JP2006287534A - 画像処理方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理方法において、処理の高速化を図る。
【解決手段】 取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定し、その変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得し、その取得した一部の画素位置情報に対してのみ、逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、その取得した逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報Ｖ２を設定し、その設定した原ベクトル情報Ｖ２が表わす原ベクトル上における原画素データｄを原画像データから取得し、その取得した原画素データｄを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得する。
【選択図】 図２

Description

本発明は、原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理方法および装置に関するものである。

従来、原画像データを回転、拡大・縮小、自由変形などして変形し、変形済画像データを取得する画像変形処理方法が種々提案されている。

上記のような画像変形処理方法として、たとえば、取得される変形済画像データの各画素データの配置位置を示す各画素位置情報毎の座標値を原画像データの座標系に変換し、つまり、所望の変形とは逆の変形を示す逆変換を上記座標値に施し、その逆変換後の座標値に対応する原画像データ上における原画素データを取得し、その原画素データを上記変形済画像データの画素位置情報の画素データとすることによって変形済画像データを取得する方法が提案されている。

たとえば、図１３（Ａ）に示す原画像データを時計周りに回転して図１３（Ｂ）に示す変形済画像データを取得する場合には、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報（ｘ’,ｙ’）に、反時計周りの回転演算を施して逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）を取得し、その逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）が示す位置にある原画素データを取得し、その原画素データを上記画素位置情報（ｘ’,ｙ’）の画素データとすることによって図１３（Ｂ）に示す変形済画像データを取得することができる。

しかしながら、上記のような画像変形処理方法を行う際、変形済画像データにおける全ての画素位置情報に上記のような逆変換を施すようにしたのでは、変形済画像データの画素データの数だけ逆変換の演算処理を行わなければならず、長い時間が必要な場合がある。特に、近年取り扱われる画像データの解像度は益々高くなる傾向があり、そのような傾向において上記のような画像変形処理を行っていたのでは、益々処理時間が長くなってしまう。

本発明は、上記事情に鑑み、上記のような画像変形処理法および装置において、より高速化を図ることができる画像変形処理方法および装置を提供することを目的とするものである。

本発明の画像変形処理方法は、原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理方法において、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定し、その設定した変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得し、その取得した一部の画素位置情報に対してのみ、上記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、その取得した逆変換画素位置情報に基づいて原画像データから変形後ベクトルに対応する原画素データを取得し、その取得した原画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得することを特徴とする。

また、上記本発明の画像変形処理方法においては、逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報を設定し、その設定した原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における原画素データを原画像データから取得し、その取得した原画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得するようにすることができる。

また、逆変換画素位置情報を曲線で結んで原ベクトル情報を設定するようにすることができる。

また、原ベクトル情報に原画素データを取得するピッチ成分を含むまたは原ベクトル情報に基づいて原画素データを取得するピッチ成分を設定するようにすることができる。

本発明の画像変形処理装置は、原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理装置において、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定する変形後ベクトル情報設定部と、変形後ベクトル情報設定部により設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得する画素位置情報取得部と、画素位置情報取得部により取得された上記一部の画素位置情報に対してのみ、上記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部と、逆変換演算部により取得された逆変換画素位置情報に基づいて原画像データから変形後ベクトルに対応する原画素データを取得する原画素データ取得部と、原画素データ取得部により取得された原画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部とを備えたことを特徴とする。

また、上記本発明の画像変形処理装置においては、逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報を設定する原ベクトル情報設定部をさらに備えるものとし、原画素データ取得部を、原ベクトル情報設定部により設定された原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における原画素データを原画像データから取得するものとすることができる。

また、原ベクトル情報設定部を、逆変換画素位置情報を曲線で結んで原ベクトル情報を設定するものとすることができる。

また、原ベクトル情報に原画素データを取得するピッチ成分を含むまたは原ベクトル情報に基づいて原画素データを取得するピッチ成分を設定するようにすることができる。

ここで、上記「ベクトル情報」とは、画素位置情報または逆変換画素位置情報を直線で結ぶものだけでなく曲線で結ぶものもの含むものとする。

また、上記「逆変換演算」としては、たとえば、上記変形が所定の方向への回転である場合にはその所定の方向とは逆方向の回転を示す演算、上記変形が拡大である場合には縮小を示す演算、上記変形が所定の方向へのシフトである場合にはその所定の方向とは逆方向のシフトを示す演算などがある。

本発明の画像変形処理方法および装置によれば、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定し、その設定した変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得し、その取得した一部の画素位置情報に対してのみ、上記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、その取得した逆変換画素位置情報に基づいて原画像データから変形後ベクトルに対応する原画素データを取得し、その取得した原画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得ようにしたので、変形済画像データにおける一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施せばよく、従来のように全ての画素位置情報に逆変換演算を施した場合と比較するとより高速に変形済画像データを取得することができる。

以下、図面を参照して本発明の画像変形処理方法および装置の一実施形態について詳細に説明する。図１は、画像変形処理装置の概略構成を示すブロック図である。

本画像変形処理装置１０は、図１に示すように、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報が設定される変形後ベクトル情報設定部１２と、変形後ベクトル情報設定部１２により設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得する画素位置情報取得部１４と、画素位置情報取得部１４により取得された一部の画素位置情報に対してのみ逆変換演算を施して一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部１６と、逆変換演算部１６により取得された逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報が設定される原ベクトル情報設定部１８と、原ベクトル情報設定部１８により設定された原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における原画素データを原画像データから取得する原画素データ取得部２０と、原画素データ取得部２０により取得された原画素データを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部２４と、原画像データを記憶する原画像データ記憶部２２とを備えている。

次に、本画像変形処理装置１０の作用について説明する。まず、図２（Ａ）に示す原画像データを時計周りに回転し、図２（Ｂ）に示す変形済画像データを取得する方法について説明する。

まず、原画像データ記憶部２２に原画像データが記憶されるとともに、変形後ベクトル情報設定部１２において変形後ベクトル情報が設定される。ここで、変形後ベクトル情報設定部１２には、取得される変形済画像データの各画素位置を示す画素位置情報が設定されている。上記画素位置情報としては、たとえば、各画素位置の座標値を設定するようにすればよい。

そして、変形後ベクトル情報設定部１２において、図２（Ｂ）に示すような、左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１が設定される。なお、図２（Ｂ）においては、上記左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とを斜線で示している。また、本実施形態においては、上記のように左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んで変形後ベクトル情報Ｖ１を設定するようにしたが、これに限らず、たとえば、直線ではなくスプライン等の曲線で結んで変形後ベクトル情報Ｖ１を設定するようにしてもよいし、必ずしも、左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とを結んで変形後ベクトル情報Ｖ１としなくてもよく、要は、予め設定された複数の画素位置情報を直線または曲線で結んだものであれば如何なるものでもよい。ただし、変形済画像データの各画素位置情報が、いずれかの変形後ベクトル情報Ｖ１に属するように設定されているものとする。

そして、上記のように設定された変形後ベクトル情報Ｖ１は画素位置情報取得部１４に出力される。そして、画素位置情報取得部１４は、入力された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得する。本実施形態では、図２（Ｂ）において斜線で示す画素位置情報が、上記一部の画素位置情報として取得される。なお、本実施形態においては、変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトルの両端の画素位置情報を取得するようにしたが、これに限らず、その他の位置の画素位置情報を取得するようにしてもよいし、もっと多数の画素位置情報を取得するようにしてもよい。ただし、変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報を取得するものではなく、一部の画素位置情報を取得するものとする。

そして、上記のようにして取得された一部の画素位置情報は、逆変換演算部１６に出力され、逆変換演算部１６において、上記一部の画素位置情報にのみ逆変換演算が施される。本実施形態においては、上述したように原画像データを時計周りに回転させる変形を行うので、この変形の逆、つまり反時計周りに回転させる逆変換演算が、上記一部の画素位置情報に施される。具体的には、図２（Ｂ）に示す斜線部分の画素位置情報（ｘ’,ｙ’）に対して、下式に示す逆変換演算が施されて逆変換画素位置情報（ｘ,ｙ）が取得される。

ｘ ＝ ｘ’ｃｏｓθ − ｙ’ｓｉｎθ
ｙ ＝ ｘ’ｓｉｎθ ＋ ｙ’ｃｏｓθ
なお、本実施形態においては、原画像データを時計周りに回転させた変形済画像データを取得するために、逆変換演算として反時計周りの回転を示す演算を行うようにしたが、逆変換演算としてはこれに限らず、変形の方法に応じてその変形の逆を示す演算を適宜選択するようにすればよい。たとえば、原画像データを所定の拡大率で拡大した変形済画像データを取得するためには、上記拡大率に対応した縮小率の縮小演算を逆変換演算とすればよい。具体的には、たとえば、原画像データを２倍に拡大する場合には、同じベクトル情報に属する画素位置情報同士の距離が１/２になるような縮小演算を逆変換演算として採用するようにすればよい。また、たとえば、原画像データの所定の部分の画素データを所定の方向にシフトさせて変形済画像データを取得するためには、画素位置情報を上記所定の方向とは逆の方向にシフトさせる演算を逆変換演算とすればよい。

そして、図２（Ｂ）の斜線部分の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が取得され、その取得された逆変換画素位置情報は原ベクトル情報設定部１８に出力される。そして、原ベクトル情報設定部１８において、図２（Ａ）に示すように、原画像データ上における原ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトルの両端に配置する画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図２（Ａ）に示すような原ベクトル情報Ｖ２が取得される。なお、本実施形態においては、図２（Ａ）に示すように逆変換画素位置情報を直線で結んで原ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしたが、これに限らず、たとえば、直線ではなくスプライン等の曲線で結んで原ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしてもよい。

そして、その原ベクトル情報Ｖ２は原画素データ取得部２０に出力される。そして、原画素データ取得部２０は、入力された原ベクトル情報Ｖ２が表わす原ベクトル上における原画素データｄを原画像データから取得する。具体的には、原画素データ取得部２０は、入力された原ベクトル情報に基づいて、原画像データにおけるＭ行目のＮ番目からＬ番目の画素データをどのようなピッチで読み出すかを示す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、原画像データ部２２に記憶された原画像データの原画素データを読み出す。図３に図２（Ａ）の一部拡大図を示す。たとえば、原ベクトル情報Ｖ２が図３に示すような原ベクトルを表わすものである場合には、３行目の１番目から３番目の原画素データｄと、２行目の４番目から１０番目までの原画素データｄと、１行目の１１番目から１２番目までの原画素データｄをそれぞれ１画素ピッチで読み出す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、図３の斜線部分の原画素データｄを原画像データから読み出す。なお、逆変換画素位置情報の示す位置が原画像データの外側であり、上記位置に原画素データが存在しない場合には、その逆変換画素位置情報の示す位置近傍に位置する原画素データを、上記逆変換画素位置情報に対応する原画素データとして読み出すようにすればよい。また、読出情報における読出ピッチは必ずしも１画素ピッチに限らず、たとえば、１つの原画素データを複数回読み出すようにしてもよいし、原画素データを間引きして読み出すようにしてもよい。そして、上記原ベクトル情報に上記のような読出ピッチ成分を含めるようにしてもよい。

また、本実施形態においては、逆変換演算部１６において取得された逆変換画素位置情報に基づいて原ベクトル情報設定部１８において原ベクトル情報Ｖ２を設定するようにしたが、必ずしも原ベクトル情報Ｖ２を設定する必要はなく、たとえば、逆変換画素位置情報を直接原画素データ取得部２０に入力し、原画素データ取得部２０において、入力された逆変換画素位置情報に基づいて、原画像データにおけるＭ行目のＮ番目からＬ番目の画素データをどのようなピッチで読み出すかを示す読出情報を設定し、その読出情報に基づいて、原画像データ部２２に記憶された原画像データの原画素データを読み出すようにしてもよい。

そして、上記のようにして原画素データ取得部２０により読み出された原画素データは変形済画像データ取得部２４に出力される。そして、変形済画像データ取得部２４は、上記のようにして原ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された原画素データｄを、その原ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の画素位置情報の画素データとする。原ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１とは、所定の原ベクトル情報Ｖ２の逆変換演算前の変形後ベクトル情報Ｖ１である。

そして、上記のようにして各原ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて変形済画像データが取得される。

上記実施形態の画像変形処理装置１０によれば、取得される変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定し、その設定した変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの一部の画素位置情報を取得し、その取得した一部の画素位置情報に対してのみ、上記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して上記一部の画素位置情報に対応する原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、その取得した逆変換画素位置情報を結ぶ、原画像データ上における原ベクトル情報Ｖ２を設定し、その設定した原ベクトル情報Ｖ２が表わす原ベクトル上における原画素データｄを原画像データから取得し、その取得した原画素データｄを変形後ベクトル上における画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して変形済画像データを取得するようにしたので、変形済画像データにおける一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施せばよく、従来のように全ての画素位置情報に逆変換演算を施した場合と比較するとより高速に変形済画像データを取得することができる。

なお、上記のように原画像データを回転させて変形する場合、その回転角度が小さい方がより原画像データに忠実な回転変形を行うことができ、特に、１度〜２度程度回転させる場合には、原画像データにより忠実な回転変形を行うことができる。

なお、上記実施形態においては原画像データを回転させて変形する場合について説明したが、上述したように回転に限らず、自由変形する場合に本発明の画像変形処理方法を採用するようにしてもよい。図４に自由変形の一例を示す。

図４（Ａ）に示すような原画像データを自由変形して図４（Ｂ）に示すような変形済画像データを得る場合には、たとえば、変形後ベクトル情報設定部１２において、図４（Ｂ）に示す斜線分部の画素位置情報をそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定する。そして、画素位置情報取得部１４において、上記変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの、図４（Ｂ）に示す斜線部分の画素位置情報を取得し、逆変換演算部１６において、上記一部の画素位置情報にのみ逆変換演算を施して、図４（Ｂ）の斜線部分の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報を取得する。

そして、上記のようにして取得された逆変換画素位置情報は原ベクトル情報設定部１８に出力され、原ベクトル情報設定部１８において、図４（Ａ）に示すように、原画像データ上における原ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上に配置する４つの画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図４（Ａ）に示すような原ベクトル情報Ｖ２が取得される。そして、原画素データ取得部２０において、入力された原ベクトル情報Ｖ２が表わす原ベクトル上における原画素データｄを原画像データから取得する。そして、上記のようにして原画素データ取得部２０により読み出された原画素データは変形済画像データ取得部２４に出力される。そして、変形済画像データ取得部２４は、上記のようにして原ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された原画素データｄを、その原ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の画素位置情報の画素データとする。そして、上記のようにして各原ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて変形済画像データが取得される。

次に、上記画像変形処理装置を用いた露光装置について詳細に説明する。図５は、上記露光装置の概略構成を示す斜視図である。上記露光装置は、多層プリント配線板の各層の配線パターンを露光する装置であって、その各層の配線パターンを露光するために用いられる露光点データを上記画像変形処理装置を用いて取得する点に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成について説明する。

露光装置３０は、図５に示すように、基板３２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ３４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台３８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド３０が設置されている。移動ステージ３４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド４０によって往復移動可能に支持されている。

設置台３８の中央部には、移動ステージ３４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート４２が設けられている。コの字状のゲート４２の端部の各々は、設置台３８の両側面に固定されている。このゲート４２を挟んで一方の側にはスキャナ４４が設けられ、他方の側には基板３２の先端および後端を検知するための複数のカメラ４６が設けられている。

スキャナ４４およびカメラ４６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ３４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ４４およびカメラ４６は、これらを制御する後述するコントローラに接続されている。

スキャナ４４は、図６および図７（Ｂ）に示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド５０（５０Ａ〜５０Ｊ）を備えている。

各露光ヘッド５０の内部には、図８に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５６が設けられている。ＤＭＤ５６は、マイクロミラー５８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー５８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド５０による露光エリア３２は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。移動ステージ３４の移動に伴い、基板３２には露光ヘッド５０ごとに帯状の露光済み領域５４が形成される。なお、各露光ヘッド５０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、たとえば、レーザ光源などを利用することができる。

露光ヘッド５０の各々に設けられたＤＭＤ５６は、マイクロミラー５８単位でオン/オフ制御され、基板３２には、ＤＭＤ５６のマイクロミラー５８に対応したドットパターン（黒/白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域５４は、図８に示すマイクロミラー５８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、たとえば、図８では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ５６におけるマイクロミラー５８は常にオフ状態となる。

また、図７（Ａ）および（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド５０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。

次に、露光装置３０の電気的構成について説明する。露光装置３０は、図５に示すように、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを有するデータ作成装置６０から出力された、露光すべき配線パターンを表わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータをラスターデータ(ビットマップデータ)に変換するラスター変換処理部５０と、ラスター変換処理部５０において変換されたラスターデータを変形して変形済ラスターデータを取得する画像変形処理装置１０、画像変形処理装置１０において取得された変形済ラスターデータに基づいて露光ヘッド３０のＤＭＤ５６により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する露光ヘッド制御部７２と、移動ステージ３４をステージ移動方向へ移動させる移動機構８０と、本露光装置全体を制御するコントローラ９０とを備えている。なお、移動機構８０は、移動ステージ３４をガイド２０に沿って往復移動させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。また、上記各構成要素の作用については後で詳述する。また、上記露光装置３０における画像変形処理装置１０の構成については上記実施形態と同様である。

次に、上記露光装置３０の作用について図面を参照しながら説明する。

まず、データ作成装置６０において、基板３２に露光すべき配線パターンを表すベクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはラスター変換処理部５０に入力され、ラスター変換処理部５０においてラスターデータに変換されて画像変形処理装置１０に出力され、画像変形処理装置１０の原画像データ記憶部２２によって記憶される。

そして、画像変形処理装置１０において、上記ラスターデータが変形されて変形済ラスターデータが取得されるが、まずは、どのような変形が施されるかを説明する。

上記露光装置３０においては、上述したようにＤＭＤ５６が、各露光ヘッド５０に、そのマイクロミラー５８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、たとえば、基板３２上に、図１０（Ａ）に示すような配線パターンＰを露光する際、上記配線パターンＰを表わすラスターデータＤを、図１０（Ｂ）に示すようにアドレスが連続する方向に順次読み出して露光点データを取得し、ＤＭＤ５６の各マイクロミラー５８に入力したのでは、ＤＭＤ５６の傾きに応じて配線パターンＰも傾いて露光されてしまう。

したがって、図１０（Ｂ）に示すラスターデータＤを利用して図１０（Ａ）に示すような配線パターンＰを露光するためには、ＤＭＤ３６の傾きに応じてラスターデータＤを回転変形し、図１１に示すような変形済ラスターデータＤ’を取得し、この変形済ラスターデータＤ’を、図１１に示すようにアドレスが連続する方向に順次読み出して露光点データを取得し、その取得した露光点データをＤＭＤ５６の各マイクロミラー５８に入力する必要がある。

そこで、上記露光装置３０の画像変形処理装置１０においては、図１２（Ａ）に示すラスターデータＤに回転変形を施し、図１２（Ｂ）に示すような変形済ラスターデータＤ’を取得する。具体的な回転変形の方法については、上記実施形態と同様である。

たとえば、変形後ベクトル情報設定部１２において、図１２（Ｂ）に示すように、取得される変形済ラスターデータＤ’の左端の画素位置情報と右端の画素位置情報とをそれぞれ水平な直線で結んだ変形後ベクトル情報Ｖ１を設定する。そして、画素位置情報取得部１４において、上記変形後ベクトル情報Ｖ１が表わす変形後ベクトル上における画素位置情報のうちの、上記両端の画素位置情報を取得し、逆変換演算部１６において上記両端の画素位置情報にのみ逆変換演算を施し、上記両端の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報を取得する。逆変換演算については、回転行列を用いた上式による逆変換演算と同様である。

そして、上記のようにして取得された逆変換画素位置情報は原ベクトル情報設定部１８に出力され、原ベクトル情報設定部１８において、図１２（Ａ）に示すように、ラスターデータＤ上における原ベクトル情報Ｖ２が設定される。具体的には、変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上に配置する両端の画素位置情報に対応する逆変換画素位置情報が直線により結ばれ、図１２（Ａ）に示すような原ベクトル情報Ｖ２が取得される。そして、原画素データ取得部２０において、入力された原ベクトル情報Ｖ２が表わす原ベクトル上における原画素データをラスターデータＤから取得する。そして、上記のようにして原画素データ取得部２０により読み出された原画素データは変形済画像データ取得部２４に出力される。そして、変形済画像データ取得部２４は、上記のようにして原ベクトル情報Ｖ２に基づいて取得された原画素データを、その原ベクトル情報Ｖ２に対応する変形後ベクトル情報Ｖ１が示す変形後ベクトル上の画素位置情報の画素データとする。そして、上記のようにして各原ベクトル情報Ｖ２に対応する各変形後ベクトル情報の各画素位置情報の画素データが取得され、全ての変形後ベクトル情報の全ての画素位置情報の画素データが取得されて変形済ラスターデータＤ’が取得され、再び記憶される。

一方、上記のようにして変形済ラスターデータＤ’が取得されるとともに、露光装置３０全体の動作を制御するコントローラ９０が移動機構８０に制御信号を出力し、移動機構８０はその制御信号に応じて移動ステージ３４を図１に示す位置からガイド２０に沿ってステージ移動方向へ所望の速度で移動させる。

そして、カメラ４６により基板１２の先端が検出されると露光ヘッド５０による露光が開始される。

具体的には、移動ステージ３４に対する各露光ヘッド５０の各位置に対応する各マイクロミラー５８の露光点データが、露光ヘッド制御部７２によって変形済ラスターデータＤ’から取得され、その取得された露光点データに基づく制御信号が移動ステージ３４の移動に応じて順次露光ヘッド制御部７２から露光ヘッド５０に出力される。

そして、露光ヘッド５０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ５６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板３２を露光する。

また、上記露光装置３０では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光装置について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、上記露光装置３０では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。

また、上記露光装置３０の露光対象である基板３２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板３２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。

また、上記画像変形処理装置１０は、露光装置だけでなく、インクジェット方式などのプリンタにも用いることができる。つまり、上記画像変形処理装置１０において取得された変形済画像データを用いて上記プリンタにより印字するようにしてもよい。

本発明の画像変形処理方法および装置の一実施形態の概略構成を示すブロック図 図１に示す画像変形処理装置の作用を説明するための図 図２の一部拡大図 図１に示す画像変形処理装置のその他の作用を説明するための図 本発明の画像変形処理方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成図 図５の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図 （Ａ）は基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図 図５の露光装置の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す図 図５に示す露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図 図５の露光装置により露光される配線パターンの一例（Ａ）と配線パターンを表わすラスターデータ（Ｂ）を示す図 変形済ラスターデータを示す図 ラスターデータを変形する作用を説明するための図 従来の画像変形処理方法および装置を説明するための図

符号の説明

１０ 画像変形処理装置
１２ 変形後ベクトル設定部
１４ 画素位置情報取得部
１６ 逆変換演算部
１８ 原ベクトル情報設定部
２０ 原画素データ取得部
２２ 原画像データ記憶部
２４ 変形済画像データ取得部
３０ 露光装置
３２ 基板
３４ 移動ステージ
３８ 設置台
４０ ガイド
４２ ゲート
４４ スキャナ
４６ カメラ
５０ 露光ヘッド
５２ 露光エリア
５６ ＤＭＤ
５８ マイクロミラー
Ｄ ラスターデータ
Ｄ’ 変形済ラスターデータ
ｄ 原画素データ
Ｖ１ 変形後ベクトル情報（変形後ベクトル）
Ｖ２ 原ベクトル情報（原ベクトル）

Claims (8)

1. 原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理方法において、
   取得される前記変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定し、
   該設定した変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得し、
   該取得した一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得し、
   該取得した逆変換画素位置情報に基づいて前記原画像データから前記変形後ベクトルに対応する原画素データを取得し、
   該取得した原画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して前記変形済画像データを取得することを特徴とする画像変形処理方法。
2. 前記逆変換画素位置情報を結ぶ、前記原画像データ上における原ベクトル情報を設定し、
   該設定した原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における前記原画素データを前記原画像データから取得し、
   該取得した原画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して前記変形済画像データを取得することを特徴とする請求項１記載の画像変形処理方法。
3. 前記逆変換画素位置情報を曲線で結んで前記原ベクトル情報を設定することを特徴とする請求項２記載の画像変形処理方法。
4. 前記原ベクトル情報に前記原画素データを取得するピッチ成分が含まれているまたは前記原ベクトル情報に基づいて前記原画素データを取得するピッチ成分を設定することを特徴とする請求項２または３記載の画像変形処理方法。
5. 原画像データを変形して変形済画像データを取得する画像変形処理装置において、
   取得される前記変形済画像データの画素データの配置位置を示す画素位置情報を結ぶ変形後ベクトル情報を設定する変形後ベクトル情報設定部と、
   該変形後ベクトル情報設定部により設定された変形後ベクトル情報が表わす変形後ベクトル上における前記画素位置情報のうちの一部の前記画素位置情報を取得する画素位置情報取得部と、
   該画素位置情報取得部により取得された前記一部の画素位置情報に対してのみ、前記変形とは逆の変形を示す逆変換演算を施して前記一部の画素位置情報に対応する前記原画像データ上における逆変換画素位置情報を取得する逆変換演算部と、
   該逆変換演算部により取得された逆変換画素位置情報に基づいて前記原画像データから前記変形後ベクトルに対応する原画素データを取得する原画素データ取得部と、
   該原画素データ取得部により取得された原画素データを前記変形後ベクトル上における前記画素位置情報が示す位置の画素データとして取得して前記変形済画像データを取得する変形済画像データ取得部とを備えたことを特徴とする画像変形処理装置。
6. 前記逆変換画素位置情報を結ぶ、前記原画像データ上における原ベクトル情報を設定する原ベクトル情報設定部をさらに備え、
   前記原画素データ取得部が、前記原ベクトル情報設定部により設定された原ベクトル情報が表わす原ベクトル上における前記原画素データを前記原画像データから取得するものであることを特徴とする請求項５記載の画像変形処理装置。
7. 前記原ベクトル情報設定部が、前記逆変換画素位置情報を曲線で結んで前記原ベクトル情報を設定するものであることを特徴とする請求項６記載の画像変形処理装置。
8. 前記原ベクトル情報に前記原画素データを取得するピッチ成分が含まれているまたは前記原ベクトル情報に基づいて前記原画素データを取得するピッチ成分を設定することを特徴とする請求項６または７記載の画像変形処理装置。

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