WO2006106746A1

WO2006106746A1 - 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置

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Publication number: WO2006106746A1
Application number: PCT/JP2006/306493
Authority: WO
Inventors: Mitsuru Mushano
Original assignee: Fujifilm Corporation
Priority date: 2005-03-31
Filing date: 2006-03-29
Publication date: 2006-10-12
Also published as: US20090115981A1; KR20070116100A; CN101171826A; TW200708066A; KR101261353B1

Abstract

【課題】露光ヘッドを基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて露光点を基板上に順次形成して露光画像を露光する露光方法において、基板の変形などに関わらず、基板上の所望の位置に所望の露光画像を露光する。【解決手段】基板１２上の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａをカメラ２６により検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を検出位置情報取得手段５２により取得し、その取得した検出位置情報に基づいて露光ヘッド３０の各マイクロミラー３８の基板１２上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を露光軌跡情報取得手段５４により取得し、露光点データ取得手段５６において各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に対応した露光点データを露光画像データから取得し、その取得した露光点データに基づいて露光ヘッド３０により基板１２を露光する。

Description

明細書

描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置技術分野

[0001] 本発明は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を順次形成して画像を描画する描画方法および装置およびその描画方法および装置に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法および装置に関するものである。

背景技術

[0002] 従来、プリント配線板やフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。

[0003] 上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビ一ムを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。

[0004] 上記のような露光装置として、たとえば、デジタル 'マイクロミラー'デバイス（以下、 DMDという)等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されて!、る。

[0005] そして、上記のような DMDを用いた露光装置としては、たとえば、 DMDを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じて DMDのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した多数の描画点データからなるフレームデータを入力し、 DMDのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特開 2004— 233718号公報参照)。

[0006] ここで、上記のような露光装置により形成されるプリント配線板の配線パターンなどは、益々高精細化が進む傾向にあり、たとえば、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行う必要がある。

発明の開示発明が解決しょうとする課題

[0007] 上記のような位置合わせを行うため、各層の配線パターンは基板に対して予め設定された位置に露光されるが、多層プリント配線板を形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、上記のように予め設定された位置に各層の配線パターンを露光したのでは各層の配線パターンの記録位置ずれが生じ、各層の配線パターンの高精度な位置合わせが困難となるおそれがある。

[0008] また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、 R、 G、 Bの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがある。

[0009] また、たとえば、基板を所定の走査方向に移動させることによって基板上を光ビームで走査するようにした場合には、基板を移動させる移動機構の制御精度に応じて、基板の移動方向にずれが生じるような場合があり、このようなずれが生じるとやはり配線パターンなどの高精度な位置合わせなどが困難となるおそれがある。

[0010] 本発明は、上記事情に鑑み、上記露光装置のような描画方法および装置において

、基板の変形や基板の移動方向のずれなどに影響されることなぐ基板上の所望の位置に所望の画像を描画することできる描画方法および装置、並びにその描画方法および装置に用いられる描画点データを取得する方法および装置を提供することを目的とするものである。

課題を解決するための手段

[0011] 本発明の第 1の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

[0012] 本発明の第 2の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

[0013] 本発明の第 3の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づ、て描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

[0014] また、上記本発明の第 2および第 3の描画点データ取得方法においては、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出してその基準マークおよび zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0015] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

その取得したずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる

[0016] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

その取得したずれ情報および検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0017] また、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにすることができる。

[0018] また、上記本発明の第 1から第 3の描画点データ取得方法においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データ力も描画点データを取得するようにすることができる。

[0019] また、複数の描画点形成領域によって描画を行う際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うようにすることができる。

[0020] また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成されるビームスポットとすることがでさる。

[0021] また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分が付随するようにすることができる。

[0022] また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1 つの描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0023] また、複数の描画点形成領域を 2次元状に配列するようにすることができる。

[0024] 本発明の第 1の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づ、て描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

[0025] 本発明の第 2の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づ、て画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データ力取得し、その取得した描画点データに基づ、て描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

[0026] 本発明の第 3の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

[0027] また、上記本発明の第 2および第 3の描画方法においては、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出してその基準マークおよび Zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づ、て描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0028] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づ、て描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0029] また、予め設定された基板の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の基板の実相対移動方向および zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報および検出位置情報に基づ!/、て描画軌跡情報を取得するよう〖こすることがでさる。

[0030] また、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにすることができる。

[0031] また、上記本発明の第 1から第 3の描画方法においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データカ描画点データを取得するようにすることができる。

[0032] また、複数の描画点形成領域によって描画を行う描画方法であって、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うようにすることができる。

[0033] また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成されるビームスポットとすることがでさる。

[0034] また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。

[0035] また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1 つの描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。

[0036] また、複数の描画点形成領域を 2次元状に配列するようにすることができる。

[0037] 本発明の第 1の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

[0038] 本発明の第 2の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

[0039] 本発明の第 3の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づ!、て画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

[0040] また、上記本発明の第 2および第 3の描画点データ取得装置にぉ、ては、基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出してその基準マークおよび Zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0041] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づ、て描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0042] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたもとし、描画点軌跡取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0043] また、描画点データ取得手段を、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変ィ匕させるちのとすることができる。

[0044] また、上記本発明の第 1から第 3の描画点データ取得装置においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データ力描画点データを取得するものとすることができる。

[0045] また、描画点形成領域を複数有するものとし、描画点データ取得手段を、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うものとすることができる。

[0046] また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるようにすることができる

[0047] また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。 [0048] また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、描画点データ軌跡情報取得手段を、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0049] また、複数の描画点形成領域を 2次元状に配列するようにすることができる。

[0050] 本発明の第 1の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

[0051] 本発明の第 2の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、画像の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

[0052] 本発明の第 3の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

[0053] また、上記本発明の第 2および第 3の描画装置においては、基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出してその基準マークおよび Z または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0054] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の基板の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づ、て描画軌跡情報を取得するちのとすることがでさる。

[0055] また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0056] また、描画点データ取得手段を、描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるちのとすることがでさる。

[0057] また、上記本発明の第 1から第 3の描画装置においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データ力描画点データを取得するものとすることができる。

[0058] また、描画点形成領域を複数有するものとし、描画点データ取得手段を、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うものとすることができる。

[0059] また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるようにすることができる

[0060] また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。

[0061] また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、描画点データ軌跡情報取得手段を、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。

[0062] また、複数の描画点形成領域を 2次元状に配列するようにすることができる。ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによつて形成される領域でもよぐたとえば、 DMDのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよ!/、し、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。

発明の効果

[0063] 本発明の第 1から第 3の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置によれば、画像を表わす画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づ、て描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得するようにしたので、たとえば、画像の描画の際の基板上やその画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に基づ!/、て上記描画点データ軌跡情報を取得するようにすれば、たとえば、基板に変形や位置ずれが生じたような場合でも、基板上や画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に対応した描画点データを画像データから取得することができるので、上記変形や位置ずれに応じた画像を基板上に描画することができる。この場合、たとえば、多層プリント配線板を形成する際には、各層の配線パターンをその各層の変形に応じて形成することができるので各層の配線パターンの位置合わせを行うことができる。

[0064] また、たとえば、上述したように基板を所定の走査方向に移動させることによって基板上を光ビームで走査するようにした場合にぉ、て、基板の移動方向にずれが生じた場合においても、その移動方向のずれに応じた描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に対応した描画点データを画像データから取得することができるので、上記移動方向のずれに影響されることなく基板上の所望の位置に所望の画像を描画することができる。

[0065] また、画像データを記憶するメモリのアドレスを上記描画点データ軌跡に沿って計算して描画点データを取得するようにすることができるので、上記アドレスの計算を容易に行うことができる。

図面の簡単な説明

[0066] [図 1]本発明の描画方法および装置の第 1〜第 4の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図

[図 2]図 1の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図

[図 3A]基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図

[図 3B]各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図

[図 4]図 1の露光装置の露光ヘッドにおける DMDを示す図

[図 5]本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図

[図 6]理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図

[図 7]マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図圆 8]マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図

圆 9]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図

[図 10]図 9の太線枠内を抽出した図

圆 11]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図

[図 12]各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図

[図 13]各フレームデータを示す図

[図 14A]基板が傾いて載置された様子を示す図

圆 14B]基板のエッジの傾きに応じた露光点データ軌跡情報を示す図

圆 15]基板の走査方向への伸縮を説明するための図

圆 16]基板の伸縮に応じた露光点データの取得方法を説明するための図

[図 17]基板の伸縮に応じて露光点データを加減する際における露光点データ軌跡情報上のその加減点を示す図

[図 18]本発明の第 2の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すプロック図

圆 19]移動ステージの移動方向のずれを説明するための図

[図 20]所定のマイクロミラーの露光軌跡を示す図

圆 21]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図

[図 22]図 21の太線枠内を抽出した図

[図 23]本発明の第 3の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すプロック図

圆 24]マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図

[図 25]本発明の第 4の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すプロック図

[図 26]マイクロミラーの露光軌跡とそのマイクロミラーによる露光タイミングとを表わした図 [図 27]移動ステージの速度変動情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図

[図 28A]蛇行を説明するための図

[図 28B]ョーイングを説明するための図

[図 29A]ョーイングを説明するための図

[図 29B]ョーイングした際の露光点を示す図

[図 30]露光点データの読み出しピッチを変化させる際における露光点データ軌跡情報上のその変化点を示す図

[図 31]本発明の第 1〜第 4の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート

[図 32]本発明の第 1〜第 4の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート

発明を実施するための最良の形態

[0067] 以下、図面を参照して本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第 1の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図 1は、本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線バターン等の各種パターンを露光する装置であって、そのパターンを露光するために用いられる露光点データの取得方法に特徴を有するものである力まずは、露光装置の概略構成について説明する。

[0068] 露光装置 10は、図 1に示すように、基板 12を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ 14を備えている。そして、 4本の脚部 16に支持された厚い板状の設置台 18の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた 2本のガイド 20が設置されている。移動ステージ 14は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド 20によって往復移動可能に支持されている。

[0069] 設置台 18の中央部には、移動ステージ 14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート 22が設けられている。コの字状のゲート 22の端部の各々は、設置台 18の両側面に固定されている。このゲート 22を挟んで一方の側にはスキャナ 24が設けられ、他方の側には基板 12の先端および後端と、基板 12に予め設けられている円形状の複数の基準マーク 12aの位置とを検知するための複数のカメラ 26が設けられている。

[0070] ここで、基板 12における基準マーク 12aは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板 12上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドゃヴィァゃエッチングマークを用いてもよい。また、基板 12に形成された所定のパターン、たとえば、露光しょうとする層の下層のパターンなどを基準マーク 12aとして利用するようにしてもよい。また、図 1においては、基準マーク 12aを 6個し力示していないが実際には多数の基準マーク 12aが設けられている。

[0071] スキャナ 24およびカメラ 26はゲート 22に各々取り付けられて、移動ステージ 14の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ 24およびカメラ 26は、これらを制御する後述するコントローラに接続されて、る。

[0072] スキャナ 24は、図 2および図 3Bに示すように、 2行 5列の略マトリックス状に配列された 10個の露光ヘッド 30 (30A〜30J)を備えて!/、る。

[0073] 各露光ヘッド 30の内部には、図 4に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（SLM)であるデジタル 'マイクロミラ一'デバイス (DMD) 36が設けられている。 DMD36は、マイクロミラー 38が直交する方向に 2次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー 38の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度 Θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド 30による露光エリア 32 は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ 14の移動に伴い、基板 12には露光ヘッド 30ごとに帯状の露光済み領域 34が形成される。なお、各露光ヘッド 30に光ビームを入射する光源については図示省略してある力たとえば、レーザ光源などを利用することができる。

[0074] 露光ヘッド 30の各々に設けられた DMD36は、マイクロミラー 38単位でオン/オフ制御され、基板 12には、 DMD36のマイクロミラー 38の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域 34は、図 4に示すマイクロミラー 38に対応した 2次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図 4では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応する DMD36におけるマイクロミラー 38は常にオフ状態となる。

[0075] また、図 3Aおよび Bに示すように、帯状の露光済み領域 34のそれぞれが、隣接する露光済み領域 34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド 30の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、 1行目の最も左側に位置する露光エリア 32A、露光エリア 32Aの右隣に位置する露光エリア 32Cとの間の露光できない部分は、 2行目の最も左側に位置する露光エリァ 32Bにより露光される。同様に、露光エリア 32Bと、露光エリア 32Bの右隣に位置する露光エリア 32Dとの間の露光できない部分は、露光エリア 32Cにより露光される

[0076] 次に、露光装置 10の電気的構成について説明する。露光装置 10は、図 5に示すように、 CAM (Computer Aided Manufacturing)ステーションを有するデータ作成装置 4 0から出力された、露光すべき配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ (ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部 50と、カメラ 26により撮影された基準マーク 12aの画像に基づ、て基準マーク 12a の検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段 52と、検出位置情報取得手段 5 2により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の画像空間上の各マイクロミラー 38の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段 54と、露光軌跡情報取得手段 54により取得された各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報とラスター変換処理部 50から出力されたラスターデータの露光画像データに基づ!/、て、各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得する露光点データ取得手段 56と、露光点データ取得手段 56により取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データに基づいて露光ヘッド 30の DMD36により露光されるよう露光ヘッド 30を制御する露光ヘッド制御部 58と、移動ステージ 14をステージ移動方向へ移動させる移動機構 60と、本露光装置全体を制御するコントローラ 70とを備えている。なお、移動機構 60は、移動ステージ 14をガイド 20に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。

[0077] 次に、上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10の作用について図面を参照しながら説明する。

[0078] まず、データ作成装置 40において、基板 12に露光すべき配線パターンを表すべクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはラスター変換処理部 50に入力され、ラスター変換処理部 50にお、てラスターデータに変換されて露光点データ取得手段 56に出力され、露光点データ取得手段 56によって一時記憶される。

[0079] 一方、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部 50に入力されると、露光装置 10全体の動作を制御するコントローラ 70が移動機構 60に制御信号を出力し、移動機構 60はその制御信号に応じて移動ステージ 14を図 1に示す位置力もガイド 20に沿ってー且上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図 1における右側、つまりゲート 22に対してスキャナ 24が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図 1における左側、つまりゲート 22に対してカメラ 26が設置されている側のことである。

[0080] そして、上記のようにして移動する移動ステージ 14上の基板 12が複数のカメラ 26 の下を通過する際、これらのカメラ 26により基板 12が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得手段 52に入力される。検出位置情報取得手段 52は、入力された撮影画像データに基づいて基板 12の基準マーク 12aの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク 12aの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク 12aの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板 12の撮影画像データの 4つの角のうちの 1つの角のとしてもよいし、撮影画像データにおける予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク 12aのうちの 1つの基準マーク 12aの位置としてもよい。上記のように本実施形態においては、カメラ 26と検出位置情報取得手段 52とにより位置情報検出手段が構成されている

[0081] そして、上記のようにして取得された基準マーク 12aの検出位置情報は、検出位置情報取得手段 52から露光軌跡情報取得手段 54に出力される。

[0082] そして、露光軌跡情報取得手段 54において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の画像空間上の各マイクロミラー 38毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得手段 54には、各露光ヘッド 30の DMD36の各マイクロミラー 38の像が通過する位置を示す通過位置情報が各マイクロミラー 38毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ 14上の基板 12の設置位置に対する、各露光ヘッド 30の設置位置によって予め設定されているものであり、上記基準マーク位置情報および上記検出位置情報と同じ点を原点として、ベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図 6に、プレス工程などを経ていない理想的な形状の基板 12、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク 12aが予め設定された基準マーク位置情報 12bの示す位置に配置している基板 12と、所定のマイクロミラー 38の通過位置情報 12cとの関係を示す模式図を示す。

[0083] そして、露光軌跡情報取得手段 54においては、図 7に示すように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報 12dを結ぶ直線と各マイクロミラー 38の通過位置情報 12cを表わす直線との交点の座標値が求められる。つまり、図 7における X印の点の座標値が求められ、さらに、 X印とその X印に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報 12dとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報 12d のうちの一方の検出位置情報 12dと X印との距離と、他方の検出位置情報 12dと X 印との距離との比が求められる。具体的には、図 7における al : bl、 a2 : b2、 a3 : b3 および a4 : b4が露光軌跡情報として求められる。上記ようにして求められた比力変形後の基板 12上におけるマイクロミラー 38の露光軌跡を表わしていることになる。ここで、各基準マーク位置情報 12bを、下層のパターンの位置を示すものとして捉えた場合、求められた露光軌跡は、実際の露光の際の基板 12上の画像空間上におけるビームの露光軌跡を表わしていることになる。なお、たとえば、通過位置情報 12cが、図 8に示すように、検出位置情報 12dで囲まれる範囲外に位置する場合にも、図 8に示すように、検出位置情報 12dと X印との比が求められる。

[0084] そして、上記のようにして各マイクロミラー 38毎に求められた露光軌跡情報力露光点データ取得手段 56に入力される。

[0085] 露光点データ取得手段 56には、上述したようにラスターデータである露光画像データ Dがー時記憶されている。露光点データ取得手段 56は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づ、て、露光画像データ D力各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得する。

[0086] 具体的には、露光点データ取得手段 56に記憶される露光画像データ Dには、図 9 に示すように、上記基準マーク位置情報 12bが示す位置に対応した位置に配置された露光画像データ基準位置情報 12eが付されており、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報 12eを結ぶ直線を、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点の座標値が求められる。つまり、以下の式を満たすような点の座標値が求められる。なお、図 9におけるハッチング部分が露光すべき配線パターンの一例を表している。

[0087] al :bl =Al : Bl

a2 :b2=A2 : B2

a3 :b3=A3 : B3

a4 :b4=A4 : B4

そして、上記のようにして求められた点を結ぶ線 (データ読み出し軌跡またはデータ軌跡）上にある画素データ dが、実際にマイクロミラー 38の露光軌跡情報に対応した露光点データである。したがって、露光画像データ D上を上記直線が通過する点の画素データ dが露光点データとして取得される。なお、画素データ dとは露光画像データ Dを構成する最小単位のデータである。図 9の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図 10に示す。具体的には、図 10のハッチングされた部分の画素データが露光点画像データとして取得される。なお、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を結んだ直線が、露光画像データ D上に存在しない場合には、その直線上の露光点データは 0として取得される。

[0088] なお、上記のように露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を直線で結び、その直線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもよいし、図 1 1に示すように、上記点をスプライン補間などによって曲線で結び、その曲線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもょ、。上記のようにスプライン補間などによって曲線で結ぶようにすれば、より基板 12の変形に忠実な露光点データを取得することができる。また、上記スプライン補間などの演算方法に基板 12の材質の特性 (たとえば、特定の方向にしか伸縮しないなど）を反映するようにすれば、さらに、より基板 12の変形に忠実な露光点データを取得することができる。

[0089] そして、上記と同様にして、各マイクロミラー 38毎について複数の露光点データがそれぞれ取得され、その各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 5 8に出力される。

[0090] 一方、上記のように各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 58に出力されるとともに、移動ステージ 14が、再び上流側に所望の速度で移動させられる

[0091] そして、基板 12の先端がカメラ 26により検出されると（または、センサによって検出されたステージの位置力も基板 12の描画領域の位置が特定されると)、露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30の DMD36に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド 30は入力された制御信号に基づ、て DMD36のマイクロミラーをオン ·オフさせて基板 12を露光する。

[0092] なお、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30へ制御信号が出力される際には、基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ 14 の移動にともなって順次露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30に出力される力このとき、たとえば、図 12に示すように、各マイクロミラー 38毎に取得された m個の露光点データの列の各列から、各露光ヘッド 30の各位置に応じた露光点データを 1つずつ順次読み出して各露光ヘッド 30の DMD36に出力するようにしてもょ、し、図 12 に示すように取得された露光点データに 90度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図 13に示すように、基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に応じたフレームデータ l〜mを生成し、このフレームデータ l〜mを各露光ヘッド 30に順次出力するようにしてもよい。

[0093] そして、移動ステージ 14の移動にともなって順次各露光ヘッド 30に制御信号が出力されて露光が行われ、基板 12の後端力 Sカメラ 12により検出されると露光が終了する。

[0094] 上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10によれば、基板 12上の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク 12aを検出してその基準マーク 12aの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づ、て各マイクロミラー 38の露光軌跡情報を取得し、その各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報に対応した画素データ dを露光画像データ D力も露光点データとして取得するようにしたので、基板 12 の変形に応じた露光点データを取得することができ、基板 12の変形に応じた露光画像を基板 12上に露光することができる。したがって、たとえば、多層プリント配線板などにおける各層のパターンを、その各層の露光時の変形に応じて形成することができるので各層のパターンの位置合わせを行うことができる。

[0095] なお、上記説明にお、ては、プレス工程などにぉ、て変形した基板 12に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板 12に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー 38毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する、露光画像データ上における露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡に対応した複数の露光点データを露光画像データから取得するようにしてもょヽ。

[0096] また、上記のように各マイクロミラー 38毎の通過位置情報に基づいて予め露光点データ軌跡情報を露光画像データ上に設定し、その露光点データ軌跡に基づいて露光点データを取得する方法は、たとえば、何も露光画像が露光されていない基板上に最初に露光画像を露光する場合にも採用することができる。また、基板の変形に応じて露光画像データを変形させた場合にも、この方法を採用することができる。この方法を採用した場合、露光画像データを記憶するメモリのアドレスを露光点データ軌跡に沿って計算して露光点データを取得することができ、そのためアドレスの計算を容易に行うことができる。

[0097] また、たとえば、図 14Aに示すように、基板 12が傾いてステージ 14上に設置されている場合、この基板 12のエッジをカメラ 26によって検出し、マイクロミラー 38の通過位置情報 12cに対するエッジの傾きを取得し、この取得した傾きに基づいて、図 14B に示すように露光画像データ上に露光点データ軌跡情報（図 14B中の矢印）を設定し、この露光点データ軌跡情報上の露光点データを取得するようにしてもょ、。

[0098] さらに、たとえば、図 15に示すように、走査方向について基板 12が伸縮している場合には、その伸縮の程度に応じて、露光画像データ Dにおける 1つの画素データ dから取得する露光点データの数を変化させるようにしてもよい。具体的には、たとえば、上記のように走査方向に基板 12が伸縮し、検出位置情報 12dと通過位置情報 12cとが図 15に示すような関係となり、走査方向に隣接する検出位置情報 12dの間隔が、理想的な長さ Lの領域 Aと、基板 12が走査方向に伸びての上記間隔が長さ Lの 2倍となった領域 Bと、基板 12が走査方向に縮んで上記間隔が長さ Lの 1/2となった領域 Cとが存在する場合には、たとえば、図 16に示すように、領域 Aに対応する露光点データについては、 1つの画素データ dに対し 1つの露光点データを取得し、領域 Bに対応する露光点データについては、 1つの画素データ dに対して 2つの露光点データを取得し、領域 Cの露光点データについては、 2つの画素データに対して 1つの露光点データを取得するようにしてもよい。なお、図 16おける点線矢印は、各領域について取得する露光点データの数とその露光点データに対応する画素データ dとを示している。また、 2つの画素データに対して 1つの露光点データを取得する際には、 2つの画素データのうちの 1つの画素データを露光点データとして選択して取得するようにすればよい。なお、上記説明においては、基板 12が走査方向にのみ伸縮した場合における露光点データの取得方法を説明したが、上記のような場合に限らず、その他の方向にも基板 12が変形している場合においても、基板 12の検出位置情報 12 dで区切られた領域毎に、マイクロミラー 38の通過位置情報の長さが異なる場合には、上記と同様にその長さに応じて 1つの画素データ力取得する露光点データの数を変化させるようにしてもょ、。上記のように基板 12の伸縮に応じて露光点データの数を変化させるようにすれば、基板 12上の所望の位置に所望の露光画像を露光することがでさる。

[0099] なお、上記のように基板 12の伸縮に応じて取得する露光点データの数を加減させる場合には、図 17に示すように、各マイクロミラー 38の露光点データ軌跡情報（図 17 中の矢印）について、露光画像データ Dの画像空間上の走査方向について同じ箇所（図 17中の黒三角）の露光点データを加減するようにすることが望ま、。

[0100] 次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第 2の実施形態を用いた露光装置 25について詳細に説明する。露光装置 25の外観の概略構成については、図 1に示す本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置 10 と同様である。

[0101] 露光装置 25は、図 18に示すように、ラスター変換処理部 50と、移動ステージ 14のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段 80と、ずれ情報取得手段 80に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段 82と、露光軌跡情報取得手段 82により取得された各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報とラスター変換処理部 50から出力されたラスターデータの露光画像データに基づ!/、て、各マイクロミラー 38毎の露光点データを取得する露光点データ取得手段 84と、露光ヘッド制御部 58と、移動機構 60と、本露光装置全体を制御するコント口ーラ 70とを備えている。なお、図 18において図 5と同じ符号を付している構成については、上記本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置 10とその作用は同様である。

[0102] 次に、露光装置 25の作用について図面を参照しながら説明する。

[0103] まず、露光点データ取得手段 84にラスターデータを一時記憶するまでの作用については、上記第 1の実施形態を用、た露光装置 10と同様である。

[0104] そして、次に、ずれ情報取得手段 80によって移動ステージ 14の上記ずれ情報が取得される。ずれ情報とは、図 19に示すように、予め設定されたステージ移動方向に対する、実際の移動ステージ 14の移動方向のずれを示したものである。具体的には、図 19に示すように、予め設定されたステージ移動方向への移動軌跡に対する実際の移動ステージ 14の移動軌跡の、ステージ移動方向に直交する方向にっ、てのずれ量を所定の間隔で取得したものである。図 19に示す点線矢印の向きと長さがずれ量を示すものである。

[0105] ここで、上記のように移動ステージ 14の移動軌跡にずれがある場合、露光の際の各マイクロミラー 38の基板 12上における実際の露光軌跡は、図 20に示すように、予め設定された各マイクロミラー 38の通過位置情報 12cに対して上記ずれ量に応じてずれること〖こなる。したがって、各マイクロミラー 38の実際の露光軌跡に対応した露光点データを取得する必要がある。また、図 20に示すように、マイクロミラー mlとマイクロミラー m2とは、基板 12上における同じ位置を通過するものである力上記のような移動ステージ 14の移動軌跡にずれがあると、これらの実際の露光軌跡は位相がずれたものになる。したがって、これらの位相ずれも考慮して露光点データを取得する必要がある。

[0106] そこで、露光装置 25においては、上記のような各マイクロミラー 38の露光軌跡のずれ量に応じた露光点データが取得される。具体的には、予め移動ステージ 14のずれ量が計測され、その計測されたずれ量が、上記のようにしてずれ量取得手段 80によつて取得される。そして、ずれ量取得手段 80は、取得したずれ量を露光軌跡情報取得手段 82に出力する。ずれ量の計測方法としては、たとえば、 ICゥエーハ 'ステツパ一装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ 14に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面にお、て反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ 14の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。

[0107] 露光軌跡情報取得手段 82には、各マイクロミラー 38毎の通過位置情報 12cが設定されており、露光軌跡情報取得手段 82は、入力されたずれ量と各マイクロミラー 3 8毎の通過位置情報 12cに基づ、て、露光の際の各マイクロミラー 38毎の基板 12上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。なお、上記通過位置情報 12cについては、上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10の説明と同様である。

[0108] そして、その各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報を露光点データ取得手段 84に出力する。そして、露光点データ取得手段 84は、各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報に対応する露光点データを、一時記憶された露光画像データ D力も取得する。

[0109] 具体的には、図 21に示す露光画像データ Dにおいて曲線で示された露光軌跡情報 M 1 , M2上に配置された露光点データ dが取得される。図 21の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図 22に示す。具体的には、図 22のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図 21に示す露光軌跡情報 Mlは、図 20に示すマイクロミラー mlの露光軌跡情報であり、図 21に示す露光軌跡情報 M 2は、図 20に示すマイクロミラー m2の露光軌跡情報である。また、露光画像データ D は、通過位置情報 12cと相対的な位置関係を有しており、露光画像データ Dの各画素データ dの配置の基準となる原点と、上記通過位置情報 12cの原点とは一致しているものとする。

[0110] そして、上記と同様にして、各マイクロミラー 38毎について複数の露光点データがそれぞれ取得され、その各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 5 8に出力される。

[0111] 一方、上記のように各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 58に出力されるとともに、移動ステージ 14が、上流側に所望の速度で移動させられる。

[0112] そして、基板 12の先端力 Sカメラ 26により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30の DMD36に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド 30は入力された制御信号に基づいて DMD 36のマイクロミラーをオン ·オフさせて基板 12を露光する。

[0113] 上記第 2の実施形態を用いた露光装置 25によれば、予め設定された基板 12の所定相対移動方向に対する露光画像の露光の際の基板 12の実相対移動方向のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に対応した露光点データを露光画像データ Dから取得することができるので、基板 12の移動方向のずれに影響されることなく基板 12上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

[0114] 次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第 3の実施形態を用いた露光装置 35について詳細に説明する。

[0115] 露光装置 35は、図 23に示すように、上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10の構成と上記第 2の実施形態を用いた露光装置 25の構成とを両方兼ね備えたものである

[0116] 露光装置 35においては、上述のようにして検出位置情報取得手段 52において取得された基準マーク 12aの検出位置情報と、上述のようにしてずれ情報取得手段 80 にお!/ヽて取得されたずれ情報とが、露光軌跡情報取得手段 86に入力される。

[0117] そして、露光軌跡情報取得手段 86は、入力された上記検出位置情報と上記ずれ情報とに基づいて、露光の際の各マイクロミラー 38毎の基板 12上の画像空間上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。

[0118] 具体的には、露光軌跡情報取得手段 86において、上記第 1の実施形態と同様に、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報 12d同士を結ぶ直線と各マイクロミラー 38の通過位置情報 12cを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報 12dとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報 12dのうちの一方の検出位置情報 12dと上記交点との距離と、他方の検出位置情報 12dと上記交点との距離との比が求められる。

[0119] 一方、露光軌跡情報取得手段 86は、上記第 2の実施形態と同様に、入力されたずれ量と各マイクロミラー 38毎の通過位置情報 12cに基づいて、図 21に曲線で示されるような、各マイクロミラー 38毎の基板 12上における仮露光軌跡情報を取得する。

[0120] そして、露光軌跡情報取得手段 86は、上記のようにして求められた比と仮露光軌跡情報とを露光軌跡情報として露光点データ取得手段 88に出力する。

[0121] そして、露光点データ取得手段 56は、上記第 1の実施形態と同様に、図 24に示すように、露光画像データ Dにおいて、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報 12eを結ぶ直線を、入力された比に基づ!/ヽて分割した点を求めた後、その点を結ぶ直線を求め、その直線の走査方向に対する傾き分だけ仮露光軌跡情報を傾けて露光軌跡情報を表わす曲線を求め、その曲線上における画素データ dを露光点データとして取得する。つまり、図 22のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図 22における A1 : B1、 A2 : B2は、露光軌跡情報取得手段 86から入力された比が al :bl、 a2 :b2である場合に、 al :b l =Al : Bl、a2 :b2=A2 : B2を満たすような比である。

[0122] そして、上記と同様にして、各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報を表わす曲線が、上記と同様にして求められ、各曲線上における画素データ dが各マイクロミラー 38 毎の露光点データとして取得される。 [0123] そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 58に出力される。

[0124] 一方、上記のように各マイクロミラー 38毎の露光点データが露光ヘッド制御部 58に出力されるとともに、移動ステージ 14が、上流側に所望の速度で移動させられる。

[0125] そして、基板 12の先端力 Sカメラ 26により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30の DMD36に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド 30は入力された制御信号に基づいて DMD

36のマイクロミラーをオン ·オフさせて基板 12を露光する。

[0126] 次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第 4の実施形態を用いた露光装置 45について詳細に説明する。露光装置 45の外観の概略構成については、図 1に示す本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置 10 と同様である。

[0127] 露光装置 45は、図 25に示すように、上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10の構成に加えてさらに、基板 12の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段 90を備えている。そして露光点データ取得手段 91は、速度変動情報取得手段 90により取得された速度変動情報に基づいて、移動ステージ 14の移動の速度が遅、ほど各画素データから取得される露光点データの数が多くなるように各画素データ力も露光点データを取得するものである。なお、図 25において図 5と同じ符号を付している構成については、上記第 1の実施形態を用いた露光装置 10とその作用は同様である。

[0128] また、上記基板 12の移動の速度変動情報とは、本実施形態においては、移動ステージ 14の移動機構 60の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。

[0129] 図 26は、実際の露光の際の基板 12上における所定のマイクロミラー 38の露光軌跡とそのマイクロミラー 38により露光点を露光するタイミングとを表わしたものである。なお、図 26における点線矢印が、移動ステージの速度変動がない場合におけるマイクロミラー 38の露光軌跡と露光タイミングとを表わしたものであり、実線矢印が、移動ステージの速度変動がある場合におけるマイクロミラー 38の露光軌跡と露光タイミングを表わしたものである。そして、直線上において矢印を付した部分がマイクロミラー 38による露光点の露光タイミングを示している。なお、図 26においては、説明の都合上、 2つの露光軌跡を別々の直線で示している力これらの露光軌跡は同一のマイク口ミラーの露光軌跡である。そして、図 26における P1〜P8は、基板 12上に露光される画像を構成する各画素を示したものである。また、露光タイミングと移動ステージ 14 とは、所望の解像度で基板 12上に露光画像が露光されるように予め相対的な関係をもって設定されて、るものである。

[0130] 図 26に示すように、移動ステージ 14の速度変動がない場合には、各画素 P1〜P8 は、マイクロミラー 38によって 1つの露光点により露光される。つまり、 1つの画素に対して、マイクロミラー 38が露光する露光点の数は 1つである。

[0131] 一方、移動ステージ 14の速度変動がある場合には、各画素 P1〜P8を露光する露光点の数は、その速度変動に応じて異なる。具体的には、 1つの画素の幅を移動ステージ 14が移動する間に露光タイミングが 2回以上ある場合には、つまり相対的に遅 V、速度で移動ステージ 14が移動して露光される領域は、各画素は 2以上の露光点によって露光されることになる。そして、 1つの画素の幅を移動ステージ 14が移動する間に露光タイミングが全くない場合には、つまり相対的に速い速度で移動ステージ 14が移動して露光される領域は、各画素は露光されな!、。

[0132] 図 26においては、画素 P1,P5を露光する際には、移動ステージ 14は相対的に遅い速度で移動し、画素 P4,P8を露光する際には、移動ステージ 14は相対的に早い速度で移動し、画素 P2,P3,P6,P7を露光する際には、移動ステージ 14は予め設定された一定の速度で移動して、る。

[0133] したがって、上記のような移動ステージの速度変動に応じて露光点データを取得する必要がある。

[0134] そこで、露光点データ取得手段 91は、露光画像データ Dの 1つの画素データ dから速度変動情報取得手段 90により取得された速度変動情報に応じた数の露光点データを取得する。速度変動情報とは、具体的には、たとえば、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ 14のステージ移動方向への移動距離の変動情報であり、速度変動情報取得手段 90に予め設定される。

[0135] そして、上記のように速度変動情報取得手段 90に予め設定された速度変動情報力露光点データ取得手段 91に出力され、露光点データ取得手段 91は、たとえば、移動ステージ 14の移動速度に変化がない場合、つまり速度変動情報が予め設定された移動距離と同じである場合には、図 27に点線矢印で示すように、 1つの画素データ dについて 1つの露光点データ pn (nはたとえば 1〜8)を取得する。一方、移動ステージ 14の移動速度に変化がある場合、つまり速度変動情報が予め設定された移動距離よりも短いもしくは長い場合には、露光画像データ Dの 1つの画素データ dからその速度変動に応じた数の露光点データを取得する。たとえば、図 26の実線矢印で示したような速度変動がある場合には、図 27の実線矢印で示すように、画素 P1を露光するための露光点データについては、 1つの画素データ dから 3つの露光点データ piを取得し、同様に、画素 P5を露光するための露光点データについては、 1つの画素データ dから 3つの露光点データ p5を取得する。また、画素 P4および画素 P8 を露光するための露光点データは取得しない。そして、画素 P2,P3,P6,P7を露光するための露光データについては、 1つの画素データ dから 1つの露光点データ p2,p3, p6,p7を取得する。つまり、図 26に示すような速度変動がある場合には、露光点データ点データとしては、 3つの露光点データ piと、 1つの露光点データ p2、 p3と、 3つの露光点データ ρ5と、 1つの露光点データ p6、 p7と力 S取得される。

[0136] そして、上記のようにして取得された露光点データが移動ステージ 14の移動に応じて順次露光ヘッド制御部 58に出力され、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30のマイクロミラー 38にその露光点データに応じた制御信号が出力され、その制御信号に応じてマイクロミラーがオン'オフされて基板 12に露光点が露光される。

[0137] 上記第 4の実施形態を用いた露光装置 45によれば、予め設定された基板 12の所定相対移動速度に対する露光画像の露光の際の基板 12の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、基板 12の実相対移動速度が相対的に遅い基板 12上の露光領域ほど各画素データ dから取得される露光点データ pnの数が多くなるように各画素データ dから露光点データ pnを取得するようにしたので、移動ステージ 14の移動速度のムラに影響されることなぐ基板 12上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

[0138] なお、上記第 4の実施形態の露光装置 45において、検出位置情報取得手段 52により検出位置情報を取得し、その検出位置情報に基づ!、て露光軌跡情報取得手段

54にお、て露光軌跡情報を取得し、露光点データ取得手段 56にお、て上記露光軌跡情報に応じた画素データを特定するまでの作用については、上記第 1の実施形態の露光装置 10と同様である。そして、上記のようにして特定された画素データ dから露光点データを読み出す際に、上記のような方法を採用することができる。

[0139] また、上記第 2、第 3の実施形態の露光装置においても、上記と同様の方法を用いて露光点データを取得するようにすることができる。その場合にぉ、ても露光軌跡情報に応じた画素データを特定するまでの作用については、上記第 2、第 3の実施形態の露光装置と同様である。

[0140] また、上記第 2の実施形態の露光装置において、上記第 4の実施形態の露光装置のように速度変動情報に応じて取得する露光点データの数を変化させるようにすれば、たとえば、図 28Aに示すような移動ステージ 14の蛇行を補正できるだけでなぐ図 28Bに示すようなョーイングも考慮した補正、つまり基板の移動姿勢を考慮した補正を行うことができる。なお、ョーイングとは、図 28Aに示すような移動ステージ 14の蛇行に、移動ステージ 14の回転が加わったものである。上記のような移動ステージ 1 4の回転により、各マイクロミラー 38の基板 12上の像の位置が変化するとともに、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ 14のステージ移動方向への移動距離が変化することになるので、つまり上記回転により移動ステージ 14の局所的速度変動が生じるので、上記像の位置変動および速度変動情報に応じて露光点データの数を変化させるようにすればよい。なお、蛇行成分を 0として回転成分のみを考慮してちよい。

[0141] たとえば、図 29Aに示すように、ステージ 14 (基板 12)がョーイングした場合、点 B の移動距離に応じて露光タイミングを決定した場合、点 Aの移動距離は一定ではないので、図 29Bに示すように、点 Aを通過する露光軌跡上の露光点の間隔が一定でなくなる。したがって、点 Aを通過する露光点データ軌跡情報上の露光点データの読み出しピッチを点 Aの移動距離に応じて変化させるようにすればよい。

[0142] そして、上記のように露光点データ軌跡上の露光点データの読み出しピッチを変化させる場合には、図 29に示すように、各マイクロミラー 38の露光点データ軌跡情報（図 30中の矢印）上について、時間的に同じ箇所（図 30中の黒三角）で読み出しピッチを加減することが望まし、。

[0143] また、上記第 1〜第 4の実施形態を全て用いた露光装置とすることもできる。そのように構成した場合における露光装置の作用について、図 31および図 32のフローチヤートを用いて簡単に説明する。なお、詳細な作用については上記説明と同様である。

[0144] まず、露光軌跡情報取得手段 54,に各露光ヘッド 30の DMD36の各マイクロミラー 38の通過位置情報が入力設定され (S 10)、移動ステージ 14のずれ情報および速度変動情報がそれぞれずれ情報取得手段、速度変動情報取得手段 90に入力設定される（S12)。そして、データ作成装置 40において作成された配線パターンを表すベクトルデータがラスター変換処理部 50に入力され、ラスター変換処理部 50においてラスターデータに変換されて露光点データ取得手段 56に出力され、露光点データ取得手段 56によって露光画像データとして一時記憶される（S 14)。

[0145] 一方、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部 50に入力されると、露光装置 10全体の動作を制御するコントローラ 70が移動機構 60に制御信号を出力し、移動機構 60はその制御信号に応じて移動ステージ 14を図 1に示す位置力もガイド 20に沿ってー且上流側の所定の初期位置まで移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる（S 16)。

[0146] そして、上記のようにして移動する移動ステージ 14上の基板 12に基準マーク 12a 力 Sカメラ 26によって撮影され、その撮影画像データに基づ、て検出位置情報取得手段 52によって検出位置情報が取得される（S18)

そして、上記のようにして取得された検出位置情報が、検出位置情報取得手段 52 から露光軌跡情報取得手段に出力されるとともに、ずれ情報取得手段において設定されたずれ情報が露光軌跡情報取得手段に出力される。そして、露光軌跡情報取得手段において、基板 12上における各マイクロミラー 38の露光軌跡情報が算出されるが、具体的には、まず、第 1の実施形態の露光装置において説明したように、走査方向に直交する方向につ！ヽて隣接する検出位置情報 12dを結ぶ直線と各マイクロミラー 38の通過位置情報 12cを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報 12dとの距離の比が求められる。具体的には、図 7における al :bl、 a2 :b2、 &3 :1)3ぉょび&4 :1)4が露光軌跡情報として求められる。なお、上記比は、上記のようにして取得された検出位置情報力もずれ量を差し引いた後に求められる。（S20)。

[0147] また、露光軌跡情報取得手段においては、上記のような比が算出されるとともに、入力されたずれ量と各マイクロミラー 38の通過位置情報とに基づいて各マイクロミラ一 38毎の仮露光軌跡情報が求められ、この仮露光軌跡情報と上記比とが露光軌跡情報として取得され、露光点データ取得手段に出力される。なお、比と仮露光軌跡を求める順番は逆でもよい。そして、露光点データ取得手段においては、図 22で説明したようにして露光軌跡情報に対応する曲線が求められ、露光画像データ Dにおける上記曲線上の画素データが露光すべき画素データとして特定される（S24)。そして、露光点データ取得手段には、速度変動情報取得手段において取得された速度変動情報が入力され、上記第 4の実施形態の露光装置において説明したように、上記速度変動情報に応じた数の露光点データが露光画像データにおける各画素データカ取得される（S26)。なお、このとき速度変動情報だけでなぐ基板 12の走査方向への伸縮も考慮して、つまり、基板 12の検出位置情報 12dで区切られた領域毎のマイクロミラー 38の通過位置情報の長さも考慮して露光点データの数を決定することが望ましい。

[0148] そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データの列に 9 0度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などが施され、図 13に示すように、基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に応じたフレームデータ l〜mが生成される（S 28)。そして、このフレームデータ l〜mが移動ステージ 14の移動に応じて各露光へッド 30に順次出力され、各露光ヘッド 30によりフレームデータに基づいた露光画像が基板 12上に露光される（S30)。そして、全てのフレームデータが露光ヘッド 30に入力され、露光が終了すると再び移動ステージ 14は初期位置まで移動する（S32)。そして、次の基板 12がある場合にはその基板 12に交換された後、再び S16からの処理が行われ、次の基板 12がな、場合にはそのまま終了する（S34)。

[0149] なお、上記実施形態における露光点データ取得手段は描画点データ軌跡取得手段と描画点データ取得手段との両方を含んでいるものとする。 [0150] また、上記実施形態では、空間光変調素子として DMDを備えた露光装置にっ、て説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することちできる。

[0151] また、上記実施形態では、 V、わゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプ (またはィンナードラムタイプ)の露光装置としてもよ、。

[0152] また、上記実施形態の露光対象である基板 12は、プリント配線基板だけでなぐフラットパネルディスプレイの基板であってもよい。この場合、パターンは、液晶ディスプレイなどのカラーフィルタ、ブラックマトリックス、 TFTなどの半導体回路などを構成するものであってもよい。また、基板 12の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよ！/、。

[0153] また、本実施形態における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。

[0154] また、本実施形態における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよ!、し、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。

[0155] また、本実施形態においては、描画軌跡の距離が長いほど描画点データの数を多くし、距離が短いほど描画点データの数を少なくすることによって、描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにしてもよ、。

[0156] また、本実施形態における画像空間は、基板上に描画すべき又は描画された画像を基準とした座標空間であってもよ、。

[0157] なお、上記のように、本実施形態における描画点形成領域の描画軌跡情報は、基板座標空間における描画軌跡と、画像座標空間における描画軌跡の両方でとらえることができる。また、基板座標と画像座標とが異なる場合がある。

[0158] また、上記実施形態においては、 2つ以上のマイクロミラー（ビーム）毎に 1つの露光点データ軌跡を取得するようにしてもよい。たとえば、マイクロレンズアレイを構成する 1つのマイクロレンズによって集光される複数のビーム毎に露光点データ軌跡を求めることがでさる。

[0159] また、各露光点データ軌跡情報に、データ読み出しピッチ情報を付随させるようにしてもよい。この場合、ピッチ情報にサンプリングレート (描画点データを切り替える最小のビーム移動距離 (補正がな、場合に全ビーム共通）と画像の解像度 (画素ピッチ )との比）が含まれていてもよい。また、露光軌跡の長さ補正に伴う露光点データの加減の情報を、ピッチの情報に含ませるようにすることができる。また、露光点データの加減の情報とともに、加減の位置をピッチ情報に含ませるようにし、露光軌跡に付随させるようにしてもよい。また、各露光点データ軌跡情報として、各フレームに対応するデータ読み出しアドレス (X, y) (時系列順の読み出しアドレス）を全て持たせておいてもよい。

[0160] また、画像データ上におけるデータ読み出し軌跡に沿った方向と、メモリ上におけるアドレスの連続方向とを一致させるようにしてもよい。たとえば、図 9の例では、横方向がアドレスの連続方向となるようにメモリに画像データが格納される。この場合、ビーム毎に画像データを読み出す処理を高速に行うことができる。なお、メモリとしては、 DRAMを用いることができる力格納されたデータがアドレスが連続する方向に順次高速に読み出されうるものであれば如何なるものを使用してもよい。たとえば、 SR AM (Static Random Access Memory)などのランダムアクセスでも高速なものを用いることもできるが、この場合、メモリ上のアドレスの連続方向を、露光軌跡に沿つた方向に定義し、かつ、その連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるようにしてもよい。また、メモリは、アドレスの連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるように予め配線またはプログラムされたものであってもよい。また、アドレスの連続方向を、連続する複数ビット分がまとめて読み出される経路に沿った方向としてもよい。

Claims

請求の範囲

[1] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、

前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、

該取得した描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記画像データから取得することを特徴とする描画点データ取得方法。

[2] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、

前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、

該取得した描画軌跡情報に基づいて前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、

[3] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法にぉ、て、

前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、

該取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、

[4] 前記描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出して該基準マークおよび Zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、

該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 2または 3記載の描画点データ取得方法。

[5] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

該取得したずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 2または 3記載の描画点データ取得方法。

[6] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

該取得したずれ情報および前記検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 4記載の描画点データ取得方法。

[7] 前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させることを特徴とする請求項 2から 6いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[8] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、

該取得した速度変動情報に基づ!、て、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データ力前記描画点データを取得することを特徴とする請求項 1から 7いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[9] 複数の前記描画点形成領域によって前記描画を行う際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、

前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うことを特徴とする請求項

1から 8いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[10] 前記描画点形成領域が空間光変調素子によって形成されるビームスポットであることを特徴とする請求項 1から 9いずれ力 1項記載の描画点データ取得方法。

[11] 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随していることを特徴とする請求項 1から 10いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[12] 複数の描画点形成領域を備え、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 1から 11いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[13] 前記複数の描画点形成領域が 2次元状に配列されていることを特徴とする請求項 1 力 12いずれか 1項記載の描画点データ取得方法。

[14] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、

該取得した描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記画像データから取得し、

該取得した描画点データに基づいて前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成することを特徴とする描画方法。

[15] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、

前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、該取得した描画軌跡情報に基づいて前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、

[16] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、

[17] 前記描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出して該基準マークおよび Zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、

該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 15または 16記載の描画方法。

[18] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

該取得したずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 15または 16記載の描画方法。

[19] 予め設定された前記基板の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記基板の実相対移動方向および zまたは移動姿勢のずれ情報を取得し、

該取得したずれ情報および前記検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 17記載の描画方法。

[20] 前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させることを特徴とする請求項 15から 19いずれか 1項記載の描画方法。

[21] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、

該取得した速度変動情報に基づ!、て、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データ力前記描画点データを取得することを特徴とする請求項 14から 20いずれか 1項記載の描画方法。

[22] 複数の前記描画点形成領域によって前記描画を行う描画方法であって、

14から 21いずれか 1項記載の描画方法。

[23] 前記描画点形成領域が空間光変調素子によって形成されるビームスポットであることを特徴とする請求項 14から 22いずれか 1項記載の描画方法。

[24] 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随して、ることを特徴とする請求項 14から 23 、ずれか 1項記載の描画方法。

[25] 複数の描画点形成領域を備え、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項 14から 24いずれか 1項記載の描画方法。

[26] 複数の描画点形成領域が 2次元状に配列されていることを特徴とする請求項 14から 25 、ずれか 1項記載の描画方法。

[27] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、

前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、

該描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする描画点データ取得装置。

[28] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、

前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、

該描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、

[29] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置にぉ、て、

前記描画対象上の画像空間における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、

[30] 前記基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出して該基準マークおよび zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、

前記描画軌跡情報取得手段が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項

28または 29記載の描画点データ取得装置。

[31] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、

前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 28 または 29記載の描画点データ取得装置。

[32] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、

前記描画点軌跡取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 30記載の描画点データ取得装置。

[33] 前記描画点データ取得手段が、前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させるものであることを特徴とする請求項 28から 32いずれ力 1項記載の描画点データ取得装置。

[34] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、

前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項 27から 33いずれか 1項記載の描画点データ取得装置。

[35] 前記描画点形成領域を複数有し、

前記描画点データ取得手段が、前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うものであることを特徴とする請求項 27から 34いずれか 1項記載の描画点データ取得装置。

[36] 前記描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えたことを特徴とする請求項

27から 35いずれか 1項記載の描画点データ取得装置。

[37] 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随して、ることを特徴とする請求項 27から 36 、ずれか 1項記載の描画点データ取得装置

[38] 複数の描画点形成領域を備え、

前記描画点データ軌跡情報取得手段が、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 27から 37いずれか 1項記載の描画点データ取得装置。

[39] 複数の描画点形成領域が 2次元状に配列されていることを特徴とする請求項 27から 381/、ずれか 1項記載の描画点データ取得装置。

[40] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、前記画像の元の画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、

該描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記画像データから取得する描画点データ取得手段と

該描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づ!/、て前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。

[41] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、

該描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて前記描画点データ軌跡に対応した複数の前記描画点データを前記画像データから取得する描画点データ取得手段と、

[42] 描画点データに基づ、て描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、

[43] 前記基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび Zまたは基準部位を検出して該基準マークおよび Zまたは基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、

41または 42記載の描画装置。

[44] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記基板の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、

前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 41 または 42記載の描画装置。

[45] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および Zまたは移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および Zまたは移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、

前記描画点軌跡取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 43記載の描画装置。

[46] 前記描画点データ取得手段が、前記描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させるものであることを特徴とする請求項 41から 45いずれか 1項記載の描画装置。

[47] 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、

前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項 40から 46いずれか 1項記載の描画装置

[48] 前記描画点形成領域を複数有し、

前記描画点データ取得手段が、前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うものであることを特徴とする請求項 40から 47いずれか 1項記載の描画装置。

[49] 前記描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えたことを特徴とする請求項

40から 481/ヽずれか 1項記載の描画装置。

[50] 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随して、ることを特徴とする請求項 49から 49 、ずれか 1項記載の描画装置。

[51] 複数の描画点形成領域を備え、

前記描画点データ軌跡情報取得手段が、 2つ以上の描画点形成領域毎に 1つの描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項 40から 50いずれか 1項記載の描画装置。

[52] 複数の描画点形成領域が 2次元状に配列されていることを特徴とする請求項 40から 51いずれか 1項記載の描画装置。