JP5674197B2 - 近接露光装置及び近接露光方法 - Google Patents
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Description
(1) 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、
前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定するギャップセンサと、
前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、
を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記ギャップセンサによって測定される4箇所の測定点での前記マスク及び前記ワークとの間のギャップに基づいて、前記4箇所の測定点によって画成される四角形の各辺の中点の4箇所の座標のうち、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるように前記マスク駆動部と前記ワーク駆動部の少なくとも一方を駆動することで、残りの前記中点でのギャップも一様とし、前記4箇所の測定点での前記マスクと前記ワークとの間のギャップを平均化する制御部を備えることを特徴とする近接露光装置。
(2) 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光方法であって、
前記ギャップセンサによって前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定する工程と、
前記4箇所の測定点によって画成される四角形の各辺の中点の4箇所の座標のうち、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるように前記マスク駆動部と前記ワーク駆動部の少なくとも一方を駆動することで、残りの前記中点でのギャップも一様とし、前記4箇所の測定点での前記マスクと前記ワークとの間のギャップを平均化する工程と、
を備えることを特徴とする近接露光方法。
ax+by+cz+d=0
により表される。ここで、a、b、c、dは定数である。そして、中点K、L、Mのx、y座標と、測定点A、B、C、Dでのギャップに基づく中点K、L、Mでのz座標(各辺の両端での測定点の平均値)を入れて、定数a、b、c、dが求められる。そして、制御部70によって、中点K,L,Mの各ギャップが一様となるようにZ−チルト調整機構43を駆動して、マスクMに対してワークWを平行とする。
ax+by+cz+d=0
とする時、3点(x1、y1、z1)、(x2、y2、z2)、(x3、y3、z3)からできる平面方程式の係数は、
a={(y2−y1)×(z3−z1)}−{(z2−z1)×(y3−y1)}
b={(z2−z1)×(x3−x1)}−{(x2−x1)×(z3−z1)}
c={(x2−x1)×(y3−y1)}−{(y2−y1)×(x3−x1)}
d=−{(x1×a)+(y1×b)+(z1×c)}
で求めることができる。
四角形ABCDの各頂点の座標を(x1、y1、z1)、(x2、y2、z2)、(x3、y3、z3)、(x4、y4、z4)とする時、その中点座標K、L、M、Nは((x1+x2)/2、(y1+y2)/2、(z1+z2)/2)、((x2+x3)/2、(y2+y3)/2、(z2+z3)/2)、((x3+x4)/2、(y3+y4)/2、(z3+z4)/2)、((x4+x1)/2、(y4+y1)/2、(z4+z1)/2)となり、3点K、L、Mからできる平面方程式の係数は、
a={(y3−y1)×(z3−z1+z4−z2)}−{(z3−z1)×(y3−y1+y4−y2)}/4
={(y3−y1)×(z4−z2)}−{(z3−z1)×(y4−y2)}/4
b={(z3−z1)×(x3−x1+x4−x2)}−{(x3−x1)×(z3−z1+z4−z2)}/4
={(z3−z1)×(x4−x2)}−{(x3−x1)×(z4−z2)}/4
c={(x3−x1)×(y3−y1+y4−y2)}−{(y3−y1)×(x3−x1+x4−x2)}/4
={(x3−x1)×(y4−y2)}−{(y3−y1)×(x4−x2)}/4
d=−[{(x1+x2)×a}+{(y1+y2)×b}+{(z1+z2)×c}]/2
となる。
で求めることができる。
△=[{(x4+x1)×a}+{(y4+y1)×b}+{(z4+z1)×c}]/2
−{(x1+x2)×a}+{(y1+y2)×b}+{(z1+z2)×c}]/2
=[{(x4−x2)×a}+{(y4−y2)×b}+{(z4−z2)×c}]/2
となり、上記a、b、cを代入すると△は0になる。
以上より、点Nは3点K、L、Mによってできる平面上に存在する。これにより、4点の測定点から画成される四角形ABCDの3つの中点K、L、Mから、残りの中点Nの位置が求められることが証明された。
例えば、上記実施形態では、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるようにZ−チルト調整機構43を駆動するようにしたが、マスクMをZ方向に移動させるマスク駆動部を有する場合には、マスク駆動部を駆動するようにしてもよい。また、Z−チルト調整機構43とマスク駆動部の両方を相対移動させて、ギャップ調整をおこなってもよい。
10 マスクステージ(マスク保持部)
17 ギャップセンサ
20 ワークステージ(ワーク保持部)
30 照明光学系(照射手段)
40 ワークステージ移動機構(ワーク駆動部)
43 Z−チルト調整機構(ギャップ調整手段)
70 制御部(ギャップ調整手段、板厚差算出手段)
76 板厚測定器(板厚差算出手段)
M マスク
W ガラス基板(被露光材としてのワーク)
Claims (2)
- 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、
前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、
被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、
前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、
前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定するギャップセンサと、
前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、
を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光装置であって、
前記ギャップセンサによって測定される4箇所の測定点での前記マスク及び前記ワークとの間のギャップに基づいて、前記4箇所の測定点によって画成される四角形の各辺の中点の4箇所の座標のうち、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるように前記マスク駆動部と前記ワーク駆動部の少なくとも一方を駆動することで、残りの前記中点でのギャップも一様とし、前記4箇所の測定点での前記マスクと前記ワークとの間のギャップを平均化する制御部を備えることを特徴とする近接露光装置。 - 露光すべきパターンを有するマスクを保持するマスク保持部と、前記マスク保持部を駆動するマスク駆動部と、被露光材としてのワークを保持するワーク保持部と、前記ワーク保持部を駆動するワーク駆動部と、前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定するギャップセンサと、前記ワークに対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射手段と、を備え、前記マスクと前記ワークとを近接して対向配置した状態で、前記ワーク上に前記マスクのパターンを露光転写する近接露光方法であって、
前記ギャップセンサによって前記マスク及び前記ワークとの間のギャップを4箇所の測定点で測定する工程と、
前記4箇所の測定点によって画成される四角形の各辺の中点の4箇所の座標のうち、3箇所の中点の座標における各ギャップが一様になるように前記マスク駆動部と前記ワーク駆動部の少なくとも一方を駆動することで、残りの前記中点でのギャップも一様とし、前記4箇所の測定点での前記マスクと前記ワークとの間のギャップを平均化する工程と、
を備えることを特徴とする近接露光方法。
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