JPH01179320A - 荷電ビーム露光装置のビーム位置補正方法 - Google Patents
荷電ビーム露光装置のビーム位置補正方法Info
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- JPH01179320A JPH01179320A JP93888A JP93888A JPH01179320A JP H01179320 A JPH01179320 A JP H01179320A JP 93888 A JP93888 A JP 93888A JP 93888 A JP93888 A JP 93888A JP H01179320 A JPH01179320 A JP H01179320A
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- Japan
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- stage
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title abstract 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板上もしくは薄膜上の荷電ビームエネルギー
を吸収・反応するレジストに荷電ビームを用いて所望パ
ターンを露光する荷電ビーム露光装置のビーム位置補正
方法に関する。
を吸収・反応するレジストに荷電ビームを用いて所望パ
ターンを露光する荷電ビーム露光装置のビーム位置補正
方法に関する。
従来、基板上もしくは薄膜上の荷電ビームエネルギーを
吸収して反応するレジストに荷電ビームを用いて所望パ
ターンを露光する場合、荷電ビームの位置ずれを補正す
るために、レーザ装置とレーザ検出装置とによりステー
ジの横方向変位を測長し、ポジションディフレクタ−を
用いてステージの変位量に応じて荷電ビームの偏角を変
えてウェハー上の定められた位置に荷電ビームを収束さ
せていた。
吸収して反応するレジストに荷電ビームを用いて所望パ
ターンを露光する場合、荷電ビームの位置ずれを補正す
るために、レーザ装置とレーザ検出装置とによりステー
ジの横方向変位を測長し、ポジションディフレクタ−を
用いてステージの変位量に応じて荷電ビームの偏角を変
えてウェハー上の定められた位置に荷電ビームを収束さ
せていた。
しかし、所望パターンが０５祖以下の場合、荷電ビーム
露光装置のカラム及びチャンバーの振動に伴う局所変位
により、ステージの傾斜や荷電ビームのゆがみがパター
ン幅に対して無視できなくなる。このずれはステージの
法線方向の変位や、ステージ面の傾斜により生ずるため
、従来のステージ横方向変位の測長では検出できないと
いう欠点がある。
露光装置のカラム及びチャンバーの振動に伴う局所変位
により、ステージの傾斜や荷電ビームのゆがみがパター
ン幅に対して無視できなくなる。このずれはステージの
法線方向の変位や、ステージ面の傾斜により生ずるため
、従来のステージ横方向変位の測長では検出できないと
いう欠点がある。
本発明の目的はこの問題点を解決しチャンバーやカラム
の振動によるステージの法線方向変位に対してビームの
位置を補正し、ウェハー上の定められた位置に正確に荷
電ビームを収束させる方法を提供することにある。
の振動によるステージの法線方向変位に対してビームの
位置を補正し、ウェハー上の定められた位置に正確に荷
電ビームを収束させる方法を提供することにある。
本発明は基板上もしくは薄膜上の荷電ビームエネルギー
を吸収して反応するレジストに荷電ビームを用いて所望
パターンを露光する装置において、荷電ビーム照射方向
と平行に少なくとも３点以上のステージ面に照射したレ
ーザ光の反射光を検知してステージ面の法線方向変位を
測長し、ステージを支えるアクチュエータにステージの
法線方向変位を相殺する信号を加えて荷電ビームの収束
位置を補正することを特徴とする荷電ビーム露光装置の
ビーム位置補正方法である。
を吸収して反応するレジストに荷電ビームを用いて所望
パターンを露光する装置において、荷電ビーム照射方向
と平行に少なくとも３点以上のステージ面に照射したレ
ーザ光の反射光を検知してステージ面の法線方向変位を
測長し、ステージを支えるアクチュエータにステージの
法線方向変位を相殺する信号を加えて荷電ビームの収束
位置を補正することを特徴とする荷電ビーム露光装置の
ビーム位置補正方法である。
荷電ビーム照射口に隣接したレーザ装置により、荷電ビ
ームが直進した場合に、荷電ビームと平行になるような
レーザビームをステージ面に照射し、その反射光との光
干渉によりステージ面の法線方向変位を測定する。この
ときステージ面上の少なくとも３点において測長を行う
ことによりステージ面の傾斜を検出できる。さらに、こ
の信号を用いてステージを支持しているアクチュエータ
に、傾斜や振動を相殺するような駆動信号を加えること
により、直進ビームに対してステージ面を常に直角に保
つ。この状態で横変位に対して、ポジションディフレク
タ−によりビームの偏角を補正すれば、０．５−以下の
微細パターンの露光においても、ビームの収束位置を正
確に補正することができる。
ームが直進した場合に、荷電ビームと平行になるような
レーザビームをステージ面に照射し、その反射光との光
干渉によりステージ面の法線方向変位を測定する。この
ときステージ面上の少なくとも３点において測長を行う
ことによりステージ面の傾斜を検出できる。さらに、こ
の信号を用いてステージを支持しているアクチュエータ
に、傾斜や振動を相殺するような駆動信号を加えること
により、直進ビームに対してステージ面を常に直角に保
つ。この状態で横変位に対して、ポジションディフレク
タ−によりビームの偏角を補正すれば、０．５−以下の
微細パターンの露光においても、ビームの収束位置を正
確に補正することができる。
以下に本発明の実施例を、図面を参照して説明する。第
１図は本発明方法の実施に用いる荷電ビーム露光装置の
一例を示す構成図である。図において、定盤９上には四
隅をアクチュエータ４８〜４ｄで支えたＹステージ７が
搭載され、さらにその上面にはＸステージ６が搭載され
ている。ウェハー１３はＸステージ上に設置され、その
上方に配置されたポジションディフレクタ−８から荷電
ビーム１をウェハー１３に照射され、露光が行われる構
成である。
１図は本発明方法の実施に用いる荷電ビーム露光装置の
一例を示す構成図である。図において、定盤９上には四
隅をアクチュエータ４８〜４ｄで支えたＹステージ７が
搭載され、さらにその上面にはＸステージ６が搭載され
ている。ウェハー１３はＸステージ上に設置され、その
上方に配置されたポジションディフレクタ−８から荷電
ビーム１をウェハー１３に照射され、露光が行われる構
成である。
Ｘステージ６の上面四隅にはミラー５８〜５ｄが取付け
られ、各ミラーの上方には各々に向き合せてレーザを照
射するレーザ装置２ａ〜２ｄおよｉ各ミラーからの反射
光を受ける検出器３８〜３ｄが配置されている。一方Ｘ
ステージ６の隣接する側面にも同様にミラー５ｅ、、
５ｆが取付けられ、各ミラーに対向してレーザ装置２ｅ
、 ２ｆおよび検出器３ｅ、 ３ｆが設置されている。
られ、各ミラーの上方には各々に向き合せてレーザを照
射するレーザ装置２ａ〜２ｄおよｉ各ミラーからの反射
光を受ける検出器３８〜３ｄが配置されている。一方Ｘ
ステージ６の隣接する側面にも同様にミラー５ｅ、、
５ｆが取付けられ、各ミラーに対向してレーザ装置２ｅ
、 ２ｆおよび検出器３ｅ、 ３ｆが設置されている。
検出器３８〜３ｄの検出出力は信号処理手段に入力され
、演算部１１で演算処理された後、アクチュエータコン
トローラ１２を経て前記アクチュエータ４８〜４ｄに制
御信号を出力する。
、演算部１１で演算処理された後、アクチュエータコン
トローラ１２を経て前記アクチュエータ４８〜４ｄに制
御信号を出力する。
実施例において、水平面上の法線方向の変位をレーザ装
置２ａ〜２ｄより照射したレーザ光を各ミラー５ａ〜５
ｄに照射し、その反射光を検出器３８〜３ｄに受けて測
定し、検出器３８〜３ｄに得られた各検出出力を信号処
理手段１０で処理し、演算部１１でステージ面の傾斜を
算出してアクチュエータコントローを相殺する信号を加
え、ウェハー１３を搭載したステージ面を直進荷電ビー
ム１に対し、常に直角を保つように調整する。その後、
横方向の変位をレーザ装＠２ｅ、２ｆおよび検出器３ｅ
、 ３ｆを用いて検出し、ポジションディフレクタ−８
の位置を調整し、ウェハー１３上の所望の位置に荷電ビ
ーム１を収束させることによって所望パターンの露光を
行う。
置２ａ〜２ｄより照射したレーザ光を各ミラー５ａ〜５
ｄに照射し、その反射光を検出器３８〜３ｄに受けて測
定し、検出器３８〜３ｄに得られた各検出出力を信号処
理手段１０で処理し、演算部１１でステージ面の傾斜を
算出してアクチュエータコントローを相殺する信号を加
え、ウェハー１３を搭載したステージ面を直進荷電ビー
ム１に対し、常に直角を保つように調整する。その後、
横方向の変位をレーザ装＠２ｅ、２ｆおよび検出器３ｅ
、 ３ｆを用いて検出し、ポジションディフレクタ−８
の位置を調整し、ウェハー１３上の所望の位置に荷電ビ
ーム１を収束させることによって所望パターンの露光を
行う。
以上説明したように本発明によれば、荷電ビーム露光装
置の機械振動に伴うステージ面の傾斜や、カラムとチャ
ンバーの相対運動によるビームのずれを、アクチュエー
タでリアルタイムに補正することにより０．５趨以下の
微細露光においてもビーム位置を補正し、正確なパター
ンの露光ができるという効果を有する。
置の機械振動に伴うステージ面の傾斜や、カラムとチャ
ンバーの相対運動によるビームのずれを、アクチュエー
タでリアルタイムに補正することにより０．５趨以下の
微細露光においてもビーム位置を補正し、正確なパター
ンの露光ができるという効果を有する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図である。
１・・・荷電ビーム ２ａ〜２ｆ・・・レーザ装
置３ａ〜３ｆ・・・検出器 ４ａ〜４ｄ・・・
アクチュエータ５ａ〜５ｆ・・・ミラー ６・
・・Ｘステージ７・・・Ｙステージ ８・・・ポジショ
ンディフレクタ−９・・・定盤 １０・・
・信号処理手段１１・・・演算部 １２・・・アクチ
ュエータコントローラ１３・・・ウェハー
置３ａ〜３ｆ・・・検出器 ４ａ〜４ｄ・・・
アクチュエータ５ａ〜５ｆ・・・ミラー ６・
・・Ｘステージ７・・・Ｙステージ ８・・・ポジショ
ンディフレクタ−９・・・定盤 １０・・
・信号処理手段１１・・・演算部 １２・・・アクチ
ュエータコントローラ１３・・・ウェハー
Claims (1)
- （１）基板上もしくは薄膜上の荷電ビームエネルギーを
吸収して反応するレジストに荷電ビームを用いて所望パ
ターンを露光する装置において、荷電ビーム照射方向と
平行に少なくとも３点以上のステージ面に照射したレー
ザ光の反射光を検知してステージ面の法線方向変位を測
長し、ステージを支えるアクチュエータにステージの法
線方向変位を相殺する信号を加えて荷電ビームの収束位
置を補正することを特徴とする荷電ビーム露光装置のビ
ーム位置補正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP93888A JPH01179320A (ja) | 1988-01-05 | 1988-01-05 | 荷電ビーム露光装置のビーム位置補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP93888A JPH01179320A (ja) | 1988-01-05 | 1988-01-05 | 荷電ビーム露光装置のビーム位置補正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01179320A true JPH01179320A (ja) | 1989-07-17 |
Family
ID=11487618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP93888A Pending JPH01179320A (ja) | 1988-01-05 | 1988-01-05 | 荷電ビーム露光装置のビーム位置補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01179320A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03284826A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Seiko Instr Inc | 集束イオンビーム加工装置の試料の位置決め方法 |
| JP2011509401A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | 折返し光学エンコーダ及びその用途 |
-
1988
- 1988-01-05 JP JP93888A patent/JPH01179320A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03284826A (ja) * | 1990-03-30 | 1991-12-16 | Seiko Instr Inc | 集束イオンビーム加工装置の試料の位置決め方法 |
| JP2011509401A (ja) * | 2007-12-27 | 2011-03-24 | エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． | 折返し光学エンコーダ及びその用途 |
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