JP4273030B2

JP4273030B2 - 露光装置の校正方法及び露光装置

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Publication number: JP4273030B2
Application number: JP2004096557A
Authority: JP
Inventors: 寛上村; 隆史福井
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2004-03-29
Filing date: 2004-03-29
Publication date: 2009-06-03
Anticipated expiration: 2024-03-29
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Description

本発明は、露光装置の校正方法及び露光装置に関し、特に、画像情報に応じて空間変調素子等により変調された光ビームで感光材料を露光する露光装置における露光位置合わせ機能を校正する露光装置の校正方法及び露光装置に関する。

従来から、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）等の空間光変調素子（ＳＬＭ）を利用し、画像データ（画像情報）に応じて変調された光ビームで画像露光を行う露光装置が種々提案されている。

例えば、ＤＭＤは、制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーが、シリコン等の半導体基板上に２次元状に配列されたミラーデバイスであり、このＤＭＤを用いた従来のデジタル走査露光方式（マスクレス露光方式）の露光装置では、レーザ光を照射する光源、光源から照射されたレーザ光をコリメートするレンズ系、レンズ系の略焦点位置に配置されたＤＭＤ、ＤＭＤで反射されたレーザ光を走査面上に結像するレンズ系、を備えた露光ヘッド（スキャナ）により、画像データ等に応じて生成した制御信号によりＤＭＤのマイクロミラーの各々をオンオフ制御してレーザ光を変調し、変調されたレーザ光で、ステージ上にセットされ走査方向（Ｙ方向）に沿って移動される感光材料に対し画像（パターン）を走査露光している。

また、この露光装置では、感光材料に対するＸ−Ｙ方向の露光位置を正確に合わせるため、露光に先立って、感光材料に設けられた、露光位置の基準となるアライメントマークをＣＣＤカメラ等で撮影し、この撮影によって得られたマーク測定位置（基準位置データ）に基づいて露光位置を適正位置に合わせるアライメントを行っており、このようなアライメント機能（露光位置合わせ機能）については、その精度を保証するため、アライメント測定に関わる各部の校正を製造時やメンテナンス時などに行っている。

このアライメント機能の校正に関する技術としては、従来から、副走査方向へ移動される感光材料に対しレーザ光を主走査しながら照射して画像を走査露光する方式の露光装置において種々提案されている。

例えば、アライメントスコープの位置校正では、載置テーブルに載置されたプリント回路基板に対して処理部で所定の処理を施すのに先立ち、プリント回路基板の計測を行うアライメントスコープの位置を校正する装置において、基準パターンが形成された基準マスクを載置テーブルに備え、所定位置の基準パターンにアライメントスコープを移動した後、基準パターンの交点とアライメントスコープの視野中心との位置ずれ量に基づいてアライメントスコープの位置校正を行うことにより、簡単な構成でアライメントスコープの位置校正を容易且つ高精度に実施するようにした技術がある（例えば、特許文献１参照）。

また、レーザ光束を走査して基板に回路パターンを書き込む描画装置におけるアライメント調整方法では、外部装置から描画情報と共に転送されるアライメント調整用データに基づいて、検出手段と基板との相対位置を粗調整し、その後で検出手段により基板上の基準パターンを検出して微調整を行うことにより、短時間での基板のアライメントを可能とするようにした技術がある（例えば、特許文献２参照）。
特開２０００−３２９５２３公報特開平８−２２２５１１号公報

しかしながら、上述したデジタル走査露光方式や従来のレーザ光を主走査させる走査方式の露光装置では、部品精度や組立精度の誤差等に起因して、感光材料を走査方向（副走査方向）へ移動させるためステージが移動中にヨーイング、ピッチング、及び真直度の精度によって蛇行等の姿勢変化を起こし、また多少の速度変動（速度ムラ）を生じる。そのため、上述したアライメント機能を用いて露光位置を補正し画像露光を行っても、このステージの移動動作に伴う姿勢変化や速度変動の影響で、露光位置が適正位置からずれてしまう問題がある。また、特許文献１及び２に記載された技術でも、このようなステージの変動要因による影響は考慮されていないため、これらの技術を用いて校正を行っても露光位置ずれを精度良く補正することはできない。

本発明は上記事実を考慮して、感光材料を移動させるためステージの変動要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正を可能とし、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる露光装置の校正方法及び露光装置を提供することを課題とする。

上記目的を達成するために請求項１に記載の発明は、感光材料に設けられた露光位置の基準となる基準マークを読み取って取得した基準位置データに基づいて前記感光材料に対する露光位置合わせを行い、その感光材料を走査方向へ移動させつつ画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光装置の前記露光位置合わせ機能を校正する校正方法であって、校正用感光材料に設けられた露光位置の基準となる校正用基準マークを読み取って取得した校正用基準位置データに基づいて前記校正用感光材料に対する校正前の露光位置合わせを行い、その校正用感光材料を走査方向へ移動させつつ前記校正用基準マークとの対応位置にその校正用基準マークと識別可能な所定のパターンを前記光ビームにより露光し、その露光後に前記校正用基準マークと前記所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて校正用データを算出し、その校正用データを前記感光材料に対する露光位置合わせに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴としている。

請求項１に記載の発明では、露光装置の露光位置合わせ機能を校正するため、校正用感光材料に設けられた露光位置の基準となる校正用アライメントマークを読み取って取得した校正用基準位置データに基づいて、校正用感光材料に対する校正前の露光位置合わせを行い、その校正用感光材料を走査方向へ移動させつつ校正用アライメントマークとの対応位置にその校正用アライメントマークと識別可能な所定のパターンを光ビームにより露光し、その露光後に校正用アライメントマークと所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて校正用データを算出する。この校正用データを感光材料に対する露光位置合わせに反映させることにより、感光材料を移動させるための移動手段、例えば感光材料が載置されて走査方向へ移動するステージ等、の移動動作に伴う姿勢変化や速度変動要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。

請求項２に記載の発明は、請求項１記載の露光装置の校正方法において、前記校正用データに基づいて前記露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成すると共にその補正テーブルを前記露光装置のシステムパラメータとして管理し、前記感光材料に対する露光では、前記画像データに基づいて作成する露光データを前記補正テーブルを用いてオフセットすることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴としている。

請求項２に記載の発明では、校正用データに基づいて、露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成し、その補正テーブルは、露光装置固有のシステムパラメータとして装置内に管理される。感光材料に対する露光では、画像データに基づいて作成する露光データを補正テーブルを用いてオフセットすることにより、露光位置合わせ機能を校正し、その状態で露光が行われる。このような補正テーブルを用いることにより、校正用データを露光位置合わせに反映させる際の演算処理を高速化することができ、露光位置合わせ機能を校正することによる露光動作への影響を低減できる。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２記載の露光装置の校正方法において、前記校正用感光材料は、感光層を設けるベース基板がガラス材料により形成されていることを特徴としている。

請求項３に記載の発明では、所定のパターンが露光された校正用感光材料を例えば現像処理及びエッチング処理する場合等でも、その校正用感光材料における感光層を設けるベース基板がガラス材料であれば、露光後の上記処理によって生じる所定のパターンの位置ずれや寸法変化を抑えることができる。これにより、校正用基準マークと所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得する位置ずれデータの精度低下が抑えられ、校正精度を向上することができる。

請求項４に記載の発明は、露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、を有する露光装置であって、前記露光装置は更に、露光位置の基準となる校正用基準マークが設けられた校正用感光材料を前記移動手段に載置した状態で前記読取手段により前記校正用基準マークを読み取り、その読み取りにより取得された校正用基準位置データに基づいて前記制御手段による前記露光位置合わせを行い、前記校正用感光材料を前記移動手段により走査方向へ移動させつつ前記校正用基準マークとの対応位置にその校正用基準マークと識別可能な所定のパターンを前記光ビームにより露光し、その露光後に前記校正用基準マークと前記所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段を有し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出してその校正用データを前記露光位置合わせに反映させ前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴としている。

請求項４に記載の発明では、露光装置の露光位置合わせ機能を校正するため、露光位置の基準となる校正用基準マークが設けられた校正用感光材料を移動手段に載置した状態で読取手段により校正用基準マークを読み取り、その読み取りにより取得された校正用基準位置データに基づいて制御手段による露光位置合わせを行い、校正用感光材料を移動手段により走査方向へ移動させつつ校正用アライメントマークとの対応位置にその校正用アライメントマークと識別可能な所定のパターンを露光手段から照射する光ビームにより露光し、その露光後に校正用基準マークと所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて算出した校正用データをデータ記憶手段に記憶する。そして、感光材料に対する露光では、制御手段がデータ記憶手段から校正用データを読み出してその校正用データを露光位置合わせに反映させ露光手段を制御して露光動作させることにより、感光材料を移動させるための移動手段の移動動作に伴う姿勢変化や速度変動要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。

請求項５に記載の発明は、請求項４記載の露光装置において、前記制御手段が前記校正用データに基づいて前記露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成すると共にその補正テーブルを前記露光装置のシステムパラメータとして前記データ記憶手段に記憶し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記画像データに基づいて作成する露光データを前記補正テーブルを用いてオフセットすることにより前記露光位置合わせを行うことを特徴としている。

請求項５に記載の発明では、制御手段が校正用データに基づいて、露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成し、その補正テーブルは、露光装置固有のシステムパラメータとしてデータ記憶手段に記憶される。感光材料に対する露光では、制御手段が画像データに基づいて作成する露光データを補正テーブルを用いてオフセットすることにより、露光位置合わせ機能を校正し、その状態で露光が行われる。このような補正テーブルを用いることにより、校正用データを露光位置合わせに反映させる際の演算処理を高速化することができ、露光位置合わせ機能を校正することによる露光動作への影響を低減できる。

本発明の露光装置の校正方法及び露光装置は上記方法及び構成としたので、感光材料を移動させるためステージの変動要因により精度が影響される露光位置合わせ機能の校正が可能となり、感光材料に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。

以下、本発明の実施形態に係る露光装置について図面を参照して説明する。

図１には本発明の一実施形態に係る露光装置が示され、図２〜図６には本実施形態に係る露光装置に適用される露光ヘッド及び空間光変調素子が示されている。

図１に示すように、露光装置１０は、４本の脚部１６に支持された矩形厚板状の設置台１８を備えている。設置台１８の上面には、長手方向に沿って２本のガイド２０が延設されており、これら２本のガイド２０上には、矩形平盤状のステージ１４が設けられている。ステージ１４は、長手方向がガイド２０の延設方向を向くよう配置され、ガイド２０により設置台１８上を往復移動可能に支持されており、図示しない駆動装置に駆動されてガイド２０に沿って往復移動する（図１の矢印Ｙ方向）。

ステージ１４の上面には、露光対象物となる矩形板状の感光材料１２が図示しない位置決め部により所定の載置位置に位置決めされた状態で載置される。このステージ１４の上面（感光材料載置面）には、図示しない複数の溝部が形成されており、それらの溝部内が負圧供給源によって負圧とされることにより、感光材料１２はステージ１４の上面に吸着されて保持される。また、感光材料１２には、露光位置の基準を示すアライメントマーク１３が複数設けられており、本実施形態では、円形の貫通孔によって構成されるアライメントマーク１３が感光材料１２の四隅近傍にそれぞれ１個づつ計４個配置されている。

設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート２２が設けられている。ゲート２２は、両端部がそれぞれ設置台１８の両側面に固定されており、ゲート２２を挟んで一方の側には感光材料１２を露光するスキャナ２４が設けられ、他方の側には感光材料１２に設けられたアライメントマーク１３を撮影する複数（例えば、２台）のＣＣＤカメラ２６が設けられている。

各ＣＣＤカメラ２６は、ステージ１４の移動方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向（矢印Ｘ方向）に沿ってゲート２２のカメラ取付面に延設された一対のレール２７に支持されると共に、図示しないボールネジ機構及びそれを駆動するステッピングモータ等の駆動源により駆動されてステージ１４の移動方向と直交する方向に移動する。そして、各ＣＣＤカメラ２６は、撮影するアライメントマーク１３の位置に応じ、ステージ１４の移動に伴って移動する感光材料１２のアライメントマーク１３の通過位置にレンズの光軸が合うように配置される。

また、ステージ１４の駆動装置、スキャナ２４、ＣＣＤカメラ２６、及びＣＣＤカメラ２６を移動させるための駆動源は、これらを制御するコントローラ２８に接続されている。このコントローラ２８により、後述する露光装置１０の露光動作時には、ステージ１４は所定の速度で移動するよう制御され、ＣＣＤカメラ２６は所定の位置に配置されて所定のタイミングで感光材料１２のアライメントマーク１３を撮影するよう制御され、スキャナ２４は所定のタイミングで感光材料１２を露光するよう制御される。

図２に示すように、スキャナ２４の内部にはｍ行ｎ列（例えば、２行４列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、８個）の露光ヘッド３０が設置されている。

露光ヘッド３０による露光エリア３２は、例えば走査方向を短辺とする矩形状に構成する。この場合、感光材料１２には、その露光の移動動作に伴って露光ヘッド３０毎に帯状の露光済み領域３４が形成される。

また、図２に示すように、帯状の露光済み領域３４が走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍）ずらして配置されている。このため、例えば第１行目の露光エリア３２と第２行目の露光エリア３２との間の露光できない部分は、第２行目の露光エリア３２により露光することができる。

図３に示すように、各露光ヘッド３０は、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理部とミラー駆動制御部を備えた上述のコントローラ２８に接続されている。

コントローラ２８のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。なお、制御すべき領域については後述する。また、ＤＭＤコントローラとしてのミラー駆動制御部では、データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６における各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。なお、この反射面の角度の制御に付いては後述する。

各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光入射側には、図１に示すように、紫外波長領域を含む一方向に延在したマルチビームをレーザ光として出射する照明装置３８からそれぞれ引き出されたバンドル状の光ファイバ４０が接続される。

照明装置３８は、図示は省略するがその内部に、複数の半導体レーザチップから出射されたレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュールが複数個設置されている。各合波モジュールから延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが１つに束ねられてバンドル状の光ファイバ４０として形成される。

また各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光入射側には、図３に示すように、光ファイバ４０の接続端部から出射されたレーザ光を均一の照明光にする均一照明光学系４１と、均一照明光学系４１を透過したレーザ光をＤＭＤ３６に向けて反射するミラー４２とが配置されている。

各露光ヘッド３０におけるＤＭＤ３６の光反射側に設けられる投影光学系は、ＤＭＤ３６の光反射側の露光面にある感光材料１２上に光源像を投影するため、ＤＭＤ３６側から感光材料１２へ向って順に、レンズ系５０、マイクロレンズアレイ５４、対物レンズ系５６の各露光用の光学部材が配置されて構成されている。

ここで、レンズ系５０及び対物レンズ系５６は、図３に示すように複数枚のレンズ（凸レンズや凹レンズ等）を組み合せた拡大光学系として構成されており、ＤＭＤ３６により反射されるレーザビーム（光線束）の断面積を拡大することで、ＤＭＤ３６により反射されたレーザビームによる感光材料１２上の露光エリア３２の面積を所定の大きさに拡大している。なお、感光材料１２は、対物レンズ系５６の後方焦点位置に配置される。

マイクロレンズアレイ５４は、図３に示すように、照明装置３８から各光ファイバ４０を通じて照射されたレーザ光を反射するＤＭＤ３６の各マイクロミラー４６に１対１で対応する複数のマイクロレンズ６０が２次元状に配列され、一体的に成形されて矩形平板状に形成されたものであり、各マイクロレンズ６０は、それぞれレンズ系５０を透過した各レーザビーム（露光ビーム）の光軸上にそれぞれ配置されている。

またＤＭＤ３６は、図５に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）４４上に、マイクロミラー（微小ミラー）４６が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーを格子状に配列したミラーデバイスとして構成されている。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー４６が設けられており、マイクロミラー４６の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。

また、マイクロミラー４６の直下には、図示しないヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル４４が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。

ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル４４にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー４６が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図６には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、マイクロミラー４６が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示しており、図６（Ａ）は、マイクロミラー４６がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図６（Ｂ）は、マイクロミラー４６がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。したがって、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー４６の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射された光はそれぞれのマイクロミラー４６の傾き方向へ反射される。

それぞれのマイクロミラー４６のオンオフ（ｏｎ／ｏｆｆ）制御は、ＤＭＤ３６に接続されたコントローラ２８のミラー駆動制御部によって行われ、オン状態のマイクロミラー４６により反射された光は露光状態に変調され、ＤＭＤ３６の光出射側に設けられた投影光学系（図３参照）へ入射する。またオフ状態のマイクロミラー４６により反射された光は非露光状態に変調され、光吸収体（図示省略）に入射する。

また、ＤＭＤ３６は、その短辺方向が走査方向と所定角度（例えば、０．１°〜０．５°）を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図４（Ａ）はＤＭＤ３６を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）４８の走査軌跡を示し、図４（Ｂ）はＤＭＤ３６を傾斜させた場合の露光ビーム４８の走査軌跡を示している。

ＤＭＤ３６には、長手方向（行方向）に沿ってマイクロミラー４６が多数個（例えば、８００個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、６００組）配列されているが、図４（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ３６を傾斜させることにより、各マイクロミラー４６による露光ビーム４８の走査軌跡（走査線）のピッチＰ₂が、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ₁より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ３６の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ３６を傾斜させた場合の走査幅Ｗ₂と、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査幅Ｗ₁とは略同一である。

また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上における略同一の位置（ドット）が重ねて露光（多重露光）されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、走査方向に配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。

なお、ＤＭＤ３６を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。

次に、本実施形態の露光装置１０に設けられたコントローラ２８おける制御用の電気系の概略構成を、図７のブロック図を用いて説明する。

コントローラ２８における制御用の電気系では、バス７８を介して、装置各部の制御を統括して行う主制御部で且つ前述したデータ処理部としてのＣＰＵ８０と、オペレータが指令を入力するためコントローラ２８に装着されたスイッチ類を有する指示入力手段８２と、画像データ等が一時的に記憶されるメモリ８４と、後述する校正用データが記憶されるメモリ８５と、それぞれのＤＭＤ３６における各々のマイクロミラー４６を制御するミラー駆動制御部としてのＤＭＤコントローラ８６と、各ＣＣＤカメラ２６を移動させるための駆動源（ステッピングモータ等）を駆動制御するカメラ移動用コントローラ８８と、感光材料１２が載置されたステージ１４上面の溝部内に負圧を発生させる負圧供給源、及び、ステージ１４を走査方向に移動させるための駆動装置等を駆動制御するステージ駆動用コントローラ９０と、その他に、露光装置１０で露光処理する際に必要となる照明装置３８といった各種装置の制御を行う露光処理制御用コントローラ９２とが接続されて構成されている。

この制御用の電気系で露光処理を行う場合には、オペレータが、コントローラ２８の指示入力手段８２を操作して例えば露光処理の対象となる画像データ等の指示を入力する。すると、画像データが伝達されたＣＰＵ８０は、画像データを一旦メモリ８４に格納し、露光処理開始の指令によって、メモリ８４から読み出した画像データに基づいて画像の形成処理を行うようＤＭＤコントローラ８６を制御し、かつステージ駆動用コントローラ９０と露光処理制御用コントローラ９２とにより駆動装置、照明装置３８等を制御して露光処理を行う。

次に、上記のように構成された露光装置１０による感光材料１２に対する露光動作について説明する。

先ず、露光パターンに応じた画像データがコントローラ２８に入力されると、コントローラ２８内のメモリ８４に一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。

次に、感光材料１２をステージ１４にセットし、オペレータがコントローラ２８の指示入力手段８２から露光開始の入力操作を行う。なお、露光装置１０により画像露光を行う感光材料１２としては、プリント配線基板や液晶表示素子等のパターンを形成（画像露光）する材料としての基板やガラスプレート等の表面に、感光性エポキシ樹脂等のフォトレジストを塗布、又ドライフィルムの場合はラミネートしたものなどが挙げられる。

上記の入力操作により、露光装置１０の露光動作が開始すると、コントローラ２８により駆動装置が制御され、感光材料１２を上面に吸着したステージ１４は、ガイド２０に沿って移動方向の上流側から下流側に一定速度で移動開始する。このステージの移動開始に同期して、又は、感光材料１２の先端が各ＣＣＤカメラ２６の真下に達する少し手前のタイミングで、各ＣＣＤカメラ２６はコントローラ２８により制御されて作動する。

ステージ１４の移動に伴い、感光材料１２がＣＣＤカメラ２６の下方を通過する際には、ＣＣＤカメラ２６によるアライメント測定が行われる。

このアライメント測定では、先ず、感光材料１２の移動方向下流側（前端側）の角部近傍に設けられた２個のアライメントマーク１３が各ＣＣＤカメラ２６の真下（レンズの光軸上）に達すると、所定のタイミングで各ＣＣＤカメラ２６はそれぞれアライメントマーク１３を撮影し、その撮影した画像データを、すなわち、露光位置の基準がアライメントマーク１３によって示された基準位置データを含む画像データをコントローラ２８のデータ処理部であるＣＰＵ８０へ出力する。アライメントマーク１３の撮影後は、ステージ１４が下流側への移動を再開する。

また、本実施形態の感光材料１２のように、移動方向（走査方向）に沿って複数のアライメントマーク１３が設けられている場合には、次のアライメントマーク１３（移動方向上流側（後端側）の角部近傍に設けられた２個のアライメントマーク１３）が各ＣＣＤカメラ２６の真下に達すると、同様に所定のタイミングで各ＣＣＤカメラ２６はそれぞれアライメントマーク１３を撮影してその画像データをコントローラ２８のＣＰＵ８０へ出力する。

なお、感光材料に、移動方向に沿って３個以上のアライメントマークが設けられている場合も同様に、各アライメントマークがＣＣＤカメラ２６の下方を通過する毎に、所定のタイミングでＣＣＤカメラ２６によるアライメントマークの撮影が繰り返し行われ、全てのアライメントマークに対し、その撮影した画像データがコントローラ２８のＣＰＵ８０へ出力される。

ＣＰＵ８０は、入力された各アライメントマーク１３の画像データ（基準位置データ）から判明する画像内におけるマーク位置及びマーク間ピッチ等と、そのアライメントマーク１３を撮影したときのステージ１４の停止位置及びＣＣＤカメラ２６の位置から、演算処理によって、ステージ１４上における感光材料１２の載置位置のずれ、移動方向に対する感光材料１２の傾きのずれ、及び、感光材料１２の寸法精度誤差等を把握し、感光材料１２の被露光面に対する適正な露光位置を算出する。そして、後述するスキャナ２４による画像露光時に、メモリ８４に記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号をその適正な露光位置に合わせ込んで画像露光する補正制御（アライメント）を実行する。

感光材料１２がＣＣＤカメラ２６の下方を通過すると、ＣＣＤカメラ２６によるアライメント測定が完了し、さらに、ステージ１４によって下流側へ移動する感光材料１２の後端、又は、感光材料１２の被露光面における画像露光領域の後端がスキャナ２４の下方を通過すると、ステージ１４は駆動装置により逆方向へ駆動され、ガイド２０に沿って上流側へ移動する。そして感光材料１２はステージ１４の移動に伴いスキャナ２４の下方を上流側へ移動し、被露光面の画像露光領域が露光開始位置に達すると、スキャナ２４の各露光ヘッド３０は光ビームを照射して感光材料１２の被露光面に対する画像露光を開始する。

ここで、コントローラ２８のメモリ８４に記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部としてのＣＰＵ８０で読み出された画像データに基づいて各露光ヘッド３０毎に制御信号が生成される。この制御信号には、前述した補正制御（アライメント）により、アライメント測定した感光材料１２に対する露光位置ずれの補正が加えられる。そして、ミラー駆動制御部としてのＤＭＤコントローラ８６は、生成及び補正された制御信号に基づいて各露光ヘッド３０毎にＤＭＤ３６のマイクロミラー４６の各々をオンオフ制御する。

照明装置３８の光ファイバ４０から出射されたレーザ光がＤＭＤ３６に照射されると、ＤＭＤ３６のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、マイクロレンズアレイ５４の各対応するマイクロレンズ６０を含むレンズ系により感光材料１２の露光面上に結像される。このようにして、照明装置３８から出射されたレーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料１２がＤＭＤ３６の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア）で露光される。

また、感光材料１２がステージ１４と共に一定速度で移動されることにより、感光材料１２がスキャナ２４によりステージ移動方向と反対の方向に走査され、各露光ヘッド３０毎に帯状の露光済み領域３４（図２に図示）が形成される。

スキャナ２４による感光材料１２の画像露光が完了すると、ステージ１４は駆動装置によりそのまま上流側へ駆動されて移動方向の最上流側にある原点に復帰する。以上により、露光装置１０による感光材料１２に対する露光動作が終了する。

次に、本実施形態の露光装置１０におけるアライメント機能（露光位置合わせ機能）の校正方法について説明する。

上述したアライメント機能を備える本実施形態の露光装置１０では、前述したように、ステージ１４が移動動作に伴い姿勢変化（ヨーイング、ピッチング、及び真直度の精度による蛇行等）や速度変動を起こすため、その影響により、アライメント機能を用いて露光位置を補正し画像露光を行っても、露光位置が適正位置からずれて許容範囲を超えてしまう場合がある。

このステージ１４の変動要因により精度が影響されるアライメント機能を校正するため、露光装置１０の製造時やメンテナンス時などに、専用の校正用感光材料を使用し、あるいは、製品にする感光材料を校正用に使用して、以下に説明する校正方法により校正作業を実施する。なお、ここでは、図８（Ａ）に示すような専用の校正用感光材料を使用する場合で校正方法を説明する。

図８（Ａ）に示す、本発明の一実施形態に係る校正用感光材料１００は、ガラス材料によって矩形板状に形成されたベース基板１０２の片面に、感光層１０４が設けられて構成されている。

この校正用感光材料１００には、所定のピッチでマトリックス状（例えば、４行３列）に配列された複数（例えば、１２個）のアライメントマーク１０６が設けられており、これらのアライメントマーク１０６は、露光装置１０が校正用感光材料１００に対して行う画像露光での露光位置の基準を示すもので、それぞれの位置に高い位置精度で配置されている。また、本実施形態のアライメントマーク１３は、上記の露光後に、校正用感光材料１００を現像処理した場合等でも、アライメントマーク１０６の輪郭が不鮮明にならないようにするために貫通孔としており、さらに、後述する位置の計測においてその中心位置を精度良く計測できるようにするために円形としている。

この校正用感光材料１００を用いて、露光装置１０のアライメント機能を校正するには、先ず、上述した感光材料１２に対する露光と同様に、露光装置１０のステージ１４上に校正用感光材料１００をセットして、コントローラ２８の指示入力手段８２から露光開始の入力操作を行い、ステージ１４によって移動される校正用感光材料１００に対し、ＣＣＤカメラ２６により各アライメントマーク１０６を撮影して校正用基準データ（画像データ）を取得するアライメント測定を行い、その測定結果に基づき各アライメントマーク１０６と同位置を狙ってアライメントマーク１０６と識別可能な所定のパターンをスキャナ２４の各露光ヘッド３０から照射するレーザ光でそれぞれ画像露光する。

本実施形態では、アライメントマーク１０６と識別できるように校正用感光材料１００に露光する上記のパターンとして、図８（Ｂ）に示すように、アライメントマーク１０６よりも一回り大きい中抜き円のパターン１０８を用いている。

この校正用感光材料１００に対するパターン１０８の画像露光を終えた後は、校正用感光材料１００を露光装置１０のステージ１４から取り外し、校正用感光材料１００を現像処理する。この現像処理によって、校正用感光材料１００の表面には、露光された各パターン１０８と同位置に、同形状（中抜き円）のパターン１０８´がそれぞれ形成される。ここで、露光装置１０のステージ１４が移動中に姿勢変化や速度変動を起こしている場合には、図８（Ｂ）及び図９（Ａ）に示すように、アライメントマーク１０６に対してパターン１０８´が位置ずれを起こしている。

次に、全てのアライメントマーク１０６とパターン１０８´について、アライメントマーク１０６の位置と、実際に形成されたパターン１０８´の位置とのずれ量を計測器によって計測する。この計測結果から、露光領域内における各アライメントマーク１０６のＸ，Ｙ座標毎にずれ量を補正するための校正用データが得られる。また、Ｙ方向に隣接するアライメントマーク１０６間の任意のＸ，Ｙ座標における校正用データについては、以下に説明するようなオフセット関数を用いて算出することができる。

ここで、図１０〜図１２を用い、Ｙ方向に隣接するアライメントマーク１０６間の任意のＸ，Ｙ座標における校正用データをオフセット関数によって算出する方法を説明する。

図１０に例示した校正用感光材料１１０では、マトリックス状に配列された複数アライメントマーク１０６は、図中の矢印Ｘ方向に沿って所定の間隔Ｐｘで配列された４台の露光ヘッド３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄに対応し、列方向が、矢印Ｘ方向に沿って露光ヘッド間隔と同じピッチＰｘで４列に配列されており、行方向が、矢印Ｙ方向（走査方向）に沿って所定のピッチＰｙで７行に配列されている（７行４列で計２８個）。

この校正用感光材料１１０に対し、上述したように、アライメント測定をして各アライメントマーク１０６と同じ位置を狙いパターン１０８をそれぞれ露光してパターン１０８´を形成した場合に、露光ヘッド３０Ａにより露光されたＡ点、Ｂ点における基準位置（アライメントマーク１０６の中心座標）と実際の露光位置（パターン１０８´の中心座標）とのＸ−Ｙ方向のずれ量を（ΔＸａ，ΔＹａ）（ΔＸｂ，ΔＹｂ）とすると、図１１に示すようなＡ点からＹ方向に距離ｓだけ離れた中間点Ｃにおけるオフセット量（ΔＸｃ，ΔＹｃ）は、直線補間により下記式で表せる。

ΔＸｃ＝ΔＸａ＋ｓ・（ΔＸｂ−ΔＸａ）／Ｐ
ΔＹｃ＝ΔＹａ＋ｓ・（ΔＹｂ−ΔＹａ）／Ｐ
この補間を、Ｙ方向に並んだ基準点全てに対して行うことで、１ヘッド分（露光ヘッド３０Ａ）のオフセット関数が得られる（図１２（Ａ）、（Ｂ）参照）。また、露光ヘッド３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄについても、同様に、Ｙ方向に並んだ基準点全てに対して上記式による直線補間をそれぞれ行うことにより、各々のオフセット関数が得られる。なお、この直線補間により求めたオフセット関数を用いて補正を行う場合には、校正用感光材料１１０に設けるアライメントマーク１０６のＹ方向のピッチＰｙを狭くして数を増やし、取得するデータ数を多くすることによって補正精度を高めることができる。

このようなオフセット関数を用いることにより、Ｙ方向に隣接するアライメントマーク１０６間の任意のＸ，Ｙ座標における校正用データの算出が可能であり、上述の計測により求めた、露光領域内における各アライメントマーク１０６のＸ，Ｙ座標毎にずれ量を補正するための校正用データ（固有量）と、このオフセット関数とは、露光装置１０のシステムパラメータとしてコントローラ２８のメモリ８５に記憶する（図７参照）。

感光材料１２を画像露光する場合には、メモリ８４に記憶されている露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号（露光データ）を、このオフセット関数を用いて演算処理することにより校正用データを露光データに反映させるようにしてもよいが、ここでは、上記の校正用データ及びオフセット関数からＣＰＵ８０が予め補正テーブルを作成してメモリ８５に記憶させており、感光材料１２に対する画像露光では、ＣＰＵ８０がメモリ８５から補正テーブルを読み出し、メモリ８４から読み出した露光パターンの画像データに基づいて生成する制御信号を補正テーブルを用いてオフセットする。この補正テーブルを用いた制御信号のオフセットによって校正用データが露光データに反映され、その制御信号にさらに、前述したように感光材料１２をアライメント測定して取得した露光位置の補正データを反映させる補正制御（アライメント）を実行し、適正な露光位置に合わせ込んで画像露光を行う。

以上のアライメント機能（露光位置合わせ機能）の校正方法によって露光装置１０の校正作業を行い、その校正された露光装置１０によって、例えば、図８（Ａ）に示した校正用感光材料１００に対し、前述した手順で、各アライメントマーク１０６のアライメント測定し、その測定結果に基づき各アライメントマーク１０６と同位置を狙ってパターン１０８をそれぞれ画像露光し、画像露光後の校正用感光材料１００を現像処理して、各パターン１０８´を形成すると、図８（Ｃ）及び図９（Ｂ）に示すように、各アライメントマーク１０６に対する各パターン１０８´の位置ずれが補正され、パターン１０８´はアライメントマーク１０６と同位置（同心的）に配置される。

以上説明したように、本実施形態のアライメント機能（露光位置合わせ機能）の校正方法では、露光装置１０のアライメント機能を校正するため、校正用感光材料１１０に設けられた露光位置の基準となる各アライメントマーク１０６を読み取って取得した校正用基準位置データに基づいて、校正用感光材料１１０に対する校正前の露光位置合わせを行い、その校正用感光材料１１０を走査方向へ移動させつつ各アライメントマーク１０６との対応位置に（本実施形態では同位置を狙って）そのアライメントマーク１０６と識別可能なパターン１０８を光ビームにより露光し、その露光後にアライメントマーク１０６とパターン１０８（１０８´）との位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて校正用データを算出する。この校正用データを感光材料１２に対する露光位置合わせに反映させることにより、感光材料１２を移動させるためのステージ１４の移動動作に伴う姿勢変化や速度変動要因により精度が影響されるアライメント機能の校正が可能となり、感光材料１２に対する露光位置ずれの補正精度を向上することができる。

また、本実施形態では、コントローラ２８のＣＰＵ８０が校正用データに基づいて、露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成し、その補正テーブルは、露光装置１０の固有のシステムパラメータとしてメモリ８５に記憶される。感光材料１２に対する露光では、ＣＰＵ８０が画像データに基づいて作成する露光データ（ＤＭＤ３６の制御信号）を補正テーブルを用いてオフセットすることにより、アライメント機能を校正し、その状態で露光が行われる。このような補正テーブルを用いることにより、校正用データを露光位置合わせに反映させる際の演算処理を高速化することができ、アライメント機能を校正することによる露光動作への影響を低減できる。

また、本実施形態では、校正用感光材料１１０に対するパターン１０８の露光後に、各アライメントマーク１０６と各パターン１０８アとの位置とのずれ量を計測するため、校正用感光材料１１０を現像処理してパターン１０８´を形成するようにしているが、露光後にこれらの処理を施す場合でも、この校正用感光材料１１０における感光層を設けるベース基板１０２はガラス材料により形成されているため、露光後の上記処理によって生じるパターン１０８´の位置ずれや寸法変化を抑えることができる。これにより、各アライメントマーク１０６と各パターン１０８´との位置ずれ量を計測して取得する位置ずれデータの精度低下が抑えられ、校正精度を向上することができる。

以上、本発明を上述した実施の形態により詳細に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、本発明の範囲内にて他の種々の実施形態が可能である。

例えば、上記の実施の形態におけるアライメント機能の校正方法では、校正用感光材料１００に対するパターン１０８の露光後に、各アライメントマーク１０６と各パターン１０８アとの位置とのずれ量を計測するため、校正用感光材料１００をステージ１４から取り外し、現像処理してパターン１０８´を形成し、そのパターン１０８´とアライメントマーク１０６の位置とのずれ量を計測器によって計測するようにしているが、このような露光後の処理によるパターン１０８´形成を行わず、校正用感光材料１００に対するパターン１０８の露光後に、校正用感光材料１００をステージ１４に載置したまま、ＣＣＤカメラ２６によってパターン１０８及びアライメントマーク１０６を撮影し、それらの位置ずれ量を計測するようにしてもよい。

その場合には、計測作業が軽減されるのに加え、ＣＣＤカメラ２６で撮影した画像データ（位置ずれ量の計測データ）をコントローラ２８のＣＰＵ８０でデータ処理することにより校正用データとオフセット関数が得られるため、コントローラ２８に校正用データ及びオフセット関数を入力する手間も省け、校正作業の軽減及び自動化対応が可能になる。

また、上記の実施の形態では、校正用感光材料１００に露光するパターン１０８は、アライメントマーク１０６と同位置を狙って露光するようにしているが、例えば、隣接する２個のアライメントマーク１０６の中間点や、四角形を構成する４個のアライメントマーク１０６におけるその四角形の２つの対角線の交点等のように、露光後の計測で各アライメントマーク１０６の位置から露光領域内におけるＸ，Ｙ座標が計測可能又は仮想的に設定可能な所定のポイント（アライメントマーク１０６との対応位置）を狙ってパターン１０８を露光してもよい。

その場合の位置ずれ計測では、例えば、上記の所定のポイントを示す基準となる各アライメントマーク１０６及び所定のポイントを狙って露光したパターン１０８を一つの画面に撮影するような計測を行い、その計測画面に写し出された各アライメントマーク１０６の位置から所定のポイントのＸ，Ｙ座標が求められる。そして、画面上に所定のポイントのＸ，Ｙ座標をグラフィック表示して仮想的に設定し、その表示位置（所定のポイントのＸ，Ｙ座標）と露光したパターン１０８との位置ずれを画面上で計測することにより、その所定のポイントにおけるずれ量を補正するための校正用データが得られる。ただし、このような所定のポイントにおける露光位置ずれを基準位置（アライメントマーク１０６）から間接的に計測する方法では、計測誤差が増える可能性があるため、その点を考慮すると、上記の実施の形態で説明したように、露光位置ずれが基準位置から直接的に計測できるよう、パターン１０８はアライメントマーク１０６と同位置を狙って露光することが好ましい。

また、上記の実施の形態では、専用の校正用感光材料１００を使用した校正方法を説明したが、製品にする感光材料１２を校正用に使用することも可能である。その場合、例えば校正用にプリント配線基板を使用する場合には、その校正用のプリント配線基板（感光材料）に上記のようにパターン１０８を露光した後、現像処理及びエッチング処理を施すことで、銅箔の導電パターンからなるパターン１０８´を形成することができる。

また、上記の実施の形態における露光装置１０では、空間変調素子としてＤＭＤを備えた露光ヘッドについて説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用することもできる。例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Special Light Modulator）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイなど、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、Grating Light Valve（ＧＬＶ）を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。

また、上記の実施の形態における光源としては、合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源、複数の発光点が二次元状に配列された光源（たとえば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）、等が適用可能である。

また、上記の露光装置１０には、露光により直接情報が記録されるフォトンモード感光材料、露光により発生した熱で情報が記録されるヒートモード感光材料の何れも使用することができる。フォトンモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＧａＮ系半導体レーザ、波長変換固体レーザ等が使用され、ヒートモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＡｌＧａＡｓ系半導体レーザ（赤外レーザ）、固体レーザが使用される。

本発明の一実施形態に係る露光装置を示す斜視図である。本発明の一実施形態に係るスキャナの構成を示す斜視図である。本発明の一実施形態に係る露光ヘッドの光学系を示す概略構成図である。（Ａ）は本発明の第１の実施形態に係る露光装置における、ＤＭＤ（デジタルマイクロミラーデバイス）を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図、（Ｂ）はＤＭＤを傾斜させた場合の露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図である。本発明の一実施形態に係る露光装置に設けられたＤＭＤの構成を示す部分拡大図である。（Ａ）及び（Ｂ）は図５のＤＭＤの動作を説明するための説明図である。本発明の一実施形態に係る露光装置に設けられたコントローラおける制御用の電気系の概略構成を示すブロック図である。（Ａ）〜（Ｃ）は本発明の一実施形態に係る校正用感光材料を使用して行う露光装置の露光位置合わせ機能の校正方法を説明する説明図である。（Ａ）は露光したパターンが位置ずれを起こしている状態を示す図で、（Ｂ）は露光したパターンの位置ずれが校正されている状態を示す図である。Ｙ方向に隣接するアライメントマーク間の任意のＸ，Ｙ座標における校正用データをオフセット関数によって算出する方法を説明する説明図である。図１０における１１部を拡大した拡大図である。（Ａ）は露光ヘッドのＸ方向の校正用データを求めるオフセット関数によって描かれるグラフ図で、（Ｂ）は露光ヘッドのＹ方向の校正用データを求めるオフセット関数によって描かれるグラフ図である。

符号の説明

１０露光装置
１２感光材料
１３アライメントマーク（基準マーク）
１４ステージ（移動手段）
２４スキャナ（露光手段）
２６ＣＣＤカメラ（読取手段）
２８コントローラ（制御手段）
３０露光ヘッド（露光手段）
８５メモリ（データ記憶手段）
１００校正用感光材料
１０２ベース基板
１０４感光層
１０６アライメントマーク（校正用基準マーク）
１０８パターン（所定のパターン）
１１０校正用感光材料

Claims

感光材料に設けられた露光位置の基準となる基準マークを読み取って取得した基準位置データに基づいて前記感光材料に対する露光位置合わせを行い、その感光材料を走査方向へ移動させつつ画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光装置の前記露光位置合わせ機能を校正する校正方法であって、
校正用感光材料に設けられた露光位置の基準となる校正用基準マークを読み取って取得した校正用基準位置データに基づいて前記校正用感光材料に対する校正前の露光位置合わせを行い、その校正用感光材料を走査方向へ移動させつつ前記校正用基準マークとの対応位置にその校正用基準マークと識別可能な所定のパターンを前記光ビームにより露光し、その露光後に前記校正用基準マークと前記所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて校正用データを算出し、その校正用データを前記感光材料に対する露光位置合わせに反映させることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴とする露光装置の校正方法。
前記校正用データに基づいて前記露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成すると共にその補正テーブルを前記露光装置のシステムパラメータとして管理し、前記感光材料に対する露光では、前記画像データに基づいて作成する露光データを前記補正テーブルを用いてオフセットすることにより前記露光装置の露光位置合わせ機能を校正することを特徴とする請求項１記載の露光装置の校正方法。
前記校正用感光材料は、感光層を設けるベース基板がガラス材料により形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の露光装置の校正方法。
露光位置の基準となる基準マークが設けられた感光材料が載置され、その感光材料を走査方向に沿った方向へ移動させる移動手段と、
前記移動手段に載置された前記感光材料の前記基準マークを読み取る読取手段と、
前記読取手段による読み取り後に、前記移動手段により移動される前記感光材料を画像データに応じて変調された光ビームにより露光する露光手段と、
前記露光手段による露光で、前記読取手段による読み取りにより取得された基準位置データに基づいて前記光ビームによる露光位置合わせを行い前記露光手段を制御して露光動作させる制御手段と、
を有する露光装置であって、
前記露光装置は更に、
露光位置の基準となる校正用基準マークが設けられた校正用感光材料を前記移動手段に載置した状態で前記読取手段により前記校正用基準マークを読み取り、その読み取りにより取得された校正用基準位置データに基づいて前記制御手段による前記露光位置合わせを行い、前記校正用感光材料を前記移動手段により走査方向へ移動させつつ前記校正用基準マークとの対応位置にその校正用基準マークと識別可能な所定のパターンを前記光ビームにより露光し、その露光後に前記校正用基準マークと前記所定のパターンとの位置ずれ量を計測して取得した位置ずれデータに基づいて算出した校正用データを記憶するデータ記憶手段を有し、
前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記データ記憶手段から前記校正用データを読み出してその校正用データを前記露光位置合わせに反映させ前記露光手段を制御して露光動作させることを特徴とする露光装置。
前記制御手段が前記校正用データに基づいて前記露光位置合わせに反映させるための補正テーブルを作成すると共にその補正テーブルを前記露光装置のシステムパラメータとして前記データ記憶手段に記憶し、前記感光材料に対する露光では、前記制御手段が前記画像データに基づいて作成する露光データを前記補正テーブルを用いてオフセットすることにより前記露光位置合わせを行うことを特徴とする請求項４記載の露光装置。