JP4931041B2 - 描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents

Description

本発明は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を順次形成して画像を描画する描画方法および装置およびその描画方法および装置に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法および装置に関するものである。

従来、プリント配線板やフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。

上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。

上記のような露光装置として、たとえば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。

そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置としては、たとえば、ＤＭＤを露光面に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に応じてＤＭＤのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した多数の描画点データからなるフレームデータを入力し、ＤＭＤのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の画像を露光面に形成する露光装置が提案されている（たとえば特許文献１参照）。

ここで、上記のような露光装置により形成されるプリント配線板の配線パターンなどは、益々高精細化が進む傾向にあり、たとえば、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高精度に行う必要がある。

特開２００４−２３３７１８号公報

上記のような位置合わせを行うため、各層の配線パターンは基板に対して予め設定された位置に露光されるが、多層プリント配線板を形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、上記のように予め設定された位置に各層の配線パターンを露光したのでは各層の配線パターンの記録位置ずれが生じ、各層の配線パターンの高精度な位置合わせが困難となるおそれがある。

また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがある。

また、たとえば、基板を所定の走査方向に移動させることによって基板上を光ビームで走査するようにした場合には、基板を移動させる移動機構の制御精度に応じて、基板の移動方向にずれが生じるような場合があり、このようなずれが生じるとやはり配線パターンなどの高精度な位置合わせなどが困難となるおそれがある。

本発明は、上記事情に鑑み、上記露光装置のような描画方法および装置において、基板の変形や基板の移動方向のずれなどに影響されることなく、基板上の所望の位置に所望の画像を描画することできる描画方法および装置、並びにその描画方法および装置に用いられる描画点データを取得する方法および装置を提供することを目的とするものである。

本発明の第１の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

本発明の第２の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法において、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

本発明の第３の描画点データ取得方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得することを特徴とする。

また、上記本発明の第２および第３の描画点データ取得方法においては、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
その取得したずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
その取得したずれ情報および検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画点データ取得方法においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域によって描画を行う際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うようにすることができる。

また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成されるビームスポットとすることができる。

また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分が付随するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにすることができる。

本発明の第１の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

本発明の第２の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

本発明の第３の描画方法は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画方法において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得し、その取得した描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成することを特徴とする。

また、上記本発明の第２および第３の描画方法においては、描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、予め設定された基板の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の基板の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報および検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画方法においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域によって描画を行う描画方法であって、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うようにすることができる。

また、描画点形成領域を空間光変調素子によって形成されるビームスポットとすることができる。

また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにすることができる。

本発明の第１の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

本発明の第２の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置において、画像の描画を行う際の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

本発明の第３の描画点データ取得装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する際に用いられる描画点データを取得する描画点データ取得装置において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第２および第３の描画点データ取得装置においては、基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたもとし、描画点軌跡取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるものとすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画点データ取得装置においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点形成領域を複数有するものとし、描画点データ取得手段を、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うものとすることができる。

また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるようにすることができる。

また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、描画点データ軌跡情報取得手段を、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにすることができる。

本発明の第１の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

本発明の第２の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、画像の描画対象上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

本発明の第３の描画装置は、描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点を描画対象上に順次形成して描画対象上に画像を描画する描画装置において、描画対象上の画像空間における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報に基づいて画像の元の画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得する描画点データ取得手段と、描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて描画点形成領域によって描画点を描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の第２および第３の描画装置においては、基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出してその基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備えたものとし、描画軌跡情報取得手段を、位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の基板の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡情報取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、予め設定された描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点軌跡取得手段を、ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて描画軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、描画点データ取得手段を、描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるものとすることができる。

また、上記本発明の第１から第３の描画装置においては、予め設定された描画対象の所定相対移動速度に対する画像の描画の際の描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備えたものとし、描画点データ取得手段を、速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い描画対象上の描画領域ほど画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数が多くなるように各画素データから描画点データを取得するものとすることができる。

また、描画点形成領域を複数有するものとし、描画点データ取得手段を、描画点形成領域毎に描画点データの取得を行うものとすることができる。

また、描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えるようにすることができる。

また、描画点データ軌跡情報に描画点データを取得するピッチ成分を付随するようにすることができる。

また、複数の描画点形成領域を備えたものとし、描画点データ軌跡情報取得手段を、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するものとすることができる。

また、複数の描画点形成領域を２次元状に配列するようにすることができる。ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如何なるものによって形成される領域でもよく、たとえば、ＤＭＤのような空間光変調素子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでもよいし、光源から発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよいし、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域としてもよい。

本発明の第１から第３の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置によれば、画像を表わす画像データ上における描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に基づいて描画点データ軌跡に対応した複数の描画点データを画像データから取得するようにしたので、たとえば、画像の描画の際の基板上やその画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に基づいて上記描画点データ軌跡情報を取得するようにすれば、たとえば、基板に変形や位置ずれが生じたような場合でも、基板上や画像空間上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に対応した描画点データを画像データから取得することができるので、上記変形や位置ずれに応じた画像を基板上に描画することができる。この場合、たとえば、多層プリント配線板を形成する際には、各層の配線パターンをその各層の変形に応じて形成することができるので各層の配線パターンの位置合わせを行うことができる。

また、たとえば、上述したように基板を所定の走査方向に移動させることによって基板上を光ビームで走査するようにした場合において、基板の移動方向にずれが生じた場合においても、その移動方向のずれに応じた描画軌跡の情報を予め取得し、その描画軌跡情報に対応した描画点データを画像データから取得することができるので、上記移動方向のずれに影響されることなく基板上の所望の位置に所望の画像を描画することができる。

また、画像データを記憶するメモリのアドレスを上記描画点データ軌跡に沿って計算して描画点データを取得するようにすることができるので、上記アドレスの計算を容易に行うことができる。

以下、図面を参照して本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第１の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図１は、本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。本発明の第１の実施形態を用いた露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線パターン等の各種パターンを露光する装置であって、そのパターンを露光するために用いられる露光点データの取得方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。

露光装置１０は、図１に示すように、基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。

設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端および後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。

ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、たとえば、露光しようとする層の下層のパターンなどを基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。

スキャナ２４およびカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４およびカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。

スキャナ２４は、図２および図３（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。

各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。

露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン/オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８の像（ビームスポット）に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。

また、図３（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。

次に、露光装置１０の電気的構成について説明する。露光装置１０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置４０から出力された、露光すべき配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部５０と、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段５２と、検出位置情報取得手段５２により取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の画像空間上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段５４と、露光軌跡情報取得手段５４により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報とラスター変換処理部５０から出力されたラスターデータの露光画像データに基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得手段５６と、露光点データ取得手段５６により取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データに基づいて露光ヘッド３０のＤＭＤ３６により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する露光ヘッド制御部５８と、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。

次に、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の作用について図面を参照しながら説明する。

まず、データ作成装置４０において、基板１２に露光すべき配線パターンを表すベクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０においてラスターデータに変換されて露光点データ取得手段５６に出力され、露光点データ取得手段５６によって一時記憶される。

一方、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部５０に入力されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得手段５２に入力される。検出位置情報取得手段５２は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、たとえば、基板１２の撮影画像データの４つの角のうちの１つの角のとしてもよいし、撮影画像データにおける予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。上記のように本実施形態においては、カメラ２６と検出位置情報取得手段５２とにより位置情報検出手段が構成されている。

そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得手段５２から露光軌跡情報取得手段５４に出力される。

そして、露光軌跡情報取得手段５４において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の画像空間上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得手段５４には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、上記基準マーク位置情報および上記検出位置情報と同じ点を原点として、ベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図６に、プレスエ程などを経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪などの変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。

そして、露光軌跡情報取得手段５４においては、図７に示すように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められる。つまり、図７における×印の点の座標値が求められ、さらに、×印とその×印に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと×印との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと×印との距離との比が求められる。具体的には、図７におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３およびａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。上記ようにして求められた比が、変形後の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡を表わしていることになる。ここで、各基準マーク位置情報１２ｂを、下層のパターンの位置を示すものとして捉えた場合、求められた露光軌跡は、実際の露光の際の基板１２上の画像空間上におけるビームの露光軌跡を表わしていることになる。なお、たとえば、通過位置情報１２ｃが、図８に示すように、検出位置情報１２ｄで囲まれる範囲外に位置する場合にも、図８に示すように、検出位置情報１２ｄと×印との比が求められる。

そして、上記のようにして各マイクロミラー３８毎に求められた露光軌跡情報が、露光点データ取得手段５６に入力される。

露光点データ取得手段５６には、上述したようにラスターデータである露光画像データＤが一時記憶されている。露光点データ取得手段５６は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、露光画像データＤから各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する。

具体的には、露光点データ取得手段５６に記憶される露光画像データＤには、図９に示すように、上記基準マーク位置情報１２ｂが示す位置に対応した位置に配置された露光画像データ基準位置情報１２ｅが付されており、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点の座標値が求められる。つまり、以下の式を満たすような点の座標値が求められる。なお、図９におけるハッチング部分が露光すべき配線パターンの一例を表している。

ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１
ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２
ａ３：ｂ３＝Ａ３：Ｂ３
ａ４：ｂ４＝Ａ４：Ｂ４
そして、上記のようにして求められた点を結ぶ線（データ読み出し軌跡またはデータ軌跡）上にある画素データｄが、実際にマイクロミラー３８の露光軌跡情報に対応した露光点データである。したがって、露光画像データＤ上を上記直線が通過する点の画素データｄが露光点データとして取得される。なお、画素データｄとは露光画像データＤを構成する最小単位のデータである。図９の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図１０に示す。具体的には、図１０のハッチングされた部分の画素データが露光点画像データとして取得される。なお、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を結んだ直線が、露光画像データＤ上に存在しない場合には、その直線上の露光点データは０として取得される。

なお、上記のように露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を直線で結び、その直線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもよいし、図１１に示すように、上記点をスプライン補間などによって曲線で結び、その曲線上にある画素データを露光点データとして取得するようにしてもよい。上記のようにスプライン補間などによって曲線で結ぶようにすれば、より基板１２の変形に忠実な露光点データを取得することができる。また、上記スプライン補間などの演算方法に基板１２の材質の特性（たとえば、特定の方向にしか伸縮しないなど）を反映するようにすれば、さらに、より基板１２の変形に忠実な露光点データを取得することができる。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎について複数の露光点データがそれぞれ取得され、その各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力される。

一方、上記のように各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力されるとともに、移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると（または、センサによって検出されたステージの位置から基板１２の描画領域の位置が特定されると）、露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

なお、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、たとえば、図１２に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたｍ個の露光点データの列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じた露光点データを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいし、図１２に示すように取得された露光点データに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などを施し、図１３に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍを生成し、このフレームデータ１〜ｍを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしてもよい。

そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ１２により検出されると露光が終了する。

上記第１の実施形態を用いた露光装置１０によれば、基板１２上の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク１２ａを検出してその基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得し、その取得した検出位置情報に基づいて各マイクロミラー３８の露光軌跡情報を取得し、その各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に対応した画素データｄを露光画像データＤから露光点データとして取得するようにしたので、基板１２の変形に応じた露光点データを取得することができ、基板１２の変形に応じた露光画像を基板１２上に露光することができる。したがって、たとえば、多層プリント配線板などにおける各層のパターンを、その各層の露光時の変形に応じて形成することができるので各層のパターンの位置合わせを行うことができる。

なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板１２に露光する際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の基板１２に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取得することができる。たとえば、各マイクロミラー３８毎に予め設定された上記通過位置情報に対応する、露光画像データ上における露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡に対応した複数の露光点データを露光画像データから取得するようにしてもよい。

また、上記のように各マイクロミラー３８毎の通過位置情報に基づいて予め露光点データ軌跡情報を露光画像データ上に設定し、その露光点データ軌跡に基づいて露光点データを取得する方法は、たとえば、何も露光画像が露光されていない基板上に最初に露光画像を露光する場合にも採用することができる。また、基板の変形に応じて露光画像データを変形させた場合にも、この方法を採用することができる。この方法を採用した場合、露光画像データを記憶するメモリのアドレスを露光点データ軌跡に沿って計算して露光点データを取得することができ、そのためアドレスの計算を容易に行うことができる。

また、たとえば、図１４（Ａ）に示すように、基板１２が傾いてステージ１４上に設置されている場合、この基板１２のエッジをカメラ２６によって検出し、マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃに対するエッジの傾きを取得し、この取得した傾きに基づいて、図１４（Ｂ）に示すように露光画像データ上に露光点データ軌跡情報（図１４（Ｂ）中の矢印）を設定し、この露光点データ軌跡情報上の露光点データを取得するようにしてもよい。

さらに、たとえば、図１５に示すように、走査方向について基板１２が伸縮している場合には、その伸縮の程度に応じて、露光画像データＤにおける１つの画素データｄから取得する露光点データの数を変化させるようにしてもよい。具体的には、たとえば、上記のように走査方向に基板１２が伸縮し、検出位置情報１２ｄと通過位置情報１２ｃとが図１５に示すような関係となり、走査方向に隣接する検出位置情報１２ｄの間隔が、理想的な長さＬの領域Ａと、基板１２が走査方向に伸びての上記間隔が長さＬの２倍となった領域Ｂと、基板１２が走査方向に縮んで上記間隔が長さＬの１/２となった領域Ｃとが存在する場合には、たとえば、図１６に示すように、領域Ａに対応する露光点データについては、１つの画素データｄに対し１つの露光点データを取得し、領域Ｂに対応する露光点データについては、１つの画素データｄに対して２つの露光点データを取得し、領域Ｃの露光点データについては、２つの画素データに対して１つの露光点データを取得するようにしてもよい。なお、図１６おける点線矢印は、各領域について取得する露光点データの数とその露光点データに対応する画素データｄとを示している。また、２つの画素データに対して１つの露光点データを取得する際には、２つの画素データのうちの１つの画素データを露光点データとして選択して取得するようにすればよい。なお、上記説明においては、基板１２が走査方向にのみ伸縮した場合における露光点データの取得方法を説明したが、上記のような場合に限らず、その他の方向にも基板１２が変形している場合においても、基板１２の検出位置情報１２ｄで区切られた領域毎に、マイクロミラー３８の通過位置情報の長さが異なる場合には、上記と同様にその長さに応じて１つの画素データから取得する露光点データの数を変化させるようにしてもよい。上記のように基板１２の伸縮に応じて露光点データの数を変化させるようにすれば、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

なお、上記のように基板１２の伸縮に応じて取得する露光点データの数を加減させる場合には、図１７に示すように、各マイクロミラー３８の露光点データ軌跡情報（図１７中の矢印）について、露光画像データＤの画像空間上の走査方向について同じ箇所（図１７中の黒三角）の露光点データを加減するようにすることが望ましい。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第２の実施形態を用いた露光装置２５について詳細に説明する。露光装置２５の外観の概略構成については、図１に示す本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様である。

露光装置２５は、図１８に示すように、ラスター変換処理部５０と、移動ステージ１４のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段８０と、ずれ情報取得手段８０に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段８２と、露光軌跡情報取得手段８２により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報とラスター変換処理部５０から出力されたラスターデータの露光画像データに基づいて、各マイクロミラー３８毎の露光点データを取得する露光点データ取得手段８４と、露光ヘッド制御部５８と、移動機構６０と、本露光装置全体を制御するコントローラ７０とを備えている。なお、図１８において図５と同じ符号を付している構成については、上記本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０とその作用は同様である。

次に、露光装置２５の作用について図面を参照しながら説明する。

まず、露光点データ取得手段８４にラスターデータを一時記憶するまでの作用については、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様である。

そして、次に、ずれ情報取得手段８０によって移動ステージ１４の上記ずれ情報が取得される。ずれ情報とは、図１９に示すように、予め設定されたステージ移動方向に対する、実際の移動ステージ１４の移動方向のずれを示したものである。具体的には、図１９に示すように、予め設定されたステージ移動方向への移動軌跡に対する実際の移動ステージ１４の移動軌跡の、ステージ移動方向に直交する方向についてのずれ量を所定の間隔で取得したものである。図１９に示す点線矢印の向きと長さがずれ量を示すものである。

ここで、上記のように移動ステージ１４の移動軌跡にずれがある場合、露光の際の各マイクロミラー３８の基板１２上における実際の露光軌跡は、図２０に示すように、予め設定された各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃに対して上記ずれ量に応じてずれることになる。したがって、各マイクロミラー３８の実際の露光軌跡に対応した露光点データを取得する必要がある。また、図２０に示すように、マイクロミラーｍ１とマイクロミラーｍ２とは、基板１２上における同じ位置を通過するものであるが、上記のような移動ステージ１４の移動軌跡にずれがあると、これらの実際の露光軌跡は位相がずれたものになる。したがって、これらの位相ずれも考慮して露光点データを取得する必要がある。

そこで、露光装置２５においては、上記のような各マイクロミラー３８の露光軌跡のずれ量に応じた露光点データが取得される。具体的には、予め移動ステージ１４のずれ量が計測され、その計測されたずれ量が、上記のようにしてずれ量取得手段８０によって取得される。そして、ずれ量取得手段８０は、取得したずれ量を露光軌跡情報取得手段８２に出力する。ずれ量の計測方法としては、たとえば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。

露光軌跡情報取得手段８２には、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃが設定されており、露光軌跡情報取得手段８２は、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。なお、上記通過位置情報１２ｃについては、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の説明と同様である。

そして、その各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報を露光点データ取得手段８４に出力する。そして、露光点データ取得手段８４は、各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に対応する露光点データを、一時記憶された露光画像データＤから取得する。

具体的には、図２１に示す露光画像データＤにおいて曲線で示された露光軌跡情報Ｍ１,Ｍ２上に配置された露光点データｄが取得される。図２１の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図２２に示す。具体的には、図２２のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図２１に示す露光軌跡情報Ｍ１は、図２０に示すマイクロミラーｍ１の露光軌跡情報であり、図２１に示す露光軌跡情報Ｍ２は、図２０に示すマイクロミラーｍ２の露光軌跡情報である。また、露光画像データＤは、通過位置情報１２ｃと相対的な位置関係を有しており、露光画像データＤの各画素データｄの配置の基準となる原点と、上記通過位置情報１２ｃの原点とは一致しているものとする。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎について複数の露光点データがそれぞれ取得され、その各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力される。

一方、上記のように各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力されるとともに、移動ステージ１４が、上流側に所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

上記第２の実施形態を用いた露光装置２５によれば、予め設定された基板１２の所定相対移動方向に対する露光画像の露光の際の基板１２の実相対移動方向のずれ情報を取得し、その取得したずれ情報に基づいて露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡情報に対応した露光点データを露光画像データＤから取得することができるので、基板１２の移動方向のずれに影響されることなく基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第３の実施形態を用いた露光装置３５について詳細に説明する。

露光装置３５は、図２３に示すように、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の構成と上記第２の実施形態を用いた露光装置２５の構成とを両方兼ね備えたものである。

露光装置３５においては、上述のようにして検出位置情報取得手段５２において取得された基準マーク１２ａの検出位置情報と、上述のようにしてずれ情報取得手段８０において取得されたずれ情報とが、露光軌跡情報取得手段８６に入力される。

そして、露光軌跡情報取得手段８６は、入力された上記検出位置情報と上記ずれ情報とに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上の画像空間上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。

具体的には、露光軌跡情報取得手段８６において、上記第１の実施形態と同様に、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄ同士を結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離との比が求められる。

一方、露光軌跡情報取得手段８６は、上記第２の実施形態と同様に、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、図２１に曲線で示されるような、各マイクロミラー３８毎の基板１２上における仮露光軌跡情報を取得する。

そして、露光軌跡情報取得手段８６は、上記のようにして求められた比と仮露光軌跡情報とを露光軌跡情報として露光点データ取得手段８８に出力する。

そして、露光点データ取得手段５６は、上記第１の実施形態と同様に、図２４に示すように、露光画像データＤにおいて、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、入力された比に基づいて分割した点を求めた後、その点を結ぶ直線を求め、その直線の走査方向に対する傾き分だけ仮露光軌跡情報を傾けて露光軌跡情報を表わす曲線を求め、その曲線上における画素データｄを露光点データとして取得する。つまり、図２２のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図２２におけるＡ１：Ｂ１、Ａ２：Ｂ２は、露光軌跡情報取得手段８６から入力された比がａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２である場合に、ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１、ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２を満たすような比である。

そして、上記と同様にして、各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報を表わす曲線が、上記と同様にして求められ、各曲線上における画素データｄが各マイクロミラー３８毎の露光点データとして取得される。

そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力される。

一方、上記のように各マイクロミラー３８毎の露光点データが露光ヘッド制御部５８に出力されるとともに、移動ステージ１４が、上流側に所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に上記露光点データに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

次に、本発明の描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置の第４の実施形態を用いた露光装置４５について詳細に説明する。露光装置４５の外観の概略構成については、図１に示す本発明の第１の実施形態を用いた露光装置１０と同様である。

露光装置４５は、図２５に示すように、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０の構成に加えてさらに、基板１２の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段９０を備えている。そして露光点データ取得手段９１は、速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に基づいて、移動ステージ１４の移動の速度が遅いほど各画素データから取得される露光点データの数が多くなるように各画素データから露光点データを取得するものである。なお、図２５において図５と同じ符号を付している構成については、上記第１の実施形態を用いた露光装置１０とその作用は同様である。

また、上記基板１２の移動の速度変動情報とは、本実施形態においては、移動ステージ１４の移動機構６０の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。

図２６は、実際の露光の際の基板１２上における所定のマイクロミラー３８の露光軌跡とそのマイクロミラー３８により露光点を露光するタイミングとを表わしたものである。なお、図２６における点線矢印が、移動ステージの速度変動がない場合におけるマイクロミラー３８の露光軌跡と露光タイミングとを表わしたものであり、実線矢印が、移動ステージの速度変動がある場合におけるマイクロミラー３８の露光軌跡と露光タイミングを表わしたものである。そして、直線上において矢印を付した部分がマイクロミラー３８による露光点の露光タイミングを示している。なお、図２６においては、説明の都合上、２つの露光軌跡を別々の直線で示しているが、これらの露光軌跡は同一のマイクロミラーの露光軌跡である。そして、図２６におけるＰ１〜Ｐ８は、基板１２上に露光される画像を構成する各画素を示したものである。また、露光タイミングと移動ステージ１４とは、所望の解像度で基板１２上に露光画像が露光されるように予め相対的な関係をもって設定されているものである。

図２６に示すように、移動ステージ１４の速度変動がない場合には、各画素Ｐ１〜Ｐ８は、マイクロミラー３８によって１つの露光点により露光される。つまり、１つの画素に対して、マイクロミラー３８が露光する露光点の数は１つである。

一方、移動ステージ１４の速度変動がある場合には、各画素Ｐ１〜Ｐ８を露光する露光点の数は、その速度変動に応じて異なる。具体的には、１つの画素の幅を移動ステージ１４が移動する間に露光タイミングが２回以上ある場合には、つまり相対的に遅い速度で移動ステージ１４が移動して露光される領域は、各画素は２以上の露光点によって露光されることになる。そして、１つの画素の幅を移動ステージ１４が移動する間に露光タイミングが全くない場合には、つまり相対的に速い速度で移動ステージ１４が移動して露光される領域は、各画素は露光されない。

図２６においては、画素Ｐ１,Ｐ５を露光する際には、移動ステージ１４は相対的に遅い速度で移動し、画素Ｐ４,Ｐ８を露光する際には、移動ステージ１４は相対的に早い速度で移動し、画素Ｐ２,Ｐ３,Ｐ６,Ｐ７を露光する際には、移動ステージ１４は予め設定された一定の速度で移動している。

したがって、上記のような移動ステージの速度変動に応じて露光点データを取得する必要がある。

そこで、露光点データ取得手段９１は、露光画像データＤの１つの画素データｄから速度変動情報取得手段９０により取得された速度変動情報に応じた数の露光点データを取得する。速度変動情報とは、具体的には、たとえば、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ１４のステージ移動方向への移動距離の変動情報であり、速度変動情報取得手段９０に予め設定される。

そして、上記のように速度変動情報取得手段９０に予め設定された速度変動情報が、露光点データ取得手段９１に出力され、露光点データ取得手段９１は、たとえば、移動ステージ１４の移動速度に変化がない場合、つまり速度変動情報が予め設定された移動距離と同じである場合には、図２７に点線矢印で示すように、１つの画素データｄについて１つの露光点データｐｎ（ｎはたとえば１〜８）を取得する。一方、移動ステージ１４の移動速度に変化がある場合、つまり速度変動情報が予め設定された移動距離よりも短いもしくは長い場合には、露光画像データＤの１つの画素データｄからその速度変動に応じた数の露光点データを取得する。たとえば、図２６の実線矢印で示したような速度変動がある場合には、図２７の実線矢印で示すように、画素Ｐ１を露光するための露光点データについては、１つの画素データｄから３つの露光点データｐ１を取得し、同様に、画素Ｐ５を露光するための露光点データについては、１つの画素データｄから３つの露光点データｐ５を取得する。また、画素Ｐ４および画素Ｐ８を露光するための露光点データは取得しない。そして、画素Ｐ２,Ｐ３,Ｐ６,Ｐ７を露光するための露光データについては、１つの画素データｄから１つの露光点データｐ２,ｐ３,ｐ６,ｐ７を取得する。つまり、図２６に示すような速度変動がある場合には、露光点データ点データとしては、３つの露光点データｐ１と、１つの露光点データｐ２、ｐ３と、３つの露光点データｐ５と、１つの露光点データｐ６、ｐ７とが取得される。

そして、上記のようにして取得された露光点データが移動ステージ１４の移動に応じて順次露光ヘッド制御部５８に出力され、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のマイクロミラー３８にその露光点データに応じた制御信号が出力され、その制御信号に応じてマイクロミラーがオン・オフされて基板１２に露光点が露光される。

上記第４の実施形態を用いた露光装置４５によれば、予め設定された基板１２の所定相対移動速度に対する露光画像の露光の際の基板１２の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、その取得した速度変動情報に基づいて、基板１２の実相対移動速度が相対的に遅い基板１２上の露光領域ほど各画素データｄから取得される露光点データｐｎの数が多くなるように各画素データｄから露光点データｐｎを取得するようにしたので、移動ステージ１４の移動速度のムラに影響されることなく、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

なお、上記第４の実施形態の露光装置４５において、検出位置情報取得手段５２により検出位置情報を取得し、その検出位置情報に基づいて露光軌跡情報取得手段５４において露光軌跡情報を取得し、露光点データ取得手段５６において上記露光軌跡情報に応じた画素データを特定するまでの作用については、上記第１の実施形態の露光装置１０と同様である。そして、上記のようにして特定された画素データｄから露光点データを読み出す際に、上記のような方法を採用することができる。

また、上記第２、第３の実施形態の露光装置においても、上記と同様の方法を用いて露光点データを取得するようにすることができる。その場合においても露光軌跡情報に応じた画素データを特定するまでの作用については、上記第２、第３の実施形態の露光装置と同様である。

また、上記第２の実施形態の露光装置において、上記第４の実施形態の露光装置のように速度変動情報に応じて取得する露光点データの数を変化させるようにすれば、たとえば、図２８（Ａ）に示すような移動ステージ１４の蛇行を補正できるだけでなく、図２８（Ｂ）に示すようなヨーイングも考慮した補正、つまり基板の移動姿勢を考慮した補正を行うことができる。なお、ヨーイングとは、図２８（Ａ）に示すような移動ステージ１４の蛇行に、移動ステージ１４の回転が加わったものである。上記のような移動ステージ１４の回転により、各マイクロミラー３８の基板１２上の像の位置が変化するとともに、所定の露光タイミングピッチにおける移動ステージ１４のステージ移動方向への移動距離が変化することになるので、つまり上記回転により移動ステージ１４の局所的速度変動が生じるので、上記像の位置変動および速度変動情報に応じて露光点データの数を変化させるようにすればよい。なお、蛇行成分を０として回転成分のみを考慮してもよい。

たとえば、図２９（Ａ）に示すように、ステージ１４（基板１２）がヨーイングした場合、点Ｂの移動距離に応じて露光タイミングを決定した場合、点Ａの移動距離は一定ではないので、図２９（Ｂ）に示すように、点Ａを通過する露光軌跡上の露光点の間隔が一定でなくなる。したがって、点Ａを通過する露光点データ軌跡情報上の露光点データの読み出しピッチを点Ａの移動距離に応じて変化させるようにすればよい。

そして、上記のように露光点データ軌跡上の露光点データの読み出しピッチを変化させる場合には、図２９に示すように、各マイクロミラー３８の露光点データ軌跡情報（図３０中の矢印）上について、時間的に同じ箇所（図３０中の黒三角）で読み出しピッチを加減することが望ましい。

また、上記第１〜第４の実施形態を全て用いた露光装置とすることもできる。そのように構成した場合における露光装置の作用について、図３１および図３２のフローチャートを用いて簡単に説明する。なお、詳細な作用については上記説明と同様である。

まず、露光軌跡情報取得手段５４,に各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の通過位置情報が入力設定され（Ｓ１０）、移動ステージ１４のずれ情報および速度変動情報がそれぞれずれ情報取得手段、速度変動情報取得手段９０に入力設定される（Ｓ１２）。そして、データ作成装置４０において作成された配線パターンを表すベクトルデータがラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０においてラスターデータに変換されて露光点データ取得手段５６に出力され、露光点データ取得手段５６によって露光画像データとして一時記憶される（Ｓ１４）。

一方、上記のようにしてベクトルデータがラスター変換処理部５０に入力されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、ステージ移動方向へ所望の速度で移動させる（Ｓ１６）。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２に基準マーク１２ａがカメラ２６によって撮影され、その撮影画像データに基づいて検出位置情報取得手段５２によって検出位置情報が取得される（Ｓ１８）
そして、上記のようにして取得された検出位置情報が、検出位置情報取得手段５２から露光軌跡情報取得手段に出力されるとともに、ずれ情報取得手段において設定されたずれ情報が露光軌跡情報取得手段に出力される。そして、露光軌跡情報取得手段において、基板１２上における各マイクロミラー３８の露光軌跡情報が算出されるが、具体的には、まず、第１の実施形態の露光装置において説明したように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離の比が求められる。具体的には、図７におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３およびａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。なお、上記比は、上記のようにして取得された検出位置情報からずれ量を差し引いた後に求められる。（Ｓ２０）。

また、露光軌跡情報取得手段においては、上記のような比が算出されるとともに、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８の通過位置情報とに基づいて各マイクロミラー３８毎の仮露光軌跡情報が求められ、この仮露光軌跡情報と上記比とが露光軌跡情報として取得され、露光点データ取得手段に出力される。なお、比と仮露光軌跡を求める順番は逆でもよい。そして、露光点データ取得手段においては、図２２で説明したようにして露光軌跡情報に対応する曲線が求められ、露光画像データＤにおける上記曲線上の画素データが露光すべき画素データとして特定される（Ｓ２４）。そして、露光点データ取得手段には、速度変動情報取得手段において取得された速度変動情報が入力され、上記第４の実施形態の露光装置において説明したように、上記速度変動情報に応じた数の露光点データが露光画像データにおける各画素データから取得される（Ｓ２６）。なお、このとき速度変動情報だけでなく、基板１２の走査方向への伸縮も考慮して、つまり、基板１２の検出位置情報１２ｄで区切られた領域毎のマイクロミラー３８の通過位置情報の長さも考慮して露光点データの数を決定することが望ましい。

そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー３８毎の露光点データの列に９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換などが施され、図１３に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍが生成される（Ｓ２８）。そして、このフレームデータ１〜ｍが移動ステージ１４の移動に応じて各露光ヘッド３０に順次出力され、各露光ヘッド３０によりフレームデータに基づいた露光画像が基板１２上に露光される（Ｓ３０）。そして、全てのフレームデータが露光ヘッド３０に入力され、露光が終了すると再び移動ステージ１４は初期位置まで移動する（Ｓ３２）。そして、次の基板１２がある場合にはその基板１２に交換された後、再びＳ１６からの処理が行われ、次の基板１２がない場合にはそのまま終了する（Ｓ３４）。

なお、上記実施形態における露光点データ取得手段は描画点データ軌跡取得手段と描画点データ取得手段との両方を含んでいるものとする。

また、上記実施形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプ（またはインナードラムタイプ）の露光装置としてもよい。

また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。この場合、パターンは、液晶ディスプレイなどのカラーフィルタ、ブラックマトリックス、ＴＦＴなどの半導体回路などを構成するものであってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。

また、本実施形態における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタにおける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。

また、本実施形態における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもよいし、実際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。

また、本実施形態においては、描画軌跡の距離が長いほど描画点データの数を多くし、距離が短いほど描画点データの数を少なくすることによって、描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて画像データを構成する各画素データから取得される描画点データの数を変化させるようにしてもよい。

また、本実施形態における画像空間は、基板上に描画すべき又は描画された画像を基準とした座標空間であってもよい。

なお、上記のように、本実施形態における描画点形成領域の描画軌跡情報は、基板座標空間における描画軌跡と、画像座標空間における描画軌跡の両方でとらえることができる。また、基板座標と画像座標とが異なる場合がある。

また、上記実施形態においては、２つ以上のマイクロミラー（ビーム）毎に１つの露光点データ軌跡を取得するようにしてもよい。たとえば、マイクロレンズアレイを構成する１つのマイクロレンズによって集光される複数のビーム毎に露光点データ軌跡を求めることができる。

また、各露光点データ軌跡情報に、データ読み出しピッチ情報を付随させるようにしてもよい。この場合、ピッチ情報にサンプリングレート（描画点データを切り替える最小のビーム移動距離（補正がない場合に全ビーム共通）と画像の解像度（画素ピッチ）との比）が含まれていてもよい。また、露光軌跡の長さ補正に伴う露光点データの加減の情報を、ピッチの情報に含ませるようにすることができる。また、露光点データの加減の情報とともに、加減の位置をピッチ情報に含ませるようにし、露光軌跡に付随させるようにしてもよい。また、各露光点データ軌跡情報として、各フレームに対応するデータ読み出しアドレス（ｘ，ｙ）（時系列順の読み出しアドレス）を全て持たせておいてもよい。

また、画像データ上におけるデータ読み出し軌跡に沿った方向と、メモリ上におけるアドレスの連続方向とを一致させるようにしてもよい。たとえば、図９の例では、横方向がアドレスの連続方向となるようにメモリに画像データが格納される。この場合、ビーム毎に画像データを読み出す処理を高速に行うことができる。なお、メモリとしては、ＤＲＡＭを用いることができるが、格納されたデータがアドレスが連続する方向に順次高速に読み出されうるものであれば如何なるものを使用してもよい。たとえば、ＳＲＡＭ（Ｓｔａｔｉｃ Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）などのランダムアクセスでも高速なものを用いることもできるが、この場合、メモリ上のアドレスの連続方向を、露光軌跡に沿った方向に定義し、かつ、その連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるようにしてもよい。また、メモリは、アドレスの連続方向に沿ってデータの読み出しが行われるように予め配線またはプログラムされたものであってもよい。また、アドレスの連続方向を、連続する複数ビット分がまとめて読み出される経路に沿った方向としてもよい。

本発明の描画方法および装置の第１〜第４の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図 図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図 （Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図 図１の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図 本発明の第１の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図 理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図 図９の太線枠内を抽出した図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図 各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図 各フレームデータを示す図 （Ａ）基板が傾いて載置された様子を示す図、（Ｂ）基板のエッジの傾きに応じた露光点データ軌跡情報を示す図 基板の走査方向への伸縮を説明するための図 基板の伸縮に応じた露光点データの取得方法を説明するための図 基板の伸縮に応じて露光点データを加減する際における露光点データ軌跡情報上のその加減点を示す図 本発明の第２の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図 移動ステージの移動方向のずれを説明するための図 所定のマイクロミラーの露光軌跡を示す図 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図 図２１の太線枠内を抽出した図 本発明の第３の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 本発明の第４の実施形態を用いた露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図 マイクロミラーの露光軌跡とそのマイクロミラーによる露光タイミングとを表わした図 移動ステージの速度変動情報に基づいて露光点データを取得する方法を説明するための図 蛇行とヨーイングを説明するための図 （Ａ）ヨーイングを説明するための図、（Ｂ）ヨーイングした際の露光点を示す図 露光点データの読み出しピッチを変化させる際における露光点データ軌跡情報上のその変化点を示す図 本発明の第１〜第４の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート 本発明の第１〜第４の実施形態を全て用いた構成の露光装置の作用を説明するためのフローチャート

符号の説明

１０,２５,３５,４５ 露光装置
１２ 基板
１２ａ 基準マーク
１２ｂ 基準マーク位置情報
１２ｃ 通過位置情報
１２ｄ 検出位置情報
１４ 移動ステージ
１８ 設置台
２０ ガイド
２２ ゲート
２４ スキャナ
２６ カメラ
３０ 露光ヘッド（描画手段）
３２ 露光エリア
３６ ＤＭＤ
５２ 検出位置情報取得手段
５４,８２,８６ 露光軌跡情報取得手段（描画軌跡情報取得手段）
５６,８４,８８,９１ 露光点データ取得手段（描画点データ軌跡取得手段、描画
点データ取得手段）
８０ ずれ情報取得手段
９０ 速度変動情報取得手段
Ｄ 露光画像データ（画像データ）
ｄ 画素データ

Claims (48)

1. 描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法において、
   前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の通過位置を表す描画軌跡の情報を取得し、
   該取得した描画軌跡情報を、前記画像を表す画像データ上に対応付けて該画像データ上おける前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、
   該取得した描画点データ軌跡情報に基づいて表される前記画像データの線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得することを特徴とする描画点データ取得方法。
2. 前記描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出して該基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、
   該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１記載の描画点データ取得方法。
3. 前記相対的な移動方向に直交する方向に隣接した前記検出位置情報を結んだ直線と、前記描画点形成領域の通過位置である直線との交点を求め、該交点によって前記検出位置情報を結んだ直線が分割される比を前記露光軌跡情報として取得し、
   該取得した比に基づいて、前記画像を表す画像データ上において前記直交する方向に対応する方向に隣接して配置された基準位置情報を結んだ直線を分割し、該分割した比を前記描画点データ軌跡情報として取得し、
   該取得した比によって分割された点を前記相対的な移動方向に対応する方向について結んだ線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得することを特徴とする請求項２記載の描画点データ取得方法。
4. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
   該取得したずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１記載の描画点データ取得方法。
5. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
   該取得したずれ情報および前記検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項２または３記載の描画点データ取得方法。
6. 前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
7. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、
   該取得した速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得することを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
8. 複数の前記描画点形成領域によって前記描画を行う際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得方法であって、
   前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うことを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
9. 前記描画点形成領域が空間光変調素子によって形成されるビームスポットであることを特徴とする請求項１から８いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
10. 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随していることを特徴とする請求項１から９いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
11. 複数の描画点形成領域を備え、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１から１０いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
12. 前記複数の描画点形成領域が２次元状に配列されていることを特徴とする請求項１から１１いずれか１項記載の描画点データ取得方法。
13. 描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画方法において、
    前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の通過位置を表す描画軌跡の情報を取得し、
    該取得した描画軌跡情報を、前記画像を表す画像データ上に対応付けて該画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得し、
    該取得した描画点データ軌跡情報に基づいて表される前記画像データの線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得し、
    該取得した描画点データに基づいて前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成することを特徴とする描画方法。
14. 前記描画対象上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出して該基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得し、
    該取得した検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１３記載の描画方法。
15. 前記相対的な移動方向に直交する方向に隣接した前記検出位置情報を結んだ直線と、前記描画点形成領域の通過位置である直線との交点を求め、該交点によって前記検出位置情報を結んだ直線が分割される比を前記露光軌跡情報として取得し、
    該取得した比に基づいて、前記画像を表す画像データ上において前記直交する方向に対応する方向に隣接して配置された基準位置情報を結んだ直線を分割し、該分割した比を前記描画点データ軌跡情報として取得し、
    該取得した比によって分割された点を前記相対的な移動方向に対応する方向について結んだ線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得することを特徴とする請求項１４記載の描画方法。
16. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
    該取得したずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１３記載の描画方法。
17. 予め設定された前記基板の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記基板の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得し、
    該取得したずれ情報および前記検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１４または１５記載の描画方法。
18. 前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させることを特徴とする請求項１３から１７いずれか１項記載の描画方法。
19. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得し、
    該取得した速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得することを特徴とする請求項１３から１８いずれか１項記載の描画方法。
20. 複数の前記描画点形成領域によって前記描画を行う描画方法であって、
    前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うことを特徴とする請求項１３から１９いずれか１項記載の描画方法。
21. 前記描画点形成領域が空間光変調素子によって形成されるビームスポットであることを特徴とする請求項１３から２０いずれか１項記載の描画方法。
22. 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随していることを特徴とする請求項１３から２１いずれか１項記載の描画方法。
23. 複数の描画点形成領域を備え、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得することを特徴とする請求項１３から２２いずれか１項記載の描画方法。
24. 複数の描画点形成領域が２次元状に配列されていることを特徴とする請求項１３から２３いずれか１項記載の描画方法。
25. 描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する際に用いられる前記描画点データを取得する描画点データ取得装置において、
    前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の通過位置を表す描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、
    該描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報を、前記画像を表す画像データ上に対応付けて該画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、
    該描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて表される前記画像データの線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得する描画点データ取得手段とを備えたことを特徴とする描画点データ取得装置。
26. 前記基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出して該基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、
    前記描画軌跡情報取得手段が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２５記載の描画点データ取得装置。
27. 前記描画軌跡情報取得手段が、前記相対的な移動方向に直交する方向に隣接した前記検出位置情報を結んだ直線と、前記描画点形成領域の通過位置である直線との交点を求め、該交点によって前記検出位置情報を結んだ直線が分割される比を前記露光軌跡情報として取得するものであり、
    前記描画点データ軌跡情報取得手段が、前記描画軌跡情報取得手段によって取得された比に基づいて、前記画像を表す画像データ上において前記直交する方向に対応する方向に隣接して配置された基準位置情報を結んだ直線を分割し、該分割した比を前記描画点データ軌跡情報として取得するものであり、
    前記描画点データ取得手段が、前記描画点データ軌跡情報取得手段によって取得された比によって分割された点を前記相対的な移動方向に対応する方向について結んだ線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２６記載の描画点データ取得装置。
28. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２５記載の描画点データ取得装置。
29. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点軌跡取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２６または２７記載の描画点データ取得装置。
30. 前記描画点データ取得手段が、前記描画軌跡情報によって表わされる描画軌跡の距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させるものであることを特徴とする請求項２５から２９いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
31. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項２５から３０いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
32. 前記描画点形成領域を複数有し、
    前記描画点データ取得手段が、前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うものであることを特徴とする請求項２５から３１いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
33. 前記描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えたことを特徴とする請求項２５から３２いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
34. 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随していることを特徴とする請求項２５から３３いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
35. 複数の描画点形成領域を備え、
    前記描画点データ軌跡情報取得手段が、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項２５から３４いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
36. 複数の描画点形成領域が２次元状に配列されていることを特徴とする請求項２５から３５いずれか１項記載の描画点データ取得装置。
37. 描画点データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、描画対象に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記描画対象上に順次形成して前記描画対象上に画像を描画する描画装置において、
    前記画像の描画を行う際の前記描画対象上における前記描画点形成領域の通過位置を表す描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得手段と、
    該描画軌跡情報取得手段により取得された描画軌跡情報を、前記画像を表す画像データ上に対応付けて該画像データ上における前記描画点形成領域の描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得手段と、
    該描画点データ軌跡情報取得手段により取得された描画点データ軌跡情報に基づいて表される前記画像データの線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得する描画点データ取得手段と、
    該描画点データ取得手段により取得された描画点データに基づいて前記描画点形成領域によって前記描画点を前記描画対象上に形成する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
38. 前記基板上の所定位置にある複数の基準マークおよび／または基準部位を検出して該基準マークおよび／または基準部位の位置を示す検出位置情報を取得する位置情報検出手段をさらに備え、
    前記描画軌跡情報取得手段が、前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項３７記載の描画装置。
39. 前記描画軌跡情報取得手段が、前記相対的な移動方向に直交する方向に隣接した前記検出位置情報を結んだ直線と、前記描画点形成領域の通過位置である直線との交点を求め、該交点によって前記検出位置情報を結んだ直線が分割される比を前記露光軌跡情報として取得するものであり、
    前記描画点データ軌跡情報取得手段が、前記描画軌跡情報取得手段によって取得された比に基づいて、前記画像を表す画像データ上において前記直交する方向に対応する方向に隣接して配置された基準位置情報を結んだ直線を分割し、該分割した比を前記描画点データ軌跡情報として取得するものであり、
    前記描画点データ取得手段が、前記描画点データ軌跡情報取得手段によって取得された比によって分割された点を前記相対的な移動方向に対応する方向について結んだ線上に沿って、前記画像データを構成する画素データを取得することによって前記線の部分を前記描画対象上に描画する際の複数の前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項３８記載の描画装置。
40. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記基板の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点軌跡情報取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項３７記載の描画装置。
41. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動方向および／または移動姿勢に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動方向および／または移動姿勢のずれ情報を取得するずれ情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点軌跡取得手段が、前記ずれ情報取得手段により取得されたずれ情報および前記位置情報検出手段により取得された検出位置情報に基づいて前記描画軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項３８または３９記載の描画装置。
42. 前記描画点データ取得手段が、前記描画軌跡情報によって表わされる距離に応じて前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数を変化させるものであることを特徴とする請求項３７から４１いずれか１項記載の描画装置。
43. 予め設定された前記描画対象の所定相対移動速度に対する前記画像の描画の際の前記描画対象の実相対移動速度の変動を示す速度変動情報を取得する速度変動情報取得手段をさらに備え、
    前記描画点データ取得手段が、前記速度変動情報取得手段により取得された速度変動情報に基づいて、前記描画対象の実相対移動速度が相対的に遅い前記描画対象上の描画領域ほど前記画像データを構成する各画素データから取得される前記描画点データの数が多くなるように前記各画素データから前記描画点データを取得するものであることを特徴とする請求項３７から４２いずれか１項記載の描画装置。
44. 前記描画点形成領域を複数有し、
    前記描画点データ取得手段が、前記描画点形成領域毎に前記描画点データの取得を行うものであることを特徴とする請求項３７から４３いずれか１項記載の描画装置。
45. 前記描画点形成領域を形成する空間光変調素子を備えたことを特徴とする請求項３７から４４いずれか１項記載の描画装置。
46. 前記描画点データ軌跡情報に前記描画点データを取得するピッチ成分が付随していることを特徴とする請求項３７から４５いずれか１項記載の描画装置。
47. 複数の描画点形成領域を備え、
    前記描画点データ軌跡情報取得手段が、２つ以上の描画点形成領域毎に１つの描画点データ軌跡情報を取得するものであることを特徴とする請求項３７から４６いずれか１項記載の描画装置。
48. 複数の描画点形成領域が２次元状に配列されていることを特徴とする請求項３７から４７いずれか１項記載の描画装置。

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