KR20080059415A

KR20080059415A - 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법

Info

Publication number: KR20080059415A
Application number: KR1020087010441A
Authority: KR
Inventors: 미츠루 무사노; 유리 카시와이
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2005-09-30
Filing date: 2006-09-29
Publication date: 2008-06-27
Also published as: KR101391215B1; JP2007122041A; WO2007037394A1; US20090059295A1; TW200723852A

Abstract

기판에 형성된 화소 피치와 마이크로미러의 판독간 피치가 다른 경우에 화상 데이터(200)를 메모리 어드레스가 연속하는 미리 분할된 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 메모리에 격납해 두고, 메모리에 격납된 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 각각 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 고속(단시간)으로 판독하여 미러 데이터(202A, 202B)를 작성할 수 있다.

묘화 장치, 화상 데이터의 작성 방법

Description

묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법{PLOTTING DEVICE AND IMAGE DATA CREATION METHOD}

본 발명은 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면에 대하여 주사 방향으로 상대적으로 이동시킴으로써 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상에 화상을 형성하는 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법에 관한 것이다.

또한, 본 발명은 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 정주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 간헐 묘화점 열을 형성함과 아울러 상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향으로 상기 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 상기 간헐 묘화점 열을 보충하는 간헐 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성하는 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법에 관한 것이다.

종래, 프린트 배선판이나 플랫 패널 디스플레이 기판에 소정의 패턴을 기록하는 장치로서, 포토리소그래피 기술을 이용한 노광 장치가 여러가지 제안되어 있다.

상기와 같은 노광 장치로서는, 예컨대 포토레지스트가 도포된 기판상에 광빔을 주주사 및 부주사 방향으로 주사시킴과 아울러 그 광빔을 배선 패턴을 나타내는 화상 데이터에 의거해서 변조함으로써 배선 패턴을 형성하는 노광 장치가 제안되어 있다.

이러한 노광 장치로서, 예컨대 디지털ㆍ마이크로미러ㆍ디바이스(이하, DMD라 함) 등의 공간 광 변조 소자를 이용하여 화상 데이터에 따라 상기 공간 광 변조 소자에 의해 광빔을 변조해서 노광을 행하는 노광 장치가 여러가지 제안되어 있다.

DMD는 실리콘 등의 반도체 기판상의 메모리 어레이(SRAM 어레이)에 미소한 마이크로미러가 2차원상으로 다수 배치되어 구성된 것이다. 그리고, 메모리 어레이에 축적되는 전하에 의한 정전기력을 제어함으로써 마이크로미러를 경사지게 하여 반사면의 각도를 변화시킬 수 있고, 이 반사면의 각도 변화에 의해 묘화면상의 소망하는 위치에 묘화점을 형성해서 화상을 형성할 수 있는 것이다.

그리고, 상기와 같은 DMD를 이용한 노광 장치로서, 본 출원의 출원인은, 예컨대 DMD를 노광면의 주사 방향에 대하여 경사지게 한 채로 DMD를 주사 방향으로 이동시키는 노광 장치를 제안하고 있다(일본 특허 공개 2004-9595호 공보).

이 일본 특허 공개 2004-9595호 공보에 의한 노광 장치는 DMD를 노광면의 주사 방향에 대하여 경사지게 함으로써 노광빔의 주사 궤적(주사선)의 피치를 좁게 해서 주사 방향과 직교하는 방향의 해상도를 높게 함과 아울러 1개의 주사선상을 다른 마이크로미러 열에 의해 반복적으로 노광함으로써 화상 불균일을 적게 한 노광 장치이다.

그런데, 이러한 노광 장치에 있어서, 도 42의 모식도에 도시된 바와 같이, 화소 피치(화상 해상도)가, 예컨대 1[㎛]이고, DMD(2)의 주사 방향으로의 이송 피치(화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치)가 2배인 2[㎛] 등과, 화소 피치와 판독간 피치가 다른 경우를 고려한다.

도 42 예에서는 메모리(하드 디스크나 주 메모리를 포함함)에 격납되어 있는 화소 데이터로 이루어진 화상 데이터(200)중, 동도에 도시된, 예컨대 2행째의 화상 데이터에 의거해 기판상에 1개의 주사선에 대응하는 묘화점 열이 형성되지만 이 1개의 묘화점 열이 미러(A), 미러(B)가 판독간 피치마다 구동 제어됨으로써 형성된다. 이 경우, 미러(마이크로미러)(A)의 판독간 피치의 위상과 미러(마이크로미러)(B)의 판독간 피치의 위상이 1/2 피치만큼 벗어나 있으므로 미러(A)에 대하여, 화소 "2, 4, 6, 8, 10"의 열의 화소 데이터가 메모리 판독 수단에 의해 판독되어 미러(A)에 공급되어 기판상에 묘화점으로서 노광되는 한편, 미러(B)에 대하여, 화소 "1, 3, 5, 7, 9"의 열의 화소 데이터가 메모리 판독 수단에 의해 판독되고 미러(B)에 공급되어 기판상에 묘화점이 노광됨으로써 묘화면으로 2행째의 화소 1 내지 10의 묘화점으로 이루어진 1개의 주사선에 대응하는 묘화점 열로 이루어진 화상이 형성된다.

그러나, 화상 데이터(200)로부터 메모리 판독 수단에 의해 이산적으로 배치된 메모리 어드레스, 이 경우, 1개 걸른 메모리 어드레스를 억세스하면서 화상 데이터를 판독하는 것은 메모리의 제어상 시간이 걸리고, 이 메모리 판독의 억세스 시간에 의해 주사 시간이 제한된다.

또한, 상기와 같은 노광 장치에 의해 다층 프린트 배선판을 형성하도록 한 경우에는 각 층의 배선 패턴의 위치 맞춤을 고도로 행할 필요가 있지만, 각 층을 경쟁하게 하는 프레스 공정에 있어서 기판에 열이 가해지고, 그 열에 의해 기판이 변형되는 경우가 있기 때문에 미리 설정된 위치에 각 층의 배선 패턴을 노광한 것에서는 각 층의 배선 패턴의 기록 위치 어긋남이 발생하고, 각 층의 배선 패턴의 고정밀도의 위치 맞춤이 곤란하게 될 우려가 있다. 또한, 플랫 패널 디스플레이에 있어서도 컬러 필터 패턴을 노광할 때 기판에 가열 처리가 시행되므로 그 열에 의해 기판이 신축되고, R , G, B의 각 색의 기록 위치 어긋남이 발생할 우려가 있다. 또한, 예컨대 기판을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써 기판상을 광빔으로 주사하도록 했을 경우에는 기판을 이동시키는 이동 기구의 제어 정밀도에 따라 기판의 이동 방향에 어긋남이 발생하는 경우가 있고, 이러한 어긋남이 발생하면 역시 배선 패턴 등의 고정밀도의 위치 맞춤이 곤란하게 될 우려가 있다.

기판이 주사 방향으로 신축되어 있을 경우에는 묘화면에 형성되는 화상의 길이 보정이 필요하게 된다. 그리고, 이 길이 보정을 행하기 위해서 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제하는 것이 고려되지만 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제했을 경우에는 상기한 메모리 판독의 억세스 제어가 더욱 복잡하게 된다.

본 발명은 이러한 과제를 고려해서 이루어진 것이며, 화소 피치와 마이크로미러 등에 의해 형성되는 상(묘화점 형성 요소)의 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 다른 경우에 있어서도 화상 데이터로부터 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독하는 처리를 고속(단시간)으로 행하는 것을 가능하게 하는 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 화소 피치와 마이크로미러 등에 의해 형성되는 상(묘화점 형성 요소)의 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 다른 경우에 있어서 또한 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제했을 경우에 있어서도 화상 데이터로부터 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독하는 처리를 고속(단시간)으로 행하는 것을 가능하게 하는 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명은 묘화면상에 형성되는 화상의 길이 보정을 간단한 구성으로 실시하는 것을 가능하게 하는 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에 의한 묘화 장치는 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성하는 묘화 장치에 있어서, 상기 화소 데이터의 화소 피치와 상기 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터를 미리 분할한 분할 화상 데이터로 해서 격납하는 기억 수단을 구비하고, 상기 분할 화상 데이터는 상기 화상 데이터가 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞춰지고, 또한 상기 주사 방향과 상기 기억 수단의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 분할되어 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 상기 화상 데이터를 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 화상 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할한 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하도록 하고 있으므로 화소 피치와 상기 복수의 묘화점 형성 요소의 이송 피치가 다른 경우에 있어서도 분할 화상 데이터로부터 각각 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독함으로써 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다. 본 발명에 의한 묘화 장치는 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성하는 묘화 장치에 있어서, 상기 화상 데이터상에 있어서의 상기 묘화점 형성 요소를 제어하는 상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독 방향에 따른 위상마다 상기 화상 데이터를 분할한 분할 화상 데이터를 격납하는 기억 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 묘화점 형성 요소의 위상마다 화상 데이터를 분할해 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하도록 하고 있으므로 상기 묘화점 형성 요소의 위상마다의 분할 화상 데이터의 처리가 용이해진다.

이 경우, 또한 상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터로부터 판독하는 억세스 수단을 구비하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 억세스 수단이 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터로부터 상기 화소 데이터를 판독하도록 구성하는 것이 바람직하다.

이 경우, 상기 분할 화상 데이터를 상기 주사 방향과 상기 기억 수단의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 격납하는 것이 바람직하다.

이렇게 하면, 또한, 상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터로부터 판독하는 억세스 수단을 구비하고, 상기 억세스 수단은 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터로부터 복수의 상기 화소 데이터를 연속해서 판독할 수 있다.

또한, 상기 묘화점 형성 요소의 상대 이동에 따라 상기 묘화점 형성 요소마다 판독한 상기 화소 데이터를 시계열순으로 상기 묘화점 형성 요소에 부여하여 상기 묘화점 열을 형성하는 것이 바람직하다.

또한, 주사 방향으로 나열되고 서로 격리된 상기 묘화점 형성 요소가 서로 근접한 위치에 상기 묘화점을 묘화하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 묘화면에 대한 상기 묘화점 형성 요소의 배치에 따라 상기 묘화점 형성 요소 각각에 대응하는 상기 위상을 결정하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 분할 화상 데이터마다 압축을 시행하는 것이 바람직하다.

이 경우, 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 판독 위상에 대응하는 상기 분할 화상 데이터로부터 상기 화소 데이터를 적어도 일부가 압축된 상태에서 판독하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 정수배일 때 상기 분할 화상 데이터는 상기 주사 방향과 직교하는 화소 데이터 열 단위로 분할되는 것이 바람직하다.

상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 유리수 배일 때 상기 분할 화상 데이터는 상기 화소 피치를 상기 판독간 피치가 나뉘어 떨어지는 고해상도로 변환한 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터가 작성되는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 판독간 피치가 화소 피치의 정수배가 아닌 경우이어도 유리수 배이면 해상도 변환에 의해 판독간 피치가 정제[본 명세서에서는 실수(A)를 실수(B)로 나누었을 때의 몫이 정수이며 나머지가 없다는 의미]할 수 있는 수의 분할 화상 데이터가 얻어지도록 해상도 변환된 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 화상 형성 위치의 위상에 있었던 상기 분할 화상 데이터를 작성해서 상기 기억 수단에 격납하도록 하고 있으므로 메모리 어드레스의 연속하는 분할 화상 데이터를 얻을 수 있다.

또한, 상기 화소 피치가 상기 판독간 피치의 유리수(P) 배일 때 상기 묘화점 형성 요소의 다른 판독 위상의 수를 상기 유리수(P)를 기약 분수 P=R/Q로 나타낼 때의 분자(R)로 하고, N(N=0, 1…, Q-1) 위상째의 상기 분할 화상 데이터는 다른 판독 위상의 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 화상 데이터로부터 P×i(i=O, 1, …)+N/Q의 정수 부분에 의해 결정되는 순번으로 화소 데이터를 판독하여 작성함으로써 마찬가지로 메모리 어드레스의 연속하는 분할 화상 데이터를 얻을 수 있다.

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제할 경우 상기 분할 화상 데이터로부터 대응하는 화소 데이터를 추가 또는 삭제하고, 상기 주사 방향상, 추가 또는 삭제된 화소 데이터 이후에서 상기 기억 수단의 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독이 계속되도록 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각에 상기 분할 화상 데이터의 재할당이 행해지도록 함으로써 길이 보정을 행해도 기억 수단의 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독을 계속할 수 있다.

또한, 상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 분할 화상 데이터가 기억되어 있는 상기 기억 수단으로부터 화소 데이터를 판독할 때 묘화점을 삭제 또는 추가하는 화소 데이터가 기억되어 있는 메모리 어드레스를 건너뛰어 판독하거나 중복해서 판독하도록 함으로써 분할 화상 데이터의 재할당을 행하지 않고 길이 보정을 행할 수 있다.

본 발명에 의한 화상 데이터의 작성 방법은 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성할 때 이용되는 화상 데이터의 작성 방법에 있어서, 상기 화소 데이터의 화소 피치와 상기 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터를 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할한 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하는 분할 화상 데이터 작성 스텝을 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 분할 화상 데이터 작성 스텝에서는 상기 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 상기 화상 데이터를 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할한 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하도록 하고 있으므로 화소 피치와 상기 복수의 묘화점 형성 요소의 이송 피치가 다른 경우에 있어서도 분할 화상 데이터로부터 각각 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독함으로써 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다.

본 발명에 의한 화상 데이터의 작성 방법은 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성할 때 이용되는 화상 데이터의 작성 방법에 있어서, 상기 화상 데이터상에 있어서의 상기 묘화점 형성 요소를 제어하는 상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독 방향에 따른 위상마다 상기 화상 데이터를 분할해 분할 화상 데이터를 작성하는 분할 스텝과, 상기 분할 화상 데이터를 기억 수단에 격납하는 격납 스텝을 구비하는 것을 특징으로 한다.

이 경우, 또한 상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터로 억세스 수단에 의해 판독하는 억세스 스텝을 구비하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기 억세스 수단은 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터로부터 상기 화소 데이터를 판독하도록 구성하는 것이 바람직하다.

이 경우, 상기 격납 스텝에서는 상기 분할 화상 데이터를 상기 주사 방향과 상기 기억 수단의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 격납하는 것이 바람직하다.

이렇게 하면, 또한, 상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터로부터 억세스 수단에 의해 판독하는 억세스 스텝을 구비하고, 상기 억세스 스텝에서는 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터로부터 복수의 상기 화소 데이터를 연속해서 판독할 수 있다.

또한, 상기 묘화점 열을 형성할 때 상기 묘화점 형성 요소의 상대 이동에 따라 상기 묘화점 형성 요소마다 판독한 상기 화소 데이터를 시계열순으로 상기 묘화점 형성 요소에 부여하여 상기 묘화점 열을 형성하는 것이 바람직하다.

상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 유리수 배일 때 상기 분할 화상 데이터 작성 스텝에서는 상기 화소 피치를 상기 판독간 피치가 나뉘어 떨어지는 고해상도로 변환한 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터를 작성해 기억 수단에 격납하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 상기 판독간 피치가 화소 피치의 정수배가 아닌 경우에 있어서도 유리수 배이면 해상도 변환에 의해 판독간 피치가 정제될 수 있는 수의 분할 화상 데이터가 얻어지도록 해상도 변환된 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 화상 형성 위치의 위상에 있었던 상기 분할 화상 데이터를 작성해서 상기 기억 수단에 격납하도록 하고 있으므로 메모리 어드레스의 연속하는 분할 화상 데이터를 얻을 수 있다.

또한, 상기 화소 피치가 상기 판독간 피치의 유리수(P) 배일 때 상기 묘화점 형성 요소의 다른 판독 위상의 수를 상기 유리수(P)를 기약 분수 P=R/Q로 나타낼 때의 분자(R)로 하고, N(N=0 , 1…, Q-1) 위상째의 분할 화상 데이터는 다른 판독 위상의 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 화상 데이터로부터 P×i(i=O, 1, …)+N/Q의 정수 부분에 의해 결정되는 순번으로 화소 데이터를 판독하여 작성함으로써 마찬가지로 메모리 어드레스의 연속하는 분할 화상 데이터를 얻을 수 있다.

이 경우, 상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제할 경우, 상기 분할 화상 데이터 작성 스텝에서는 상기 분할 화상 데이터로부터 대응하는 화소 데이터를 추가 또는 삭제하고, 상기 주사 방향상, 추가 또는 삭제한 화소 데이터 이후에서 상기 기억 수단의 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독이 계속되도록 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각에 상기 분할 화상 데이터의 재할당을 행하도록 함으로써 길이 보정을 행해도 기억 수단으로부터 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독을 계속할 수 있다.

또한, 상기 분할 화상 데이터 작성 스텝의 다음에, 상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 분할 화상 데이터가 기억되어 있는 상기 기억 수단으로부터 화소 데이터를 판독할 때 묘화점을 삭제 또는 추가하는 화소 데이터가 기억되어 있는 메모리 어드레스를 건너뛰어 판독하거나 중복해서 판독하는 길이 보정 판독 스텝을 더 구비함으로써 분할 화상 데이터의 재할당을 행하지 않고 길이 보정을 행할 수 있다.

또한, 본 발명은 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 정주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 간헐 묘화점 열을 형성함과 아울러 상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향으로 상기 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 상기 간헐 묘화점 열을 보충하는 간헐 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성하는 묘화 장치로서, 상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 해상도와 상기 소정 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터를 미리 분할한 분할 화상 데이터로 해서 격납하는 기억 수단을 구비하고, 상기 분할 화상 데이터는 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞춰지고, 또한 상기 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향이 일치된 분할 화상 데이터 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향이 일치된 분할 화상 데이터로 되어 있는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 묘화점 형성 요소를 묘화면상에 상대적으로 왕복 이동시키고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성할 때에 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 위상에 맞추고, 또한 상기 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하고 있으므로 메모리 판독 수단에 의해 화상 데이터를 연속 억세스해서 판독할 수 있고, 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다.

또한, 본 발명은 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 정주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 간헐 묘화점 열을 형성함과 아울러 상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향으로 상기 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 상기 간헐 묘화점 열을 보충하는 간헐 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성할 때에 이용되는 화상 데이터의 작성 방법에 있어서, 상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 해상도와 상기 소정 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터를 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하는 분할 화상 데이터 작성 스텝을 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명에 의하면, 묘화점 형성 요소를 묘화면상에 왕복 이동시키고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성할 때에 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 위상에 맞추고, 또한 상기 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터로 해서 기억 수단에 격납하고 있으므로 메모리 판독 수단에 의해 화상 데이터를 연속 억세스해서 판독할 수 있고, 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다.

또한, 상기 발명에 있어서, 묘화점 형성 요소로서는 마이크로미러를 구비한 DMD 외에 잉크젯 기록 헤드 등이 포함되고, 묘화점 형성 요소를 묘화면상에 왕복 이동시키는 묘화 장치로서는 1빔 주사 노광기 등이 포함된다.

본 발명에 의하면, 화소 피치와 묘화점 형성 요소의 판독간 피치가 다른 경우에 있어서도 화상 데이터로부터 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독하는 처리를 고속(단시간)으로 행할 수 있다.

또한, 본 발명에 의하면, 화소 피치와 복수의 묘화점 형성 요소의 판독간 피치가 다른 경우로서, 더욱이 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제했을 경우에 있어서도 화상 데이터로부터 메모리 판독 수단에 의해 데이터를 판독하는 처리를 고속(단시간)으로 행할 수 있다.

첨부한 도면과 협동하는 다음 바람직한 실시형태예의 설명으로부터 상기의 목적 및 다른 목적, 특징 및 이점이 보다 명백해질 것이다.

도 1은 본 발명의 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법의 제 1 내지 제 3 실시형태를 이용한 노광 장치의 개략 구성을 나타낸 사시도이다.

도 2는 도 1의 노광 장치 스캐너의 구성을 나타낸 사시도이다.

도 3(A)는 기판의 노광면상에 형성되는 노광 완료 영역을 나타낸 평면도, 도 3(B)는 노광 헤드에 의한 노광 에어리어의 배열을 나타낸 평면도이다.

도 4는 도 1의 노광 헤드에 있어서의 DMD를 나타낸 설명도이다.

도 5는 본 발명의 제 1 내지 제 3 실시형태의 노광 장치의 상기 제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 6(A)는 미러 데이터의 설명도, 도 6(B)는 프레임 데이터의 설명도이다.

도 7은 화상 데이터의 해상도와 DMD를 구성하는 미러의 이송 피치의 관계 설 명도이다.

도 8(A)는 분할전의 화상 데이터의 설명도, 도 8(B)는 분할 화상 데이터의 설명도, 도 8(C)는 미러 데이터의 설명도이다.

도 9는 이상적인 형상의 기판상에 있어서의 기준 마크와 소정의 마이크로미러의 통과 위치 정보의 관계를 나타낸 모식도이다.

도 10은 마이크로미러 노광 궤적 정보의 취득 방법의 설명도이다.

도 11은 마이크로미러 노광 궤적 정보의 취득 방법의 설명도이다.

도 12는 마이크로미러 노광 궤적 정보에 의거해서 미러 데이터를 취득하는 방법의 설명도이다.

도 13은 도 12의 두꺼운 프레임내를 추출한 설명도이다.

도 14는 마이크로미러의 노광 궤적 정보에 의거해서 미러 데이터를 취득하는 방법의 설명도이다.

도 15는 이동 스테이지의 이동 방향 어긋남의 설명도이다.

도 16은 소정의 마이크로미러의 노광 궤적을 나타내는 설명도이다.

도 17은 마이크로미러의 노광 궤적 정보에 의거해서 미러 데이터를 취득하는 방법의 설명도이다.

도 18은 도 17의 두꺼운 프레임내를 추출한 설명도이다.

도 19는 마이크로미러의 노광 궤적 정보 취득 방법의 설명도이다.

도 20은 미러 데이터의 설명도이다.

도 21은 프레임 데이터의 설명도이다.

도 22는 1주사 선분의 화상 데이터에 대한 미러의 노광 궤적 정보의 관계를 나타낸 설명도이다.

도 23은 도 22의 노광 궤적 정보를 참조해서 작성된 미러 데이터의 설명도이다.

도 24는 도 22의 화상 데이터를 5배의 해상도로 변환한 해상도 변환 화상 데이터에 대한 미러의 노광 궤적 정보의 관계를 나타내는 설명도이다.

도 25는 도 24에 도시된 해상도 변환 화상 데이터로부터 9종류의 위상 패턴에 대응해서 작성된 유리수 배 분할에 의한 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 26은 기판의 주사 방향으로의 신축의 설명도이다.

도 27은 기판의 신축에 따른 미러 데이터 취득 방법의 설명도이다.

도 28은 길이 보정전의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 29는 1화소 삽입한 길이 보정후의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 30은 1화소 삭제한 길이 보정후의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 31은 길이 보정전의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 32는 2개소에 1화소를 삽입한 길이 보정후의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 33은 2개소에서 1화소를 삭제한 길이 보정후의 화상 데이터와 노광 궤적 정보 위상의 관계 설명도이다.

도 34는 길이 보정전의 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 35(A)는 2개소에 1화소를 삽입한 길이 보정후의 분할 화상 데이터의 판독 방법의 설명도, 도 35(B)는 판독된 후의 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 36(A)는 2개소에서 1화소를 삭제한 길이 보정후의 분할 화상 데이터의 판독 방법의 설명도, 도 36(B)는 판독된 후의 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 37은 도 1에 도시된 노광 장치에 있어서의 스캐너를 1빔 주사 노광 장치로 변경한 사시도를 나타내고 있다.

도 38은 왕복 주사에 의해 1주사선 선상에 짝수 화소와 홀수 화소로 이루어지는 묘화점 열을 형성하는 설명도이다.

도 39는 복수의 마이크로미러에 의한 다중 노광의 설명도이다.

도 40은 종류의 위상 패턴에 대응해서 작성된 유리수 배 분할에 의한 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 41(A)는 위상마다 정리한 분할 화상 데이터의 설명도, 도 41(B)는 위상 분할한 라인마다 정리한 분할 화상 데이터의 설명도, 도 41(C)는 세그먼트 분할한 단위로 각 위상의 데이터를 교대로 배치한 분할 화상 데이터의 설명도이다.

도 42는 화상 데이터의 해상도와 DMD를 구성하는 미러의 이송 피치의 관계 설명도이다.

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 묘화 장치 및 화상 데이터의 작성 방법의 실시형태를 이용한 노광 장치에 대해 상세히 설명한다.

도 1은 제 1 내지 제 3 실시형태에 의한 노광 장치(10)의 개략 구성을 나타내는 사시도이다. 이 노광 장치(10)는 다층 프린트 배선판인 기판(12)의 각 층의 배선 패턴을 노광하는 장치이다.

노광 장치(10)는 묘화면을 구비한 기판(12)을 표면에 흡착해서 유지하는 평판상의 이동 스테이지(14)를 구비하고 있다. 그리고, 4개의 다리부(16)로 지지된 두꺼운 판상의 설치대(18)의 상면에는 스테이지 이동 방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)가 설치되어 있다. 이동 스테이지(14)는 그 길이 방향이 스테이지 이동 방향을 향하도록 배치됨과 아울러 가이드(20)에 의해 왕복 이동 가능하게 지지되어 있다.

설치대(18)의 중앙부에는 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 걸치도록 ㄷ자형의 게이트(22)가 설치되어 있다. ㄷ자형의 게이트(22)의 단부 각각은 설치대(18)의 양측면에 고정되어 있다. 이 게이트(22)를 사이에 두고 한쪽의 측에는 스캐너(24)가 설치되어 있고, 다른쪽 측에는 기판(12)의 선단 및 후단과 기판(12)에 미리 설치되어 있는 원형의 복수의 기준 마크(12a)의 위치를 검지하기 위한 복수의 카메라(26)가 설치되어 있다.

여기에서, 기판(12)에 있어서의 기준 마크(12a)는 미리 설정된 기준 마크 위치 정보에 의거해서 기판(12)상에 형성된 예컨대 구멍이다. 또한, 구멍 외에 랜드, 비아, 또는 에칭 마크를 이용해도 좋다. 또한, 기판(12)에 형성된 소정의 패턴, 예 컨대 노광하려고 하는 층의 하층의 패턴 등을 기준 마크(12a)로 해서 이용하도록 해도 좋다. 또한, 도 1에 있어서는 기준 마크(12a)를 6개밖에 나타내지 않고 있지만 실제로는 다수의 기준 마크(12a)가 형성되어 있다. 기준 마크(12a)는 후술하는 얼라인먼트 보정에 사용되는 기준 위치이므로 기판(12)의 변이나 코너에 의해 대체해도 좋다.

스캐너(24) 및 카메라(26)는 게이트(22)에 각각 장착되어 이동 스테이지(14)의 이동 경로의 상방에 고정 배치되어 있다. 또한, 스캐너(24) 및 카메라(26)는 이것들을 제어하는 후술하는 컨트롤러(70)에 접속되어 있다.

스캐너(24)는, 도 2 및 도 3(B)에 도시된 바와 같이, 2행 5열의 거의 매트릭스상으로 배열된 10개의 노광 헤드(30)[30(A) 내지 30(J)]를 구비하고 있다.

각 노광 헤드(30)의 내부에는, 도 4에 도시된 바와 같이, 입사된 광빔을 공간 변조하는 공간 광 변조 소자(SLM)인 디지털ㆍ마이크로미러ㆍ디바이스(DMD)(36)가 설치되어 있다. DMD(36)는 마이크로미러(38)가 직교하는 방향으로 2차원상으로 다수 배열된 것이며, 그 마이크로미러(38)의 열방향이 주사 방향과 소정의 설정 경사 각도를 이루도록 장착되어 있다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 의한 노광 에어리어(32)[32(A) 내지 32(J) : 도 3 참조]는 주사 방향에 대하여 경사진 직사각형의 에어리어가 된다. 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 기판(12)에는 노광 헤드(30)마다, 도 3(A)에 도시된 바와 같이, 밴드 형상의 노광 완료 영역(34)이 형성된다. 또한, 각 노광 헤드(30)에 광빔을 입사하는 광원에 대해서는 도시되진 않았지만, 예컨대 레이저 광원 등을 이용할 수 있다.

노광 헤드(30)의 각각에 설치된 DMD(36)는 마이크로미러(38) 단위로 온ㆍ오프 제어되고, 기판(12)에는 DMD(36)의 마이크로미러(38)에 대응한 도트 패턴[마이크로미러(38)가 온인 경우에 도트가 형성되고, 오프인 경우 도트가 형성되지 않음]이 노광된다. 전술한 밴드 형상의 노광 완료 영역(34)은 도 4에 도시된 마이크로미러(38)에 대응한 2차원 배열된 도트에 의해 형성된다. 2차원 배열의 도트 패턴은 주사 방향에 대하여 경사짐으로써 주사 방향으로 나열된 도트가 주사 방향과 교차하는 방향으로 나열된 도트간을 통과하게 되어 있어 고해상도화를 도모할 수 있다. 또한, 경사 각도 조정의 변동에 의해 이용하지 않는 도트가 존재할 경우도 있고, 예컨대, 도 4에서는 사선이라고 한 도트는 이용하지 않는 도트가 되고, 이 도트에 대응하는 DMD(36)에 있어서의 마이크로미러(38)는 항상 오프 상태가 된다.

또한, 도 3(A) 및 도 3(B)에 도시된 바와 같이, 밴드 형상의 노광 완료 영역(34)의 각각이 인접하는 노광 완료 영역(34)과 부분적으로 겹치도록 라인상으로 배열된 각 행의 노광 헤드(30)의 각각은 그 배열 방향으로 소정 간격 어긋나게 배치되어 있다. 따라서, 예컨대 1행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 에어리어(32A), 노광 에어리어(32A)의 우측에 위치하는 노광 에어리어(32C) 사이의 노광할 수 없는 부분은 2행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 에어리어(32B)에 의해 노광된다. 마찬가지로, 노광 에어리어(32B)와 노광 에어리어(32B)의 우측에 위치하는 노광 에어리어(32D) 사이의 노광할 수 없는 부분은 노광 에어리어(32C)에 의해 노광된다.

이어서, 도 5를 참조하여 이 노광 장치(10)를 포함하는 노광 기록 시스템(4)의 전기적 구성에 대해서 설명한다.

이 노광 기록 시스템(4)은 기본적으로는 노광하려고 하는 배선 패턴을 나타내는 화상 데이터를 작성해 벡터 데이터로서 출력하는 CAD 장치(CAD 서버)(6)와, CAD 장치(6)로부터 전송된 벡터 데이터를 래스터 이미지 데이터(raster image data)인 비트맵 데이터(bitmap data)로 변환해서 출력하는 래스터 이미지 프로세서(RIP : raster image processor)(8)와, RIP(8)로부터 전송된 화상 데이터를 일단 기억하고, DMD(36)에서 취급하는데도 용이한 화상 데이터로 변환하는 컨트롤러(70)를 포함하는 노광 장치(10)로 구성되어 있다.

모식적으로 내부구성을 그리고 있는 컨트롤러(70)는 컴퓨터에 있어서 도시되지 않은 CPU와, 하드 디스크(82), 주 메모리(84), 미러 데이터 미러 데이터 일시 격납용 버퍼(이하, 미러 버퍼라 함)(90), 프레임 데이터 미러 데이터 일시 격납용 버퍼(이하, 프레임 버퍼라 함)(94)를 포함하는 기억 수단(80)을 포함하고, CPU는 하드 디스크(82)에 기억되어 있는 프로그램을 실행함으로써 분할 화상 데이터 작성 수단(44) 등 후술하는 각종 기능 수단으로서 동작한다.

또한, 미러 데이터는, 도 42에 도시된 화상 데이터(200)를 참조해서 설명하면, 도 6(A)에 도시된 바와 같이, DMD(36)를 구성하는 미러(A), 미러(B),…에 의한 기판(12)의 노광점(묘화점)의 각 궤적[미러의 상(묘화점 형성 요소)의 궤적으로 고려할 수도 있음]에 따른 미러마다 작성된 데이터(미러 단위의 데이터)이다.

또한, 프레임 데이터는, 도 6(B)에 도시된 바와 같이, 미러 데이터를 DMD(36)의 노광 시점 t1, t2,… 마다 정리한 데이터이며, 미러 데이터를 매트릭스에 있어서의 전치 처리와 같은 처리로 변환해서 얻어지는 데이터이다.

후술하는 바와 같이, DMD(36)에 의한 기판(12)의 노광시에 화상 데이터에 의거해 미러 데이터가 작성되고, 이 미러 데이터로부터 프레임 데이터가 작성된다.

또한, 상기 CPU에 의해 달성되는 기능으로서는 도 5의 컨트롤러(70)의 모식적인 구성으로 나타낸 바와 같이, 또한, 카메라(26)에 의해 촬영된 기준 마크(12a)의 화상에 의거해서 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 취득하는 검출 위치 정보 취득 수단(52)과, 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향(주사 방향)과 직교하는 방향으로의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단(55)과, 어긋남 정보 취득 수단(55)에 의해 취득된 어긋남 정보와 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 취득된 검출 위치 정보에 의거하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12)상의 각 마이크로미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)과, 이 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 취득된 각 마이크로미러(38)마다의 노광 궤적 정보와 RIP(8)로부터 공급된 화상 데이터에 의거하여 각 마이크로미러(38)마다의 미러 데이터를 작성하는 미러 데이터 작성 수단(41)과, 미러 데이터 작성 수단(41)에 의해 취득된 각 마이크로미러(38)마다의 미러 데이터로부터 상술한 프레임 데이터를 작성하는 프레임 데이터 작성 수단(42)과, 시스템 관리 서버(11)로부터 공급되는 기판(12)에 형성되는 화소 피치와 마이크로미러(38)의 판독간 피치가 다른지의 여부를 판정하는 판정 수단(43)과, 다르다고 판정했을 경우에 화상 데이터를 각 마이크로미러(38)의 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치(묘화점, 노광점)의 위상에 맞추고, 또한 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할한 분할 화상 데이터로서 기억 수단으로서의 주 메모리(84) 또는 하드 디 스크(82)에 격납시키는 분할 화상 데이터 작성 수단(44)과, 기억 수단(80)에 대한 메모리 판독ㆍ기록을 행하는 메모리 억세스 수단(45)을 구비한다.

노광 장치(10)는 또한, 프레임 데이터 작성 수단(42)에 의해 작성된 프레임 데이터에 의거해서 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 의해 노광되도록 노광 헤드(30)를 제어하는 노광 헤드 제어부(58)와, 이동 스테이지(14)를 스테이지 이동 방향으로 이동시키는 이동 기구(60)를 구비하고 있다. 또한, 이동 기구(60)는 이동 스테이지(14)를 가이드(20)를 따라 왕복 이동시키는 것이면 어떤 기지의 구성을 이용해도 좋다.

이 제 1 실시형태에 의한 노광 장치(10)를 포함하는 노광 기록 시스템(4)은 기본적으로는 이상과 같이 구성되는 것이고, 이어서 노광 장치(10)의 동작에 대해서 설명한다.

우선, CAD 장치(6)에 있어서, 기판(12)에 노광하려고 하는 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터가 작성된다. 그리고, 그 벡터 데이터는 RIP(8)에 입력되어 RIP(8) 에 있어서 래스터 데이터로 변환되어 메모리 억세스 수단(45)을 통해 노광 장치(10)내의 하드 디스크(82)에 기억된다.

하드 디스크(82)에 기억된 래스터 데이터는 도 42를 재게한 도 7에 도시된 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)인 것으로 한다.

화상 데이터(200)가 하드 디스크(82)에 격납되었을 때 판정 수단(43)은 시스템 관리 서버(11)로부터 공급되는 기판(12)에 형성되는 화소 피치와 판독간 피치가 다른지의 여부를 판정한다(판정 스텝).

이 도 7 예에 있어서는 화소 피치(여기서는, 주사 방향의 1화소의 크기)가 10[㎛]이고, 기판(12)의 주사 방향에 따른 DMD(36)[마이크로미러(38)]의 판독간 피치가 그 정수배인 2배의 20[㎛]인 것으로 한다. 즉, 판정 수단(43)에 의해 화소 피치와 판독간 피치가 다르다고 판정된다.

그리고, 다르다고 판정했을 경우에는 분할 화상 데이터 작성 수단(44)은 메모리 억세스 수단(45)을 이용하여 화상 데이터(200)를 마이크로미러(38)의 각각의, 이 실시형태에서는 이해의 용이화 때문에 미러(A)와 미러(B)의 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상(도 7 중 각 화살표의 선단 위치로 함)에 맞추고, 또한 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 분할한 분할 화상 데이터로서 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납한다(분할 화상 데이터 작성 스텝).

즉, 도 8(A)에 도시된 화상 데이터(200)를, 도 8(B)에 도시된 바와 같이, 미러(A)와 같은 화소 "2, 4, 6, 8, 10"의 열의 화소 데이터를 이용하는 마이크로미러(38)용의 분할 화상 데이터(200A)와, 미러(A)와 판독간 피치가 1/2 피치 다른 미러(B)와 같은 화소 "1, 3, 5, 7, 9"의 열[해칭(해칭)으로 나타냄]의 화소 데이터를 이용하는 마이크로미러(38)용의 분할 화상 데이터(200B)로 분할하고, 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)의 메모리 어드레스가 연속하는 위치에 일시 격납한다.

한편, 상기한 바와 같이 해서 분할 화상 데이터(200A, 200B)가 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납되면 노광 장치(10) 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(70)가 이동 기구(60)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(60)는 그 제어 신 호에 따라서 이동 스테이지(14)를 도 1에 나타낸 위치로부터 가이드(20)를 따라 일단 상류측의 소정의 초기 위치까지 이동시킨 후, 하류측을 향해서 소망하는 속도로 이동시킨다.

또한, 상기 상류측은 도 1에 있어서의 우측, 즉 게이트(22)에 대하여 스캐너(24)가 설치되어 있는 측이며, 상기 하류측은 도 1에 있어서의 좌측, 즉 게이트(22)에 대하여 카메라(26)가 설치되어 있는 측이다.

그리고, 상기한 바와 같이 해서 이동하는 이동 스테이지(14)상의 기판(12)이 복수의 카메라(26) 아래를 통과할 때 이것들의 카메라(26)에 의해 기판(12)이 촬영되고, 그 촬영 화상을 나타내는 촬영 화상 데이터가 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 입력된다.

검출 위치 정보 취득 수단(52)은 입력된 촬영 화상 데이터에 의거해서 기판(12)의 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득한다. 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보의 취득 방법에 대해서는 예컨대 원형의 화상을 추출함으로써 취득하도록 하면 좋지만, 다른 어떤 기지의 취득 방법을 이용해도 좋다. 또한, 상기 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 구체적으로는 좌표값으로서 취득되지만, 그 좌표값의 원점은 예컨대 기판(12)의 촬영 화상 데이터의 4개의 모서리 중 1개의 모서리로 해도 좋고, 촬영 화상 데이터에 있어서의 미리 설정된 소정의 위치라도 좋고, 복수의 기준 마크(12a) 중 1개의 기준 마크(12a)의 위치로 해도 좋다. 상기한 바와 같이, 이 실시형태에 있어서는 카메라(26)와 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 위치 정보 검출 수단이 구성되어 있다.

그리고, 상기한 바와 같이 해서 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 노광 궤적 정보 취득 수단(54)으로 출력된다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서, 입력된 검출 위치 정보에 의거하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12)상의 각 마이크로미러(38)마다의 노광 궤적의 정보가 취득된다. 구체적으로는, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에는 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로미러(38)의 상이 통과하는 위치를 나타내는 통과 위치 정보가 각 마이크로미러(38)마다 미리 설정되어 있다. 상기 통과 위치 정보는 이동 스테이지(14)상의 기판(12)의 설치 위치에 대하여 각 노광 헤드(30)의 설치 위치에 의해 미리 설정되어 있는 것이며, 상기 기준 마크 위치 정보 및 상기 검출 위치 정보와 같은 점을 원점으로 하여 벡터 또는 복수점의 좌표값으로 표시되는 것이다. 통과 위치 정보는 예컨대 이동 스테이지(14)와 동일 평면상으로 「<」자상의 슬릿을 형성하고, 그 슬릿을 통과하는 빔을 검출하는 에어리어 이미지 센서를 설치하고, 이 에어리어 이미지 센서에서 빔 위치를 검출함으로써 구할 수도 있다.

도 9에 프레스 공정 등을 경유하지 않은 이상적인 형상의 기판(12), 즉 왜곡 등의 변형이 발생하지 않고 기준 마크(12a)가 미리 설정된 기준 마크 위치 정보(12b)가 나타내는 위치에 배치되어 있는 기판(12)과 소정의 마이크로미러(38)의 통과 위치 정보(12c)의 관계를 나타내는 모식도를 나타낸다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서는, 도 10에 도시된 바와 같 이, 주사 방향과 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)를 연결하는 직선과 각 마이크로미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선의 교점의 좌표값이 구해진다. 즉, 도 10에 있어서의 ×표의 점의 좌표값이 구해지고, 또한, ×표와 그 ×표에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d)의 거리가 구해지고, 상기 인접하는 검출 위치 정보(12d) 중 한쪽의 검출 위치 정보(12d)와 ×표의 거리와, 다른쪽의 검출 위치 정보(12d)와 ×표의 거리의 비가 구해진다. 구체적으로는, 도 10에 있어서의 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및, a4:b4가 노광 궤적 정보로서 구해진다. 상기한 바와 같이 해서 구해진 비가 변형후의 기판(12)상에 있어서의 마이크로미러(38)의 노광 궤적(묘화점 형성 궤적)을 나타낸다. 즉, 실제의 노광시의 기판(12)상에 있어서의 마이크로미러(38)의 노광 궤적을 나타낸다.

또한, 예컨대, 통과 위치 정보(12c)가, 도 11에 도시된 바와 같이, 검출 위치 정보(12d)로 둘러싸이는 범위외에 위치할 경우에는 도 11에 도시된 바와 같은 외분에 의한 비가 구해진다.

그리고, 상기한 바와 같이 해서 각 마이크로미러(38)마다 구해진 노광 궤적 정보가 미러 데이터 작성 수단(41)에 입력된다.

미러 데이터 작성 수단(41)은 상기한 바와 같이 해서 입력된 노광 궤적 정보에 의거하여 각 마이크로미러(38)용의 미러 데이터를 분할 화상 데이터(200A) 또는 분할 화상 데이터(200B)로부터 메모리 억세스 수단(45)에 의해 취득해서 미러 버퍼(90)에 격납한다.

이 경우, 도 8(C)에 도시된 바와 같이, 미러(A)에 대한 미러 데이터(202A)는 분할 화상 데이터(200A)로부터 연속 어드레스 지정에 의해 미러 버퍼(90)에 격납될 수 있고, 미러(B)에 대한 미러 데이터(202B)도 분할 화상 데이터(200B)로부터 연속 어드레스 지정에 의해 미러 버퍼(90)에 격납될 수 있다.

보다 구체적으로는, 도 12에 도시된 바와 같이, 화상 데이터(D)[분할 화상 데이터(200A)와 분할 화상 데이터(200B)를 모식적으로 나타낸 화상 데이터]에는, 도 12에 도시된 바와 같이, 상기 기준 마크 위치 정보(12b)가 나타내는 위치에 대응한 위치에 배치된 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)가 첨부되어 있고, 주사 방향과 직교하는 방향으로 인접하는 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 연결하는 직선을 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 의거해서 분할한 점의 좌표값이 구해진다. 즉, 이하의 식을 충족시키도록 점의 좌표값이 구해진다.

a1:b1=A1:B1

a2:b2=A2:B2

a3:b3=A3:B3

a4:b4=A4:B4

그리고, 상기한 바와 같이 해서 구해진 점을 연결하는 직선상에 있는 화소 데이터(D)가 실제로 마이크로미러(38)의 노광 궤적 정보에 대응한 미러 데이터이다. 따라서, 노광 화상 데이터(D)상을 상기 직선이 통과하는 점의 화소 데이터(D)가 미러 데이터[미러 데이터(202A, 202B)에 대응함]로서 취득된다. 또한, 화소 데이터(D)는 노광 화상 데이터(D)를 구성하는 최소 단위의 데이터이다. 도 12의 굵은선으로 도시된 범위를 추출한 도면을 도 13에 나타낸다. 구체적으로는 도 13의 해 칭된 부분의 화소 데이터가 미러 데이터로서 취득된다. 또한, 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 의거해서 분할한 점을 연결한 직선이 노광 화상 데이터(D)상에 존재하지 않을 경우에는 그 직선상의 미러 데이터는 0으로 취득된다.

또한, 상기한 바와 같이 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 의거해서 분할한 점을 직선으로 연결하고, 그 직선상에 있는 화소 데이터를 미러 데이터로서 취득하도록 해도 좋고, 도 14에 도시된 바와 같이, 상기 점을 스플라인 보간(spline interpolation) 등에 의해 곡선으로 연결하고, 그 곡선상에 있는 화소 데이터를 미러 데이터로서 취득하도록 해도 좋다.

상기한 바와 같이, 스플라인 보간 등에 의해 곡선으로 연결하도록 하면 보다 기판(12)의 변형에 충실한 노광점 데이터를 취득할 수 있다. 또한, 상기 스플라인 보간 등의 연산 방법에 기판(12) 재질의 특성(예컨대, 특정 방향으로만 신축하지 않는 등)을 반영하도록 하면, 더욱이 기판(12)의 변형에 충실한 미러 데이터를 취득할 수 있다.

미러 데이터에는 기판(12)의 변형 외에 이동 스테이지(14)의 이동 궤적의 어긋남 정보를 포함시킬 수 있다.

즉, 어긋남 정보 취득 수단(55)에 의해 이동 스테이지(14)의 어긋남 정보가 취득된다. 어긋남 정보는, 도 15에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 스테이지 이동 방향에 대하여 실제의 이동 스테이지(14)의 이동 방향의 어긋남을 나타낸 것이다. 구체적으로는, 도 15에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 스테이지 이동 방향으로의 이동 궤적에 대한 실제의 이동 스테이지(14)의 이동 궤적의 스테이지 이동 방향과 직교하는 방향에 관한 어긋남량을 소정의 간격으로 취득한 것이다. 도 15에 도시된 점선 화살표의 방향과 길이가 어긋남량을 나타내는 것이다.

여기에서, 상기한 바와 같이 이동 스테이지(14)의 이동 궤적에 어긋남이 있을 경우, 노광시의 각 마이크로미러(38)의 기판(12)상에 있어서의 실제의 노광 궤적은, 도 16에 도시된 바와 같이, 미리 설정된 각 마이크로미러(38)의 통과 위치 정보(12c)에 대하여 상기 어긋남량에 따라서 어긋나게 된다. 따라서, 각 마이크로미러(38)의 실제의 노광 궤적에 대응한 미러 데이터를 취득할 필요가 있다. 또한, 도 16에 도시된 바와 같이, 마이크로미러(m1)와 마이크로미러(m2)는 기판(12)상에 있어서의 같은 위치를 통과하는 것이지만 상기와 같은 이동 스테이지(14)의 이동 궤적에 어긋남이 있으면 이것들의 실제의 노광 궤적은 위상이 어긋나게 된다. 따라서, 이것들의 위상 어긋남도 고려해서 미러 데이터를 취득할 필요가 있다.

따라서, 노광 장치(10)에 있어서는 상기와 같은 각 마이크로미러(38)의 노광 궤적의 어긋남량에 따른 미러 데이터가 취득된다. 구체적으로는, 미리 이동 스테이지(14)의 어긋남량이 계측되고, 그 계측된 어긋남량이 상기한 바와 같이 해서 어긋남 정보 취득 수단(55)에 의해 취득된다.

그리고, 어긋남 정보 취득 수단(55)은 취득한 어긋남량을 노광 궤적 정보 취득 수단(54)으로 출력한다. 어긋남량의 계측 방법으로서는, 예컨대 IC 웨이퍼ㆍ스텝퍼 장치 등에 이용되는 레이저 광을 이용한 측정 방법을 이용할 수 있다. 예컨대, 이동 스테이지(14)에 스테이지 이동 방향으로 연장된 반사면을 형성함과 아울러 그 반사면을 향해서 레이저 광을 사출하는 레이저 광원 및 상기 반사면에 있어 서 반사된 반사광을 검출하는 검출부를 설치하고, 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 반사광의 위상 어긋남을 순차적으로 검출부에 의해 검출함으로써 상기 어긋남량을 계측할 수 있다.

노광 궤적 정보 취득 수단(54)에는 각 마이크로미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)가 설정되어 있고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)은 입력된 어긋남량과 각 마이크로미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)에 의거하여 노광시의 각 마이크로미러(38)마다의 기판(12)상에 있어서의 실제의 노광 궤적을 나타내는 노광 궤적 정보를 취득한다. 또한, 도 16에 도시된 통과 위치 정보(12c)는 도 9 내지 도 11을 참조해서 설명한 통과 위치 정보(12c)의 설명과 마찬가지이다.

그리고, 그 각 마이크로미러(38)마다의 노광 궤적 정보를 미러 데이터 작성 수단(41)으로 출력한다. 그리고, 미러 데이터 작성 수단(41)은 각 마이크로미러(38)마다의 노광 궤적 정보에 대응하는 미러 데이터를 일시 기억된 노광 화상 데이터(D)로부터 취득한다.

구체적으로는 도 17에 도시된 노광 화상 데이터(D)에 있어서 곡선으로 나타낸 노광 궤적 정보(M1, M2)상에 배치된 미러 데이터가 취득된다. 도 17의 굵은선으로 도시된 범위를 추출한 도면을 도 18에 나타낸다. 구체적으로는, 도 18의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 도 17에 도시된 노광 궤적 정보(M1)는 도 16에 도시된 마이크로미러(m1)의 노광 궤적 정보이고, 도 17에 도시된 노광 궤적 정보(M2)는 도 16에 도시된 마이크로미러(m2)의 노광 궤적 정보이다. 또한, 노광 화상 데이터(D)는 통과 위치 정보(12c)와 상대적인 위치 관계를 갖고, 노광 화상 데이터(D)의 각 화소 데이터(D)의 배치 기준이 되는 원점과 상기 통과 위치 정보(12c)의 원점은 일치하고 있는 것으로 한다.

노광 장치(10)에 있어서는 상기한 바와 같이 해서 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 있어서 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보와, 상기한 바와 같이 해서 어긋남 정보 취득 수단(55)에 있어서 취득된 어긋남 정보가 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 입력된다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)은 입력된 상기 검출 위치 정보와 상기 어긋남 정보에 의거하여 노광시의 각 마이크로미러(38)마다의 기판(12)상에 있어서의 실제의 노광 궤적을 나타내는 노광 궤적 정보를 취득한다.

구체적으로는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서, 도 9 내지 도 11을 참조해서 설명한 바와 같이, 주사 방향과 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)끼리를 연결한 직선과 각 마이크로미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선의 교점의 좌표값이 구해지고, 그 교점과 그 교점에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d)의 거리가 구해지고, 상기 인접하는 검출 위치 정보(12d) 중 한쪽의 검출 위치 정보(12d)와 상기 교점의 거리와, 다른쪽의 검출 위치 정보(12d)와 상기 교점의 거리의 비가 구해진다.

한편, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)은 입력된 어긋남량과 각 마이크로미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)에 의거하여 도 17에 곡선으로 나타낸 바와 같은 각 마이크로미러(38)마다의 기판(12)상에 있어서의 가노광 궤적 정보(假露光軌跡情報)를 취득한다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)은 상기한 바와 같이 해서 구해진 비와 가노광 궤적 정보를 노광 궤적 정보로서 미러 데이터 작성 수단(41)으로 출력한다.

그리고, 미러 데이터 작성 수단(41)은, 도 19에 도시된 바와 같이, 노광 화상 데이터(D)에 있어서, 주사 방향과 직교하는 방향으로 인접하는 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 연결하는 직선을 입력된 비에 의거해서 분할한 점을 구한 후 그 점을 연결하는 직선을 구하고, 그 직선의 주사 방향에 대한 경사만큼 가노광 궤적 정보를 경사시켜서 노광 궤적 정보를 나타내는 곡선을 구하고, 그 곡선상에 있어서의 화소 데이터(D)를 노광점 데이터로서 취득한다. 즉, 도 19의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 도 19에 있어서의 A1:B1, A2:B2는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)으로부터 입력된 비가 a1:b1, a2:b2일 경우에 a1:b1=A1:B1, a2:b2=A2:B2를 충족시키는 비이다.

그리고, 마이크로미러(38)마다의 미러 데이터가 각각 작성되고, 그 마이크로미러(38)마다의 미러 데이터가 미러 버퍼(90)에 격납된다.

한편, 상기한 바와 같이 마이크로미러(38)마다의 미러 데이터가 미러 버퍼(90)에 격납되면 이동 스테이지(14)가 다시 상류측으로 소망하는 속도로 이동된다.

그리고, 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되면 노광이 개시된다. 구체적으로는, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 미러 데이터에 의거한 제어 신호가 출력되고, 노광 헤드(30)는 입력된 제어 신호에 의거해 서 DMD(36)의 마이크로미러를 온ㆍ오프 시켜서 기판(12)을 노광한다.

또한, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)로 제어 신호가 출력될 때에는 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 대응한 제어 신호가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)로 출력되지만, 이때, 예컨대 도 20[도 6(A)와 동일한 기술을 나타내는 도면]에 도시된 바와 같이, 각 마이크로미러(38)마다 취득된 m개의 미러 데이터의 열의 각 열로부터 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 미러 데이터를 1개씩 순차적으로 판독하여 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)로 출력하도록 해도 좋지만, 이 실시형태에서는 프레임 데이터 작성 수단(42)에 의해, 도 20에 도시된 바와 같이, 취득된 미러 데이터에 90° 회전 처리 또는 행렬을 이용한 전치 변환 등을 실시하고, 도 21[도 6(B)와 동일한 기술을 나타내는 도면]에 나타낸 도시된 바와 같이, 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 대응하는 프레임 데이터(1 내지 m)를 생성하고, 이 프레임 데이터(1 내지 m)를 각 노광 헤드(30)에 순차적으로 출력하도록 하고 있다.

그리고, 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 각 노광 헤드(30)에 제어 신호가 출력되어 노광이 행해지고, 기판(12)의 후단이 카메라(26)에 의해 검출되면 노광이 종료된다.

이상과 같이 상술한 제 1 실시형태에 의하면, 기판(12)에 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어진 화상 데이터(200)에 의거하여 복수의 마이크로미러(38)의 상(묘화점 형성 요소)을 기판(묘화면)(12)상의 주사 방향을 따라 상대적 으로 이동시키고 기판(묘화면)(12)상에 묘화점 열을 형성함으로써 기판(묘화면)(12)상에 화상을 노광 기록(형성)하는 노광 장치(묘화 장치)(10)에 있어서, 기판(묘화면)(12)에 형성된 화소 피치(10[㎛])와 판독간 피치(20[㎛])가 다른 경우에 화상 데이터(200)를 미리 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 격납하는 기억 수단(80)[주 메모리(84) 또는 하드 디스크(82)]을 구비하고 있다.

이 분할 화상 데이터(200A, 200B)는 화상 데이터(200)가 복수의 마이크로미러(38)의 각각의 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞춰지고, 또한 주사 방향과 기억 수단(80)의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 분할된다.

이와 같이, 화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어진 화상 데이터(200)를 복수의 마이크로미러(38)의 각각의 주사 방향으로의 화상 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할된 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 기억 수단(80)에 격납하도록 하고 있으므로 화소 피치와 복수의 마이크로미러(38)의 판독간 피치가 다른 경우에도 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 각각 메모리 억세스 수단(메모리 판독 수단)(45)에 의해 데이터를 판독함으로써 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다.

또한, 도 12 내지 도 19에 도시된 바와 같은 얼라인먼트가 다름으로 인한 보정(경사 보정)은 각 분할 화상 데이터(200A, 200B)내에서 행할 수 있다.

이어서, 제 2 실시형태에 대해 설명한다.

상술한 제 1 실시형태에 있어서는 마이크로미러(38)에 대한 판독간 피치는 화소 피치의 2배와 정수배이고, 정수배일 경우에는 이 2배일 때와 마찬가지로 화상 데이터를 (1/정수배)로 분할한 분할 화상 데이터로서 기억 수단(80)에 메모리 어드레스가 연속되는 방향으로 격납시킴으로써 고속 판독이 달성된다.

그러나, 정수배가 아니더라도 유리수 배(유리수 배로 해도 하드웨어나 소프트웨어의 제약을 될 수 있는 한 적게 하기 위해서 바람직하게는 정수배로부터 너무 멀리 떨어지지 않은 정수배에 가까운 유리수 배)이면 위상 분할에 의한 화상 데이터의 분할이 가능하다. 이 경우에는 화상을 고해상도화하고, 이때의 화상 해상도(화소 피치를 겉보기상 분할해서 짧게 한 화소 피치)에서 판독간 피치가 나머지 없이 나누어 떨어지면 위상 분할에 의한 화상 데이터의 분할이 가능하다.

이하, 이 컨셉에 의거한 제 2 실시형태에 대해서 보다 구체적으로 설명한다.

예컨대, 화소 피치가 0.5[㎛]이며, 판독간 피치가 0.9[㎛]일 경우를 고려한다. 이 경우, 판독간 피치는 화소 피치의 유리수 배(0.9/0.5=9/5)이다.

도 22는 화소 데이터로 이루어지는 1주사 선분의 화상 데이터(204)에 대한 미러(a, b, c) 의 노광 궤적 정보의 관계를 나타내고 있다. 실제상, 노광 궤적 정보는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 얻어진다.

도 23은 미러 데이터 작성 수단(41)에 의해 도 22의 노광 궤적 정보를 참조해서 작성된 미러(a, b, c)에 대한 미러 데이터(206a, 206b, 206c)를 나타내고 있다.

이때, 분할 화상 데이터 작성 수단(44)은 화소 피치 0.5[㎛]를 판독간 피치 0.9[㎛]에 대하여, 화소 피치 0.5[㎛]의 정수분의 1배의 화소 피치(정수배 해상도)가 마찬가지가 되도록 해상도 변환한다. 여기에서는 화소 피치 0.5[㎛]를 5배(정수 배) 높은 해상도(정수분의 1배의 화소 피치) 0.1[㎛]로 변환하면, 이 정수배 고해상도 O.1[㎛]로 판독간 피치 0.9[㎛]를 나누면, 0.9/0.1=9로 나누어 떨어지므로 이 몫 9가 위상 패턴의 수가 된다.

도 24는 1주사 선분의 화상 데이터(204)를 해상도 0.1[㎛]의 해상도 변환후 화상 데이터(214)로 변환한 도면을 나타내고 있다.

도 25는 도 24에 도시된 해상도 변환후 화상 데이터(214)로부터 9종류의 위상 패턴에 대응하고, 분할 화상 데이터 작성 수단(44)에 의해 작성된 분할 화상 데이터(2041 내지 2049)를 나타낸다. 이 9종류의 분할 화상 데이터(2041 내지 2049)를 메모리 어드레스가 연속되는 방향으로 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납시킴으로써 미러(a, b, c)용의 분할 화상 데이터(2047, 2045, 2049) 외에 판독간 피치 0.9[㎛]의 나머지의 도시되지 않은 마이크로미러(38)의 모두에 대한 메모리 어드레스의 연속한 분할 화상 데이터를 얻을 수 있다.

이렇게 상술한 제 2 실시형태에서는 마이크로미러(38)의 판독간 피치가 화소 피치의 유리수 배인 경우, 판정 수단(43)에 의해 판독간 피치 0.9[㎛]가 화소 피치 0.5[㎛]의 유리수 배 9/5인 것으로 판정되었을 때, 분할 화상 데이터 작성 수단(44)은 화소 피치 0.5[㎛]를 판독간 피치 0.9[㎛]가 나누어 떨어지는 고해상도 0.1[㎛]로 변환한 해상도 변환후 화상 데이터(214)와 노광 궤적 정보로부터 각 마이크로미러(38)의 각각의 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터(2041 내지 2049)를 작성해 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납하도록 하고 있다.

따라서, 판독간 피치 0.9[㎛]가 화소 피치 0.5[㎛]의 정수배가 아닌 경우에 있어서도 유리수 배 9/5이면 해상도 변환에 의해 판독간 피치 0.9[㎛]가 정제{실수(A)(A=0.9)를 실수(B)(B=O.1)로 나누었을 때 몫(C)이 정수로, 나머지가 없다는 의미}할 수 있는 수 9의 분할 화상 데이터가 얻어지도록 해상도가 고해상도 0.1[㎛]로 변환된 해상도 변환후 화상 데이터(214)로 DMD(36)를 구성하는 각 마이크로미러(38)의 각각의 주사 방향으로의 화상 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터(2041 내지 2049)를 작성해서 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납하도록 하고 있으므로 메모리 어드레스의 연속하는 분할 화상 데이터(2041 내지 2049)를 얻을 수 있다.

이어서, 제 3 실시형태에 대해 설명한다.

이 제 3 실시형태에서는 기판(12)이 주사 방향으로 신축되어 있을 경우에, 묘화면에 형성되는 화상의 길이 보정이 필요한 경우의 메모리 판독의 억세스 제어를 고속으로 행하도록 한 구성에 대해서 설명한다.

예컨대, 도 26에 도시된 바와 같이, 주사 방향에 대해서 기판(12)이 신축되어 있을 경우에는 그 신축의 정도에 따라 화상 데이터(D)에 있어서의 1개의 화소 데이터(D)로부터 취득하는 미러 데이터의 수를 변화시키도록 해도 좋다. 구체적으로는, 예컨대 상기한 바와 같이, 주사 방향으로 기판(12)이 신축되고, 검출 위치 정보(12d)와 통과 위치 정보(12c)가 도 26에 도시된 바와 같은 관계가 되고, 주사 방향으로 인접하는 검출 위치 정보(12d)의 간격이 이상적인 길이(L)의 영역(A)과, 기판(12)이 주사 방향으로 연장되어 상기 간격이 길이(L)의 2배가 된 영역(B)과, 기판(12)이 주사 방향으로 축소되어 상기 간격이 길이(L)의 1/2이 된 영역(C)이 존재할 경우에는 예컨대, 도 27에 도시된 바와 같이, 영역(A)에 대응하는 미러 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(D)에 대하여 1개의 미러 데이터를 취득하고, 영역(B)에 대응하는 미러 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(D)에 대하여 2개의 미러 데이터를 취득하고, 영역(C)의 미러 데이터에 대해서는 2개의 화소 데이터에 대하여 1개의 미러 데이터를 취득하도록 해도 좋다. 또한, 도 27 있어서의 점선 화살표는 각 영역에 대해서 취득하는 미러 데이터의 수와 그 미러 데이터에 대응하는 화소 데이터(D)를 나타내고 있다.

또한, 2개의 화소 데이터에 대하여 1개의 미러 데이터를 취득할 때에는 2개의 화소 데이터 중 1개의 화소 데이터를 미러 데이터로서 선택해서 취득하도록 하면 좋다. 상기한 바와 같이, 기판(12)의 신축에 따라서 미러 데이터의 수를 변화시키도록 하면 기판(12)상의 소망하는 위치에 소망하는 노광 화상을 노광할 수 있다.

이어서, 길이 보정을 행하고, 위상 분할 화상 데이터로부터 화소 데이터를 연속 억세스하는 방법에 대해서 설명한다.

도 28에 도시된 바와 같이, 화소 피치 0.5[㎛]의 화상 데이터(220)에 대하여, 이송 피치 1[㎛]의 4개의 미러(p, q, r, s)가 화상 형성용으로 이용되는 것으로 한다.

여기에서, 도 29에 도시된 바와 같이, 화소 "7"과 같은 화소 데이터의 화소 "7'"를 1화소 삽입한 화상 데이터(221)로 했을 경우에 각 미러(p, q, r, s)에 의한 주사 궤적(노광 궤적)에 관계되는 위상이 삽입 전후에서 변경된다.

마찬가지로, 도 30에 도시된 바와 같이, 화소 "7"를 삭제해서 화상 데이터(209)로 했을 경우에 각 미러(p, q, r, s)에 의한 주사 궤적에 관계되는 위상이 삭제 전후에서 변경된다.

이어서, 도 31 내지 도 36(B)를 참조하여 이와 같이 길이 보정을 행했을 경우의 분할 화상 데이터로부터 될 수 있는 한 메모리 어드레스의 연속성을 무너뜨리지 않고 억세스하는 데이터 억세스 처리에 대해서 설명한다.

도 31은 길이 보정전의 화소 "1 내지 32"까지의 화상 데이터(230)와 미러(p, q, r, s)의 위상 관계를 나타내고 있다.

도 32는 길이 보정전의 화상 데이터(230)에 대하여 화소 "11"과 화소 "22"의 화소 데이터를 추가한 2화소 데이터 추가의 길이 보정후의 화상 데이터(232)와 미러(p, q, r, s)의 위상 관계를 나타내고 있다.

도 33은 길이 보정전의 화상 데이터(230)에 대하여 화소 "11"과 화상 "22"의 화소 데이터를 삭제한 2화소 데이터 삭제의 길이 보정후의 화상 데이터(220)와 미러(p, q, r, s)의 위상 관계를 나타내고 있다.

이때, 길이 보정전의 미러(p, q, r, s)에 대한 분할 화상 데이터는 도 31을 참조하면, 미러(p, q, r, s)에 의한 궤적의 화살표의 선단 위치로부터 도 34에 도시된 바와 같은 분할 화상 데이터(230p, 230q, 230r, 230s)가 얻어진다.

길이 보정전의 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)를 나타내는 도 34 중 Index "0, 1, …7"은 메모리 어드레스의 연속하는 방향이다. 또한, 도 34에 도시된 바와 같이, 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)의 화상 데이터 파일 번호를 각각 FileNo=O, 1, 2, 3으로 한다. 또한, 도 34에 있어서, 하향의 화살선은 데이터 추가의 정보를 나타내고, 해칭은 데이터 삭제의 정보를 나타낸다.

그렇게 하면, 데이터 추가의 경우의 미러(p)용의 분할 화상 데이터의 판독쪽을 예로 설명하면, 미러(p)는 화소 "1, 5, 9"를 판독할 때 도 32, 도 34, 도 35(A)를 참조하면, 분할 화상 데이터(230p)가 할당되는 것으로 판명되지만 다음에 노광하는 화소 "12, 16, 20"을 판독할 때 하향의 화살선을 참조하고, 분할 화상 데이터(230s)가 할당되고, 다음에 노광하는 화소 "23, 27, 31"을 판독할 때 하향의 화살선을 참조하고, 분할 화상 데이터(230q)가 할당되는 것이 밝혀진다. 이렇게 판독함으로써, 도 35(B)에 도시된 바와 같이, 2 데이터 추가후의 판독 화상 데이터(240P)가 바람직하게 얻어진다.

마찬가지로, 데이터 삭제의 경우의 미러(p)용의 분할 화상 데이터의 판독쪽을 예로 설명하면, 도 33, 도 34, 도 36(A)를 참조하면, 미러(p)는 화소 "1, 5, 9"를 판독할 때 분할 화상 데이터(230p)가 할당되는 것으로 판명되지만 다음에 노광하는 화소 "14, 18"을 판독할 때 삭제 화소 "11"을 참조하면, 분할 화상 데이터(230r)가 할당되고, 다음에 노광하는 화소 "23, 27, 31"을 판독할 때 삭제 화소 "22"를 참조하면, 분할 화상 데이터(230q)가 할당되는 것이 밝혀진다. 이렇게 판독함으로써, 도 36(B)에 도시된 바와 같이, 2 데이터 삭제후의 판독 화상 데이터(250p)가 바람직하게 얻어진다.

이상 설명한 바와 같이, 제 3 실시형태에 의하면, 기판(12)에 형성되는 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 길이 보정전의 화상 데이터(230)에 화소 데이터를 추가 또는 삭제할 경우, 분할 화상 데이터 작성 수단(44)은 길이 보정전의 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)로부터 대응하는 화소 데이터를 추가 또는 삭제하고, 주사 방향상, 추가 또는 삭제한 화소 데이터 이후에서 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독이 계속되도록 도 34에 도시된 바와 같은 하향 화살표에 대응하는 추가 정보, 해칭에 대응하는 삭제 정보를 길이 보정전의 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)에 마크를 붙여서 기억해 두면, 이 마크에 따라, 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)의 재할당을 행하도록 함으로써 길이 보정을 행해도, 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)로부터 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독을 계속할 수 있다.

또한, 길이 보정시에, 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)에서, 실제로 화소 데이터의 추가나 화소 데이터의 삭제를 행하지 않고, 묘화점을 삭제 또는 추가하는 화소 데이터가 기억되어 있는 메모리 어드레스를 건너뛰어 판독(삭제의 경우) 또는 중복해서 판독(추가의 경우)하도록 하면 분할 화상 데이터(230p, 230r, 230q, 230s)의 재할당을 행하지 않고 길이 보정을 행할 수 있다.

이어서, 본 발명을 1빔 주사 노광 장치에 적용한 제 4 실시형태에 대해서 설명한다.

도 37은 도 1에 도시된 노광 장치(10)에 있어서의 스캐너(24)를 1빔 주사 노광 장치(24A)로 변경한 사시도를 나타내고 있다. 이 1빔 주사 노광 장치(24A)는 광학 테이블(300)을 구비하고, 이 광학 테이블(300)상에 장착된 레이저 발생 장치(302)로부터 출력된 레이저빔이 광변조기(304)에 의해 화상 신호에 의거해 온ㆍ 오프 변조되고, 렌즈(306), 반사 미러(308)를 통해서 광편향기인 주사용의 갈바노미터 미러(scanning galvanometer mirror)(310)에 입사된다.

갈바노미터 미러(310)에 의해 편향 왕복 주사된 레이저빔이 주사 렌즈(312), 반사 미러(314), 광학 테이블(300)상의 슬릿을 통해서 기판(12)상을 왕복 주사한다. 또한, 왕복 주사측의 광편향기로서는 갈바노미터 미러(310)를 대체해서 공진형 미러를 사용할 수 있다.

이 경우, 도 38에 도시된 바와 같이, 1빔 주사 노광 장치(24A)는 기판(12)상 좌측으로부터 우측으로(정주사 방향이라 함) 주사해서 짝수 묘화점의 간헐 묘화점 열을 기판(12)상에 형성함과 아울러 기판(12)상 우측으로부터 좌측으로(상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향이라고 함) 주사해서 상기 짝수 묘화점의 간헐 묘화점 열을 보충하는 홀수 묘화점의 간헐 묘화점 열을 형성하고, 기판(12)상에 연속 묘화점 열로 이루어지는 화상을 형성한다.

이 경우에도, 기판(12)에 형성되는 화소 피치에 대하여 이송 피치(판독간 피치)가 2배가 되어 있다고 생각할 수 있다.

따라서, 화상 데이터를 갈바노미터 미러(310)에 의한 정주사 방향 및, 역주사 방향으로의 위상에 맞추고, 또한 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터 및 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터로서 하드 디스크(82) 또는 주 메모리(84)에 격납시킴으로써 메모리 억세스 수단(45)에 의해 분할 화상 데이터로부터 화상 데이터를 연속 억세스해서 판독할 수 있고, 고속(단시간)으로 판독 처리를 행할 수 있다. 이 경우, 기판(12)의 변형 등은 화상 데이터의 변경에 의해 흡수하고, 노광 궤적에 대응한 화상상의 미러 데이터 취득 경로는 변경하지 않도록 즉, 데이터를 판독하는 행은 변경하지 않도록 해도 좋다.

또한, 상기의 제 1 내지 제 3 실시형태에서는 묘화점 형성 요소로서의 공간 광 변조 소자로서 DMD(36)를 구비한 노광 장치(10)에 대해서 설명했지만, 이러한 반사형 공간 광 변조 소자 이외에 투과형 공간 광 변조 소자를 사용할 수도 있다. 예컨대, 액정 셀을 이용할 수 있다. LED(발광 다이오드) 어레이를 사용할 수도 있다.

또한, 상기 제 1 내지 제 3 실시형태에서는 소위 플랫 베드 타입(flat-bed type)의 노광 장치를 예로 들었지만, 감광 재료가 외면 또는 내면에 감겨있는 드럼을 구비한 소위 아웃터 드럼 타입(outer-drum type) 또는 이너 드럼 타입(inner-drum type)의 노광 장치로 해도 좋다.

또한, 상기 제 1 내지 제 4 실시형태의 노광 대상인 기판(12)은 프린트 배선기판뿐만 아니라, 플랫 패널 디스플레이의 기판으로 해도 좋다. 또한, 기판(12)의 형상은 시트상의 것으로 해도, 긴형상의 것(플렉서블 기판 등)으로 해도 좋다.

또한, 본 발명은 잉크젯 방식 등의 프린터에 있어서의 묘화에도 적용할 수 있다. 예컨대, 잉크의 토출에 의한 묘화점을 본 발명과 마찬가지로 형성할 수 있다. 즉, 본 발명에 있어서의 묘화점 형성 영역을 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착되는 영역으로서 고려할 수 있다.

화상 데이터를 격납하는 메모리는 주 메모리(84)에 사용하고 있는 DRAM 외에 SRAM으로 해도 좋다. SRAM의 경우, 연속적으로 비트 억세스 가능한 방향을 어드레스의 연속 방향으로 정의해도 좋다.

분할 화상 데이터 작성 수단(44)으로 작성한 분할 화상 데이터마다 데이터 압축 수단(51)에 의해 압축 처리를 행하여 주 메모리(84)에 기억하도록 해도 좋다. 압축 처리로서, 예컨대 데이터 중에 같은 부호가 연속해서 나열되어 있을 경우에, 그 "부호"와 "개수"에 의해 표현하는 것으로 압축하는 런 랭스 압축(RLE)을 이용하는 경우, 압축 데이터를 그대로 판독하면 그것이 압축된 미러 데이터(각 미러에 부여해야 할 시계열 데이터)가 된다. 소정 비트만큼의 판독 단위씩 데이터를 판독할 경우, 판독 단위의 경계 부분에서는 부분적으로 압축 데이터가 해동되지만 그 밖의 부분은 압축된 그대로의 상태를 유지할 수 있다.

기판(12)에 대한 묘화는, 예컨대 도 39에 도시된 바와 같이, 주사 방향(y방향)의 주사선(150)상에 서로 격리된 2개 이상의 마이크로미러(38)에 의한 빔이 서로 근접한 위치에 묘화점을 형성하는 다중 노광에 의해 묘화를 행하는 것이 바람직하다. 다중 노광은 예컨대, 빔의 나열 방향 중 주사 방향으로 각도(θ)가 근접한 쪽으로 나열된 빔열(rb)이 인접한 다른 빔열(rb)과 주사 방향(Y)으로 겹치도록 배치함으로써 실현된다.

이어서, 판독간 피치가 화소 피치의 유리수 배일 경우의 위상 분할에 의한 화상 데이터의 분할의 제 2 실시형태의 변형예(리샘플링 처리라 함)에 대해서 설명한다.

도 40은 화소 피치(f)의 분할전의 오리지널 화상 데이터(260)를 판독간 피치 1.25×f의 다른 판독 위상의 수가 5개(0 위상째로부터 4 위상째)의 마이크로미러(a 내지 e)의 상(묘화점 형성 요소)에 의해 묘화하는 예를 게시하고 있다.

0 위상째의 마이크로미러(a)의 판독 위상은 0, 1 위상째의 마이크로미러(b)의 판독 위상은 O.25, 2 위상째의 마이크로미러(c)의 판독 위상은 O.5, 3 위상째의 마이크로미러(d)의 판독 위상은 O.75, 4 위상째의 마이크로미러(e)의 판독 위상은 1이다.

여기서, 화소 피치(f)가 판독간 피치 1.25f의 유리수 배(P)인 것을 고려하면, 유리수(P)를 기약 분수 P=R/Q로 나타낼 때의 분자(R)가 묘화점 형성 요소의 다른 위상의 수가 된다. 즉, P=R/Q=5/4=1.25로 나타냈을 때의 분자(R)=5가 다른 위상(0 위상째 내지 4 위상째)의 수가 된다.

이 경우, N(N=O, 1, 2, 3, 4) 위상째의 분할 화상 데이터는 다른 판독 위상의 상기 묘화점 형성 요소마다 오리지널 화상 데이터(260)로 다음 (1)식으로 결정되는 순번의 화소 데이터를 판독하여 작성할 수 있다.

[P×i(i=O, 1,…)+N/4=Pi+N/Q] …(1)

단, (1)식에서 [Z]는 Z의 정수 부분을 나타낸다.

구체적으로, N=O 위상째의 미러(A)에 부여하는 분할 화상 데이터(2050)(도 40 참조)는 1.25×i(i=0, 1, 2…)의 정수 부분이므로 [0]=0, [1.25]=1, [2.5]=2, [3.75]=3, [5]=5, [6.25]=6, [7.5]=7, [8.75]=8, [10]=10, [11.25]=11, [12.5]=12, [13.75]=13, [15]=15,…로 결정되는 순번의 화소 데이터를 화상 데이터(260)로부터 판독하여 작성된다.

또한, N=1 위상째의 미러(B)에 부여하는 분할 화상 데이터(2051)는 1.25×i(i=0, 1, 2…)+0.25의 정수 부분이므로 [0.25]=0, [1.5]=1, [2.75]=2, [4]=4, [5.25]=5, [6.5]=6, [7.75]=7, [9]=9, [10.25]=10, [11.5]=11, [12.75]=12, [14]=14, [15.25]=15,…로 결정되는 순번의 화소 데이터를 화상 데이터(260)로부터 판독하여 작성된다. 이와 같이, 판독간 피치, 도 40 예에서는 1.25f가 화소 피치(f)의 유리수(P) 배인 경우, 묘화점 형성 요소의 다른 위상의 수(R)는 정수(Q)에 대하여 P×Q의 값이 최소가 되는 정수로 결정된다. 이 도 40 예에서는 다른 위상의 수(R)는 P×Q=1.25×4=5로 결정된다.

상술한 분할 화상 데이터 파일로서의 격납 방법은, 도 41(A)에 도시된 바와 같이, 완전히 위상마다 다른 분할 화상 데이터(270A, 270B)의 파일로 하는 것 이외에, 도 41(B)에 도시된 바와 같이, 위상 분할한 라인마다 정리하거나, 도 41(C)에 도시된 바와 같이, 라인 방향으로 세그먼트 분할한 후에 위상 분할하여 세그먼트 단위로 격납하는 방책 등이 있다.

즉, 위상을 분할할 경우에, 도 41(A)에 도시된 바와 같이, 각 분할 화상 데이터(270A, 270B)를 다른 파일로서 형성해도 좋고, 1개의 파일 중에서 위상마다 격납 영역을 나눈 분할 화상 데이터로 해도 좋다. 예컨대, 도 41(B)에 도시된 바와 같이, 1개의 파일 중에서 각 위상(위상0, 위상1)의 데이터를 예컨대 1라인 단위로 교대로 배치한 분할 화상 데이터(272)로 해도 좋고, 도 41(C)에 도시된 바와 같이, 세그먼트 분할된 단위(세그먼트0, 세그먼트1)에서 각 위상의 데이터를 교대로 배치한 분할 화상 데이터(274)로 해도 좋다. 이 경우, 각 위상에 대응하는 데이터를 각 각 별개의 분할 화상 데이터로 간주해도 좋다. 또한, 도 41(B) 및 도 41(C) 중의 라인 번호(라인O, 라인1, 라인2,…)는 도 41(A) 중의 라인 번호에 대응하고 있다.

Claims

화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성하는 묘화 장치에 있어서:

상기 화소 데이터의 화소 피치와 상기 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터(200)를 미리 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 격납하는 기억 수단(80)을 구비하고,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)는 상기 화상 데이터(200)가 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞춰지고, 또한 상기 주사 방향과 상기 기억 수단(80)의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 분할되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성하는 묘화 장치에 있어서:

상기 화상 데이터(200)상에 있어서의 상기 묘화점 형성 요소를 제어하는 상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독 방향에 따른 위상마다 상기 화상 데이터(200)를 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 격납하는 기억 수단(80)을 구비하는 것 을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 판독하는 억세스 수단(45)을 더 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 3 항에 있어서,

상기 억세스 수단(45)은 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 상기 화소 데이터를 판독하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 상기 주사 방향과 상기 기억 수단(80)의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 격납하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 5 항에 있어서,

상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 판독하는 억세스 수단(45)을 더 구비하 고, 상기 억세스 수단(45)은 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 복수의 상기 화소 데이터를 연속해서 판독하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 5 항에 있어서,

상기 묘화점 형성 요소의 상대 이동에 따라 상기 묘화점 형성 요소마다 판독한 상기 화소 데이터를 시계열순으로 상기 묘화점 형성 요소에 부여하여 상기 묘화점 열을 형성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

주사 방향으로 나열되고 서로 격리된 상기 묘화점 형성 요소가 서로 근접한 위치에 상기 묘화점을 묘화하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 묘화면에 대한 상기 묘화점 형성 요소의 배치에 따라 상기 묘화점 형성 요소 각각에 대응하는 상기 위상을 결정하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)마다 압축을 시행하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 10 항에 있어서,

상기 묘화점 형성 요소마다 상기 판독 위상에 대응하는 상기 분할 화상 데이터(2OOA, 200B)로부터 상기 화소 데이터를 적어도 일부가 압축된 상태에서 판독하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 정수배일 때,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)는,

상기 주사 방향과 직교하는 화소 데이터 열 단위로 분할되는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 유리수 배일 때,

상기 분할 화상 데이터는,

상기 화소 피치를 상기 판독간 피치가 나뉘어 떨어지는 고해상도로 변환한 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터가 작성되는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 화소 피치가 상기 판독간 피치의 유리수(P) 배일 때 상기 묘화점 형성 요소의 다른 판독 위상의 수를 상기 유리수(P)를 기약 분수 P=R/Q로 나타낼 때의 분자(R)로 하고,

N(N=0, 1…, Q-1) 위상째의 분할 화상 데이터를 다른 판독 위상의 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 화상 데이터로부터 P×i(i=O, 1,…)+N/Q의 정수 부분에 의해 결정되는 순번으로 화소 데이터를 판독하여 작성하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제할 경우,

상기 분할 화상 데이터로부터 대응하는 화소 데이터가 추가 또는 삭제되고, 상기 주사 방향상, 추가 또는 삭제된 화소 데이터 이후에, 상기 기억 수단(80)의 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독이 계속되도록 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각에 상기 분할 화상 데이터의 재할당이 행해지는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 분할 화상 데이터가 기억되어 있는 상기 기억 수단(80)으로부터 화소 데이터를 판독할 때 묘화점을 삭제 또는 추가하는 화소 데이터가 기억되어 있는 메모리 어드레스를 건너뛰어 판독 또는 중복해서 판독하는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성할 때 이용되는 화상 데이터의 작성 방법에 있어서:

상기 화소 데이터의 화소 피치와 상기 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터(200)를 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 미리 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 기억 수단(80)에 격납시키는 분할 화상 데이터 작성 스텝을 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)에 의거해 복수의 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 주사 방향을 따라 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 묘화점 열을 형성함으로써 상기 묘화면상에 화상을 형성할 때 이용되는 화상 데이터의 작 성 방법에 있어서:

상기 화상 데이터(200)상에 있어서의 상기 묘화점 형성 요소를 제어하는 상기 화소 데이터의 판독 위치의 판독 방향에 따른 위상마다 상기 화상 데이터(200)를 분할해 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 작성하는 분할 스텝과,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 기억 수단(80)에 격납하는 격납 스텝을 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 억세스 수단(45)에 의해 판독하는 억세스 스텝을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 19 항에 있어서,

상기 억세스 수단(45)은 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 상기 화소 데이터를 판독하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 격납 스텝에서는 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)를 상기 주사 방향과 상기 기억 수단(80)의 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시켜서 격납하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 21 항에 있어서,

상기 위상마다 상기 묘화점 형성 요소에 부여하기 위한 상기 화소 데이터를 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 억세스 수단(45)에 의해 판독하는 억세스 스텝을 더 구비하고, 상기 억세스 스텝에서는 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 복수의 상기 화소 데이터를 연속해서 판독하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 21 항에 있어서,

상기 묘화점 열을 형성할 때 상기 묘화점 형성 요소의 상대 이동에 따라 상기 묘화점 형성 요소마다 판독한 상기 화소 데이터를 시계열순으로 상기 묘화점 형성 요소에 부여하여 상기 묘화점 열을 형성하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

주사 방향으로 나열되고 서로 격리된 상기 묘화점 형성 요소가 서로 근접한 위치에 상기 묘화점을 묘화하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 묘화면에 대한 상기 묘화점 형성 요소의 배치에 따라 상기 묘화점 형성 요소 각각에 대응하는 상기 위상을 결정하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)마다 압축을 시행하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 26 항에 있어서,

상기 묘화점 형성 요소마다 상기 판독 위상에 대응하는 상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)로부터 상기 화소 데이터를 적어도 일부가 압축된 상태에서 판독하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 화소 데이터 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 정수배일 때,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)는,

상기 주사 방향과 직교하는 화소 데이터 열 단위로 분할되는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 화소 데이터 판독 위치의 판독간 피치가 상기 화소 피치의 유리수 배일 때,

상기 분할 화상 데이터 작성 스텝에서는 상기 화소 피치를 상기 판독간 피치가 나뉘어 떨어지는 고해상도로 변환한 해상도 변환후 화상 데이터로부터 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각의 상기 주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 있었던 분할 화상 데이터를 작성하고, 상기 기억 수단(80)에 격납하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 화소 피치가 상기 판독간 피치의 유리수(P) 배일 때, 상기 묘화점 형성 요소의 다른 판독 위상의 수를 상기 유리수(P)를 기약 분수 P=R/Q로 나타낼 때의 분자(R)로 하고,

N(N=0, 1…, Q-1) 위상째의 분할 화상 데이터는 다른 판독 위상의 상기 묘화점 형성 요소마다 상기 화상 데이터로부터 P×i(i=O, 1…)+N/Q의 정수 부분에 의해 결정되는 순번으로 화소 데이터를 판독하여 작성하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 화상 데이터에 화소 데이터를 추가 또는 삭제할 경우,

상기 분할 화상 데이터 작성 스텝에서는 상기 분할 화상 데이터로부터 대응하는 화소 데이터를 추가 또는 삭제하고, 상기 주사 방향상, 추가 또는 삭제한 화소 데이터 이후에서 상기 기억 수단(80)의 메모리 어드레스의 연속 억세스 판독이 계속되도록 상기 복수의 묘화점 형성 요소 각각에 상기 분할 화상 데이터의 재할당을 행하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
제 18 항에 있어서,

상기 분할 화상 데이터 작성 스텝의 다음에,

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 길이 보정을 행하기 위해서 상기 분할 화상 데이터가 기억되어 있는 상기 기억 수단(80)으로부터 화소 데이터를 판독할 때 묘화점을 삭제 또는 추가하는 화소 데이터가 기억되어 있는 메모리 어드레스를 건너뛰어 판독하거나 중복해서 판독하는 길이 보정 판독 스텝을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.
화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 정주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 간헐 묘화점 열을 형성함과 아울러 상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향으로 상기 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 상기 간헐 묘화점 열을 보충하는 간헐 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상 에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성하는 묘화 장치에 있어서:

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 해상도와 상기 소정 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터를 미리 분할한 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 격납하는 기억 수단(80)을 구비하고,

상기 분할 화상 데이터(200A, 200B)는 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞춰지고, 또한 상기 정주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향이 일치된 분할 화상 데이터(200A, 200B) 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향이 일치된 분할 화상 데이터(200A, 200B)로 되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
화상을 형성하기 위한 화소 데이터로 이루어지는 화상 데이터(200)에 의거해 묘화점 형성 요소를 묘화면상의 정주사 방향을 따라 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 간헐 묘화점 열을 형성함과 아울러 상기 정주사 방향과 반대 방향인 역주사 방향으로 상기 소정 이송 피치로 상대적으로 이동해서 상기 묘화면상에 상기 간헐 묘화점 열을 보충하는 간헐 묘화점 열을 형성하고, 상기 묘화면상에 연속 묘화점 열로 이루어진 화상을 형성할 때 이용되는 화상 데이터의 작성 방법으로서:

상기 묘화면에 형성되는 상기 화상의 해상도와 상기 소정 이송 피치가 다른 경우에 상기 화상 데이터(200)를 상기 묘화점 형성 요소의 상기 정주사 방향 및 상기 역주사 방향으로의 묘화점 형성 위치의 위상에 맞추고, 또한 상기 정주사 방향 과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터(200A, 200B) 및 상기 역주사 방향과 메모리 어드레스가 연속되는 방향을 일치시킨 분할 화상 데이터(200A, 200B)로서 기억 수단(80)에 격납시키는 분할 화상 데이터 작성 스텝을 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 데이터의 작성 방법.