JP4919378B2 - 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents
描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4919378B2 JP4919378B2 JP2005284860A JP2005284860A JP4919378B2 JP 4919378 B2 JP4919378 B2 JP 4919378B2 JP 2005284860 A JP2005284860 A JP 2005284860A JP 2005284860 A JP2005284860 A JP 2005284860A JP 4919378 B2 JP4919378 B2 JP 4919378B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drawing point
- point data
- data
- exposure
- locus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
- G03F7/70291—Addressable masks, e.g. spatial light modulators [SLMs], digital micro-mirror devices [DMDs] or liquid crystal display [LCD] patterning devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70491—Information management, e.g. software; Active and passive control, e.g. details of controlling exposure processes or exposure tool monitoring processes
- G03F7/70508—Data handling in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. handling pattern data for addressable masks or data transfer to or from different components within the exposure apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Image Generation (AREA)
Description
a2:b2=A2:B2
a3:b3=A3:B3
a4:b4=A4:B4
そして、上記のようにして求められた点と、マイクロミラー38のビーム始点位置情報およびビーム終点位置情報の露光画像データ上への投影点とを結ぶ直線が、基板12の歪みも考慮したマイクロミラー38の露光点データ軌跡である。
12 基板
12a 基準マーク
12c 通過位置情報
12d 検出位置情報
14 移動ステージ
18 設置台
20 ガイド
22 ゲート
24 スキャナ
26 カメラ
30 露光ヘッド
32 露光エリア
36 DMD
38 マイクロミラー(描画点形成部)
41 露光点データ軌跡取得手段
42 理想露光点データ軌跡取得手段(理想描画点データ軌跡取得手段)
43 理想ミラーデータ取得手段(理想描画点データ取得手段)
44 マージンデータ付加手段
52 ミラーデータ取得手段(描画点データ取得手段)
Claims (14)
- 描画点データに基づいて描画点を形成する複数の描画点形成部を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して前記基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法において、
前記基板上を前記各描画点形成部が通過する通過軌跡を、前記画像を表す画像データの座標系に投影した前記各描画点形成部の描画点データ軌跡を取得し、
該描画点データ軌跡が延びる方向について前記画像データの座標系における座標が同じ位置を前記各描画点データ軌跡の読出開始位置とし、
前記各描画点データ軌跡毎について前記読出開始位置から前記各描画点データ軌跡に沿って前記画像データを順次読出して前記各描画点形成部毎の描画点データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法。 - 前記描画点データ軌跡の配列方向に沿って順番に前記各描画点データ軌跡毎の描画点データを取得することを特徴とする請求項1記載の描画点データ取得方法。
- 前記各描画点形成部毎の描画点データを取得した後、該各描画点形成部毎の各描画点データ列の先頭部分と後尾部分に、各描画点データ列についてそれぞれ所定のデータ数のマージンデータを付加し、
該マージンデータが付加された各描画点データ列から前記描画点データ軌跡に対応する前記描画点データおよび前記マージンデータの一部を切り出して読み出すことによって前記各描画点形成部毎の描画点データを取得することを特徴とする請求項1または2記載の描画点データ取得方法。 - 複数の前記描画点データ軌跡が、前記画像データを構成する同一の画素データ上に位置する場合において、
前記複数の描画点データ軌跡を代表する、該複数の描画点データ軌跡の数よりも少ない、少なくとも1つの代表描画点データ軌跡を取得し、
該取得した代表描画点データ軌跡に沿って前記読出開始位置から前記画像データを複数回読み出すことによって前記複数の描画点データ軌跡に対応する複数の描画点形成部の前記描画点データをそれぞれ取得することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の描画点データ取得方法。 - 前記複数の描画点形成部を2次元状に配置することを特徴とする請求項1から4いずれか1項記載の描画点データ取得方法。
- 複数の描画点形成部からなる描画点形成部列を前記移動方向に対し、所定の傾斜角だけ傾けることを特徴とする請求項1から5いずれか1項記載の描画点データ取得方法。
- 請求項1から6いずれか1項記載の描画点データ取得方法を用いて描画点データを取得し、該取得した描画点データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
- 描画点データに基づいて描画点を形成する複数の描画点形成部を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して前記基板上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置において、
前記基板上を前記各描画点形成部が通過する通過軌跡を、前記画像を表す画像データの座標系に投影した前記各描画点形成部の描画点データ軌跡を取得する描画点データ軌跡取得手段と、
前記描画点データ軌跡が延びる方向について前記画像データの座標系における座標が同じ位置を前記各描画点データ軌跡の読出開始位置とし、前記各描画点データ軌跡毎について前記読出開始位置から前記各描画点データ軌跡に沿って前記画像データを順次読出して前記各描画点形成部毎の描画点データを取得する理想描画点データ取得手段を備えたことを特徴とする描画点データ取得装置。 - 前記理想描画点データ取得手段が、前記描画点データ軌跡の配列方向に沿って順番に前記各描画点データ軌跡毎の描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項8記載の描画点データ取得装置。
- 前記理想描画点データ取得手段によって取得された前記各描画点形成部毎の描画点データ列の先頭部分と後尾部分に、各描画点データ列についてそれぞれ所定のデータ数のマージンデータを付加するマージンデータ付加手段と、
該マージンデータ付加手段によりマージンデータが付加された各描画点データ列から前記描画点データ軌跡に対応する前記描画点データおよび前記マージンデータの一部を切り出して読み出すことによって前記各描画点形成部毎の描画点データを取得する描画点データ取得手段とをさらに備えたことを特徴とする請求項8または9記載の描画点データ取得装置。 - 複数の前記描画点データ軌跡が、前記画像データを構成する同一の画素データ上に位置する場合において、前記複数の描画点データ軌跡を代表する、該複数の描画点データ軌跡の数よりも少ない、少なくとも1つの代表描画点データ軌跡を取得する理想代表描画点データ軌跡取得手段をさらに備え、
前記理想描画点データ取得手段が、前記理想代表描画点データ軌跡取得手段によって取得された代表描画点データ軌跡に沿って前記読出開始位置から前記画像データを複数回読み出すことによって前記複数の描画点データ軌跡に対応する複数の描画点形成部の前記描画点データをそれぞれ取得するものであることを特徴とする請求項8から10いずれか1項記載の描画点データ取得装置。 - 前記複数の描画点形成部が2次元状に配置されていることを特徴とする請求項8から11いずれか1項記載の描画点データ取得装置。
- 複数の描画点形成部からなる描画点形成部列が前記移動方向に対し、所定の傾斜角だけ傾けられていることを特徴とする請求項8から12いずれか1項記載の描画点データ取得装置。
- 請求項8から13いずれか1項記載の描画点データ取得装置と、
前記描画点データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005284860A JP4919378B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
KR1020087010025A KR101356184B1 (ko) | 2005-09-29 | 2006-09-25 | 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치 |
PCT/JP2006/319620 WO2007037452A1 (en) | 2005-09-29 | 2006-09-25 | Drawing point data obtainment method and apparatus |
US11/992,772 US20080205744A1 (en) | 2005-09-29 | 2006-09-25 | Drawing Point Data Obtainment Method and Apparatus |
TW095135684A TW200745766A (en) | 2005-09-29 | 2006-09-27 | Drawing point data obtainment method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005284860A JP4919378B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007094126A JP2007094126A (ja) | 2007-04-12 |
JP4919378B2 true JP4919378B2 (ja) | 2012-04-18 |
Family
ID=37899869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005284860A Expired - Fee Related JP4919378B2 (ja) | 2005-09-29 | 2005-09-29 | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080205744A1 (ja) |
JP (1) | JP4919378B2 (ja) |
KR (1) | KR101356184B1 (ja) |
TW (1) | TW200745766A (ja) |
WO (1) | WO2007037452A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5000948B2 (ja) * | 2006-08-17 | 2012-08-15 | 富士フイルム株式会社 | 描画位置測定方法および装置並びに描画方法および装置 |
JP6175253B2 (ja) * | 2013-03-06 | 2017-08-02 | 株式会社Screenホールディングス | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
US9395631B2 (en) * | 2014-04-01 | 2016-07-19 | Applied Materials, Inc. | Multi-beam pattern generators employing yaw correction when writing upon large substrates, and associated methods |
CN107203098B (zh) * | 2017-03-24 | 2019-08-06 | 无锡影速半导体科技有限公司 | 一种直写曝光光路系统及其一次性直写曝光方法 |
CN109656101B (zh) * | 2018-12-07 | 2021-04-02 | 东莞市多普光电设备有限公司 | 一种数字微镜倾斜扫描的数据处理方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4230566B2 (ja) * | 1998-07-21 | 2009-02-25 | 東芝ソリューション株式会社 | 欠陥統合処理装置および欠陥統合処理方法 |
JP4324645B2 (ja) * | 2001-08-21 | 2009-09-02 | 株式会社オーク製作所 | 多重露光描画装置および多重露光描画方法 |
GB2403003B (en) * | 2003-06-19 | 2006-06-07 | Dek Int Gmbh | Inspection system for and method of inspecting deposits printed on workpieces |
JP4209344B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2009-01-14 | 富士フイルム株式会社 | 露光ヘッド並びに画像露光装置および画像露光方法 |
JP4931041B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2012-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
JP4823751B2 (ja) * | 2005-04-21 | 2011-11-24 | 富士フイルム株式会社 | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 |
-
2005
- 2005-09-29 JP JP2005284860A patent/JP4919378B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-09-25 US US11/992,772 patent/US20080205744A1/en not_active Abandoned
- 2006-09-25 KR KR1020087010025A patent/KR101356184B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-09-25 WO PCT/JP2006/319620 patent/WO2007037452A1/en active Application Filing
- 2006-09-27 TW TW095135684A patent/TW200745766A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200745766A (en) | 2007-12-16 |
WO2007037452A1 (en) | 2007-04-05 |
KR20080054416A (ko) | 2008-06-17 |
WO2007037452A9 (en) | 2007-05-24 |
JP2007094126A (ja) | 2007-04-12 |
US20080205744A1 (en) | 2008-08-28 |
KR101356184B1 (ko) | 2014-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4919378B2 (ja) | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2006251160A (ja) | 描画方法および装置 | |
JP4179477B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
KR101261353B1 (ko) | 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치 | |
JP4931041B2 (ja) | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2006327084A (ja) | フレームデータ作成方法および装置、プログラム | |
JP4532381B2 (ja) | 描画方法および装置 | |
JP2006192607A (ja) | フレームデータ作成方法および装置並びにフレームデータ作成プログラム、描画方法および装置 | |
US20070291348A1 (en) | Tracing Method and Apparatus | |
JP4823751B2 (ja) | 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
US20090059295A1 (en) | Plotting Device and Image Data Creation Method | |
JP4895571B2 (ja) | 描画装置及び画像長さ補正方法 | |
JP2007034186A (ja) | 描画方法および装置 | |
JP4179478B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP4448075B2 (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2007079383A (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2006287534A (ja) | 画像処理方法および装置 | |
JP2007058207A (ja) | 描画方法および装置 | |
JP4712517B2 (ja) | テンプレートデータ作成方法および装置、テンプレートマッチング方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2007264574A (ja) | 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 | |
JP2007286528A (ja) | 描画データ取得方法および装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110301 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110426 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120124 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120127 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150210 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |