(≒L4/L2)
で与えられる。
【0037】
[Etendue(エタンデュー)の概念]
SLM(空間変調素子)を照明するということは、ある光源の像をSLMに結像するということである。光学倍率をβとすると、図8に示すように、像の面積S2はβ2に比例し(S2=β21)、光線と光軸の成す角θは倍率βに逆比例する(θ2=θ1/β)。すなわち、
1θ1 2=S2θ2 2
となる。ここで、立体角Ωはθ2にほぼ比例するので、
Ω11≒Ω22
となる。すなわち、光源面積と立体角の積は一定となる。厳密には、理想レンズ(透過率100%、無収差)198による光束の伝達は、
光束:e=∫S∫Ωcosθ・dS・dΩ
で表される。θが十分小さい(F2.5以上)ときにはcosθ≒1であるので、
光束:e≒Ω11≒Ω22
とみなせる。この「ΩS」がエタンデュー(Etendue)である。理想的な無収差・透過率100%の光学系を想定すると、エタンデューは保存される(なお、共役な関係でなくても、エタンデューは保存されることが知られている)。
【0038】
つまり、上記図の光源Bを2次元SLMとすれば、光源Aのエタンデューが2次元SLMのエタンデューより小さければ、非常に高い効率で照明することが可能となる。
【0039】
(計算例)
光源側のエタンデューをEsとする。
▲1▼アーク長4mmの放電ランプの例
光源を直径1mm、長さ4mmの円柱とし、側面から等方的に光が放出されるとすると、
Es=π・1・4・2π≒80mm2・str
となる(エタンデューが大きい)。
▲2▼ファイバ光源の例
バンドル出射部サイズ0.7×0.7mm、NA0.2(≒11.5deg)とすると、
Es=2π・(1-cos11.5)・0.7・0.7≒0.06mm2・str
となる(エタンデューが非常に小さい)。
【0040】
[実施例]
以下、2次元SLM186としてDMDを用いた場合を実施例として挙げて説明する。図9に示すように、本実施例では、2次元SLMとしてDMD200が各露光ヘッド16611〜166mnに設けられており、DMD200によって、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調するようになっている。
【0041】
図9(A)は、主走査方向Uに対してDMD200を傾斜させない場合の各画素部の実像(ビームスポットBS)の走査軌跡を示し、図9(B)は、主走査方向Uに対してDMD200を傾斜させた場合のビームスポットBSの走査軌跡を示している。DMD200は、その辺方向が主走査方向Uと所定角度θ(例えば、0.1°〜1°)を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。
【0042】
DMD200には、長手方向(行方向)に沿って画素部が多数個(例えば、800個)配列された画素列が、短手方向に多数組(例えば、600組)配列されているが、図4(B)に示すように、DMD200を傾斜させることにより、各画素部から出射されたビームスポットBSの走査軌跡(走査線)のピッチP2が、DMD200を傾斜させない場合の走査線のピッチP1より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、DMD200の傾斜角は微小であるので、DMD200を傾斜させた場合の走査幅W2と、DMD200を傾斜させない場合の走査幅W1とは略同一である。
【0043】
また、異なる画素列により同じ走査線上における略同一の位置(ドット)が重ねて露光(多重露光)されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、主走査方向Uに沿って配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。しかし、その変形量は小さい。
【0044】
以上説明したように、本実施例では、LCD(液晶素子)のようにUV光で劣化することがないDMD200を2次元SLMとして設けている。これにより、UV光に対して感度を有する感光材料を高い照明効率で均一に露光することができる。
【0045】
以上、実施形態を挙げて本発明の実施の形態を説明したが、上記実施形態は一例であり、要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施できる。また、本発明の権利範囲が上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。
【0046】
【発明の効果】
本発明は上記構成としたので、高い照明効率が得られると共に均一に露光することができる露光装置が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る露光装置の外観を示す斜視図である。
【図2】本発明の一実施形態に係る露光装置のスキャナの構成を示す斜視図である。
【図3】(A)は感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図であり、(B)は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図である。
【図4】本発明の一実施形態に係る露光装置の露光ヘッドの構成を示す模式図である。
【図5】本発明の一実施形態に係る露光装置で、2次元SLMで照明すべき照明設定エリアを示す平面図である。
【図6】本発明の一実施形態に係る露光装置で、光ファイババンドル端部の正面図である。
【図7】本発明の一実施形態に係る露光装置の露光ヘッドの変形例を示す模式図である。
【図8】エタンデューの原理を説明するための模式図である。
【図9】(A)及び(B)は、それぞれ、DMDを傾斜配置しない場合と傾斜配置した場合とで、DMDに入射されるビームの位置及びDMDから出射した走査線を比較して示す模式図である。
【図10】従来の光ファイババンドル端部の正面図である。
【符号の説明】
142 露光装置
166 露光ヘッド
174E 光ファイババンドル端部(端部)
176 オプティカルインテグレータ
186 2次元SLM(2次元空間変調素子)
192 出射エリア
200 DMD

Claims (2)

  1. 光源と、前記光源から光が供給されるオプティカルインテグレータと、前記オプティカルインテグレータを経由した光で照明されるデジタル・マイクロミラー・デバイスと、を有する露光装置であって、
    前記光源は、光ファイバを並べて配列し、前記光ファイバから光を出射する光ファイババンドルからなる光源であり、
    前記光源のエタンデューが前記デジタル・マイクロミラー・デバイスのエタンデューよりも小さく、
    主走査方向に対して前記デジタル・マイクロミラー・デバイスが傾斜しており
    出射側から見た前記光ファイババンドルの端部で形成される出射エリアの形状と、前記オプティカルインテグレータの射出面の輪郭形状と、を略相似形にして多重露光することを特徴とする露光装置。
  2. 前記オプティカルインテグレータがフライアイタイプ又はロッドタイプであることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
JP2003014477A 2003-01-23 2003-01-23 露光装置 Expired - Lifetime JP3961963B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003014477A JP3961963B2 (ja) 2003-01-23 2003-01-23 露光装置
KR1020030094487A KR101051646B1 (ko) 2003-01-23 2003-12-22 노광장치
TW093101362A TWI294045B (en) 2003-01-23 2004-01-19 Exposure aparatus
CNB200410002928XA CN1308710C (zh) 2003-01-23 2004-01-20 曝光装置
US10/761,417 US7122780B2 (en) 2003-01-23 2004-01-22 Exposure apparatus with efficient uniform light output

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003014477A JP3961963B2 (ja) 2003-01-23 2003-01-23 露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004228343A JP2004228343A (ja) 2004-08-12
JP3961963B2 true JP3961963B2 (ja) 2007-08-22

Family

ID=32902518

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003014477A Expired - Lifetime JP3961963B2 (ja) 2003-01-23 2003-01-23 露光装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7122780B2 (ja)
JP (1) JP3961963B2 (ja)
KR (1) KR101051646B1 (ja)
CN (1) CN1308710C (ja)
TW (1) TWI294045B (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4524213B2 (ja) * 2005-03-14 2010-08-11 富士フイルム株式会社 露光装置及び方法
JP4679249B2 (ja) * 2005-05-31 2011-04-27 大日本スクリーン製造株式会社 パターン描画装置
JP4775842B2 (ja) * 2005-06-10 2011-09-21 大日本スクリーン製造株式会社 パターン描画装置
JP2007017722A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Fujifilm Holdings Corp パターン形成方法
JP4625734B2 (ja) * 2005-07-28 2011-02-02 株式会社ナノシステムソリューションズ 露光パターン形成方法
US7839487B2 (en) * 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
JP2009302225A (ja) * 2008-06-12 2009-12-24 Nikon Corp ライトガイド、照明装置、露光装置及びデバイス製造方法
EP2471665B1 (en) * 2010-12-30 2013-03-27 ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung Marking and/or scanning head, apparatus and method
ES2409886T3 (es) * 2010-12-30 2013-06-28 ALLTEC Angewandte Laserlicht Technologie Gesellschaft mit beschränkter Haftung Dispositivo para marcar y/o escanear un objeto
CN103246167A (zh) * 2012-02-03 2013-08-14 汤浩泉 一种光微加工方法
JP7020859B2 (ja) * 2017-10-24 2022-02-16 キヤノン株式会社 照明光学系、露光装置および物品の製造方法
DE102018210113B3 (de) * 2018-06-21 2019-07-11 Heidelberger Druckmaschinen Ag Tintenstrahl-Druckverfahren zur Erzeugung homogen aussehender Druckbilder auf sphärischen Körpern

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8901077A (nl) * 1989-04-28 1990-11-16 Koninkl Philips Electronics Nv Optische belichtingsstelsel en projectie-apparaat voorzien van een dergelijk stelsel.
JP3360686B2 (ja) * 1990-12-27 2002-12-24 株式会社ニコン 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法
US5949503A (en) * 1995-06-22 1999-09-07 Nikon Corporation Reflective liquid crystal spatial light modulator and projection apparatus comprising same
JPH10269602A (ja) * 1997-03-26 1998-10-09 Samsung Electron Co Ltd 光ファイバーを用いたマスターディスク露光装置
EP1303796B1 (en) * 2000-07-10 2005-04-27 Corporation For Laser Optics Research Systems and methods for speckle reduction through bandwidth enhancement

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040067820A (ko) 2004-07-30
KR101051646B1 (ko) 2011-07-26
JP2004228343A (ja) 2004-08-12
TWI294045B (en) 2008-03-01
US20040213530A1 (en) 2004-10-28
CN1517728A (zh) 2004-08-04
CN1308710C (zh) 2007-04-04
TW200419203A (en) 2004-10-01
US7122780B2 (en) 2006-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7310186B2 (en) Uniform multiple light source etendue
EP1398659B1 (en) Illumination apparatus and image projection apparatus using the illumination apparatus
JP4550721B2 (ja) 照明ユニット及びこれを採用した画像投射装置
TWI448833B (zh) An exposure device and a light source device
JP3961963B2 (ja) 露光装置
JP2006261155A (ja) 露光装置及び露光方法
US20090219491A1 (en) Method of combining multiple Gaussian beams for efficient uniform illumination of one-dimensional light modulators
US20050259308A1 (en) Illumination device, display device and projector
TW200825615A (en) Image display device
US20100044596A1 (en) Image exposing method and apparatus
JP2005032909A (ja) 照明光学系およびそれを用いた露光装置
US20090251676A1 (en) Exposure apparatus and exposure method
KR20130124902A (ko) 프로젝터
JP2006285042A (ja) 光源装置および複合光源装置
KR100636089B1 (ko) 반사형 칼라 프로젝터
JP2010091846A (ja) 投写型表示装置
EP2759880B1 (en) Optical recording head and image formation device
JP4209344B2 (ja) 露光ヘッド並びに画像露光装置および画像露光方法
JP4208141B2 (ja) 画像露光方法および装置
EP4250003B1 (en) Projection display device
JP2006171426A (ja) 照明光学系及びそれを用いた露光装置
JP2005049491A (ja) 照明光学系
JP2005234007A (ja) 照明光学系および露光方法
KR100644586B1 (ko) 프로젝터용 균일광 조명장치
JP2010039113A (ja) 液晶表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070213

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070515

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070517

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3961963

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120525

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130525

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140525

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term