JP2008096908A - 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 - Google Patents
基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008096908A JP2008096908A JP2006281626A JP2006281626A JP2008096908A JP 2008096908 A JP2008096908 A JP 2008096908A JP 2006281626 A JP2006281626 A JP 2006281626A JP 2006281626 A JP2006281626 A JP 2006281626A JP 2008096908 A JP2008096908 A JP 2008096908A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- substrate holding
- mask
- gap
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】マスクと基板との間のギャップを均一化でき、露光精度を向上することができる基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法を提供する。
【解決手段】基板Wを保持する基板保持機構21は、基台23に対して複数の支柱24を介して支持される基板保持部25と、隣接する支柱24間に配置され、基板保持部25の上面の平坦度を補正するように基板保持部25を下面から押圧する複数の押圧機構26と、を備える。
【選択図】図2
【解決手段】基板Wを保持する基板保持機構21は、基台23に対して複数の支柱24を介して支持される基板保持部25と、隣接する支柱24間に配置され、基板保持部25の上面の平坦度を補正するように基板保持部25を下面から押圧する複数の押圧機構26と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法に関する。
従来、液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ基板やTFT(Thin Film Transistor)基板を製造する露光装置が種々考案されている(例えば、特許文献1参照)。露光装置は、マスクをマスク保持部で保持すると共に基板を基板保持部で保持して両者を近接して対向配置する。そして、マスク側からパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれたマスクパターンを基板上に露光転写している。
一般に、マスク保持部に保持されるマスクと、基板保持部に保持される基板を平坦に調整して、基板とマスクとの間のギャップを均一化することが行なわれている。ところが、近年、基板のサイズの大型化に伴い、マスクのサイズも大型化してきている。このため、マスクの自重による撓み量によりマスクを平坦にすることが難しくなっており、また、基板を保持する基板保持部の上面も平坦にすることが困難になっている。ギャップが不均一であると、露光むらや解像度の低下等、露光精度の低下に繋がる。
特許文献1に記載の露光装置では、マスクの撓みに応じて基板を撓ませるように、板厚の薄い基板保持部を使用したり、薄い基板保持部の下部空間を吸引したりして、基板とマスクとの間のギャップを均一化することが提案されている。
特開平9−129548号公報(第1図)
ところで、特許文献1に記載の露光装置は、マスクの自重による撓みのような中心から外側へ一様に湾曲する場合にはギャップを均一調整可能であるが、チャックによるマスクや基板の部分的な湾曲に対してはギャップを均一化できないという課題があった。
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクと基板との間のギャップを均一化でき、露光精度を向上することができる基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法を提供することにある。
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 基板を保持する基板保持機構であって、
基台に対して複数の支柱を介して支持される基板保持部と、
前記隣接する支柱間に配置され、前記基板保持部の上面の平坦度を補正するように前記基板保持部を下面から押圧する複数の押圧機構と、
を備えることを特徴とする基板保持機構。
(1) 基板を保持する基板保持機構であって、
基台に対して複数の支柱を介して支持される基板保持部と、
前記隣接する支柱間に配置され、前記基板保持部の上面の平坦度を補正するように前記基板保持部を下面から押圧する複数の押圧機構と、
を備えることを特徴とする基板保持機構。
(2) (1)に記載の基板保持機構を備えたフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法であって、
マスクと前記基板保持部上の基板とのギャップ量をギャップセンサで測定する工程と、
前記測定されたギャップ量に基づいて、前記マスクと前記基板とのギャップを均一化するように、前記押圧機構によって前記基板保持部を下面から押圧する工程と、
を備えることを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法。
マスクと前記基板保持部上の基板とのギャップ量をギャップセンサで測定する工程と、
前記測定されたギャップ量に基づいて、前記マスクと前記基板とのギャップを均一化するように、前記押圧機構によって前記基板保持部を下面から押圧する工程と、
を備えることを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法。
本発明の基板保持機構によれば、基台に対して基板保持部を支持する複数の支柱間に、基板保持部の上面の平坦度を補正するように基板保持部を下面から押圧する複数の押圧機構、を備えるので、基板保持部に保持される基板の平坦度を補正することができる。
また、上記基板保持機構を使用し、マスクと基板保持部上の基板とのギャップ量をギャップセンサで測定し、測定されたギャップ量に基づいて、マスクと基板とのギャップを均一化するように、押圧機構によって基板保持部を下面から押圧することで、マスクと基板との間のギャップを均一化でき、露光精度を向上することができる。
以下、本発明に係る基板保持機構、及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法について図面に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明の基板保持機構を搭載した分割逐次近接露光装置を説明するための一部分解斜視図、図2は図1に示す分割逐次近接露光装置の正面図、図3は基板保持機構の上面図、図4は本発明に係る分割逐次近接露光装置の制御装置の構成を示すブロック図、図5は、基板保持方法のギャップセンサによる測定箇所を示す側面図であり、図6は、ギャップセンサによる測定箇所を示す基板保持部の上面図である。
図1に示すように、分割逐次近接露光装置PEは、露光パターンを有するマスクMをx、y、θ方向に移動可能に保持するマスクステージ10と、被露光材としてのガラス基板Wをx、y、z方向に移動可能に保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光をマスクMを介して基板Wに照射する照明光学系80と、から主に構成されている。
なお、ガラス基板W(以下、「基板W」と称する。)は、マスクMに対向配置されており、このマスクMに描かれた転写パターンを露光転写すべく表面(マスクMの対向面側)に感光剤が塗布されている。
説明の便宜上、照明光学系80から説明すると、照明光学系80は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ81と、この高圧水銀ランプ81から照射された光を集光する凹面鏡82と、この凹面鏡82の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ83と、光路の向きを変えるための平面ミラー85,86及び球面ミラー87と、この平面ミラー85とオプチカルインテグレータ83との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター84と、を備える。
そして、照明光学系80では、露光時に露光制御用シャッター84が開制御されると、高圧水銀ランプ81から照射された光が、図1に示す光路Lを経て、マスクステージ10に保持されるマスクM、さらには基板ステージ20に保持される基板Wの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射される。これにより、マスクMの転写パターンが基板W上に露光転写される。
マスクステージ10は、中央部に矩形形状の開口11aが形成されるマスクステージベース11と、マスクステージベース11の開口11aにx軸,y軸,θ方向に移動可能に装着され、マスクMを保持するマスク保持枠12と、マスクステージベース11の上面に設けられ、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させるマスク位置調整機構13とを備える。
マスクステージベース11は、基板ステージ側の装置ベース50上に立設される複数の支柱51に支持されており、マスクステージベース11と支柱51との間に設けられたz軸粗動機構52(図2参照)によりマスクステージベース11は装置ベース50に対して昇降可能である。
マスク保持枠12には、マスクMの転写パターンが描かれていない周縁部を吸着するための図示しない複数の吸引ノズルが下面に開設されており、図示しない真空吸着機構によってマスクMを着脱自在に保持する。
マスク位置調整機構13は、マスク保持枠12を駆動する各種シリンダ13x、13x、13y等のアクチュエータと、マスクステージベース11とマスク保持枠12との間に設けられた図示しないガイド機構等により、マスク保持枠12をx軸,y軸,θ方向に移動させる。
また、マスクステージ10は、マスクMと基板Wとの対向面間の所定のギャップを測定する複数のギャップセンサ17(本実施形態では、8個)と、マスクM側の図示しないアライメントマークと基板W側の図示しないアライメントマークとを撮像して、マスクMと基板Wとの平面ずれ量を検出する複数のアライメントカメラ18(本実施形態では、4個)と、マスクMを必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ19と、をさらに備える。なお、ギャップセンサ17とアライメントカメラ18は、マスク保持枠12の辺部に沿って駆動可能に配置されてもよい。また、図1では、マスキングアパーチャ19は、開口11aのx方向の両端部のみ示されているが、y方向の両端部にも設けられている。
基板ステージ20は、基板Wを保持する基板保持機構21と、基板保持機構21を装置ベース50に対してx、y、z方向に移動する基板移動機構22と、を備える。
基板保持機構21は、図1〜図3に示すように、基台23に対して複数の支柱24(本実施形態では、4本)を介して支持される基板保持部25と、隣接する支柱24間に配置され、基板保持部25を下面から押圧する複数の押圧機構26(本実施形態では、5つ)と、を有する。一方、基板移動機構22は、基板保持機構21の基台23の下方に、y軸テーブル27、y軸送り機構28、x軸テーブル29、x軸送り機構30、及びz−チルト調整機構31を備える。
基板保持部25には、上面に基板Wを吸引するための図示しない複数の吸引ノズルが開設されており、図示しない真空吸着機構によって基板Wを着脱自在に保持する。さらに、基板保持部25には、図示しないワークローダによって搬送された基板Wを受け取るためのピンが上面から進退するための図示しないピン孔が形成されている。また、押圧機構26は、互いに対向するくさび面を有するくさび状の移動体32,33と、くさび状の移動体33を移動する送り駆動機構34とを備えて構成される。そして、送り駆動機構34によってくさび状移動体33を移動することで、くさび状の移動体32,33の互いのくさび面の対向位置が変化し、基板保持部25の下面に固定されたくさび状移動体32が、基板保持部25の下面を押圧する。
y軸送り機構28は、図2に示すように、リニアガイド35と送り駆動機構36とを備えて構成され、y軸テーブル27の裏面に取り付けられたスライダ37が、転動体(図示せず)を介して装置ベース50上に延びる2本の案内レール38に跨架されると共に、モータ39とボールねじ装置40とによってy軸テーブル27を案内レール38に沿って駆動する。
なお、x軸送り機構30もy軸送り機構28と同様の構成を有し、x軸テーブル29をy軸テーブル27に対してx方向に駆動する。また、z−チルト調整機構31は、くさび状の移動体41,42と送り駆動機構43とを組み合わせてなる可動くさび機構をx方向の一端側に1台、他端側に2台配置することで構成される。なお、送り駆動機構34,36,43は、モータとボールねじ装置とを組み合わせた構成であってもよく、固定子と可動子とを有するリニアモータであってもよい。また、z-チルト調整機構31の設置数は任意である。
これにより、基板移動機構22は、基板保持部25をx方向及びy方向に送り駆動するとともに、マスクMと基板Wとの間のギャップを微調整するように、基板保持部25をz軸方向に微動且つチルト調整する。また、基板保持機構21の押圧機構26も、マスクMと基板Wとの間の各対向位置でのギャップを微調整するよう、基板保持部25の上面の平坦度を補正する。
基板保持部25のx方向側部とy方向側部にはそれぞれバーミラー61,62が取り付けられ、また、装置ベース50のy方向端部とx方向端部には、計3台のレーザー干渉計63,64,65が設けられている。これにより、レーザー干渉計63,64,65からレーザー光をバーミラー61,62に照射し、バーミラー61,62により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー61,62により反射されたレーザー光との干渉を測定し、基板ステージ20の位置を検出する。
制御装置70は、図4に示すように、アライメントカメラ18、ギャップセンサ17、レーザー干渉計63,64,65からの検出信号を検出値として読み込むためのA/D変換機能を有する入力インターフェース回路70aと、演算処理装置70bと、ROM,RAM等の記憶装置70cと、演算処理装置70bで得られた制御信号を、マスク位置調整機構13、基板移動機構22、押圧機構26、z軸粗動機構52、露光制御用シャッター84の各駆動回路に出力する出力インターフェース回路70dとを備えている。
制御装置70は、照明光学系80のシャッター開制御、基板移動機構22の送り制御、ステップ送り誤差量の演算、アライメント調整時の補正量の演算、ギャップ調整時のz−チルト調整機構27の駆動制御及び押圧機構26の駆動制御、本装置に組み込まれた殆どのアクチュエータの駆動及び所定の演算処理をマイクロコンピュータやシーケンサ等を用いたシーケンス制御を基本として実行する。
上記構成のステップ式近接露光装置PEでは、マスク保持枠12にマスクMが保持され、基板保持部21に基板Wが保持された状態で、制御装置70がアライメントカメラ18、ギャップセンサ17、レーザー干渉計63,64,65の検出信号に基づき、マスク位置調整機構13を駆動制御して基板保持部21に対するマスクMの初期位置を合わせ、z軸粗動機構52、z−チルト調整機構27、押圧機構26を駆動制御してマスクMと基板Wとの対向面間を所定のギャップに調整して、互いに近接配置する。
そして、露光制御用シャッター84を所定の時間だけ開くと、照明光学系80からのパターン露光用の光が、マスクMを介して基板Wに照射される。これにより、マスクMの転写パターンが基板Wに露光転写される。また、ステップ露光を行なう際には、y軸送り機構28、x軸送り機構30を駆動して、基板WをマスクMに対してステップ移動させ、上記と同様に、マスクMと基板Wとの間のギャップ調整及びアライメント調整を行った後、露光転写が行なわれる。
ここで、本実施形態のマスクMと基板Wとの間のギャップを均一化するため、基板保持機構21を用いて制御する方法について、以下説明する。
(i)まず、基板保持部25に基板Wを搭載し、これらの間に隙間が生じないように吸着固定する。この状態で、図5に示すように、マスクMの上面(1層目)、マスクMの下面(2層目)、基板Wの上面(3層目)、基板Wの下面(4層目)の位置をギャップセンサ17により測定して、マスクMと基板Wとの間のギャップ量を検出する。この検出は、図6に示すように、マスクMの全領域に亙って、所定の間隔で一方向に順に走査することで、連続的に測定される。
(ii)次に、上記取得されたギャップ量を元に、基板保持部25の撓み量をデータ化する。
(iii)そして、上記撓み量のデータを用いて、例えば、3D−CADのシュミレーション機能のような、シュミレーションソフトによって、3次元で撓み量を把握する。
(iv)さらに、把握された撓み量を元に、応力計算にて応力分布が最適となる押圧機構26のストローク量を算出する。
(v)その後、上記ストローク量に基づいて、押圧機構26の送り駆動機構34のモータを駆動して、基板保持部25の平坦度を補正する。
(vi)補正後、再度(i)〜(iii)の工程を行い、補正後の実測値を確認する。そして、ギャップ量が均一化されている場合には露光動作へと移行し、再度補正が必要な場合には、上記(iv)及び(v)の工程を繰り返す。
なお、(i)〜(vi)の結果をデータベース化することで、(iii)、(iv)の工程を省略することもできる。
(ii)次に、上記取得されたギャップ量を元に、基板保持部25の撓み量をデータ化する。
(iii)そして、上記撓み量のデータを用いて、例えば、3D−CADのシュミレーション機能のような、シュミレーションソフトによって、3次元で撓み量を把握する。
(iv)さらに、把握された撓み量を元に、応力計算にて応力分布が最適となる押圧機構26のストローク量を算出する。
(v)その後、上記ストローク量に基づいて、押圧機構26の送り駆動機構34のモータを駆動して、基板保持部25の平坦度を補正する。
(vi)補正後、再度(i)〜(iii)の工程を行い、補正後の実測値を確認する。そして、ギャップ量が均一化されている場合には露光動作へと移行し、再度補正が必要な場合には、上記(iv)及び(v)の工程を繰り返す。
なお、(i)〜(vi)の結果をデータベース化することで、(iii)、(iv)の工程を省略することもできる。
以上説明したように、本実施形態の基板保持機構21は、基台23に対して基板保持部25を支持する複数の支柱24間に、基板保持部25の上面の平坦度を補正するように基板保持部25を下面から押圧する複数の押圧機構26、を備えるので、基板保持部25に保持される基板Wの平坦度を補正することができる。
これにより、基板保持機構21は、問題となるメカ組付け精度のばらつきによる基板保持部25の固体差に対し、そのばらつきを数値化し自動調整する仕組みとなるため、平坦度調整における作業時間の短縮が見込まれる。
また、上記基板保持機構21を使用し、マスクMと基板保持部25上の基板Wとのギャップ量をギャップセンサ17で測定し、測定されたギャップ量に基づいて、マスクMと基板Wとのギャップを均一化するように、押圧機構26によって基板保持部25を下面から押圧することで、マスクMと基板Wとの間のギャップを均一化でき、露光精度を向上することができる。特に、露光結果により線幅等のムラがわかっている場合、ムラ位置に対してピンポイントにて補正することが可能である。また、定期的に本作業を実施することにより、基板保持部25の撓み量の経時変化による対応が可能となる。
なお、本発明は前述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
本発明の基板保持機構は、上記露光装置以外に、インクジェット方式のカラーフィルタ基板の製造装置等にも適用可能である。
また、本実施形態では、押圧機構26をくさび状の移動体32,33と送り駆動機構34によって構成したが、ピストンとシリンダを用いて押圧する構成であってもよい。
本発明の基板保持機構は、上記露光装置以外に、インクジェット方式のカラーフィルタ基板の製造装置等にも適用可能である。
また、本実施形態では、押圧機構26をくさび状の移動体32,33と送り駆動機構34によって構成したが、ピストンとシリンダを用いて押圧する構成であってもよい。
10 マスクステージ
12b 開口
14 チャック部(保持部)
20 基板ステージ
21 基板保持機構
23 基台
24 支柱
25 基板保持部
26 押圧機構
M マスク
PE 露光装置(分割逐次近接露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
12b 開口
14 チャック部(保持部)
20 基板ステージ
21 基板保持機構
23 基台
24 支柱
25 基板保持部
26 押圧機構
M マスク
PE 露光装置(分割逐次近接露光装置)
W ガラス基板(被露光材)
Claims (2)
- 基板を保持する基板保持機構であって、
基台に対して複数の支柱を介して支持される基板保持部と、
前記隣接する支柱間に配置され、前記基板保持部の上面の平坦度を補正するように前記基板保持部を下面から押圧する複数の押圧機構と、
を備えることを特徴とする基板保持機構。 - 請求項1に記載の基板保持機構を備えたフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法であって、
マスクと前記基板保持部上の基板とのギャップ量をギャップセンサで測定する工程と、
前記測定されたギャップ量に基づいて、前記マスクと前記基板とのギャップを均一化するように、前記押圧機構によって前記基板保持部を下面から押圧する工程と、
を備えることを特徴とするフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006281626A JP2008096908A (ja) | 2006-10-16 | 2006-10-16 | 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006281626A JP2008096908A (ja) | 2006-10-16 | 2006-10-16 | 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008096908A true JP2008096908A (ja) | 2008-04-24 |
Family
ID=39379788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006281626A Pending JP2008096908A (ja) | 2006-10-16 | 2006-10-16 | 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008096908A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013097310A (ja) * | 2011-11-04 | 2013-05-20 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP2014067765A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Toray Eng Co Ltd | 基板浮上装置および基板浮上量測定方法 |
JP2015087687A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | ビアメカニクス株式会社 | 直接描画露光装置 |
-
2006
- 2006-10-16 JP JP2006281626A patent/JP2008096908A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013097310A (ja) * | 2011-11-04 | 2013-05-20 | Nsk Technology Co Ltd | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP2014067765A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-17 | Toray Eng Co Ltd | 基板浮上装置および基板浮上量測定方法 |
JP2015087687A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | ビアメカニクス株式会社 | 直接描画露光装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5311341B2 (ja) | 近接露光装置及び近接露光方法 | |
WO2007043535A1 (ja) | 光学特性計測方法、露光方法及びデバイス製造方法、並びに検査装置及び計測方法 | |
KR100839398B1 (ko) | 노광 장치 및 노광 방법 | |
US11009799B2 (en) | Exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display, device manufacturing method, and exposure method | |
JP2010080714A (ja) | 押印装置および物品の製造方法 | |
WO2005053007A1 (ja) | 露光方法及びデバイス製造方法、露光装置、並びにプログラム | |
JP6535197B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
KR20160025441A (ko) | 묘화 장치 | |
JP2008015314A (ja) | 露光装置 | |
JP5517071B2 (ja) | 位置計測方法、並びに露光方法及び装置 | |
JP2007184328A (ja) | 露光装置 | |
US10908507B2 (en) | Micro LED array illumination source | |
JP5674197B2 (ja) | 近接露光装置及び近接露光方法 | |
JP2012049326A (ja) | マスクの位置決め装置及びマスクの回転中心算出方法 | |
KR102197572B1 (ko) | 조명 소스로서의 마이크로 led 어레이 | |
JP2008096908A (ja) | 基板保持機構及びフラットパネルディスプレイ基板用露光装置の基板保持方法 | |
CN109426094B (zh) | 曝光方法、测量方法以及曝光装置 | |
JP2012133122A (ja) | 近接露光装置及びそのギャップ測定方法 | |
JP2007148310A (ja) | マスク及びその加工方法 | |
JP2009169255A (ja) | 露光装置及び基板の製造方法ならびにマスク | |
JP5089238B2 (ja) | 露光装置用基板アダプタ及び露光装置 | |
JP2007248636A (ja) | 位置測定装置のミラー固定構造 | |
JP2008224754A (ja) | 分割逐次近接露光方法及び分割逐次近接露光装置 | |
JP2007086684A (ja) | 露光装置 | |
JP2006093604A (ja) | 近接露光装置 |