JP2004335575A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ライトインテグレータにおける光量ロスやスループットの低下を改善する露光装置を提供する。
【解決手段】光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】 図1
【解決手段】光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置を提供する。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置に係り、特に、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)または薄膜磁気ヘッド等を製造するためのリソグラフィ工程中に使用される露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、微細な半導体デバイスを高いスループットで生産する需要は益々高くなっており、デザインルールも130nmを量産工程で達成しようとしている。微細化を達成するためには、露光光の短波長化や投影レンズのNAの増加に加えて、レチクル(マスク)を照明する照度の均一化やレチクルやウェハを照明する露光光の角度分布である有効光源分布の均一化も重要である。
【0003】
露光光が短波長化すると光学材料(硝材や光学コーティング)の吸収が増加して透過率が低下するなどの問題があるため、従来のレンズのみで構成された屈折型(ディオプトリック系)の投影光学系の代わりに、全ミラー型(カトプトリック系)やミラーとレンズとの混成型(カタディオプトリック型)の投影光学系を使用することが従来から提案されている(例えば、特許文献1及び2)。
【0004】
一般に、投影光学系にミラーを用いると光軸付近の光束はけられてしまうために、軸外のある像高近傍のみに注目してそこでの収差を補正する設計がなされる。その結果、露光装置は、軸外の良像領域を照明してパターンの転写を行うことになる。この良像領域は、光軸に対して回転対称となる場合が多く、典型的には、所定の幅を有する円弧形状を有する。
【0005】
一方、レチクルを均一に照明し、かつ有効光源分布を均一化するために、照明光学系にコリメータレンズと複数の微小レンズ又はレンズ素子で構成されたライトインテグレータを組み合わせる方法が従来から使用されている。かかるライトインテグレータにより、レンズ素子数に相当する2次光源を射出面近傍に形成し、被照明面を複数の方向から重畳して均一に照明することができる。なお、前述のような円弧状領域で露光を行う露光装置においてレチクルを均一に円弧状の照明領域で照明するために、断面が円弧形状である光学素子を複数有するライトインテグレータを使うものがある(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
レンズ素子の光軸に垂直な面の形状は、レンズ素子の入射面と被照明面としてのレチクル面とが共役であることから、典型的に、被照明領域と相似形状の円弧形状に成形される。レンズ素子の射出面の面積をSoとし、射出角度をθoとすると、ヘルムホルツ−ラグランジェの不変量(以下、「HL量」という。)から、積So・θoは一定となる。かかるSo・θoの値は、通常は、画面サイズとNAを含む仕様によって決定される。
【特許文献1】
特開昭62−115718号公報
【特許文献2】
特開昭62−115719号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の照明光学系は、必ずしも高いスループットを維持することができないという問題を有していた。即ち、ライトインテグレータの入射面及び射出面においてHL量は保存されるから、像面からのHL量が上述のように仕様によって決定してしまえば、レンズ素子の入射面の面積をSi(=So)とし、入射角度をθiとすると、光源からのHL量であるSi・θiの値は決定されてしまう。このため、θiがθoよりも大きくなるとθoを超えた範囲はけられてしまう。特に、微細化を円弧形状の結像領域を実現しようとする場合には、レンズ素子の円弧形状の高さが弦に対して比較的小さくなれば、2次光源のケラレが発生する。一方、かかる問題を解決するために、レンズ素子の高さを大きくすることが考えられるが、これでは、収差補正すべき範囲が増加するために投影光学系の設計が困難になるため、好ましくない。
【0008】
そこで、ライトインテグレータにおける光量ロスやスループットの低下を改善する露光装置を提供することを本発明の例示的な目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする。
【0010】
本発明の他の目的及び更なる特徴は以下添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明者は、半導体や液晶等、種種の光リソグラフィ分野において、所定の形状の良像域を有する投影光学系の有効露光画面を形成する高さに対する幅の比率を解析した。所定の形状は、円、円弧、矩形などをいう。その結果、照明光束がインテグレータでけられずに、かつ、投影光学系の設計上実現可能な円弧率の範囲を数値的に規定することができた。以下に、本実施形態の露光装置と共に説明する。
【0012】
まず、本実施形態の露光装置1について、図15を参照して説明する。ここで、図15は、露光装置1の単純化された光路を示す概略図である。露光装置1は、照明装置100と、レチクル200と、投影光学系300と、プレート400とを有する。
【0013】
本実施形態の露光装置1は、ステップアンドスキャン方式でレチクル200に形成された回路パターンをプレート400に露光する投影露光装置であるが、本発明はステップアンドリピート方式その他の露光方式を適用することができる。ここで、ステップアンドスキャン方式は、レチクルに対してプレートを連続的にスキャンしてレチクルのパターンをプレートに露光すると共に、1ショットの露光終了後プレートをステップ移動して、次のショットの露光領域に移動する露光法である。また、ステップアンドリピート方式は、プレートのショットの一括露光ごとにプレートをステップ移動して次のショットを露光領域に移動する露光法である。
【0014】
照明装置100は、転写用の回路パターンが形成されたレチクル200を照度ムラなく、かつ、有効光源分布を均一にしつつ照明し、光源部と照明光学系とを有する。図15に示す露光装置1の具体例を図1に示す。照明装置100は、光源部110と照明光学系120とを有する。光源部110は、光源112と、ビーム整形系114とを有する。
【0015】
光源112は、本実施形態では、波長約193nmのArFエキシマレーザー、波長約248nmのKrFエキシマレーザー、波長約157nmのF2レーザーなどレーザー光源を使用する。但し、本発明の光源112はレーザーに限定されず、例えば、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。また、光源部110は、EUV光(波長5〜20nmの光)を発するEUV光源を使用してもよい。但し、この光が透過する光学部材は存在しないため、ミラー部材だけで光学系を構成する必要がある。このような光学系には当業界で周知のいかなる構成をも使用することができるため、ここではその構造及び作用の詳細な説明は省略する。
【0016】
ビーム整形系114は、例えば、複数のシリンドリカルレンズを備えるビームエクスパンダ等を使用することができ、レーザー光源からの平行光の断面形状の寸法の縦横比率を所望の値に変換する(例えば、断面形状を長方形から正方形にするなど)ことによりビーム形状を所望のものに成形する。ビーム整形系114は、後述するハエの目レンズ140を照明するのに必要な大きさと発散角を持つ光束を形成する。
【0017】
また、図1には示されていないが、光源部は、コヒーレントなレーザー光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。インコヒーレント化光学系は、例えば、入射光束を光分割面で少なくとも2つの光束(例えば、p偏光とs偏光)に分岐した後で一方の光束を光学部材を介して他方の光束に対してレーザー光のコヒーレンス長以上の光路長差を与えてから分割面に再誘導して他方の光束と重ね合わせて射出されるようにした折り返し系によって構成することができる。
【0018】
照明光学系120は、第1のコンデンサーレンズ122と、偏芯照明領域形成部130と、マスキング結像系170とを含む。第1のコンデンサーレンズ122は、ビーム成形系114の結像面と偏芯照明領域形成部130の後述するハエの目レンズ140の入射面とをフーリエ変換の関係に配置している。本明細書において、フーリエ変換の関係とは、光学的に瞳面と物体面(又は像面)、物体面(又は像面)と瞳面となる関係を意味する。必要があれば、ビーム成形系114と第1のコンデンサーレンズ122の間に折り曲げミラーが挿入されてもよい。
【0019】
第1のコンデンサーレンズ122は、後述するハエの目レンズ140がレンズ122の後焦点位置に配置されていて、その射出側においてテレセントリック光学系を構成している。射出側をテレセントリック光学系に構成することによって、レンズ122を通過した光束の主光線はハエの目レンズ140の中心及び周辺のどのレンズ素子142に対しても平行になる。
【0020】
第1のコンデンサーレンズ122の射出側をテレセントリック光学系に構成しない場合を考えると、ハエの目レンズ140の中心のレンズ素子142が入射光束と略等しい開口数(ケラレがない開口数)を持つ場合に周辺のレンズ素子142も中心のレンズ素子142と同じとすると周辺のレンズ素子142では主光線が傾く分だけ入射光束にケラレが生じる。ハエの目レンズ140に入射した光束が各レンズ素子142でケラレを生じないためには、周辺部のレンズ素子142は中心部のレンズ素子142に対して入射する光束の主光線の傾き分だけ開口数を大きく設定しなければならない。
【0021】
しかし、図6乃至図9を参照して後述されるように、ハエの目レンズ140は隙間なく連続的に並べた積層構造を有するため、それぞれのレンズ素子142について径を最適化することはできない。従って、中心部のレンズ素子142も周辺部のレンズ素子142も同一にして細密充填配置を形成する必要がある。そこで、第1のコンデンサーレンズ122を射出側でテレセントリック光学系に構成すればハエの目レンズ140の各レンズ素子142を中心部のレンズ素子142(ケラレが生じない最小の開口数のもの)で共通化することができる。
【0022】
偏芯照明領域形成部130は、光軸OO’から偏芯した軸外照明光を形成する機能を有し、ハエの目レンズ140と、第2のコンデンサーレンズ162と、第1の照射面164と、スリット166とを有する。図1に示す偏芯照明領域形成部130が軸外照明光を形成する模式的な光路図を図3に示す。
【0023】
ハエの目レンズ140は、入射光の角度分布を位置分布に変換して出射するライトインテグレータの一種である。ハエの目レンズ140は、図4に示すように、半球面から所定幅の円弧(図3における光束の透過部分)を切り取って複数(本実施例では14段)積層した形状を有して、焦点距離fだけ離間した入射レンズ素子142と出射レンズ素子146とを有する。一組の入射及び出射レンズ素子142及び146は焦点距離fだけ離間しているので、入射面と射出面とはフーリエ変換の関係にある。入射及び出射レンズ素子142及び146の形状は、投影光学系300の良像域、すなわち、プレート400上の被照明領域にほぼ相似形状をしている。それは以下のような理由による。つまり、図3から明らかなように、入射側レンズ142の入射面と第1照射面166とはコンデンサーレンズ162の作用により光学的に共役関係になっていて、更に図1から、被照射面166の近傍に置かれたスリット面164は後続するマスキング結像系170の作用によりレチクル面と共役になっている。最終的にはこれらの共役面は投影レンズ300の作用によりプレート400面に共役となっている。このように入射及び出射レンズ素子142及び146の断面形状を被照明領域の形状に近似させることによって、外観上はプレート面400上に円弧状の照明領域を直接に形成できる。以上が効率的な円弧照明を行うために必要な構成要件である。
【0024】
しかしながら、これだけでは光源側からハエの目レンズ140に入射する光束がけられなくハエの目レンズ140を通過することは期待できない。以下のその理由と、光束を有効にハエの目レンズを通過させる条件とを説明する。
【0025】
まず、円弧状ハエの目レンズの構成について述べる。図4は、入射レンズ141から有効域である入射レンズ素子142を切り出すことを説明するための平面図である。図5は、図4に示す入射レンズ141の側面図である。図6は、入射レンズ素子142を14段積層することによって形成された入射レンズ群143の平面図である.図7は、出射レンズ145から有効域である出射レンズ素子146を切り出すことを説明するための平面図である。図8は、図7に示す出射レンズ145の側面図である。図9は、出射レンズ素子146を積層することによって形成された出射レンズ群147の平面図である。
【0026】
図4乃至図7を参照するに、入射レンズ素子142は、図2を参照して後述されるARC(プレート400の面上での円弧状露光領域)とほぼ相似形である。図5に示す入射レンズ141と図8に示す出射レンズ145は同一の球面レンズであるが、図7に示すように、出射レンズ145から切り出す位置は、入射レンズ素子142と出射レンズ素子146とで異なる。これは、図3に示すように、入射レンズ素子142を通過した光束が軸上に偏向されるからである。図3は、図1における偏芯照明領域形成手段130の詳細図である。ハエの目レンズ140は複数の例示的なレンズ素子142を含む入射レンズ群143及び複数の例示的なレンズ素子146を含む出射レンズ群147から構成され、両レンズ群143及び147は焦点距離fだけ離れて配置されている。
【0027】
必要があれば、ハエの目レンズ140の射出面近傍に図示しない絞りが設けられる。絞りは不要光を遮光して所望の形状の2次光源を形成する可変開口絞りであり、円形開口絞りや輪帯照明等の各種の絞りを使用することができる。輪帯形状や4重極形状などの開口を持つ開口絞りを用いて変形照明を実現してもよい。このような開口絞りを利用する変形照明法又は斜入射照明法により、解像力の限界を高めることができる。可変開口絞りを変えるためには、例えば、これらの絞りを形成した円盤状ターレットを用い、図示しない制御部及び駆動機構が開口を切り替えるべくターレットを回転させることで可能となる。かかる開口絞りによって照明モードを変更することができる。
【0028】
後述するレンズ162及び174を含むズーム系は、2次光源の大きさをインテグレータにけられない状態に維持しつつ前記有効光源の大きさを変更するために好ましい。これにより、インテグレータのケラレを防止した状態で有効光源の形状を変更することができる。かかる機構は、特に、照明モードを変更した場合に好ましい。
【0029】
次に、ハエの目レンズ140ヘの入射光束の角度分布について述べる。ハエの目レンズに入射する光束の配光分布は一般に光軸に対して回転対称ないしは、矩形状である。そのことは光源112が、例えば、回転対称に発光するランプを楕円ミラーで集光したり、レーザー(ビームの断面形状が矩形状)であって、これらの光源をレンズ等の回転対称な光学部材で導光することを考えると極めて自然な帰結である。そして、図3が示唆するように、このような入射側ハエの目レンズ142への入射配光分布はそのフーリエ変換面である射出側ハエの目レンズ146上に射影される。その光量分布は回転対称(円)であったり、矩形状であったりする。
【0030】
図10は射出側ハエの目レンズ146面上での光量分布を示している。つまり、ハエの目レンズに入射する光量分布が円形800で表され、そのうち射出側ハエの目レンズ146の円弧状有効領域内部の光束だけがハエの目レンズ140を通過してゆき、プレート400面に到達する。そして、この円形の大きさ、即ち、ハエの目入射配光角は光源から発する光束の断面積と発光色、そして、ハエの目レンズブロック140の断面積で一義的に決定される量である。この量はヘルムホルツ−ラグランジェの不変量と呼ばれている。
【0031】
一方、円弧形状のハエの目146の大きさ、特に、円弧幅は投影光学系の収差補正が十分おこなわれた像高幅で決定され、それが先にのべたような結像関係からこれも一義的に決定してしまう寸法である。つまり、光源と投影光学系300の有効画面サイズとが決まると、ハエの目レンズでの光束透過率(=光利用効率)はそれによって決定されてしまう。我々はこの光学設計原理に基づいて、種々の円弧長像域を有する投影光学系300の設計検討を行う一方、露光装置で利用できる光源の物理量(発光断面積と発光色)を調査した結果、以下の条件を満たすとき、上述の光束けられが発生しないことを発見した。つまり、図11の光束の状態である。
【0032】
円弧状の露光領域に対応させて、レンズ素子146の形状も円弧形状にする。この場合、ハエの目レンズ140のレンズ素子146の射出面近傍に形成される2次光源が、レンズ素子146の射出面に収納可能な大きさを有するには、レンズ素子146の円弧形状の幅に対する弦の比率(円孤率)は、好ましくは、2.0乃至18.0、より好ましくは、3.0乃至10.0である。これらの範囲により、けられにくくすると共に収差補正をあまり行わなくてもよくなるという長所がある。下限値2.0は、投影光学系の収差補正に限界があり、これ以上の太い円弧状の良像域は設計上困難になるという経験に基づいている。上限値18.0は、図10のように、細い円弧状の画面では照明光束がハエの目レンズ140でけられてしまうことを禁止する条件である。なお、「円弧形状の幅」と「円弧形状の弦」については、図11に図示した。
【0033】
具体的な数値例としては、半導体露光時の1ショット画面サイズとして、22mmx30mm、あるいは、26mmx33mmの走査露光装置が考えられるが、その場合に設計される投影光学系の画面サイズは、前者の場合、円弧長22mmx円弧幅7mmが想定され、後者の場合、円弧長26mmx円弧幅5mmが想定される。それぞれの円弧率は3.1と5.2である。これらを実現するための投影光学系は、図21に示すようなカタディオプトリック型の投影光学系があり、光源としては、エキシマレーザーが挙げられる。
【0034】
図21のカタディオプトリック型の投影光学系においては、レチクル200のパターンの情報を有したレチクルからの光束OPはレンズ系333で集光され、ミラー334で反射し、レンズ系335で集光され、所定の偏光成分のみの光束が偏光ビームスプリッタ336を通過し、λ/4板337を経て凹面ミラー338に導かれる。凹面ミラー338で反射した光束OPは再びλ/4板337を通り、これにより光束OPは偏光ビームスプリッタ336を通過した偏光方向に対して90度回転した偏光方向を持つようになる為、今度は偏光ビームスプリッタ336で反射し、レンズ系339を経てプレート400にレチクル200のパターンを投影している。なお、図21は、カタディオプトリック型の投影光学系を示す図である。
【0035】
なお、光源112がEUV光源である場合には、露光領域の高さと弦との比率は、経験上、4.5乃至18.0となる。先ほどより下限値が大きくなっているのは、EUV光を使う露光装置においては、露光光の波長が5〜20nmと非常に短いものであると伴に、投影光学系を4〜6枚のミラーで構成しなくてはならず、良像域を広くとることが困難であるためである。
【0036】
別の数値例として、液晶基板露光用の光学系がある。この場合、投影光学系としては、図14のタイプがあり、光源としては超高圧水銀ランプを用いる。図14において、321は台形ミラー、322及び333は凹面ミラーであり、レチクル200のパターンからの光をプレート400へと導いている。なお、図14は全ミラーの投影光学系を示す図である。この露光装置は、基板サイズ横400mmx縦600mm程度の大基板を一回の走査で露光してしまうものである。その画面サイズは、円弧長400mmx円弧幅42mm程度が想定されていて、この場合の円弧率は9.5である。必要に応じて、図1ように第1の照射面164の上に照度ムラ制御用の幅可変スリット÷走査中の露光領域制限用のマスキングブレード等を配置してもよい。
【0037】
スリット166は、第2のコンデンサーレンズ162により均一照明される領域に円弧状の透光部と遮光部とを有する。ここで、スリット166の透光部を透過した光束をレチクル200の照明光として使用する。スリット166は、第2のコンデンサーレンズ162の焦平面に設けられているのでテレセントリック光学系を維持している。
【0038】
マスキング結像光学系170は、スリット166の開口像を再度レチクル200上に再結像する機能を有し、第1のレンズ系172と、第2のレンズ系174と、補正部材176とを有する。レンズ系172及び174は、複数のレンズ群を有する。必要があれば、レンズ系172及び174との間に折り曲げミラーを挿入してもよい。本実施形態では、第2のレンズ系174は、光軸OO’上で移動可能に構成されており、制御系500の駆動装置530により移動される。補正部材176は軸外光のテレセントリックのずれ(即ち、主光線と光軸OO’とのずれ角度)を補正し、共軸方向に可動な通常の球面レンズや、正文は負の屈折力を有する非球面のレンズ部材から構成される。
【0039】
制御系500は、制御部510と、メモリ512と、検出部520と、駆動装置530とを有する。制御部510は、本発明との関係では後述する投影光学系300に入射する光のテレセントリックのずれ(即ち、主光線と光軸OO’とのずれ角度)を、検出部520を介して検出し、かかるずれが除去されるように、駆動装置530を制御して、第2のコンデンサーレンズ162及び/又は第2のレンズ系174を光軸00’に沿って移動させる。
【0040】
制御部510は、検出部520に接続され、検出部520の検出結果に基づいて第2のコンデンサーレンズ162及び第2のレンズ系174の位置を個別的に制御することができる。制御部510はメモリ512に接続され、メモリ512は本発明との関係では制御部510が行うテレセントリシティ制御方法及び/又はそれに使用されるデータを格納することができる。メモリ512は、例えば、ROM、RAMその他の記憶装置を含む。本実施例では制御部510は照明装置100の制御部であるが、必要があれば露光装置1その他の外部装置の制御部が兼ねることもできる。また、制御部510は、露光装置1その他の外部装置に更に制御されてもよい。必要があれば、メモリ512及び検出部520は照明装置100の外部に設けられてもよい。
【0041】
検出部520は、例えば、プレート400の近傍に配置されたピンホールと2次元センサから構成される。ピンホールはレチクル200と共役となる位置に配置され、2次元光センサは、ピンホール下方にピンホールから一定距離h離れたところに受光面がくるように配置される。投影光学系300の絞り(入射瞳)310とピンホールを通って照明光学系120から照射される照明光束を、2次元光センサを介して観察することにより、絞り310の照度分布を測定することができる。検出部520は、かかる照度分布を取り込んで、絞り310の中心と照明光東の中心のずれをテレセントリシティのずれ量として把握する。
【0042】
レチクル200上には転写されるべき回路パターン(又は像)が形成されており、レチクル200から発せられた回折光は投影光学系300を通りプレート400上に投影される。プレート400はウェハや液晶基板などの被処理体でありレジストが塗布されているものである。スリット166とレチクル200とは、共役な関係に配置される。ハエの目レンズ140の射出面とレチクル200とはフーリエ変換の関係にある。また、レチクル200とプレート400とは共役の関係にある。
【0043】
走査型投影露光装置の場合は、レチクル200とプレート400を走査することによりレチクル200のパターンをプレート400上に転写する。
【0044】
投影光学系300は、レチクル200に形成されたパターンを経た光束をプレート400上に結像し、本実施形態では、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有するカタディオプトリック光学系を使用する。但し、本発明に適用可能な投影光学系300は、ミラーのみからなる全ミラー型、特殊レンズ型などを含む。色収差の補正が必要な場合には、互いに分散値(アッベ値)の異なるガラス材からなる複数のレンズ素子を使用したり、回折光学素子を使用したりする。投影光学系300は、絞り310を有して、レチクル200の回路パターンを表す軸外光をプレート400にテレセントリック結像する。また、投影光学系300の光軸OO’は照明光学系120の光軸OO’と一致する。換言すれば、照明光学系120と投影光学系300とは共軸関係に配置される。
【0045】
照明光学系120は、図2に示す軸外皮像域ARCと光軸OO’を含めてほぼ相似形の照明領域を第1の照射面164上に形成する。その後、光束はスリット166を経て、マスキング結像系170を通った後レチクル200を照明する。第2のコンデンサーレンズ162は、ハエの目レンズ140から出射した光を用いてレチクル200をケーラー照明により均一に軸外照明する。
【0046】
レチクル200を通過した光束は投影光学系300の結像作用によって、プレート400上に所定倍率で絡小投影される。投影光学系300はプレート400上に、図2に示すような円弧状のパターン転写領域ARCを形成すると共にレチクル200とプレート400の同期走査により、円弧幅方向にプレート400を走査して、ショット全体(図13中C5)を露光する。更に、プレート400のステージをステップして、次のショットに移り、プレート400上に多数のショット(C1〜C9)を露光転写する。
【0047】
プレート400は、本実施形態ではウェハであるが、液晶基板その他の被処理体を広く含む。プレート400にはフォトレジストが塗布されている。フォトレジスト塗布工程は、前処理と、密着性向上剤塗布処理と、フォトレジスト塗布処理と、プリベーク処理とを含む。前処理は洗浄、乾燥などを含む。密着性向上剤塗布処理は、フォトレジストと下地との密着性を高めるための表面改質(即ち、界面活性剤塗布による疎水性化)処理であり、HMDS(Hexamethyl−disilazane)などの有機膜をコート又は蒸気処理する。プリベークはベーキング(焼成)工程であるが現像後のそれよりもソフトであり、溶剤を除去する。
【0048】
プレート400は図示しないウェハステージに支持される。ウェハステージは、当業界で周知のいかなる構成をも適用することができるので、ここでは詳しい構造及び動作の説明は省略する。例えば、ウェハステージはリニアモータを利用して光軸と直交する方向にプレート400を移動する。レチクル200とプレート400は、例えば、同期して走査され、レチクルステージとウェハステージの位置は、例えば、レーザー干渉計などにより監視され、両者は一定の速度比率で駆動される。ウェハステージは、例えば、ダンパを介して床等の上に支持されるステージ定盤上に設けられる。
【0049】
以下、図12を参照して、図1に示す露光装置1の変形例としての露光装置1Aについて説明する。ここで、図12は、露光装置1Aの単純化された光路図である。露光装置1Aは、光源部110から第2のコンデンサーレンズ162までの光軸を投影光学系300の光軸からrだけずらしている点で露光装置1と異なる。露光装置1Aにおいては、図3に示すように、ハエの目レンズ140は照明光学系の軸外に円弧照明領域を形成する必要がなくなる。そのために、個々の素子は入射側と射出側ともに図7、図8、図9に示した切り出し、積上げ方式になり、部品の共通化が図れる。
【0050】
このように本実施形態によれば、円弧や矩形状の照明においても、光源の光束を損失なくウェハ上に伝達できるので、光利用率が向上し、高い照度がえられる.一方、光源のパワーを低露力化できる。
【0051】
以上、主として、円弧照明領域に関して本発明の作用を説明してきた。但し、本発明は、円弧照明だけにとどまらず、以下に説明するように、軸上又は軸外に矩形状の結像領域を有する投影光学系にも適用可能である。この場合には、最終段のハエの目レンズは矩形照明域を形成するために、各レンズ素子の断面形状を最終像面上での照明領域と相似形状に整形する必要がある。
【0052】
図16に、照明装置100の別の例としての照明装置100Aの単純化された光路を示す。照明装置100Aは、光源部110と照明光学系120Aとを有し、照明光学系120Aは、2つのハエの目レンズ140及び180を有する、いわゆるダブルインテグレータ構造を有する。
【0053】
ハエの目レンズ140及び180は、被照射面を均一に照明する機能を有し、入射光の波面を分割して光出射面又はその近傍に複数の光源を形成する波面分割型ライトインテグレータである。ハエの目レンズ140及び180は入射光の角度分布を位置分布に変換して出射し、ハエの目レンズ140及び180のそれぞれの入射面140a、180aと出射面140b、180bとはフーリエ変換の関係になっている。これにより、ハエの目レンズ140及び180の射出面140b及び180bの近傍は2次光源となっている。
【0054】
ハエの目レンズ140及び180は、本実施形態では、入射面と出射面とが凸球面よりなるロッドレンズ(即ち、微小レンズ素子)を多数組み合わせて構成されている。但し、本発明が使用可能な波面分割型ライトインテグレータはハエの目レンズに限定されるものではなく、例えば、図17に示すような各組が直交するように配置された複数の組のシリンドリカルレンズアレイ板などでもよい。また、ロッドレンズが3面以上の屈折面を有するハエの目レンズを使用してもよい。また、ライトインテグレータは、コーティングを施したミラー型のインテグレータであってもよい。かかるミラー型のライトインテグレータは、EUV光源の適用が特に効果的である。なお、円弧状の断面形状の素子を複数有するミラー型のライトインテグレータとしては、図22のような、特開2000−223415号公報(対応米国版:USP6,195,201)に記載されているものを用いることができる。図22は、ミラー型のライトインテグレータを示す図である。
【0055】
図17に示すシリンドリカルレンズアレイ板は、母線方向が同じ凸シリンドリカルレンズの対と母線方向が同じ凸シリンドリカルレンズの対とを互いの母線方向が直交するように積層したレンズであり、2組のシリンドリカルレンズアレイ又はレンチキュラーレンズ板を重ねることによって構成される。図17での1枚目211と4枚目214の組のシリンドリカルレンズアレイ板はそれぞれ焦点距離f1を有し、2枚目212と3枚目213の組のシリンドリカルレンズアレイ板はf1とは異なる焦点距離f2を有する。同一組のシリンドリカルレンズアレイ板は相手の焦点位置に配置される。2組のシリンドリカルレンズアレイ板は互いの母線方向が直角をなすように配置され、直交方向でFナンバー(即ち、レンズの焦点距離/有効口径)の異なる光束を作る。なお、組数が2に限定されないことはいうまでもない。また、互いの母線方向が直交する複数のシリンドリカルレンズを用いていれば、シリンドリカルレンズの数はいくつであっても構わない。
【0056】
ハエの目レンズ140は、ハエの目レンズ180を均一に照明するために設けられる。ハエの目レンズ180はレチクル200を均一に照明するために設けられる。
【0057】
ハエの目レンズ140のロッドレンズは本実施形態では四角形断面を有し、ハエの目レンズ180のロッドレンズは本実施形態では四角形又は六角形断面を有する。なお、ここで、断面とは光軸に垂直な面に関する断面である。ハエの目レンズ140のロッドレンズの形状はビーム整形系114を経た光束の形状に対応し、矩形角度分布を形成することができる。ハエの目レンズ180のロッドレンズの形状は、レチクル200面の形状が矩形の場合には矩形に、レチクル200面の形状が円形の場合には正方形から円を切り出すよりも六角形から円を切り出す方が効率が良いために六角形形状を有する。
【0058】
この場合、ハエの目レンズ180のレンズ素子の矩形の高さに対する幅の比率は、好ましくは、2.0乃至18.0、より好ましくは、3.0乃至10.0である。また、ハエの目レンズ140の素子の高さに対する幅の比率は、例えば、1.0乃至5.0となり、ハエの目レンズ180のそれよりも小さくなる。これらの理由は円弧の場合と同様に、ケラレにくさを向上すると共に収差補正の便宜のためである。
【0059】
ハエの目レンズ140を構成するロッドレンズの入射面140aとハエの目レンズ180の入射面150aは略共役である。これにより、ぼかしによる光量ロスとスループットの低下を防止することができる。
【0060】
必要があれば、ハエの目レンズ180の射出面180bの近傍に図示しない絞りが設けられる。絞りは不要光を遮光して所望の2次光源を形成する可変開口絞りであり、円形開口絞りや輪帯照明等の各種の絞りを使用することができる。輪帯形状や4重極形状などの開口を持つ開口絞りを用いて変形照明を実現してもよい。このような開口絞りを利用する変形照明法又は斜入射照明法により、解像力の限界を高めることができる。可変開口絞りを変えるためには、例えば、これらの絞りを形成した円盤状ターレットを用い、図示しない制御部及び駆動機構が開口を切り替えるべくターレットを回転させることで可能となる。かかる開口絞りによって照明モードを変更することができる。
【0061】
レンズ系162はズーム系を含んでもよく、そうすることで有効光源の大きさを変更することが可能となる。しかし、有効光源の大きさを変更した場合には、それに伴って2次光源の大きさも変わってしまう。特に、有効光源を小さくした場合には、逆に2次光源が大きくなり、光がハエの目にケラれかねないという問題が生じうる。しかし、本実施例においては、上述したようにハエの目レンズ180のレンズ素子の矩形の高さに対する幅の比率を2.0乃至18.0、より好ましくは3.0乃至10.0としているため、そのようなことは起こらない。つまり、ズームレンズ系のズーム作用によって、2次光源の大きさがたとえ拡大されたとしても、本実施例のハエの目を構成する光学素子による光の損失は発生しないのである。なお、前述の円弧照明領域を形成する照明光学系の実施例において、コンデンサーレンズ122がズーム系を含んでいる場合にも同じことが言える。
【0062】
レンズ系162は、ハエの目レンズ140の射出光をハエの目レンズ180の入射面180aに重ね合わせ、ハエの目レンズ180を均一に照明する。レンズ系162とハエの目レンズ180との間には絞りは存在せず、絞りによる光量ロスやスループットの低下を防止することができる。コンデンサーレンズ163は、ハエの目レンズ180の射出光をレチクル200面に重ね合わせ、レチクル200面を均一に照明する。
【0063】
なお、必要があれば、走査中の露光領域を制御するためのマスキングブレード(絞り又はスリット)が設けられる。この場合、コンデンサーレンズ163は、ハエの目レンズ180によって波面分割された光をできるだけ多く集めて、マスキングブレードで重畳的に重ね合わせ、これによりマスキングブレードを均一にケーラー照明する。マスキングブレードとハエの目レンズ180の出射面180bとはフーリエ変換の関係に配置され、レチクル200面と略共役な関係に配置される。更に必要があれば、照度ムラ制御用の幅可変スリットを更に設けてもよい。
【0064】
マスキングブレードは、例えば、投影光学系300がレンズタイプの場合はほぼ矩形の開口部を有し、オフナータイプの反射ミラー系の場合は円弧状の開口部を有する。マスキングブレードの開口部を透過した光束をレチクル200の照明光として使用する。マスキングブレードは開口幅を自動可変な絞りであり、後述するプレート400の(開口スリットの)転写領域を縦方向で変更可能にする。また、露光装置1は、プレート400の(1ショットのスキャン露光領域としての)転写領域の横方向を変更可能にする、上述のマスキングブレードと類似した構造のスキャンブレードを更に有してもよい。スキャンブレードも開口幅が自動可変できる絞りであり、レチクル200面と光学的にほぼ共役な位置に設けられる。これにより露光装置1は、これら二つの可変ブレードを用いることによって露光を行うショットの寸法に合わせて転写領域の寸法を設定することができる。
【0065】
本実施形態の照明装置100Aによれば、被照明面であるレチクル200面での光利用効率高く、有効光源分布が略均一で、レチクル200面の照度分布を略均一にすることができる。
【0066】
図18に、照明装置100の別の例としての照明装置100Bの単純化された光路を示す。照明装置100Bは、光源部110と照明光学系120Bとを有し、照明光学系120Bは、3つのハエの目レンズ140、180及び190を有する、いわゆるトリプルインテグレータ構造を有する。
【0067】
ハエの目レンズ190のロッドレンズの断面形状はレチクル200面の形状が典型的に矩形状であることから照明光のケラレを少なくするために矩形状に設定されている。コンデンサーレンズ165は、ハエの目レンズ190の射出光をレチクル200面に重ね合わせ、レチクル200面を均一に照明する。コンデンサーレンズ190とレチクル面との間にマスキングブレードなどが配置されてもよい点は上述の通りである。ハエの目レンズ180のレンズ素子は、ハエの目レンズ190に対する所定の照明条件(例えば、コヒーレンスファクターσ)を有する有効光源形状を円にするために六角形か四角形を有してもよい。円形の照明領域を切り出すためには光の利用効率上六角形が好ましい。ハエの目レンズ140のレンズ素子は、例えば、矩形形状を有し、その高さに対する幅の比率は、例えば、1.0乃至5.0となり、ハエの目レンズ190のそれよりも小さくなる。
【0068】
照明装置100Bの光学系においては、ハエの目レンズ140は光源110からの光強度分布が変化しても被照明面200での影響が発生しないようにするものであり、ハエの目レンズ180は有効光源形状を略均一にするものであり、ハエの目レンズ190は被照明面としてのレチクル200面の照度分布を略均一にするためのものである。
【0069】
図16や図18が適用する投影光学系300は、反射屈折光学系(カタディオプトリック光学系)に限定されない。即ち、投影光学系300は、投影光学系400は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。
【0070】
以下、露光装置1の露光動作について説明する。露光において、光源112から発せられた光束は、ビーム整形系114によりそのビーム形状が所望のものに成形された後で、レンズ122を介してハエの目レンズ140に入射する。ハエの目レンズ140はレンズ系162を介して被照射面又はハエの目レンズ180を均一に照明する。ハエの目レンズ180を通過した光束はマスキング結像系170又はコンデンサーレンズ163及びハエの目レンズ190を介してレチクル200面を照明する。有効光源形状の大きさはレンズ系162が含むズームレンズ系により調節することができる。
【0071】
レチクル200を通過した光束は投影光学系300の結像作用によって、プレート400上に所定倍率で縮小投影される。プレート400上の露光光束の角度分布(即ち、有効光源分布)はほぼ均一になる。露光装置1がステッパーであれば、光源部と投影光学系300は固定して、レチクル200とプレート400の同期走査してショット全体を露光する。更に、プレート400のウェハステージをステップして、次のショットに移り、プレート400上に多数のショットを露光転写する。露光装置1がスキャナーであれば、レチクル200とプレート400を静止させた状態で露光を行う。
【0072】
上述の実施形態では、ハエの目レンズ140、180及び190におけるケラレが従来よりも少ないか低減しているので、デバイス(LSIやVLSIなどの半導体チップ、CCD、LCD、磁気センサー、薄膜磁気ヘッドなど)を高いスループットで製造することができる。
【0073】
次に、図19及び図20を参照して、上述の露光装置1を利用したデバイスの製造方法を説明する。図19は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ1(回路設計)ではデバイスの回路設計を行う。ステップ2(レチクル製作)では、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。ステップ3(ウェハ製造)ではシリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と呼ばれ、レチクルとウェハを用いてリソグラフィ技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)では、ステップ5で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0074】
図20は、ステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ11(酸化)ではウェハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)では、ウェハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ14(イオン打ち込み)ではウェハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)ではウェハに感光剤を塗布する。
【0075】
ステップ16(露光)では、露光装置1によってレチクルの回路パターンをウェハに露光する。ステップ17(現像)では、露光したウェハを現像する。ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。本実施形態の製造方法によれば、有効光源分布の均一にして高品位のデバイスを高いスループットで製造することができるため、露光装置1を使用するデバイス製造方法、並びに結果物としてのデバイスも本発明の一側面として機能する。
【0076】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【0077】
本出願は更に以下の事項を開示する。
【0078】
(実施態様1) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、
前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置。
【0079】
(実施態様2) 前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、3.0乃至10.0であることを特徴とする実施態様1記載の露光装置。
【0080】
(実施態様3) 前記光源からの光はEUV光であり、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、4.0乃至18.0であることを特徴とする実施態様1記載の露光装置。
【0081】
(実施態様4) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、第1のライトインテグレータと、該第1のライトインテグレータからの光で2次光源を形成する複数の素子からなる第2のライトインテグレータとを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される前記2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、
前記素子の断面は矩形形状であり、該矩形形状の高さに対する幅の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置。
【0082】
(実施態様5) 前記素子の前記矩形形状の高さに対する幅の比率は、3.0乃至10.0であることを特徴とする実施態様4記載の露光装置。
【0083】
(実施態様6) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、複数の素子からなる第1のライトインテグレータと、前記第1のライトインテグレータに入射する光の広がりを変更可能なズーム系とを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記広がりの変更に伴って大きさが変わっても、前記素子の射出面に収納可能であることを特徴とする露光装置。
【0084】
(実施態様7) 前記素子の断面は矩形形状であることを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0085】
(実施態様8) 前記素子の断面は円弧形状であることを特徴とする請求項6記載の露光装置。
【0086】
(実施態様9) 前記光源からの光はEUV光であることを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0087】
(実施態様10) 前記照明光学系は、前記第1のライトインテグレータを均一に照明するための複数の素子からなる第2のライトインテグレータを更に有することを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0088】
(実施態様11) 前記投影光学系は、カトプトリック系又はカタディオプトリック系であることを特徴とする実施態様1乃至10のうちいずれか一項記載の露光装置。
【0089】
(実施態様12) 前記投影光学系の光軸と、前記光源から前記照明光学系の前記第1のライトインテグレータまでの光軸とは、ずれていることを特徴とする実施態様1乃至10のうちいずれか一項記載の露光装置。
【0090】
(実施態様13) 実施態様1乃至12のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて前記被露光体を投影露光する工程と、
前記投影露光された被露光体に所定のプロセスを行う工程とを有するデバイス製造方法。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、ライトインテグレータにおける光量ロスやスループットの低下を改善する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の露光装置の単純化された光路図である。
【図2】図1に示す投影光学系による円弧状の結像領域を示す図である。
【図3】図1に示す偏芯照明領域形成手段の作用を説明するための光路図である。
【図4】図1に示すハエの目レンズの入射側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための平面図である。
【図5】図1に示すハエの目レンズの入射側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための側面図である。
【図6】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子の入射側の積層構造を示す平面図である。
【図7】図1に示すハエの目レンズの射出側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための平面図である。
【図8】図1に示すハエの目レンズの射出側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための側面図である。
【図9】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子の射出側の積層構造を示す平面図である。
【図10】ハエの目レンズのレンズ素子において入射光束がけられる様子を示す平面図である。
【図11】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子において入射光束がけられない様子を示す平面図である。
【図12】本発明の第2の実施例の露光装置の単純化された光路図である
【図13】図1に示すウェハ上に走査露光する際の概念図である。
【図14】図14は全ミラーの投影光学系を示す図である。
【図15】本発明の露光装置の単純化された光路図である。
【図16】図1に示す露光装置の照明光学系の変形例としての単純化された光路図である。
【図17】シリンドリカルハエの目レンズの配置を示す斜視図である。
【図18】図1に示す露光装置の照明光学系の別の変形例としての単純化された光路図である。
【図19】デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。
【図20】図19に示すステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図21】カタディオプトリック型の投影光学系を示す図である。
【図22】ミラー型のライトインテグレータを示す図である。
【符号の説明】
1 露光装置
100 照明装置
120 照明光学系
140、180、190 ハエの目レンズ
200 レチクル
300 投影光学系
400 プレート
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置に係り、特に、半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)または薄膜磁気ヘッド等を製造するためのリソグラフィ工程中に使用される露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、微細な半導体デバイスを高いスループットで生産する需要は益々高くなっており、デザインルールも130nmを量産工程で達成しようとしている。微細化を達成するためには、露光光の短波長化や投影レンズのNAの増加に加えて、レチクル(マスク)を照明する照度の均一化やレチクルやウェハを照明する露光光の角度分布である有効光源分布の均一化も重要である。
【0003】
露光光が短波長化すると光学材料(硝材や光学コーティング)の吸収が増加して透過率が低下するなどの問題があるため、従来のレンズのみで構成された屈折型(ディオプトリック系)の投影光学系の代わりに、全ミラー型(カトプトリック系)やミラーとレンズとの混成型(カタディオプトリック型)の投影光学系を使用することが従来から提案されている(例えば、特許文献1及び2)。
【0004】
一般に、投影光学系にミラーを用いると光軸付近の光束はけられてしまうために、軸外のある像高近傍のみに注目してそこでの収差を補正する設計がなされる。その結果、露光装置は、軸外の良像領域を照明してパターンの転写を行うことになる。この良像領域は、光軸に対して回転対称となる場合が多く、典型的には、所定の幅を有する円弧形状を有する。
【0005】
一方、レチクルを均一に照明し、かつ有効光源分布を均一化するために、照明光学系にコリメータレンズと複数の微小レンズ又はレンズ素子で構成されたライトインテグレータを組み合わせる方法が従来から使用されている。かかるライトインテグレータにより、レンズ素子数に相当する2次光源を射出面近傍に形成し、被照明面を複数の方向から重畳して均一に照明することができる。なお、前述のような円弧状領域で露光を行う露光装置においてレチクルを均一に円弧状の照明領域で照明するために、断面が円弧形状である光学素子を複数有するライトインテグレータを使うものがある(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
レンズ素子の光軸に垂直な面の形状は、レンズ素子の入射面と被照明面としてのレチクル面とが共役であることから、典型的に、被照明領域と相似形状の円弧形状に成形される。レンズ素子の射出面の面積をSoとし、射出角度をθoとすると、ヘルムホルツ−ラグランジェの不変量(以下、「HL量」という。)から、積So・θoは一定となる。かかるSo・θoの値は、通常は、画面サイズとNAを含む仕様によって決定される。
【特許文献1】
特開昭62−115718号公報
【特許文献2】
特開昭62−115719号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の照明光学系は、必ずしも高いスループットを維持することができないという問題を有していた。即ち、ライトインテグレータの入射面及び射出面においてHL量は保存されるから、像面からのHL量が上述のように仕様によって決定してしまえば、レンズ素子の入射面の面積をSi(=So)とし、入射角度をθiとすると、光源からのHL量であるSi・θiの値は決定されてしまう。このため、θiがθoよりも大きくなるとθoを超えた範囲はけられてしまう。特に、微細化を円弧形状の結像領域を実現しようとする場合には、レンズ素子の円弧形状の高さが弦に対して比較的小さくなれば、2次光源のケラレが発生する。一方、かかる問題を解決するために、レンズ素子の高さを大きくすることが考えられるが、これでは、収差補正すべき範囲が増加するために投影光学系の設計が困難になるため、好ましくない。
【0008】
そこで、ライトインテグレータにおける光量ロスやスループットの低下を改善する露光装置を提供することを本発明の例示的な目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の一側面としての露光装置は、光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする。
【0010】
本発明の他の目的及び更なる特徴は以下添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明者は、半導体や液晶等、種種の光リソグラフィ分野において、所定の形状の良像域を有する投影光学系の有効露光画面を形成する高さに対する幅の比率を解析した。所定の形状は、円、円弧、矩形などをいう。その結果、照明光束がインテグレータでけられずに、かつ、投影光学系の設計上実現可能な円弧率の範囲を数値的に規定することができた。以下に、本実施形態の露光装置と共に説明する。
【0012】
まず、本実施形態の露光装置1について、図15を参照して説明する。ここで、図15は、露光装置1の単純化された光路を示す概略図である。露光装置1は、照明装置100と、レチクル200と、投影光学系300と、プレート400とを有する。
【0013】
本実施形態の露光装置1は、ステップアンドスキャン方式でレチクル200に形成された回路パターンをプレート400に露光する投影露光装置であるが、本発明はステップアンドリピート方式その他の露光方式を適用することができる。ここで、ステップアンドスキャン方式は、レチクルに対してプレートを連続的にスキャンしてレチクルのパターンをプレートに露光すると共に、1ショットの露光終了後プレートをステップ移動して、次のショットの露光領域に移動する露光法である。また、ステップアンドリピート方式は、プレートのショットの一括露光ごとにプレートをステップ移動して次のショットを露光領域に移動する露光法である。
【0014】
照明装置100は、転写用の回路パターンが形成されたレチクル200を照度ムラなく、かつ、有効光源分布を均一にしつつ照明し、光源部と照明光学系とを有する。図15に示す露光装置1の具体例を図1に示す。照明装置100は、光源部110と照明光学系120とを有する。光源部110は、光源112と、ビーム整形系114とを有する。
【0015】
光源112は、本実施形態では、波長約193nmのArFエキシマレーザー、波長約248nmのKrFエキシマレーザー、波長約157nmのF2レーザーなどレーザー光源を使用する。但し、本発明の光源112はレーザーに限定されず、例えば、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。また、光源部110は、EUV光(波長5〜20nmの光)を発するEUV光源を使用してもよい。但し、この光が透過する光学部材は存在しないため、ミラー部材だけで光学系を構成する必要がある。このような光学系には当業界で周知のいかなる構成をも使用することができるため、ここではその構造及び作用の詳細な説明は省略する。
【0016】
ビーム整形系114は、例えば、複数のシリンドリカルレンズを備えるビームエクスパンダ等を使用することができ、レーザー光源からの平行光の断面形状の寸法の縦横比率を所望の値に変換する(例えば、断面形状を長方形から正方形にするなど)ことによりビーム形状を所望のものに成形する。ビーム整形系114は、後述するハエの目レンズ140を照明するのに必要な大きさと発散角を持つ光束を形成する。
【0017】
また、図1には示されていないが、光源部は、コヒーレントなレーザー光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。インコヒーレント化光学系は、例えば、入射光束を光分割面で少なくとも2つの光束(例えば、p偏光とs偏光)に分岐した後で一方の光束を光学部材を介して他方の光束に対してレーザー光のコヒーレンス長以上の光路長差を与えてから分割面に再誘導して他方の光束と重ね合わせて射出されるようにした折り返し系によって構成することができる。
【0018】
照明光学系120は、第1のコンデンサーレンズ122と、偏芯照明領域形成部130と、マスキング結像系170とを含む。第1のコンデンサーレンズ122は、ビーム成形系114の結像面と偏芯照明領域形成部130の後述するハエの目レンズ140の入射面とをフーリエ変換の関係に配置している。本明細書において、フーリエ変換の関係とは、光学的に瞳面と物体面(又は像面)、物体面(又は像面)と瞳面となる関係を意味する。必要があれば、ビーム成形系114と第1のコンデンサーレンズ122の間に折り曲げミラーが挿入されてもよい。
【0019】
第1のコンデンサーレンズ122は、後述するハエの目レンズ140がレンズ122の後焦点位置に配置されていて、その射出側においてテレセントリック光学系を構成している。射出側をテレセントリック光学系に構成することによって、レンズ122を通過した光束の主光線はハエの目レンズ140の中心及び周辺のどのレンズ素子142に対しても平行になる。
【0020】
第1のコンデンサーレンズ122の射出側をテレセントリック光学系に構成しない場合を考えると、ハエの目レンズ140の中心のレンズ素子142が入射光束と略等しい開口数(ケラレがない開口数)を持つ場合に周辺のレンズ素子142も中心のレンズ素子142と同じとすると周辺のレンズ素子142では主光線が傾く分だけ入射光束にケラレが生じる。ハエの目レンズ140に入射した光束が各レンズ素子142でケラレを生じないためには、周辺部のレンズ素子142は中心部のレンズ素子142に対して入射する光束の主光線の傾き分だけ開口数を大きく設定しなければならない。
【0021】
しかし、図6乃至図9を参照して後述されるように、ハエの目レンズ140は隙間なく連続的に並べた積層構造を有するため、それぞれのレンズ素子142について径を最適化することはできない。従って、中心部のレンズ素子142も周辺部のレンズ素子142も同一にして細密充填配置を形成する必要がある。そこで、第1のコンデンサーレンズ122を射出側でテレセントリック光学系に構成すればハエの目レンズ140の各レンズ素子142を中心部のレンズ素子142(ケラレが生じない最小の開口数のもの)で共通化することができる。
【0022】
偏芯照明領域形成部130は、光軸OO’から偏芯した軸外照明光を形成する機能を有し、ハエの目レンズ140と、第2のコンデンサーレンズ162と、第1の照射面164と、スリット166とを有する。図1に示す偏芯照明領域形成部130が軸外照明光を形成する模式的な光路図を図3に示す。
【0023】
ハエの目レンズ140は、入射光の角度分布を位置分布に変換して出射するライトインテグレータの一種である。ハエの目レンズ140は、図4に示すように、半球面から所定幅の円弧(図3における光束の透過部分)を切り取って複数(本実施例では14段)積層した形状を有して、焦点距離fだけ離間した入射レンズ素子142と出射レンズ素子146とを有する。一組の入射及び出射レンズ素子142及び146は焦点距離fだけ離間しているので、入射面と射出面とはフーリエ変換の関係にある。入射及び出射レンズ素子142及び146の形状は、投影光学系300の良像域、すなわち、プレート400上の被照明領域にほぼ相似形状をしている。それは以下のような理由による。つまり、図3から明らかなように、入射側レンズ142の入射面と第1照射面166とはコンデンサーレンズ162の作用により光学的に共役関係になっていて、更に図1から、被照射面166の近傍に置かれたスリット面164は後続するマスキング結像系170の作用によりレチクル面と共役になっている。最終的にはこれらの共役面は投影レンズ300の作用によりプレート400面に共役となっている。このように入射及び出射レンズ素子142及び146の断面形状を被照明領域の形状に近似させることによって、外観上はプレート面400上に円弧状の照明領域を直接に形成できる。以上が効率的な円弧照明を行うために必要な構成要件である。
【0024】
しかしながら、これだけでは光源側からハエの目レンズ140に入射する光束がけられなくハエの目レンズ140を通過することは期待できない。以下のその理由と、光束を有効にハエの目レンズを通過させる条件とを説明する。
【0025】
まず、円弧状ハエの目レンズの構成について述べる。図4は、入射レンズ141から有効域である入射レンズ素子142を切り出すことを説明するための平面図である。図5は、図4に示す入射レンズ141の側面図である。図6は、入射レンズ素子142を14段積層することによって形成された入射レンズ群143の平面図である.図7は、出射レンズ145から有効域である出射レンズ素子146を切り出すことを説明するための平面図である。図8は、図7に示す出射レンズ145の側面図である。図9は、出射レンズ素子146を積層することによって形成された出射レンズ群147の平面図である。
【0026】
図4乃至図7を参照するに、入射レンズ素子142は、図2を参照して後述されるARC(プレート400の面上での円弧状露光領域)とほぼ相似形である。図5に示す入射レンズ141と図8に示す出射レンズ145は同一の球面レンズであるが、図7に示すように、出射レンズ145から切り出す位置は、入射レンズ素子142と出射レンズ素子146とで異なる。これは、図3に示すように、入射レンズ素子142を通過した光束が軸上に偏向されるからである。図3は、図1における偏芯照明領域形成手段130の詳細図である。ハエの目レンズ140は複数の例示的なレンズ素子142を含む入射レンズ群143及び複数の例示的なレンズ素子146を含む出射レンズ群147から構成され、両レンズ群143及び147は焦点距離fだけ離れて配置されている。
【0027】
必要があれば、ハエの目レンズ140の射出面近傍に図示しない絞りが設けられる。絞りは不要光を遮光して所望の形状の2次光源を形成する可変開口絞りであり、円形開口絞りや輪帯照明等の各種の絞りを使用することができる。輪帯形状や4重極形状などの開口を持つ開口絞りを用いて変形照明を実現してもよい。このような開口絞りを利用する変形照明法又は斜入射照明法により、解像力の限界を高めることができる。可変開口絞りを変えるためには、例えば、これらの絞りを形成した円盤状ターレットを用い、図示しない制御部及び駆動機構が開口を切り替えるべくターレットを回転させることで可能となる。かかる開口絞りによって照明モードを変更することができる。
【0028】
後述するレンズ162及び174を含むズーム系は、2次光源の大きさをインテグレータにけられない状態に維持しつつ前記有効光源の大きさを変更するために好ましい。これにより、インテグレータのケラレを防止した状態で有効光源の形状を変更することができる。かかる機構は、特に、照明モードを変更した場合に好ましい。
【0029】
次に、ハエの目レンズ140ヘの入射光束の角度分布について述べる。ハエの目レンズに入射する光束の配光分布は一般に光軸に対して回転対称ないしは、矩形状である。そのことは光源112が、例えば、回転対称に発光するランプを楕円ミラーで集光したり、レーザー(ビームの断面形状が矩形状)であって、これらの光源をレンズ等の回転対称な光学部材で導光することを考えると極めて自然な帰結である。そして、図3が示唆するように、このような入射側ハエの目レンズ142への入射配光分布はそのフーリエ変換面である射出側ハエの目レンズ146上に射影される。その光量分布は回転対称(円)であったり、矩形状であったりする。
【0030】
図10は射出側ハエの目レンズ146面上での光量分布を示している。つまり、ハエの目レンズに入射する光量分布が円形800で表され、そのうち射出側ハエの目レンズ146の円弧状有効領域内部の光束だけがハエの目レンズ140を通過してゆき、プレート400面に到達する。そして、この円形の大きさ、即ち、ハエの目入射配光角は光源から発する光束の断面積と発光色、そして、ハエの目レンズブロック140の断面積で一義的に決定される量である。この量はヘルムホルツ−ラグランジェの不変量と呼ばれている。
【0031】
一方、円弧形状のハエの目146の大きさ、特に、円弧幅は投影光学系の収差補正が十分おこなわれた像高幅で決定され、それが先にのべたような結像関係からこれも一義的に決定してしまう寸法である。つまり、光源と投影光学系300の有効画面サイズとが決まると、ハエの目レンズでの光束透過率(=光利用効率)はそれによって決定されてしまう。我々はこの光学設計原理に基づいて、種々の円弧長像域を有する投影光学系300の設計検討を行う一方、露光装置で利用できる光源の物理量(発光断面積と発光色)を調査した結果、以下の条件を満たすとき、上述の光束けられが発生しないことを発見した。つまり、図11の光束の状態である。
【0032】
円弧状の露光領域に対応させて、レンズ素子146の形状も円弧形状にする。この場合、ハエの目レンズ140のレンズ素子146の射出面近傍に形成される2次光源が、レンズ素子146の射出面に収納可能な大きさを有するには、レンズ素子146の円弧形状の幅に対する弦の比率(円孤率)は、好ましくは、2.0乃至18.0、より好ましくは、3.0乃至10.0である。これらの範囲により、けられにくくすると共に収差補正をあまり行わなくてもよくなるという長所がある。下限値2.0は、投影光学系の収差補正に限界があり、これ以上の太い円弧状の良像域は設計上困難になるという経験に基づいている。上限値18.0は、図10のように、細い円弧状の画面では照明光束がハエの目レンズ140でけられてしまうことを禁止する条件である。なお、「円弧形状の幅」と「円弧形状の弦」については、図11に図示した。
【0033】
具体的な数値例としては、半導体露光時の1ショット画面サイズとして、22mmx30mm、あるいは、26mmx33mmの走査露光装置が考えられるが、その場合に設計される投影光学系の画面サイズは、前者の場合、円弧長22mmx円弧幅7mmが想定され、後者の場合、円弧長26mmx円弧幅5mmが想定される。それぞれの円弧率は3.1と5.2である。これらを実現するための投影光学系は、図21に示すようなカタディオプトリック型の投影光学系があり、光源としては、エキシマレーザーが挙げられる。
【0034】
図21のカタディオプトリック型の投影光学系においては、レチクル200のパターンの情報を有したレチクルからの光束OPはレンズ系333で集光され、ミラー334で反射し、レンズ系335で集光され、所定の偏光成分のみの光束が偏光ビームスプリッタ336を通過し、λ/4板337を経て凹面ミラー338に導かれる。凹面ミラー338で反射した光束OPは再びλ/4板337を通り、これにより光束OPは偏光ビームスプリッタ336を通過した偏光方向に対して90度回転した偏光方向を持つようになる為、今度は偏光ビームスプリッタ336で反射し、レンズ系339を経てプレート400にレチクル200のパターンを投影している。なお、図21は、カタディオプトリック型の投影光学系を示す図である。
【0035】
なお、光源112がEUV光源である場合には、露光領域の高さと弦との比率は、経験上、4.5乃至18.0となる。先ほどより下限値が大きくなっているのは、EUV光を使う露光装置においては、露光光の波長が5〜20nmと非常に短いものであると伴に、投影光学系を4〜6枚のミラーで構成しなくてはならず、良像域を広くとることが困難であるためである。
【0036】
別の数値例として、液晶基板露光用の光学系がある。この場合、投影光学系としては、図14のタイプがあり、光源としては超高圧水銀ランプを用いる。図14において、321は台形ミラー、322及び333は凹面ミラーであり、レチクル200のパターンからの光をプレート400へと導いている。なお、図14は全ミラーの投影光学系を示す図である。この露光装置は、基板サイズ横400mmx縦600mm程度の大基板を一回の走査で露光してしまうものである。その画面サイズは、円弧長400mmx円弧幅42mm程度が想定されていて、この場合の円弧率は9.5である。必要に応じて、図1ように第1の照射面164の上に照度ムラ制御用の幅可変スリット÷走査中の露光領域制限用のマスキングブレード等を配置してもよい。
【0037】
スリット166は、第2のコンデンサーレンズ162により均一照明される領域に円弧状の透光部と遮光部とを有する。ここで、スリット166の透光部を透過した光束をレチクル200の照明光として使用する。スリット166は、第2のコンデンサーレンズ162の焦平面に設けられているのでテレセントリック光学系を維持している。
【0038】
マスキング結像光学系170は、スリット166の開口像を再度レチクル200上に再結像する機能を有し、第1のレンズ系172と、第2のレンズ系174と、補正部材176とを有する。レンズ系172及び174は、複数のレンズ群を有する。必要があれば、レンズ系172及び174との間に折り曲げミラーを挿入してもよい。本実施形態では、第2のレンズ系174は、光軸OO’上で移動可能に構成されており、制御系500の駆動装置530により移動される。補正部材176は軸外光のテレセントリックのずれ(即ち、主光線と光軸OO’とのずれ角度)を補正し、共軸方向に可動な通常の球面レンズや、正文は負の屈折力を有する非球面のレンズ部材から構成される。
【0039】
制御系500は、制御部510と、メモリ512と、検出部520と、駆動装置530とを有する。制御部510は、本発明との関係では後述する投影光学系300に入射する光のテレセントリックのずれ(即ち、主光線と光軸OO’とのずれ角度)を、検出部520を介して検出し、かかるずれが除去されるように、駆動装置530を制御して、第2のコンデンサーレンズ162及び/又は第2のレンズ系174を光軸00’に沿って移動させる。
【0040】
制御部510は、検出部520に接続され、検出部520の検出結果に基づいて第2のコンデンサーレンズ162及び第2のレンズ系174の位置を個別的に制御することができる。制御部510はメモリ512に接続され、メモリ512は本発明との関係では制御部510が行うテレセントリシティ制御方法及び/又はそれに使用されるデータを格納することができる。メモリ512は、例えば、ROM、RAMその他の記憶装置を含む。本実施例では制御部510は照明装置100の制御部であるが、必要があれば露光装置1その他の外部装置の制御部が兼ねることもできる。また、制御部510は、露光装置1その他の外部装置に更に制御されてもよい。必要があれば、メモリ512及び検出部520は照明装置100の外部に設けられてもよい。
【0041】
検出部520は、例えば、プレート400の近傍に配置されたピンホールと2次元センサから構成される。ピンホールはレチクル200と共役となる位置に配置され、2次元光センサは、ピンホール下方にピンホールから一定距離h離れたところに受光面がくるように配置される。投影光学系300の絞り(入射瞳)310とピンホールを通って照明光学系120から照射される照明光束を、2次元光センサを介して観察することにより、絞り310の照度分布を測定することができる。検出部520は、かかる照度分布を取り込んで、絞り310の中心と照明光東の中心のずれをテレセントリシティのずれ量として把握する。
【0042】
レチクル200上には転写されるべき回路パターン(又は像)が形成されており、レチクル200から発せられた回折光は投影光学系300を通りプレート400上に投影される。プレート400はウェハや液晶基板などの被処理体でありレジストが塗布されているものである。スリット166とレチクル200とは、共役な関係に配置される。ハエの目レンズ140の射出面とレチクル200とはフーリエ変換の関係にある。また、レチクル200とプレート400とは共役の関係にある。
【0043】
走査型投影露光装置の場合は、レチクル200とプレート400を走査することによりレチクル200のパターンをプレート400上に転写する。
【0044】
投影光学系300は、レチクル200に形成されたパターンを経た光束をプレート400上に結像し、本実施形態では、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有するカタディオプトリック光学系を使用する。但し、本発明に適用可能な投影光学系300は、ミラーのみからなる全ミラー型、特殊レンズ型などを含む。色収差の補正が必要な場合には、互いに分散値(アッベ値)の異なるガラス材からなる複数のレンズ素子を使用したり、回折光学素子を使用したりする。投影光学系300は、絞り310を有して、レチクル200の回路パターンを表す軸外光をプレート400にテレセントリック結像する。また、投影光学系300の光軸OO’は照明光学系120の光軸OO’と一致する。換言すれば、照明光学系120と投影光学系300とは共軸関係に配置される。
【0045】
照明光学系120は、図2に示す軸外皮像域ARCと光軸OO’を含めてほぼ相似形の照明領域を第1の照射面164上に形成する。その後、光束はスリット166を経て、マスキング結像系170を通った後レチクル200を照明する。第2のコンデンサーレンズ162は、ハエの目レンズ140から出射した光を用いてレチクル200をケーラー照明により均一に軸外照明する。
【0046】
レチクル200を通過した光束は投影光学系300の結像作用によって、プレート400上に所定倍率で絡小投影される。投影光学系300はプレート400上に、図2に示すような円弧状のパターン転写領域ARCを形成すると共にレチクル200とプレート400の同期走査により、円弧幅方向にプレート400を走査して、ショット全体(図13中C5)を露光する。更に、プレート400のステージをステップして、次のショットに移り、プレート400上に多数のショット(C1〜C9)を露光転写する。
【0047】
プレート400は、本実施形態ではウェハであるが、液晶基板その他の被処理体を広く含む。プレート400にはフォトレジストが塗布されている。フォトレジスト塗布工程は、前処理と、密着性向上剤塗布処理と、フォトレジスト塗布処理と、プリベーク処理とを含む。前処理は洗浄、乾燥などを含む。密着性向上剤塗布処理は、フォトレジストと下地との密着性を高めるための表面改質(即ち、界面活性剤塗布による疎水性化)処理であり、HMDS(Hexamethyl−disilazane)などの有機膜をコート又は蒸気処理する。プリベークはベーキング(焼成)工程であるが現像後のそれよりもソフトであり、溶剤を除去する。
【0048】
プレート400は図示しないウェハステージに支持される。ウェハステージは、当業界で周知のいかなる構成をも適用することができるので、ここでは詳しい構造及び動作の説明は省略する。例えば、ウェハステージはリニアモータを利用して光軸と直交する方向にプレート400を移動する。レチクル200とプレート400は、例えば、同期して走査され、レチクルステージとウェハステージの位置は、例えば、レーザー干渉計などにより監視され、両者は一定の速度比率で駆動される。ウェハステージは、例えば、ダンパを介して床等の上に支持されるステージ定盤上に設けられる。
【0049】
以下、図12を参照して、図1に示す露光装置1の変形例としての露光装置1Aについて説明する。ここで、図12は、露光装置1Aの単純化された光路図である。露光装置1Aは、光源部110から第2のコンデンサーレンズ162までの光軸を投影光学系300の光軸からrだけずらしている点で露光装置1と異なる。露光装置1Aにおいては、図3に示すように、ハエの目レンズ140は照明光学系の軸外に円弧照明領域を形成する必要がなくなる。そのために、個々の素子は入射側と射出側ともに図7、図8、図9に示した切り出し、積上げ方式になり、部品の共通化が図れる。
【0050】
このように本実施形態によれば、円弧や矩形状の照明においても、光源の光束を損失なくウェハ上に伝達できるので、光利用率が向上し、高い照度がえられる.一方、光源のパワーを低露力化できる。
【0051】
以上、主として、円弧照明領域に関して本発明の作用を説明してきた。但し、本発明は、円弧照明だけにとどまらず、以下に説明するように、軸上又は軸外に矩形状の結像領域を有する投影光学系にも適用可能である。この場合には、最終段のハエの目レンズは矩形照明域を形成するために、各レンズ素子の断面形状を最終像面上での照明領域と相似形状に整形する必要がある。
【0052】
図16に、照明装置100の別の例としての照明装置100Aの単純化された光路を示す。照明装置100Aは、光源部110と照明光学系120Aとを有し、照明光学系120Aは、2つのハエの目レンズ140及び180を有する、いわゆるダブルインテグレータ構造を有する。
【0053】
ハエの目レンズ140及び180は、被照射面を均一に照明する機能を有し、入射光の波面を分割して光出射面又はその近傍に複数の光源を形成する波面分割型ライトインテグレータである。ハエの目レンズ140及び180は入射光の角度分布を位置分布に変換して出射し、ハエの目レンズ140及び180のそれぞれの入射面140a、180aと出射面140b、180bとはフーリエ変換の関係になっている。これにより、ハエの目レンズ140及び180の射出面140b及び180bの近傍は2次光源となっている。
【0054】
ハエの目レンズ140及び180は、本実施形態では、入射面と出射面とが凸球面よりなるロッドレンズ(即ち、微小レンズ素子)を多数組み合わせて構成されている。但し、本発明が使用可能な波面分割型ライトインテグレータはハエの目レンズに限定されるものではなく、例えば、図17に示すような各組が直交するように配置された複数の組のシリンドリカルレンズアレイ板などでもよい。また、ロッドレンズが3面以上の屈折面を有するハエの目レンズを使用してもよい。また、ライトインテグレータは、コーティングを施したミラー型のインテグレータであってもよい。かかるミラー型のライトインテグレータは、EUV光源の適用が特に効果的である。なお、円弧状の断面形状の素子を複数有するミラー型のライトインテグレータとしては、図22のような、特開2000−223415号公報(対応米国版:USP6,195,201)に記載されているものを用いることができる。図22は、ミラー型のライトインテグレータを示す図である。
【0055】
図17に示すシリンドリカルレンズアレイ板は、母線方向が同じ凸シリンドリカルレンズの対と母線方向が同じ凸シリンドリカルレンズの対とを互いの母線方向が直交するように積層したレンズであり、2組のシリンドリカルレンズアレイ又はレンチキュラーレンズ板を重ねることによって構成される。図17での1枚目211と4枚目214の組のシリンドリカルレンズアレイ板はそれぞれ焦点距離f1を有し、2枚目212と3枚目213の組のシリンドリカルレンズアレイ板はf1とは異なる焦点距離f2を有する。同一組のシリンドリカルレンズアレイ板は相手の焦点位置に配置される。2組のシリンドリカルレンズアレイ板は互いの母線方向が直角をなすように配置され、直交方向でFナンバー(即ち、レンズの焦点距離/有効口径)の異なる光束を作る。なお、組数が2に限定されないことはいうまでもない。また、互いの母線方向が直交する複数のシリンドリカルレンズを用いていれば、シリンドリカルレンズの数はいくつであっても構わない。
【0056】
ハエの目レンズ140は、ハエの目レンズ180を均一に照明するために設けられる。ハエの目レンズ180はレチクル200を均一に照明するために設けられる。
【0057】
ハエの目レンズ140のロッドレンズは本実施形態では四角形断面を有し、ハエの目レンズ180のロッドレンズは本実施形態では四角形又は六角形断面を有する。なお、ここで、断面とは光軸に垂直な面に関する断面である。ハエの目レンズ140のロッドレンズの形状はビーム整形系114を経た光束の形状に対応し、矩形角度分布を形成することができる。ハエの目レンズ180のロッドレンズの形状は、レチクル200面の形状が矩形の場合には矩形に、レチクル200面の形状が円形の場合には正方形から円を切り出すよりも六角形から円を切り出す方が効率が良いために六角形形状を有する。
【0058】
この場合、ハエの目レンズ180のレンズ素子の矩形の高さに対する幅の比率は、好ましくは、2.0乃至18.0、より好ましくは、3.0乃至10.0である。また、ハエの目レンズ140の素子の高さに対する幅の比率は、例えば、1.0乃至5.0となり、ハエの目レンズ180のそれよりも小さくなる。これらの理由は円弧の場合と同様に、ケラレにくさを向上すると共に収差補正の便宜のためである。
【0059】
ハエの目レンズ140を構成するロッドレンズの入射面140aとハエの目レンズ180の入射面150aは略共役である。これにより、ぼかしによる光量ロスとスループットの低下を防止することができる。
【0060】
必要があれば、ハエの目レンズ180の射出面180bの近傍に図示しない絞りが設けられる。絞りは不要光を遮光して所望の2次光源を形成する可変開口絞りであり、円形開口絞りや輪帯照明等の各種の絞りを使用することができる。輪帯形状や4重極形状などの開口を持つ開口絞りを用いて変形照明を実現してもよい。このような開口絞りを利用する変形照明法又は斜入射照明法により、解像力の限界を高めることができる。可変開口絞りを変えるためには、例えば、これらの絞りを形成した円盤状ターレットを用い、図示しない制御部及び駆動機構が開口を切り替えるべくターレットを回転させることで可能となる。かかる開口絞りによって照明モードを変更することができる。
【0061】
レンズ系162はズーム系を含んでもよく、そうすることで有効光源の大きさを変更することが可能となる。しかし、有効光源の大きさを変更した場合には、それに伴って2次光源の大きさも変わってしまう。特に、有効光源を小さくした場合には、逆に2次光源が大きくなり、光がハエの目にケラれかねないという問題が生じうる。しかし、本実施例においては、上述したようにハエの目レンズ180のレンズ素子の矩形の高さに対する幅の比率を2.0乃至18.0、より好ましくは3.0乃至10.0としているため、そのようなことは起こらない。つまり、ズームレンズ系のズーム作用によって、2次光源の大きさがたとえ拡大されたとしても、本実施例のハエの目を構成する光学素子による光の損失は発生しないのである。なお、前述の円弧照明領域を形成する照明光学系の実施例において、コンデンサーレンズ122がズーム系を含んでいる場合にも同じことが言える。
【0062】
レンズ系162は、ハエの目レンズ140の射出光をハエの目レンズ180の入射面180aに重ね合わせ、ハエの目レンズ180を均一に照明する。レンズ系162とハエの目レンズ180との間には絞りは存在せず、絞りによる光量ロスやスループットの低下を防止することができる。コンデンサーレンズ163は、ハエの目レンズ180の射出光をレチクル200面に重ね合わせ、レチクル200面を均一に照明する。
【0063】
なお、必要があれば、走査中の露光領域を制御するためのマスキングブレード(絞り又はスリット)が設けられる。この場合、コンデンサーレンズ163は、ハエの目レンズ180によって波面分割された光をできるだけ多く集めて、マスキングブレードで重畳的に重ね合わせ、これによりマスキングブレードを均一にケーラー照明する。マスキングブレードとハエの目レンズ180の出射面180bとはフーリエ変換の関係に配置され、レチクル200面と略共役な関係に配置される。更に必要があれば、照度ムラ制御用の幅可変スリットを更に設けてもよい。
【0064】
マスキングブレードは、例えば、投影光学系300がレンズタイプの場合はほぼ矩形の開口部を有し、オフナータイプの反射ミラー系の場合は円弧状の開口部を有する。マスキングブレードの開口部を透過した光束をレチクル200の照明光として使用する。マスキングブレードは開口幅を自動可変な絞りであり、後述するプレート400の(開口スリットの)転写領域を縦方向で変更可能にする。また、露光装置1は、プレート400の(1ショットのスキャン露光領域としての)転写領域の横方向を変更可能にする、上述のマスキングブレードと類似した構造のスキャンブレードを更に有してもよい。スキャンブレードも開口幅が自動可変できる絞りであり、レチクル200面と光学的にほぼ共役な位置に設けられる。これにより露光装置1は、これら二つの可変ブレードを用いることによって露光を行うショットの寸法に合わせて転写領域の寸法を設定することができる。
【0065】
本実施形態の照明装置100Aによれば、被照明面であるレチクル200面での光利用効率高く、有効光源分布が略均一で、レチクル200面の照度分布を略均一にすることができる。
【0066】
図18に、照明装置100の別の例としての照明装置100Bの単純化された光路を示す。照明装置100Bは、光源部110と照明光学系120Bとを有し、照明光学系120Bは、3つのハエの目レンズ140、180及び190を有する、いわゆるトリプルインテグレータ構造を有する。
【0067】
ハエの目レンズ190のロッドレンズの断面形状はレチクル200面の形状が典型的に矩形状であることから照明光のケラレを少なくするために矩形状に設定されている。コンデンサーレンズ165は、ハエの目レンズ190の射出光をレチクル200面に重ね合わせ、レチクル200面を均一に照明する。コンデンサーレンズ190とレチクル面との間にマスキングブレードなどが配置されてもよい点は上述の通りである。ハエの目レンズ180のレンズ素子は、ハエの目レンズ190に対する所定の照明条件(例えば、コヒーレンスファクターσ)を有する有効光源形状を円にするために六角形か四角形を有してもよい。円形の照明領域を切り出すためには光の利用効率上六角形が好ましい。ハエの目レンズ140のレンズ素子は、例えば、矩形形状を有し、その高さに対する幅の比率は、例えば、1.0乃至5.0となり、ハエの目レンズ190のそれよりも小さくなる。
【0068】
照明装置100Bの光学系においては、ハエの目レンズ140は光源110からの光強度分布が変化しても被照明面200での影響が発生しないようにするものであり、ハエの目レンズ180は有効光源形状を略均一にするものであり、ハエの目レンズ190は被照明面としてのレチクル200面の照度分布を略均一にするためのものである。
【0069】
図16や図18が適用する投影光学系300は、反射屈折光学系(カタディオプトリック光学系)に限定されない。即ち、投影光学系300は、投影光学系400は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子と少なくとも一枚の凹面鏡とを有する、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。
【0070】
以下、露光装置1の露光動作について説明する。露光において、光源112から発せられた光束は、ビーム整形系114によりそのビーム形状が所望のものに成形された後で、レンズ122を介してハエの目レンズ140に入射する。ハエの目レンズ140はレンズ系162を介して被照射面又はハエの目レンズ180を均一に照明する。ハエの目レンズ180を通過した光束はマスキング結像系170又はコンデンサーレンズ163及びハエの目レンズ190を介してレチクル200面を照明する。有効光源形状の大きさはレンズ系162が含むズームレンズ系により調節することができる。
【0071】
レチクル200を通過した光束は投影光学系300の結像作用によって、プレート400上に所定倍率で縮小投影される。プレート400上の露光光束の角度分布(即ち、有効光源分布)はほぼ均一になる。露光装置1がステッパーであれば、光源部と投影光学系300は固定して、レチクル200とプレート400の同期走査してショット全体を露光する。更に、プレート400のウェハステージをステップして、次のショットに移り、プレート400上に多数のショットを露光転写する。露光装置1がスキャナーであれば、レチクル200とプレート400を静止させた状態で露光を行う。
【0072】
上述の実施形態では、ハエの目レンズ140、180及び190におけるケラレが従来よりも少ないか低減しているので、デバイス(LSIやVLSIなどの半導体チップ、CCD、LCD、磁気センサー、薄膜磁気ヘッドなど)を高いスループットで製造することができる。
【0073】
次に、図19及び図20を参照して、上述の露光装置1を利用したデバイスの製造方法を説明する。図19は、デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップ1(回路設計)ではデバイスの回路設計を行う。ステップ2(レチクル製作)では、設計した回路パターンを形成したレチクルを製作する。ステップ3(ウェハ製造)ではシリコンなどの材料を用いてウェハを製造する。ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と呼ばれ、レチクルとウェハを用いてリソグラフィ技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。ステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作成されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)では、ステップ5で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
【0074】
図20は、ステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップ11(酸化)ではウェハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)では、ウェハの表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)では、ウェハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップ14(イオン打ち込み)ではウェハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)ではウェハに感光剤を塗布する。
【0075】
ステップ16(露光)では、露光装置1によってレチクルの回路パターンをウェハに露光する。ステップ17(現像)では、露光したウェハを現像する。ステップ18(エッチング)では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウェハ上に多重に回路パターンが形成される。本実施形態の製造方法によれば、有効光源分布の均一にして高品位のデバイスを高いスループットで製造することができるため、露光装置1を使用するデバイス製造方法、並びに結果物としてのデバイスも本発明の一側面として機能する。
【0076】
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【0077】
本出願は更に以下の事項を開示する。
【0078】
(実施態様1) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、
前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置。
【0079】
(実施態様2) 前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、3.0乃至10.0であることを特徴とする実施態様1記載の露光装置。
【0080】
(実施態様3) 前記光源からの光はEUV光であり、前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、4.0乃至18.0であることを特徴とする実施態様1記載の露光装置。
【0081】
(実施態様4) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、第1のライトインテグレータと、該第1のライトインテグレータからの光で2次光源を形成する複数の素子からなる第2のライトインテグレータとを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される前記2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、
前記素子の断面は矩形形状であり、該矩形形状の高さに対する幅の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置。
【0082】
(実施態様5) 前記素子の前記矩形形状の高さに対する幅の比率は、3.0乃至10.0であることを特徴とする実施態様4記載の露光装置。
【0083】
(実施態様6) 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、複数の素子からなる第1のライトインテグレータと、前記第1のライトインテグレータに入射する光の広がりを変更可能なズーム系とを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記広がりの変更に伴って大きさが変わっても、前記素子の射出面に収納可能であることを特徴とする露光装置。
【0084】
(実施態様7) 前記素子の断面は矩形形状であることを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0085】
(実施態様8) 前記素子の断面は円弧形状であることを特徴とする請求項6記載の露光装置。
【0086】
(実施態様9) 前記光源からの光はEUV光であることを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0087】
(実施態様10) 前記照明光学系は、前記第1のライトインテグレータを均一に照明するための複数の素子からなる第2のライトインテグレータを更に有することを特徴とする実施態様6記載の露光装置。
【0088】
(実施態様11) 前記投影光学系は、カトプトリック系又はカタディオプトリック系であることを特徴とする実施態様1乃至10のうちいずれか一項記載の露光装置。
【0089】
(実施態様12) 前記投影光学系の光軸と、前記光源から前記照明光学系の前記第1のライトインテグレータまでの光軸とは、ずれていることを特徴とする実施態様1乃至10のうちいずれか一項記載の露光装置。
【0090】
(実施態様13) 実施態様1乃至12のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて前記被露光体を投影露光する工程と、
前記投影露光された被露光体に所定のプロセスを行う工程とを有するデバイス製造方法。
【0091】
【発明の効果】
本発明によれば、ライトインテグレータにおける光量ロスやスループットの低下を改善する露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の露光装置の単純化された光路図である。
【図2】図1に示す投影光学系による円弧状の結像領域を示す図である。
【図3】図1に示す偏芯照明領域形成手段の作用を説明するための光路図である。
【図4】図1に示すハエの目レンズの入射側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための平面図である。
【図5】図1に示すハエの目レンズの入射側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための側面図である。
【図6】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子の入射側の積層構造を示す平面図である。
【図7】図1に示すハエの目レンズの射出側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための平面図である。
【図8】図1に示すハエの目レンズの射出側のレンズ素子を球面レンズから切り出す様子を説明するための側面図である。
【図9】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子の射出側の積層構造を示す平面図である。
【図10】ハエの目レンズのレンズ素子において入射光束がけられる様子を示す平面図である。
【図11】図1に示すハエの目レンズのレンズ素子において入射光束がけられない様子を示す平面図である。
【図12】本発明の第2の実施例の露光装置の単純化された光路図である
【図13】図1に示すウェハ上に走査露光する際の概念図である。
【図14】図14は全ミラーの投影光学系を示す図である。
【図15】本発明の露光装置の単純化された光路図である。
【図16】図1に示す露光装置の照明光学系の変形例としての単純化された光路図である。
【図17】シリンドリカルハエの目レンズの配置を示す斜視図である。
【図18】図1に示す露光装置の照明光学系の別の変形例としての単純化された光路図である。
【図19】デバイス(ICやLSIなどの半導体チップ、LCD、CCD等)の製造を説明するためのフローチャートである。
【図20】図19に示すステップ4のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。
【図21】カタディオプトリック型の投影光学系を示す図である。
【図22】ミラー型のライトインテグレータを示す図である。
【符号の説明】
1 露光装置
100 照明装置
120 照明光学系
140、180、190 ハエの目レンズ
200 レチクル
300 投影光学系
400 プレート
Claims (1)
- 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
前記照明光学系は、断面が円弧形状である複数の素子からなるライトインテグレータを有し、
前記素子の射出面近傍に形成される2次光源は、前記素子の射出面に収納可能な大きさを有し、
前記素子の前記円弧形状の幅に対する弦の比率は、2.0乃至18.0であることを特徴とする露光装置。
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