KR20100042864A - 노광장치 및 그 진직도 측정방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 마스크리스(maskless) 노광장치에서 스테이지의 진직도(straigtness)를 측정하는 방법에 관한 것이다.
이를 위해 본 발명은 마스크리스(maskless) 노광장치의 구성장비인 광학유닛을 이용하여 일정간격으로 이동하는 스테이지의 구동에 따라 연속적으로 노광되는 복수의 빔의 상대적 거리를 측정하여 최종 노광 진직도를 측정함으로서 보다 정밀하면서도 반복성 및 재현성을 구현할 수 있는 측정 및 보정법을 제시한다.

Description

노광장치 및 그 진직도 측정방법{EXPOSURE APPARATUS AND METHOD TO MEASURE STRAITNESS THEREOF}
본 발명은 노광장치 및 그 진직도 측정방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마스크리스(maskless) 노광장치에서 스테이지의 진직도(straigtness)를 측정하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정 디스플레이장치나 플라즈마 디스플레이장치 등의 평판 디스플레이(FPD:Flat Panel Display)를 구성하는 기판에 패턴을 형성하는 방법은 먼저 기판에 패턴재료를 도포하고, 포토 마스크를 사용하여 패턴재료에 선택적으로 노광을 하여 화학적 성질이 달라진 패턴재료 부분 또는 그 외의 부분을 선택적으로 제거함으로서 패턴을 형성한다.
그러나, 기판이 점차 대형화되고 노광면에 형성되는 패턴이 정밀화되어 감에 따라 포토 마스크를 사용하지 않는 마스크리스 노광장치가 사용되고 있으며, 마스크리스 노광장치는 전자장치(Electronic Device)를 사용하여 전기적인 신호로 만들어진 패턴 정보를 가지고 광 빔을 기판에 전사시키는 방식을 통해 패턴을 형성한다.
이러한 마스크리스 노광장치는 기판을 이동시키면서 노광면에 패턴을 형성하게 되는데, 이때 기판을 이동시키는 스테이지의 정밀도가 노광면에 형성되는 패턴의 품질에 영향을 미치며, 특히 스테이지의 진직도(straigtness)는 노광면에 형성되는 패턴의 품질에 직접적인 영향을 미치게 된다.
진직도란 이동방향에 대하여 직각방향으로 발생하는 오차를 의미한다. 예를 들어, 2차원상을 이동하는 스테이지의 경우 X축을 따르는 이동방향에 대한 진직도의 오차는 실질적으로 Y축 방향으로의 위치 에러를 발생하고, Y축을 따르는 이동방향에 대한 진직도의 오차는 실질적으로 X축 방향으로의 위치 에러를 발생하게 된다.
이에, 종래에는 위치 에러의 측정을 위한 기구물(예를 들어, 각도 검출기)을 별도로 설치하여 진직도를 측정하고 보정하는 방식을 사용하고 있으나, 이러한 방식은 측정을 위한 별도의 기구물을 설치해야 하므로 기구적인 설치오차와 추가 비용의 발생을 가져온다. 또한 측정경로상의 기구물 간섭 문제와 기구물을 해제하여 분해한 후에 다시 조립해야 하므로 측정 시 반복성 및 재현성이 부족하며, 기구물 설치 시 스테이지를 건드려서 정밀 셋팅 값을 잃을 수 있으므로 진직도의 정밀한 보정이 이루어질 수 없다.
본 발명은 별도의 측정 기구물을 설치하지 않고도 마스크리스 노광장치의 구성장비인 빔 유닛을 이용하여 스테이지의 진직도를 측정할 수 있는 방법을 제시하고자 한다.
이를 위해 본 발명의 실시예에 의한 노광장치는 기판을 이동시키는 스테이지; 상기 기판에 조사되는 복수의 빔을 생성하는 광학유닛; 상기 스테이지를 이동시키면서 상기 기판의 노광면에 상기 복수의 빔을 노광시켜 상기 스테이지의 진직도를 측정하는 제어부를 포함한다.
상기 광학유닛은 상기 스테이지에 수직방향으로 상기 복수의 빔을 조사시키는 것을 특징으로 한다.
상기 광학유닛은 광원에서 출사된 광을 패턴에 따라 변조하고, 상기 변조된 광 빔을 상기 노광면에 조사하는 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함한다.
상기 스테이지는 스캔 방향을 따라 일정간격으로 이동되고, 상기 제어부는 상기 일정간격으로 이동되는 상기 스테이지의 구동에 따라 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스 상의 상기 복수의 빔을 상기 노광면에 연속적으로 노광시키는 것을 특징으로 한다.
상기 스테이지는 스캔 방향을 따라 일정간격으로 이동되고, 상기 제어부는 상기 일정간격으로 이동되는 상기 스테이지의 구동에 따라 상기 노광면에 상기 복수의 빔을 연속적으로 노광시키는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 실시예에 의한 노광장치는 상기 연속적으로 노광되는 빔간의 거리를 측정하는 측정부를 더 포함하고, 상기 제어부는 상기 측정된 빔간의 거리를 이용하여 상기 노광 진직도를 측정하기 위한 거리 편차 값을 계산하는 것을 특징으로 한다.
상기 거리 편차 값(d)은 아래의 [식]에 의하여 구해지는 것을 특징으로 한다.
[식]
dn+1 = (Xn + dn) - Xn+1
여기에서, Xn, Xn+1는 연속적으로 노광되는 빔간의 상대 거리이고, d0는 0이다.
상기 빔은 스폿 또는 라인 형태인 것을 특징으로 한다.
그리고, 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 진직도 측정방법은 기판이 안착된 스테이지를 이동시키고; 상기 스테이지에 조사되는 복수의 빔을 생성하여 상기 기판에 조사하고; 상기 기판의 노광면에 상기 복수의 빔을 노광시켜 상기 스테이지의 진직도를 측정하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 진직도 측정방법은 상기 연속적으로 노광되는 빔간의 상대적 거리를 측정하는 것을 더 포함하고, 상기 스테이지의 진직도를 측정하는 것은, 상기 측정된 빔간의 상대적 거리를 이용하여 상기 빔간의 거리 편차 값을 계산하는 것을 특징으로 한다.
이러한 본 발명의 실시예에 의하면 마스크리스(maskless) 노광장치의 구성장비인 광학유닛(DMD)을 이용하여 일정간격으로 이동하는 스테이지의 구동에 따라 연속적으로 노광되는 복수의 빔의 상대적 거리를 측정하여 최종 노광 진직도를 측정함으로서 보다 정밀하면서도 반복성 및 재현성을 구현할 수 있는 측정 및 보정법을 제시하여 패턴을 보다 정확하게 형성할 수 있게 된다. 이는 고정밀 패턴이 요구되는 대면적 기판의 반도체 공정이나 디스플레이 제조 공정에 적용 가능하며 고정밀 진직도 향상 및 비용 절감을 통해 기술적인 효과뿐만 아니라 경제적인 효과도 기대할 수 있다.
이하, 본 발명의 일실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.
도 1에서, 본 발명의 실시예에 의한 노광장치(10)는 플랫 베드타입으로 형성되어 4개의 지지부(12)에 의해 지지되는 두꺼운 판상의 설치대(14)와, 설치대(14)의 상부에 설치되어 노광하고자 하는 대상물 즉, 기판(16)을 Y축 방향으로 이동시키면서 스캔기능을 하는 스테이지(18)와, 설치대(14)의 상면에 설치되어 스테이지(18) 이동방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)를 포함한다. 스테이지(18)는 그 길이방향이 스테이지(18) 이동방향을 향하도록 설치됨과 동시에 가이드(20)에 의해 왕복 이동 가능하게 지지되어 있다.
설치대(14)의 중앙부에는 스테이지(18)의 이동경로에 걸쳐지도록 ㄷ자 형상 의 게이트(22)가 설치되며, 게이트(22)의 단부 각각은 설치대(14)의 양 측면에 고정되어 있다. 이 게이트(22)를 사이에 두고 일측에는 기판(16)에 노광되는 빔을 생성하기 위한 광학유닛(24)이 설치되고, 타측에는 기판(16)에 노광되는 빔을 측정하는 복수(예를 들면, 2개)의 측정부(26)가 설치되어 있다. 광학유닛(24) 및 측정부(26)는 게이트(22)에 각각 부착되고 스테이지(18)의 이동경로의 상방에 고정 배치되어 있다.
광학유닛(24)은 광원(30)에서 출사되는 레이저 광을 원하는 패턴에 따라 공간 변조하고, 노광면(17)을 갖는 기판(16)에 이 변조된 레이저 광을 노광 빔으로서 조사하여 기판(16)을 노광시키는 복수의 노광 헤드(28)를 구비하며, 각각의 노광 헤드(28)는 광원(30)으로부터 인출된 광섬유(32)에 접속되어 있다.
광원(30)은 반도체 레이저와 반도체 레이저에서 출사되는 광을 조절하는 광학계를 포함하고, 광섬유(32)를 이용하여 레이저 광을 광학유닛(24)의 노광 헤드(28)의 입사측에 제공한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 광학유닛의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2에서, 광학유닛(24)은 m행 n열(예를 들면, 2행 5열)의 대략 매트릭스 상으로 배열된 복수의 노광 헤드(28)를 포함한다.
노광 헤드(28)에 의한 노광영역(34)은 주사방향을 단변으로 하는 직사각형 형상이며, 스테이지(18)의 이동에 따라 기판(16)에는 노광 헤드(28)마다 밴드 형상의 노광완료영역(36)이 형성된다.
또한, 밴드 형상의 노광완료영역(36)이 주사 방향과 직교하는 방향으로 간 극 없이 늘어서도록 라인상으로 배열된 각 행의 노광 헤드(28)의 각각은 배열 방향으로 소정 간격 벗어나게 배치되어 있다. 예를 들면 제1행의 노광영역(34)과 제2행의 노광영역(34) 사이의 노광할 수 없는 부분은 제2행의 노광영역(34)에 의해 노광된다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 노광 헤드의 개략적인 구성을 나타낸 사시도이다.
도 3에서, 각 노광 헤드(28)는 광섬유(32)의 광 출사단(38)에서 출사된 광을 보정하여 미러(44)로 출사하는 보정 렌즈계(40)와, 보정 렌즈계(40)로부터 출사되는 광을 디지털 마이크로 미러 디바이스(46, Digital Micro-mirror Device;이하, DMD라 한다)로 반사하는 미러(44)와, 미러(44)로부터 반사되는 광을 부분적으로 다른 반사각으로 변조하여 일정한 패턴을 갖는 광 빔이 조사되도록 하는 DMD(46) 및 DMD(46)에서 변조된 광 빔이 기판(16)의 노광면(17)에 결상되도록 하는 집광 렌즈계(48)를 포함한다.
보정 렌즈계(40)는 광 출사단(38)에서 출사된 광이 균일해지도록 하는 제1보정 렌즈(41)와, 제1보정 렌즈(41)를 통과한 광이 미러(44)에 집광되도록 하는 제2보정 렌즈(42)로 이루어져, 광 출사단(38)에서 출사된 광이 균일한 광량 분포를 가지고 미러(44)로 입사되도록 한다.
미러(44)는 일면이 반사면으로 형성되어 보정 렌즈계(40)를 통과한 광을 DMD(46)로 반사한다.
DMD(46)는 입사된 광을 원하는 패턴에 따라 각 화소마다 변조하는 공간 광 변조소자로서 제어신호에 따라 반사면의 각도가 변화되는 다수의 마이크로 미러(45)를 실리콘 등의 반도체 기판상에 L행ㅧM열의 2차원상으로 배열한 미러 디바이스이다. DMD(46)를 노광면(17)을 따른 일정방향으로 주사함으로서 일정한 패턴을 가지는 광 빔을 집광 렌즈계(48)로 반사한다.
집광 렌즈계(48)는 제1집광 렌즈(49)와 제2집광 렌즈(50)로 이루어져, 제1집광 렌즈(49)와 제2집광 렌즈(50)의 사이 거리가 조절됨으로써 집광 렌즈계(48)를 통과한 패턴 광의 결상 위치가 조절되도록 한다. 이러한 집광 렌즈계(48)는 DMD(46)에서 변조된 광 빔이 기판(16)의 노광면(17)에 입사되도록 한다. 이에 따라, 노광하고자 하는 기판(16)의 노광면(17)에 형성되는 감광 재료는 경화되거나 연화된다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 구성을 나타내는 확대 사시도이다.
도 4에서, DMD(46)는 메모리 셀(43) 상에 화소를 구성하는 다수의 마이크로 미러(45)를 격자상으로 배열한 미러 디바이스로서 마이크로 미러(45)의 표면에는 알루미늄 등의 반사율이 높은 재료가 증착되어 있다.
DMD(46)의 메모리 셀(43)에 디지털 신호가 기록되면 마이크로 미러(45)가 대각선을 중심으로 해서 DMD(46)가 배치된 기판(16) 측에 대하여 일정각도(예를 들면, ㅁ12˚)의 범위에서 기울어지며, 각 마이크로 미러(45)의 온/오프 제어는 후술하는 제어부(62)에 의해 각각 제어된다. 온 상태의 마이크로 미러(45)에 의해 반사된 광은 노광 상태로 변조되어 집광 렌즈계(48)를 통해 노광면(17)에 빔을 노광시키고, 오프 상태의 마이크로 미러(45)에 의해 반사된 광은 비노광 상태로 변조되어 노광면(17)에 빔을 노광시키지 않게 된다.
또한, DMD(46)는 그 단변 방향이 주사 방향과 소정 각도를 이루도록 약간 기울여서 배치하는 것이 바람직하다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 5a는 마이크로 미러(45)가 온 상태인 일정각도(+12˚)로 기울어진 상태를 나타내고, 도 5b는 마이크로 미러(45)가 오프 상태인 일정각도(-12˚)로 기울어진 상태를 나타낸다. 따라서, 제어부(62)의 제어신호에 따라 DMD(46)의 각 화소에 있어서의 마이크로 미러(45)의 경사를 제어함으로서 DMD(46)로 입사된 광 빔(B)은 각각의 마이크로 미러(45)의 경사 방향으로 반사된다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 제어 구성도로서, 측정부(26), 입력부(60), 제어부(62), 스테이지 구동부(64) 및 미러 구동부(66)를 포함하여 구성된다.
측정부(26)는 노광면(17)에 연속적으로 노광된 빔간의 거리를 측정하여 제어부(62)에 입력하는 IFM(Interferometer;정밀 거리 측정기)로, 본 발명의 실시예에서는 게이트(22)에 복수의 측정부(26)를 일정간격을 두고 설치한 것을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 하나의 측정부(26)를 사용할 수도 있으며 또한 측정부(26)를 스테이지(18)에 고정시켜 설치할 수도 있다.
입력부(60)는 스테이지(18)의 진직도를 측정하기 위한 노광 방식(스테이지의 Y축 이동간격, 노광 빔간의 X축 간격, 노광 빔의 개수, 노광 빔의 형태 등)을 제어 부(62)에 입력한다.
제어부(62)는 노광장치(10)의 전체적인 동작을 제어하는 컨트롤러로서, 스테이지(18)를 일정간격으로 이동하면서 노광면(17)에 연속적으로 노광되는 복수(예를 들어, 2개)의 빔을 사용하여 스테이지(18)의 진직도를 측정하고 보정한다.
또한, 제어부(62)는 노광된 빔 간의 거리(구체적으로, 빔 간의 상대적 거리)를 이용하여 스테이지(18)의 진직도를 측정하기 위한 편차 값을 계산하고, 이 편차 값에 따라 스테이지(18)의 진직도를 측정하고 보정할 수 있도록 한다.
스테이지 구동부(64)는 제어부(62)의 제어신호에 따라 스테이지(18)가 가이드(20)를 일정간격으로 이동하도록 스테이지(18)를 구동하고, 미러 구동부(66)는 제어부(62)의 제어신호에 따라 노광면(17)에 원하는 패턴의 빔을 노광하도록 DMD(46)를 온/오프 구동한다.
이하, 상기와 같이 구성된 노광장치 및 그 진직도 측정방법의 동작과정 및 작용효과를 설명한다.
먼저, 스테이지(18)의 진직도를 측정하기 위한 노광 방식(스테이지의 Y축 이동간격, 노광 빔간의 X축 간격, 노광 빔의 개수, 노광 빔의 형태 등)을 입력부(60)를 통해 제어부(62)에 입력한다.
제어부(62)는 입력부(60)를 통해 입력된 노광 방식에 따라 스테이지 구동부(64) 및 미러 구동부(66)에 제어신호를 출력한다.
따라서, 스테이지 구동부(64)는 제어부(62)의 제어신호에 따라 스테이지(18)를 Y축 방향으로 일정간격으로 이동시켜 스테이지(18)에 안착된 기판(16)의 노광 면(17)에 빔이 노광되도록 한다.
이와 동시에, 미러 구동부(66)는 제어부(62)의 제어신호에 따라 DMD(46)를 구동시켜 보정 렌즈계(40)를 통해 입사된 광을 원하는 패턴에 따라 각 화소마다 변조시켜 일정한 패턴을 가지는 광 빔을 집광 렌즈계(48)로 반사한다.
이를 보다 자세히 설명하면, 광원(30)으로부터 출사된 레이저 광이 광섬유(32)를 통해 광학유닛(24)에 제공된다. 광학유닛(24)의 각 노광 헤드(28)는 광원(30)으로부터 제공된 광 빔이 DMD(46)로 조사되도록 하고 미러(44)와 보정 렌즈계(40)를 거쳐 DMD(46)의 마이크로 미러(45)에 대응하는 화소로 투영시킨다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 마이크로 미러에 투영된 빔의 스폿형태를 나타낸 도면이다.
도 7에서, DMD(46)의 마이크로 미러(45)에 투영되는 빔은 제어부(62)의 제어신호에 따라 각각의 마이크로 미러(45)를 온 또는 오프시킴으로서 투영된다. 이때 온 상태의 마이크로 미러(45)에 의해 반사된 광은 노광 상태로 변조되어 집광 렌즈계(48)를 통해 노광면(17)에 빔을 노광시키고, 오프 상태의 마이크로 미러(45)에 의해 반사된 광은 비노광 상태로 변조되어 노광면(17)에 빔을 노광시키지 않게 된다.
본 발명의 실시예에서는 스테이지(18)의 진직도를 측정하기 위해 DMD(46)의 마이크로 미러(45)에 투영되는 임의의 2개 빔(B1, B2)을 사용하며, 2개 빔(B1, B2)간의 X축, Y축 거리 값은 빔 위치측정장치(도시되지 않음)를 통한 노광면(17)에서의 빔간 X축, Y축 거리 값이므로 제어부(62)는 사용되는 2개 빔(B1, B2)의 X축, Y 축 거리를 알 수 있다.
도 8은 본 발명의 실시예에 의한 스테이지의 이동방향에 따라 노광면에 노광되는 빔의 이동방향을 나타낸 도면으로, 스테이지(18)의 이동방향과 상대 방향으로 이동되는 노광 빔(B1, B2)은 Y축 방향으로 이동하는 스테이지(18)의 이동간격(Y1, Y2, Y3....)마다 노광 빔(B1, B2)을 스폿 형태로 노광면(17)에 조사시킨다.
도 8에서 보듯이, 스테이지(18)는 Y축을 따르는 이동방향에 대하여 수직방향인 X축 방향으로 시프트하는 진직도가 발생하며, 이에 따라 노광면(17)에 조사되는 노광 빔(B1, B2)의 스폿도 실질적으로 X축 방향으로 노광 진직도가 발생함을 알 수 있다.
이와 같이, 노광면(17)에 2개의 빔(B1, B2)을 연속적으로 노광시키면 최종 노광 진직도를 측정할 수 있게 되는데, 이를 위해 본 발명의 실시예에서는 스테이지(18)를 Y축 방향에 대하여 일정간격(Y1, Y2, Y3.....)로 이동시킴에 따라 노광면(17)에 연속적으로 노광되는 2개의 빔간의 상대적 거리 X1, X2, X3....Xn을 스테이지(18) 또는 게이트(22)에 설치된 측정부(26)를 통해 측정하여 제어부(62)에 입력한다.
따라서, 제어부(62)는 측정된 빔간의 상대적 거리를 이용하여 스테이지(18)의 진직도를 측정하기 위한 편차 값을 아래의 [식]에 의하여 계산한다.
[식]
dn+1 = (Xn + dn) - Xn+1
여기에서, Xn, Xn+1는 연속적으로 노광되는 빔간의 상대 거리이고, d0는 0이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 의한 노광면에 연속적으로 노광되는 빔의 거리 편차를 나타낸 도면이다.
도 9에서 보듯이, 2개의 빔(B1, B2)이 스테이지(18)의 이동에 따라 일정간격(Y1, Y2, Y3....)으로 연속적으로 노광되고, 노광되는 2개의 빔(B1, B2)은 스테이지(18)의 진직도에 따라 노광 진직도가 각 라인별(L1, L2)로 발생하여 X축 방향으로 편차가 발생함을 알 수 있다.
따라서, 제어부(62)는 도 9에 도시한 바와 같이, 발생하는 노광 진직도 편차를 [식]에 의하여 계산함으로서 최종 노광 진직도를 측정할 수 있게 된다.
이에 따라, 별도의 측정 기구물을 설치하여 진직도를 측정해야 하는 종래의 방식에 비하여 본 발명의 실시예는 노광장치(10)에 이미 설치되어 있는 광학유닛(24)을 이용하므로 추가 비용이 필요없고 측정을 위한 반복성 및 재현성이 가능하여 경제적인 효과를 얻을 수 있으며, 또한 최종 목표인 최후 노광 결과에 기초하여 진직도를 측정함으로서 보다 정밀한 진직도 측정이 가능하고 이에 따라 정확한 진직도 보정이 이루어질 수 있게 된다.
한편, 본 발명의 실시예에서는 DMD(46) 상에 투영되는 임의의 2개 빔(B1, B2)을 사용하여 노광 진직도를 측정하는 것을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 DMD(46) 상에 투영되는 임의의 빔을 2개 이상 사용하여도 본 발명과 동일한 목적 및 효과를 달성할 수 있음은 물론이다.
또한, 본 발명의 실시예에서는 노광면(17)에 조사되는 빔(B)의 패턴이 스폿 형태인 노광 빔을 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 스캔 방향으로 라인 형태를 갖는 노광 빔을 사용하여도 본 발명과 동일한 목적 및 효과를 달성할 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 광학유닛의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 노광 헤드의 개략적인 구성을 나타낸 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 구성을 나타내는 확대 사시도이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 노광장치의 제어 구성도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 DMD의 마이크로 미러에 투영된 빔의 스폿형태를 나타낸 도면이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 의한 스테이지의 이동방향에 따른 노광 빔의 이동방향을 나타낸 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 의한 노광면에 연속적으로 노광되는 빔의 거리 편차를 나타낸 도면이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
16 : 기판 17 : 노광면
18 : 스테이지 24 : 광학유닛
26 : 측정부 28 : 노광 헤드
30 : 광원 40 : 보정 렌즈계
45 : 마이크로 미러 46 : DMD
48 : 집광 렌즈계 62 : 제어부

Claims (12)

  1. 기판을 이동시키는 스테이지;
    상기 기판에 조사되는 복수의 빔을 생성하는 광학유닛;
    상기 스테이지를 이동시키면서 상기 기판의 노광면에 상기 복수의 빔을 노광시켜 상기 스테이지의 진직도를 측정하는 제어부를 포함하는 노광장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 광학유닛은 상기 스테이지에 수직방향으로 상기 복수의 빔을 조사시키는 노광장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 광학유닛은 광원에서 출사된 광을 패턴에 따라 변조하고, 상기 변조된 광 빔을 상기 노광면에 조사하는 디지털 마이크로 미러 디바이스를 포함하는 노광장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 스테이지는 스캔 방향을 따라 일정간격으로 이동되고,
    상기 제어부는 상기 일정간격으로 이동되는 상기 스테이지의 구동에 따라 상기 디지털 마이크로 미러 디바이스 상의 상기 복수의 빔을 상기 노광면에 연속적으 로 노광시키는 노광장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 스테이지는 스캔 방향을 따라 일정간격으로 이동되고,
    상기 제어부는 상기 일정간격으로 이동되는 상기 스테이지의 구동에 따라 상기 노광면에 상기 복수의 빔을 연속적으로 노광시키는 노광장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 연속적으로 노광되는 빔간의 거리를 측정하는 측정부를 더 포함하고,
    상기 제어부는 상기 측정된 빔간의 거리를 이용하여 상기 노광 진직도를 측정하기 위한 거리 편차 값을 계산하는 노광장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 거리 편차 값(d)은 아래의 [식]에 의하여 구해지는 노광장치.
    [식]
    dn+1 = (Xn + dn) - Xn+1
    여기에서, Xn, Xn+1는 연속적으로 노광되는 빔간의 상대 거리이고, d0는 0이다.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 빔은 스폿 또는 라인 형태인 노광장치.
  9. 기판이 안착된 스테이지를 이동시키고;
    상기 스테이지에 조사되는 복수의 빔을 생성하여 상기 기판에 조사하고;
    상기 기판의 노광면에 상기 복수의 빔을 노광시켜 상기 스테이지의 진직도를 측정하는 노광장치의 진직도 측정방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 스테이지는 스캔 방향을 따라 일정간격으로 이동되고,
    상기 일정간격으로 이동되는 상기 스테이지의 구동에 따라 상기 노광면에 상기 복수의 빔을 연속적으로 노광시키는 노광장치의 진직도 측정방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 연속적으로 노광되는 빔간의 상대적 거리를 측정하는 것을 더 포함하고,
    상기 스테이지의 진직도를 측정하는 것은,
    상기 측정된 빔간의 상대적 거리를 이용하여 상기 빔간의 거리 편차 값을 계산하는 노광장치의 진직도 측정방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 빔간의 거리 편차 값(d)은 아래의 [식]에 의하여 구해지는 노광장치의 진직도 측정방법.
    [식]
    dn+1 = (Xn + dn) - Xn+1
    여기에서, Xn, Xn+1는 연속적으로 노광되는 빔간의 상대 거리이고, d0는 0이다.
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