JP6309740B2 - 直接描画露光装置 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 90
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Description
2 レーザ光
3 ガラスマスタ
4a ガラスマスタ移動用スライドステージ
4b ガラスマスタ移動用スライドレール
5 XYテーブルのXステージ
6 XYテーブルのYステージ
7 ステージ移動用レール
8 ラミネートガラス基板
9 アライメントカメラ
10 ガラスマスタ昇降機構
Claims (2)
- 基板を載置してX方向とY方向に移動自在なXYテーブルと、
前記基板に描画パターン、ガラスマスタに形成されたアライメントマークと較正用パターンからなるガラスマスタパターン及び前記較正用パターンとの位置関係がわかるようにしたアライメントパターンを露光するための露光エンジンと、
前記ガラスマスタパターンを前記基板に露光する前に前記ガラスマスタを前記基板上へ移動させ、当該露光後、前記ガラスマスタを前記基板から分離した後に移動させるガラスマスタ移動用スライドステージと、
前記ガラスマスタ移動用スライドステージに設けられたガラスマスタ昇降機構であって、前記ガラスマスタパターンを前記基板へ露光する前に前記ガラスマスタを前記基板へ密着させ、当該露光後に前記ガラスマスタを前記基板から分離させるものと、
仮パターン補正を行う場合には前記基板に露光されたアライメントマークを読み取り、真のパターン補正を行う場合には前記基板に露光された前記較正用パターンと前記アライメントパターンとのズレ量を読み取るアライメントカメラと、を設けた
ことを特徴とする直接描画露光装置。 - ドライフィルムレジストをラミネートした基板に描画パターンをマスクを使用しないで露光するための露光エンジンと、前記基板を載置して露光するためのX方向に移動自在なXステージとY方向に移動自在なYステージからなるXYテーブルと、前記XYテーブルに載置された前記基板の位置及び姿勢を検出するためのアライメントカメラと、前記Xステージ上を移動自在なガラスマスタ移動用スライドステージと、前記ガラスマスタ移動用スライドステージにガラスマスタ昇降機構とを設けた直接描画露光装置を用い、
前記ガラスマスタ移動用スライドステージにガラスマスタを載置し、
前記Xステージに前記基板を載置し、
前記ガラスマスタ移動用スライドステージを移動して前記基板の上に前記ガラスマスタを重ね、
前記ガラスマスタ昇降機構を降ろして前記ガラスマスタと前記基板を密着させ、
前記露光エンジンをパターニングなしで発光させ、かつ前記XYテーブルを駆動して前記基板に前記ガラスマスタのパターンを露光し、
前記ガラスマスタ昇降機構を上げて前記ガラスマスタと前記基板を分離し、
前記ガラスマスタ移動用スライドステージを移動して前記基板の上から前記ガラスマスタを外し、
前記XYテーブルを駆動して、前記基板上に形成されたアライメントマークを前記アライメントカメラで読み取って仮パターン補正を行い、
前記露光エンジンと前記XYテーブルを駆動して、前記基板上に前記ガラスマスタのパターンとの位置関係がわかるようにしたアライメントパターンを露光し、
前記XYテーブルを駆動して、前記基板上に形成された前記ガラスマスタのパターンと前記アライメントパターンとのズレ量を前記アライメントカメラで読み取って真のパターン補正を行う
ことを特徴とする直接描画露光装置の較正方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013227949A JP6309740B2 (ja) | 2013-11-01 | 2013-11-01 | 直接描画露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013227949A JP6309740B2 (ja) | 2013-11-01 | 2013-11-01 | 直接描画露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015087687A JP2015087687A (ja) | 2015-05-07 |
JP6309740B2 true JP6309740B2 (ja) | 2018-04-11 |
Family
ID=53050504
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013227949A Active JP6309740B2 (ja) | 2013-11-01 | 2013-11-01 | 直接描画露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6309740B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109163516A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-01-08 | 东阳市新意工业产品设计有限公司 | 一种化工生产设备及其工作方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6718279B2 (ja) * | 2016-03-31 | 2020-07-08 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置、ステージ較正システム、およびステージ較正方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11184095A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Ushio Inc | マスクローダを有する露光装置 |
JP4273030B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2009-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 露光装置の校正方法及び露光装置 |
JP2007299908A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Nsk Ltd | 半導体ウェハ撮像装置 |
JP2008096908A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Nsk Ltd | 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 |
TW201224678A (en) * | 2010-11-04 | 2012-06-16 | Orc Mfg Co Ltd | Exposure device |
JP5335761B2 (ja) * | 2010-12-13 | 2013-11-06 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
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2013
- 2013-11-01 JP JP2013227949A patent/JP6309740B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109163516A (zh) * | 2018-09-20 | 2019-01-08 | 东阳市新意工业产品设计有限公司 | 一种化工生产设备及其工作方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015087687A (ja) | 2015-05-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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R250 | Receipt of annual fees |
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