JP2007271867A - 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】描画面と同一面に、少なくとも2つが互いに平行でない少なくとも3つのスリットを設け、描画点形成手段により変調され、上記少なくとも3つのスリットを通過した光を検出し、その少なくとも3つのスリットを通過した光の各検出時点に対応する描画面の各相対的移動位置情報に基づいて、描画点の位置情報を少なくとも2つ取得し、その少なくとも2つの描画点の位置情報に基づいて描画点の位置を測定する。
【選択図】図7
Description
(DMD)36を備えている。このDMD36は、データ処理手段とミラー駆動制御手段を備えた制御ユニット(制御手段)20に接続されている。
各レンズ系50,52や対物レンズ系56,58等が有するディストーションや、露光ヘッド26で露光処理する際に温度や振動といった要因で経時変化する描画の歪み量を、適宜検出するための描画の歪み量検出手段が設けられている。
(約13.5%)に低下する周縁部の径をいう。
適切な制御信号を生成してDMD36を制御すると共に、感光材料11が載置された移動ステージ14を走査方向に駆動制御する。
ないが、レーザ発光素子の各々から発散光状態で出射した紫外線等のレーザビームをコリメータレンズによって平行光化して集光レンズによって集光し、マルチモード光ファイバのコアの入射端面から入射させて光ファイバ内を伝搬させ、レーザ出射部で1本のレーザビームに合波させてマルチモード光ファイバの出射端部に結合させた光ファイバ28から出射する。
11 感光材料
12 基台
14 移動ステージ
18 露光ヘッドユニット
20 制御ユニット
24 位置検出センサ
26 露光ヘッド
32 露光エリア
46 マイクロミラー
70 スリット板
72 フォトセンサ
74 検出用スリット
74a 第1スリット部
74b 第2スリット部
75A 第1くの字型スリット
75B 第2くの字型スリット
76 リニアエンコーダ
Claims (10)
- 入射された光を変調して描画面上に描画点を形成する描画点形成手段と前記描画面とを相対的に移動させ、前記描画点形成手段により前記描画点を前記描画面に順次形成して画像を描画する際における前記描画点の位置を測定する描画位置測定方法において、
前記描画面と同一面に、少なくとも2つが互いに平行でない少なくとも3つのスリットを設け、
前記描画点形成手段により変調され、前記少なくとも3つのスリットを通過した光を検出し、
該少なくとも3つのスリットを通過した光の各検出時点に対応する前記描画面の各相対的移動位置情報に基づいて前記描画点の位置を測定することを特徴とする描画位置測定方法。 - 前記少なくとも3つのスリットが互いに平行でないことを特徴とする請求項1記載の描画位置測定方法。
- 前記スリットの幅が、前記描画点の径よりも大きいことを特徴とする請求項1または2記載の描画位置測定方法。
- 複数の前記描画点を測定できる位置に複数の前記少なくとも3つのスリットを持つことを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の描画位置測定方法。
- ヘッドと描画面とを相対的に移動させつつ、前記ヘッドが形成する複数のビームによって前記描画面に描画点を順次形成する描画方法であって、
前記描画面と同一面に設けられた、少なくとも2つが互いに平行でない少なくとも3つのスリットを通過したビームを検出し、
該少なくとも3つのスリットを通過した前記ビームの各検出時点に対応する前記描画面の各相対的移動位置情報に基づいて、前記ビームの位置を測定し、
該測定された前記ビームの位置に基づいて、前記ビームを変調させるためのデータを形成し、
前記データを前記ヘッドに供給して前記ビームを変調し、前記描画面に前記描画点を形成することを特徴とする描画方法。 - 入射された光を変調して描画面上に描画点を形成する描画点形成手段と前記描画面とを相対的に移動させ、前記描画点形成手段により前記描画点を前記描画面に順次形成して画像を描画する際における前記描画点の位置を測定する描画位置測定装置において、
前記描画面と同一面に設けられた、少なくとも2つが互いに平行でない少なくとも3つのスリットと、
前記描画点形成手段により変調され、前記少なくとも3つのスリットを通過した光を検出する検出手段と、
該検出手段による前記少なくとも3つのスリットを通過した光の各検出時点に対応する前記描画面の各相対的移動位置情報に基づいて前記描画点の位置を測定する位置測定手段とを備えたことを特徴とする描画位置測定装置。 - 前記少なくとも3つのスリットが互いに平行でないことを特徴とする請求項4記載の描画位置測定装置。
- 前記スリットの幅が、前記描画点の径よりも大きいことを特徴とする請求項4または5記載の描画位置測定装置。
- 複数の前記描画点を測定できる位置に複数の前記少なくとも3つのスリットを持つことを特徴とする請求項6から8いずれか1項記載の描画位置測定装置。
- 複数のビームを形成するヘッドと、前記ビームにより描画面に描画点が順次形成されるように、前記ヘッドと前記描画面とを相対的に移動させる機構と、前記描画面上における前記ビームの位置を測定するセンセユニットと、測定された前記ビームの位置に基づいて、前記ビームを変調させるためのデータを形成するデータ処理ユニットとを備えた描画装置であって、
前記センサユニットが、
前記描画面と同一面に設けられた、少なくとも2つが互いに平行でない少なくとも3つのスリットと、
前記少なくとも3つのスリットを通過したビームを検出するセンサと、
該センサによる前記少なくとも3つのスリットを通過したビームの各検出時点に対応する前記描画面の各相対的移動位置情報に基づいて、前記ビームの位置を測定する位置測定手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007317744A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Disco Abrasive Syst Ltd | 露光装置および露光装置の自己診断方法 |
JP2015142036A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
WO2015147319A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2015-10-01 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
JP2018091896A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光装置用遮光部材 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5000948B2 (ja) * | 2006-08-17 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
KR102171301B1 (ko) * | 2013-07-09 | 2020-10-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | Dmd를 이용한 디지털 노광기 및 그 제어 방법 |
US10254112B1 (en) * | 2015-10-29 | 2019-04-09 | National Technology & Engineering Solutions Of Sandia, Llc | Full-field surface roughness |
EP4180871A1 (en) * | 2021-11-16 | 2023-05-17 | Mycronic Ab | Multi head scanning lithographic laser writer |
CN116300342A (zh) * | 2023-05-19 | 2023-06-23 | 广东科视光学技术股份有限公司 | 直写光刻镜头角度的测量方法、计算设备及存储介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005003762A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
WO2005031801A2 (en) * | 2003-09-23 | 2005-04-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for multiple beam deflection and intensity stabilization |
JP2005316409A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2006030873A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5227839A (en) * | 1991-06-24 | 1993-07-13 | Etec Systems, Inc. | Small field scanner |
US6201559B1 (en) * | 1996-12-19 | 2001-03-13 | Minolta Co., Ltd. | Method for measuring the quantity of light emergent from an optical tip array and image forming apparatus provided with an optical tip array |
EP1486826A3 (en) * | 2003-06-10 | 2006-12-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Pixel position specifying method, method of correcting image offset, and image forming device |
TW200602814A (en) * | 2004-03-29 | 2006-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Exposure device |
JP2006316409A (ja) * | 2005-05-10 | 2006-11-24 | Kansai Electric Power Co Inc:The | 複合鋼管鉄塔およびその施工方法 |
-
2006
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2007
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005003762A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画素位置特定方法、画像ずれ補正方法、および画像形成装置 |
WO2005031801A2 (en) * | 2003-09-23 | 2005-04-07 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for multiple beam deflection and intensity stabilization |
JP2005316409A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
JP2006030873A (ja) * | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007317744A (ja) * | 2006-05-23 | 2007-12-06 | Disco Abrasive Syst Ltd | 露光装置および露光装置の自己診断方法 |
JP2015142036A (ja) * | 2014-01-29 | 2015-08-03 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
WO2015147319A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2015-10-01 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
JPWO2015147319A1 (ja) * | 2014-03-28 | 2017-04-13 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
JP2019070815A (ja) * | 2014-03-28 | 2019-05-09 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び移動体駆動方法 |
JP2018091896A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光装置用遮光部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200745776A (en) | 2007-12-16 |
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US20090273793A1 (en) | 2009-11-05 |
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