KR101261353B1 - 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치 - Google Patents

Abstract

(과제) 노광 헤드를 기판에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 노광점을 기판 상에 순차적으로 형성해서 노광 화상을 노광하는 노광 방법에 있어서, 기판의 변형 등에 상관 없이 기판 상의 원하는 위치에 원하는 노광 화상을 노광한다.

(해결수단) 기판(12) 상의 소정 위치에 미리 형성된 복수의 기준 마크(12a)를 카메라(26)에 의해 검출하여 그 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 노광 헤드(30)의 각 마이크로 미러(38)의 기판(12) 상에 있어서의 실제의 노광 궤적을 나타내는 노광 궤적 정보를 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 취득하고, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 있어서 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보에 대응한 노광점 데이터를 노광 화상 데이터로부터 취득하고, 그 취득한 노광점 데이터에 기초하여 노광 헤드(30)에 의해 기판(12)을 노광한다.

묘화점 데이터 취득 장치, 묘화 장치

Description

묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치{PLOTTING POINT DATA ACQUISITION METHOD AND DEVICE, PLOTTING METHOD AND DEVICE}

본 발명은 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 기판에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 순차적으로 형성해서 화상을 묘화하는 묘화 방법 및 장치 및 그 묘화 방법 및 장치에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치에 관한 것이다.

종래, 프린트 배선판이나 플랫 패널 디스플레이의 기판에 소정의 패턴을 기록하는 장치로서, 포토리소그래피의 기술을 이용한 노광 장치가 여러가지로 제안되어 있다.

상기와 같은 노광 장치로서는, 예컨대, 포토레지스트가 도포된 기판 상에 광빔을 주주사 및 부주사 방향으로 주사시킴과 아울러, 그 광빔을 배선 패턴을 나타내는 화상 데이터에 기초하여 변조함으로써 배선 패턴을 형성하는 노광 장치가 제안되어 있다.

상기와 같은 노광 장치로서, 예컨대, 디지털 마이크로 미러 디바이스(이하, DMD라고 한다) 등의 공간 광변조 소자를 이용하고, 화상 데이터에 따라 공간 광변조 소자에 의해 광빔을 변조해서 노광을 행하는 노광 장치가 여러가지로 제안되어 있다.

그리고, 상기와 같은 DMD를 이용한 노광 장치로서는, 예컨대, DMD를 노광면에 대하여 소정의 주사 방향으로 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 주사 방향으로의 이동에 따라 DMD의 메모리셀에 다수의 마이크로 미러에 대응한 다수의 묘화점 데이터로 이루어지는 프레임 데이터를 입력하고, DMD의 마이크로 미러에 대응한 묘화점군을 시계열로 순차적으로 형성함으로써 원하는 화상을 노광면에 형성하는 노광 장치가 제안되어 있다(예컨대 일본 특허 공개 2004-233718호 공보 참조).

여기서, 상기와 같은 노광 장치에 의해 형성되는 프린트 배선판의 배선 패턴 등은 점점 고정밀화가 진행되는 경향이 있고, 예컨대, 다층 프린트 배선판을 형성하는 경우에는 각 층의 배선 패턴의 위치 맞춤을 고정밀도로 행할 필요가 있다.

상기와 같은 위치 맞춤을 행하기 위해서 각 층의 배선 패턴은 기판에 대하여 미리 설정된 위치에 노광되지만, 다층 프린트 배선판을 형성할 때에는 각 층을 맞붙이는 프레스 공정에 있어서 기판에 열이 가해지고, 그 열에 의해 기판이 변형되어 버리는 경우가 있기 때문에 상기와 같이 미리 설정된 위치에 각 층의 배선 패턴을 노광한 것에서는 각 층의 배선 패턴의 기록 위치 어긋남이 발생하여 각 층의 배선 패턴의 고정밀도의 위치 맞춤이 곤란하게 될 우려가 있다.

또한, 플랫 패널 디스플레이에 있어서도 컬러 필터 패턴을 노광할 때, 기판에 가열 처리가 실시되므로 그 열에 의해 기판이 신축하고, R, G, B의 각 색의 기록 위치 어긋남이 생겨 버릴 우려가 있다.

또한, 예컨대, 기판을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써 기판 상을 광빔으로 주사하도록 한 경우에는 기판을 이동시키는 이동 기구의 제어 정밀도에 따라 기판의 이동 방향으로 어긋남이 생기는 경우가 있고, 이러한 어긋남이 생기면 역시 배선 패턴 등의 고밀도의 위치 맞춤 등이 곤란하게 될 우려가 있다.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 상기 노광 장치와 같은 묘화 방법 및 장치에 있어서 기판의 변형이나 기판의 이동 방향의 어긋남 등에 영향을 주는 일 없이 기판 상의 원하는 위치에 원하는 화상을 묘화할 수 있는 묘화 방법 및 장치, 및 그 묘화 방법 및 장치에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 방법 및 장치를 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

본 발명의 제 1 묘화점 데이터 취득 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 2 묘화점 데이터 취득 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 화상의 묘화를 행할 때의 묘화 대상 위에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 3 묘화점 데이터 취득 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 것을 특징으로 한다.

소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출해서 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고,

그 취득한 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고,

그 취득한 어긋남 정보 및 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키도록 할 수 있다.

또한, 상기 본 발명의 제 1~제 3 묘화점 데이터 취득 방법에 있어서는, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고, 그 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역에 의해 묘화를 행할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서, 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하도록 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비한 것으로 하고, 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 할 수 있다.

본 발명의 제 1 묘화 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서, 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 2 묘화 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서, 화상의 묘화를 행할 때의 묘화 대상 위에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 3 묘화 방법은, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서, 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본 발명의 제 2 및 제 3 묘화 방법에 있어서는, 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출해서 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고, 그 취득한 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고, 그 취득한 어긋남 정보 및 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키도록 할 수 있다.

또한, 상기 본 발명의 제 1~제 3 묘화 방법에 있어서는, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고, 그 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역에 의해 묘화를 행하는 묘화 방법으로서, 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하도록 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비한 것으로 하고, 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 할 수 있다.

본 발명의 제 1 묘화점 데이터 취득 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서, 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 2 묘화점 데이터 취득 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서, 화상의 묘화를 행할 때의 묘화 대상 위에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과, 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 3 묘화점 데이터 취득 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서, 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과, 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본 발명의 제 2 및 제 3 묘화점 데이터 취득 장치에 있어서는, 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출해서 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화 궤적 정보 취득 수단을 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 궤적 정보 취득 수단을 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 궤적 취득 수단을 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보 및 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 취득 수단을 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것으로 할 수 있다.

또한, 상기 본 발명의 제 1~제 3 묘화점 데이터 취득 장치에 있어서는, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 데이터 취득 수단을 속도 변동 정보 취득 수단에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 복수개 갖는 것으로 하고, 묘화점 데이터 취득 수단을 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비하도록 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비한 것으로 하고, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단을 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 할 수 있다.

본 발명의 제 1 묘화 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 수단과, 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하고, 묘화 수단은 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 제 2 묘화 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 수단과, 화상의 묘화 대상 위에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과, 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하고, 묘화 수단은 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 것임을 특징으로 한다.

본 발명의 제 3 묘화 장치는, 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 묘화점을 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 장치에 있어서, 묘화 대상 위의 화상 공간에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과, 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화 궤적 정보에 기초하여 화상의 원 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단과, 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점 형성 영역에 의해 묘화점을 묘화 대상 위에 형성하는 묘화 수단을 구비한 것을 특징으로 한다.

또한, 상기 본 발명의 제 2 및 제 3 묘화 장치에 있어서는, 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크 및/또는 기준 부위를 검출해서 그 기준 마크 및/또는 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화 궤적 정보 취득 수단은 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 궤적 정보 취득 수단을 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향 및/또는 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 궤적 취득 수단을 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보 및 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 묘화 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 취득 수단을 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것으로 할 수 있다.

또한, 상기 본 발명의 제 1~제 3 묘화 장치에 있어서는, 미리 설정된 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 화상의 묘화시의 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단을 추가로 구비한 것으로 하고, 묘화점 데이터 취득 수단을 속도 변동 정보 취득 수단에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 묘화점 데이터를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 복수개 갖는 것으로 하고, 묘화점 데이터 취득 수단을 묘화점 형성 영역마다 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것으로 할 수 있다.

또한, 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비하도록 할 수 있다.

또한, 묘화점 데이터 궤적 정보에 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되도록 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 갖고, 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단은 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것으로 할 수 있다.

또한, 복수의 묘화점 형성 영역을 2차원상으로 배열하도록 할 수 있다. 여기서, 상기 「묘화점 형성 영역」은 기판 상에 묘화점을 형성하는 영역이면 어떠한 것에 의해 형성되는 영역이어도 되고, 예컨대, DMD와 같은 공간 광변조 소자의 각 변조 소자에 의해 반사된 빔 광에 의해 형성되는 빔 스폿이어도 되고, 광원으로부터 발생한 빔 광 자체에 의해 형성되는 빔 스폿이어도 되며, 혹은 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착되는 영역으로 해도 된다.

<발명의 효과>

본 발명의 제 1~제 3 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치에 의하면, 화상을 나타내는 화상 데이터상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 묘화점 데이터 궤적 정보에 기초하여 묘화점 데이터 궤적에 대응한 복수의 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득하도록 했으므로, 예컨대, 화상의 묘화시의 기판 상이나 그 화상 공간 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 미리 취득하고, 그 묘화 궤적 정보에 기초하여 상기 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하도록 하면, 예컨대, 기판에 변형이나 위치 어긋남이 생기는 경우에도, 기판 상이나 화상 공간 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적의 정보를 미리 취득하고, 그 묘화 궤적 정보에 대응한 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득할 수 있으므로, 상기 변형이나 위치 어긋남에 따른 화상을 기판 상에 묘화할 수 있다. 이 경우, 예컨대, 다층 프린트 배선판을 형성할 때에는 각 층의 배선 패턴을 그 각 층의 변형에 따라 형성할 수 있으므로 각 층의 배선 패턴의 위치 맞춤을 행할 수 있다.

또한, 예컨대, 상술한 바와 같이 기판을 소정의 주사 방향으로 이동시킴으로써 기판 위를 광빔으로 주사하도록 한 경우에 있어서 기판의 이동 방향으로 어긋남이 생긴 경우에 있어서도 그 이동 방향의 어긋남에 따른 묘화 궤적의 정보를 미리 취득하고, 그 묘화 궤적 정보에 대응한 묘화점 데이터를 화상 데이터로부터 취득할 수 있으므로, 상기 이동 방향의 어긋남에 영향을 주는 일 없이 기판 상의 원하는 위치에 원하는 화상을 묘화할 수 있다.

또한, 화상 데이터를 기억하는 메모리의 어드레스를 상기 묘화점 데이터 궤적을 따라 계산해서 묘화점 데이터를 취득하도록 할 수 있으므로, 상기 어드레스의 계산을 용이하게 행할 수 있다.

도 1은 본 발명의 묘화 방법 및 장치의 제 1~제 4 실시형태를 이용한 노광 장치의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다.

도 2는 도 1의 노광 장치의 스캐너의 구성을 나타내는 사시도이다.

도 3A는 기판의 노광면 상에 형성되는 노광 완료 영역을 나타내는 평면도이다.

도 3B는 각 노광 헤드에 의한 노광 영역의 배열을 나타내는 평면도이다.

도 4는 도 1의 노광 장치의 노광 헤드에 있어서의 DMD를 나타내는 도면이다.

도 5는 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치의 전기제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 6은 이상적인 형상의 기판 상에 있어서의 기준 마크와 소정의 마이크로 미러의 통과 위치 정보의 관계를 나타내는 모식도이다.

도 7은 마이크로 미러의 노광 궤적 정보의 취득 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 8은 마이크로 미러의 노광 궤적 정보의 취득 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 9는 마이크로 미러의 노광 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 10은 도 9의 굵은선 틀내를 추출한 도면이다.

도 11은 마이크로 미러의 노광 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 12는 각 마이크로 미러마다의 노광점 데이터 열을 나타내는 도면이다.

도 13은 각 프레임 데이터를 나타내는 도면이다.

도 14A는 기판이 경사져 적재된 형태를 나타내는 도면이다.

도 14B는 기판의 에지의 경사에 따른 노광점 데이터 궤적 정보를 나타내는 도면이다.

도 15는 기판의 주사 방향으로의 신축을 설명하기 위한 도면이다.

도 16은 기판의 신축에 따른 노광점 데이터의 취득 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 17은 기판의 신축에 따라 노광점 데이터를 가감할 때에 있어서의 노광점 데이터 궤적 정보상의 그 가감점을 나타내는 도면이다.

도 18은 본 발명의 제 2 실시형태를 이용한 노광 장치의 전기제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 19는 이동 스테이지의 이동 방향의 어긋남을 설명하기 위한 도면이다.

도 20은 소정의 마이크로 미러의 노광 궤적을 나타내는 도면이다.

도 21은 마이크로 미러의 노광 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 22는 도 21의 굵은선 틀내를 추출한 도면이다.

도 23은 본 발명의 제 3 실시형태를 이용한 노광 장치의 전기제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 24는 마이크로 미러의 노광 궤적 정보의 취득 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 25는 본 발명의 제 4 실시형태를 이용한 노광 장치의 전기제어계의 구성을 나타내는 블록도이다.

도 26은 마이크로 미러의 노광 궤적과 그 마이크로 미러에 의한 노광 타이밍을 나타낸 도면이다.

도 27은 이동 스테이지의 속도 변동 정보에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.

도 28A는 사행을 설명하기 위한 도면이다.

도 28B는 요잉(yawing)을 설명하기 위한 도면이다.

도 29A는 요잉을 설명하기 위한 도면이다.

도 29B는 요잉했을 때의 노광점을 나타내는 도면이다.

도 30은 노광점 데이터의 판독 피치를 변화시킬 때에 있어서의 노광점 데이터 궤적 정보상의 그 변화점을 나타내는 도면이다.

도 31은 본 발명의 제 1~제 4 실시형태를 모두 이용한 구성의 노광 장치의 작용을 설명하기 위한 플로우차트이다.

도 32는 본 발명의 제 1~제 4 실시형태를 모두 이용한 구성의 노광 장치의 작용을 설명하기 위한 플로우차트이다.

이하, 도면을 참조해서 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치에 대해서 상세하게 설명한다. 도 1은 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치의 개략적인 구성을 나타내는 사시도이다. 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치는 다층 프린트 배선판의 각 층의 배선 패턴 등의 각종 패턴을 노광하는 장치로서, 그 패턴을 노광하기 위해 이용되는 노광점 데이터의 취득 방법에 특징을 갖는 것이지만, 우선은 노광 장치의 개략적인 구성에 대해서 설명한다.

노광 장치(10)는, 도 1에 나타내는 바와 같이, 기판(12)을 표면에 흡착해서 유지하는 평판형상의 이동 스테이지(14)를 구비하고 있다. 그리고, 4개의 다리부(16)에 지지된 두꺼운 판형상의 설치대(18)의 상면에는 스테이지 이동 방향을 따라 연장된 2개의 가이드(20)가 설치되어 있다. 이동 스테이지(14)는 그 길이방향이 스테이지 이동 방향을 향하도록 배치됨과 아울러, 가이드(20)에 의해 왕복 이동할 수 있게 지지되어 있다.

설치대(18)의 중앙부에는 이동 스테이지(14)의 이동 경로를 걸치도록 コ자 형상의 게이트(22)가 설치되어 있다. コ자 형상의 게이트(22)의 단부 각각은 설치대(18)의 양측면에 고정되어 있다. 이 게이트(22)를 사이에 두고 한쪽측에는 스캐너(24)가 설치되고, 다른쪽측에는 기판(12)의 선단 및 후단과, 기판(12)에 미리 설치되어 있는 원형상의 복수의 기준 마크(12a)의 위치를 검지하기 위한 복수의 카메라(26)가 설치되어 있다.

여기서, 기판(12)에 있어서의 기준 마크(12a)는 미리 설정된 기준 마크 위치 정보에 기초하여 기판(12) 상에 형성된 예컨대 구멍이다. 또한, 구멍 이외에 랜드(land)나 비아(via)나 에칭 마크를 이용해도 된다. 또한, 기판(12)에 형성된 소정의 패턴, 예컨대, 노광하려고 하는 층의 하층의 패턴 등을 기준 마크(12a)로서 이용하도록 해도 된다. 또한, 도 1에 있어서는 기준 마크(12a)를 6개밖에 나타내고 있지 않지만 실제로는 다수의 기준 마크(12a)가 형성되어 있다.

스캐너(24) 및 카메라(26)는 게이트(22)에 각각 부착되어 이동 스테이지(14)의 이동 경로의 상방에 고정 배치되어 있다. 또한, 스캐너(24) 및 카메라(26)는 이들을 제어하는 후술하는 컨트롤러에 접속되어 있다.

스캐너(24)는, 도 2 및 도 3B에 나타내는 바와 같이, 2행 5열의 대략 매트릭스상으로 배열된 10개의 노광 헤드(30)(30A~30J)를 구비하고 있다.

각 노광 헤드(30)의 내부에는, 도 4에 나타내는 바와 같이 입사된 광빔을 공간 변조하는 공간 광변조 소자(SLM)인 디지털 마이크로 미러 디바이스(DMD)(36)가 설치되어 있다. DMD(36)는 마이크로 미러(38)가 직교하는 방향으로 2차원상으로 다수 배열된 것이고, 그 마이크로 미러(38)의 열방향이 주사 방향과 소정의 설정 경사 각도(θ)를 이루도록 부착되어 있다. 따라서, 각 노광 헤드(30)에 의한 노광 영역(32)은 주사 방향에 대하여 경사진 직사각형상의 영역으로 된다. 스테이지(14)의 이동에 따라 기판(12)에는 노광 헤드(30)마다 띠형상의 노광 완료 영역(34)이 형성된다. 또한, 각 노광 헤드(30)에 광빔을 입사하는 광원에 대해서는 도시 생략하고 있지만, 예컨대, 레이저 광원 등을 이용할 수 있다.

노광 헤드(30) 각각에 설치된 DMD(36)는 마이크로 미러(38) 단위로 온/오프 제어되고, 기판(12)에는 DMD(36)의 마이크로 미러(38)의 상(像)(빔 스폿)에 대응한 도트 패턴(흑/백)이 노광된다. 상술한 띠형상의 노광 완료 영역(34)은 도 4에 나타내는 마이크로 미러(38)에 대응한 2차원 배열된 도트에 의해 형성된다. 2차원 배열 의 도트 패턴은 주사 방향에 대하여 경사져 있음으로써, 주사 방향으로 늘어서는 도트가 주사 방향과 교차하는 방향으로 늘어서는 도트간을 통과하도록 되어 있어 고해상도화를 도모할 수 있다. 또한, 경사 각도의 조정의 불균형에 의해 이용하지 않는 도트가 존재하는 경우도 있고, 예컨대, 도 4에서는 사선으로 된 도트는 이용하지 않는 도트로 되고, 이 도트에 대응하는 DMD(36)에 있어서의 마이크로 미러(38)는 항상 오프 상태로 된다.

또한, 도 3A 및 B에 나타내는 바와 같이, 띠형상의 노광 완료 영역(34) 각각이 인접하는 노광 완료 영역(34)과 부분적으로 겹치도록 라인상으로 배열된 각 행의 노광 헤드(30) 각각은 그 배열 방향으로 소정 간격 어긋나게 배치되어 있다. 이 때문에, 예컨대, 1행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 영역(32A), 노광 영역(32A)의 우측 근처에 위치하는 노광 영역(32C)과의 사이의 노광할 수 없는 부분은 2행째의 가장 좌측에 위치하는 노광 영역(32B)에 의해 노광된다. 마찬가지로, 노광 영역(32B)과, 노광 영역(32B)의 우측 근처에 위치하는 노광 영역(32D)과의 사이의 노광할 수 없는 부분은 노광 영역(32C)에 의해 노광된다.

다음에, 노광 장치(10)의 전기적 구성에 대해서 설명한다. 노광 장치(10)는, 도 5에 나타내는 바와 같이, CAM(Computer Aided Manufacturing) 스테이션을 갖는 데이터 작성 장치(40)로부터 출력된 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터를 접수하고, 이 벡터 데이터를 래스터 데이터(비트맵 데이터)로 변환하는 래스터 변환 처리부(50)와, 카메라(26)에 의해 촬영된 기준 마크(12a)의 화상에 기초하여 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보를 취득하는 검출 위치 정보 취득 수단(52)과, 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 화상 공간 상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하는 노광 궤적 정보 취득 수단(54)과, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 의해 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보와 래스터 변환 처리부(50)로부터 출력된 래스터 데이터의 노광 화상 데이터에 기초하여 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터를 취득하는 노광점 데이터 취득 수단(56)과, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 의해 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터에 기초하여 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 의해 노광되도록 노광 헤드(30)를 제어하는 노광 헤드 제어부(58)와, 이동 스테이지(14)를 스테이지 이동 방향으로 이동시키는 이동 기구(60)와, 본 노광 장치 전체를 제어하는 컨트롤러(70)를 구비하고 있다. 또한, 이동 기구(60)는 이동 스테이지(14)를 가이드(20)를 따라 왕복 이동시키는 것이면 어떠한 기지의 구성을 채용해도 된다. 또한, 상기 각 구성 요소의 작용에 대해서는 나중에 상세히 설명한다.

다음에, 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)의 작용에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

우선, 데이터 작성 장치(40)에 있어서 기판(12)에 노광해야 할 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터가 작성된다. 그리고, 그 벡터 데이터는 래스터 변환 처리부(50)에 입력되고, 래스터 변환 처리부(50)에 있어서 래스터 데이터로 변환되어 노광점 데이터 취득 수단(56)에 출력되고, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 의해 일시 기억된다.

한편, 상기와 같이 해서 벡터 데이터가 래스터 변환 처리부(50)에 입력되면 노광 장치(10) 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(70)가 이동 기구(60)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(60)는 그 제어 신호에 따라 이동 스테이지(14)를 도 1에 나타내는 위치로부터 가이드(20)를 따라 일단 상류측의 소정의 초기 위치까지 이동시킨 후, 하류측을 향해 원하는 속도로 이동시킨다. 또한, 상기 상류측은 도 1에 있어서의 우측, 즉 게이트(22)에 대하여 스캐너(24)가 설치되어 있는 측이고, 상기 하류측은 도 1에 있어서의 좌측, 즉 게이트(22)에 대하여 카메라(26)가 설치되어 있는 측이다.

그리고, 상기와 같이 해서 이동하는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)이 복수의 카메라(26) 아래를 통과할 때, 이들 카메라(26)에 의해 기판(12)이 촬영되고, 그 촬영 화상을 나타내는 촬영 화상 데이터가 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 입력된다. 검출 위치 정보 취득 수단(52)은 입력된 촬영 화상 데이터에 기초하여 기판(12)의 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득한다. 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보의 취득 방법에 대해서는, 예컨대, 원형상의 화상을 추출함으로써 취득하도록 하면 되지만, 다른 어떠한 기지의 취득 방법을 채용해도 된다. 또한, 상기 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 구체적으로는 좌표값으로서 취득되지만, 그 좌표값의 원점은, 예컨대, 기판(12)의 촬영 화상 데이터의 4개의 각 중 1개의 각으로 해도 되며, 촬영 화상 데이터에 있어서의 미리 설정된 소정의 위치이어도 되고, 복수의 기준 마크(12a) 중 1개의 기준 마크(12a)의 위치로 해도 된다. 상기와 같이 본 실시형태에 있어서는 카메라(26)와 검출 위치 정보 취득 수 단(52)에 의해 위치 정보 검출 수단이 구성되어 있다.

그리고, 상기와 같이 해서 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보는 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 출력된다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서 입력된 검출 위치 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 화상 공간 상의 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적의 정보가 취득된다. 구체적으로는, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에는 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 상이 통과하는 위치를 나타내는 통과 위치 정보가 각 마이크로 미러(38)마다 미리 설정되어 있다. 상기 통과 위치 정보는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)의 설치 위치에 대한 각 노광 헤드(30)의 설치 위치에 의해 미리 설정되어 있는 것이고, 상기 기준 마크 위치 정보 및 상기 검출 위치 정보와 동일 점을 원점으로 하여 벡터 또는 복수점의 좌표값으로 나타내어지는 것이다. 도 6에 프레스 공정 등을 거치지 않는 이상적인 형상의 기판(12), 즉, 휨 등의 변형이 생기지 않고, 기준 마크(12a)가 미리 설정된 기준 마크 위치 정보(12b)가 나타내는 위치에 배치되어 있는 기판(12)과, 소정의 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)의 관계를 나타내는 모식도를 나타낸다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서는, 도 7에 나타내는 바와 같이, 주사 방향에 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)를 연결하는 직선과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선의 교점의 좌표값이 구해진다. 즉, 도 7에 있어서의 X표시의 점의 좌표값이 구해지고, 또한, X표시와 그 X표시에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d) 의 거리가 구해지며, 상기 인접하는 검출 위치 정보(12d) 중 한쪽의 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 거리와, 다른쪽의 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 거리의 비가 구해진다. 구체적으로는, 도 7에 있어서의 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및 a4:b4가 노광 궤적 정보로서 구해진다. 상기와 같이 하여 구해진 비가 변형 후의 기판(12) 상에 있어서의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적을 나타내고 있게 된다. 여기서, 각 기준 마크 위치 정보(12b)를 하층의 패턴의 위치를 나타내는 것으로서 파악한 경우, 구해진 노광 궤적은 실제의 노광시의 기판(12) 상의 화상 공간 상에 있어서의 빔의 노광 궤적을 나타내고 있게 된다. 또한, 예컨대, 통과 위치 정보(12c)가, 도 8에 나타내는 바와 같이, 검출 위치 정보(12d)에 의해 둘러싸여지는 범위 밖에 위치하는 경우에도, 도 8에 나타내는 바와 같이, 검출 위치 정보(12d)와 X표시의 비가 구해진다.

그리고, 상기와 같이 해서 각 마이크로 미러(38)마다 구해진 노광 궤적 정보가 노광점 데이터 취득 수단(56)에 입력된다.

노광점 데이터 취득 수단(56)에는 상술한 바와 같이 래스터 데이터인 노광 화상 데이터(D)가 일시적으로 기억되어 있다. 노광점 데이터 취득 수단(56)은 상기와 같이 해서 입력된 노광 궤적 정보에 기초하여 노광 화상 데이터(D)로부터 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터를 취득한다.

구체적으로는, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 기억되는 노광 화상 데이터(D)에는, 도 9에 나타내는 바와 같이, 상기 기준 마크 위치 정보(12b)가 나타내는 위치에 대응한 위치에 배치된 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)가 포함되 어 있고, 주사 방향에 직교하는 방향으로 인접하는 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 연결하는 직선을 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점의 좌표값이 구해진다. 즉, 이하의 식을 만족시키는 점의 좌표값이 구해진다. 또한, 도 9에 있어서의 해칭 부분이 노광해야 할 배선 패턴의 일례를 나타내고 있다.

a1:b1=A1:B1

a2:b2=A2:B2

a3:b3=A3:B3

a4:b4=A4:B4

그리고, 상기와 같이 해서 구해진 점을 연결하는 선(데이터 판독 궤적 또는 데이터 궤적) 상에 있는 화소 데이터(d)가 실제로 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보에 대응한 노광점 데이터이다. 따라서, 노광 화상 데이터(D) 위를 상기 직선이 통과하는 점의 화소 데이터(D)가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 화소 데이터(d)는 노광 화상 데이터(D)를 구성하는 최소 단위의 데이터이다. 도 9의 굵은선으로 둘러싸여진 범위를 추출한 도면을 도 10에 나타낸다. 구체적으로는 도 10의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 화상 데이터로서 취득된다. 또한, 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점을 연결한 직선이 노광 화상 데이터(D) 상에 존재하지 않는 경우에는 그 직선상의 노광점 데이터는 0으로서 취득된다.

또한, 상기와 같이 노광 궤적 정보가 나타내는 비에 기초하여 분할한 점을 직선으로 연결하고, 그 직선 상에 있는 화소 데이터를 노광점 데이터로서 취득하도록 해도 되고, 도 11에 나타내는 바와 같이, 상기 점을 스플라인 보간 등에 의해 곡선으로 연결하고, 그 곡선 상에 있는 화소 데이터를 노광점 데이터로서 취득하도록 해도 된다. 상기와 같이 스플라인 보간 등에 의해 곡선으로 연결하도록 하면 보다 기판(12)의 변형에 충실한 노광점 데이터를 취득할 수 있다. 또한, 상기 스플라인 보간 등의 연산 방법에 기판(12)의 재질의 특성(예컨대, 특정한 방향으로밖에 신축하지 않는 것 등)을 반영하도록 하면 또한 보다 기판(12)의 변형에 충실한 노광점 데이터를 취득할 수 있다.

그리고, 상기와 마찬가지로 하여, 각 마이크로 미러(38)마다에 대해서 복수의 노광점 데이터가 각각 취득되고, 그 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력된다.

한편, 상기와 같이 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력됨과 아울러, 이동 스테이지(14)가 다시 상류측으로 원하는 속도로 이동된다.

그리고, 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되면(또는, 센서에 의해 검출된 스테이지의 위치로부터 기판(12)의 묘화 영역의 위치가 특정되면) 노광이 개시된다. 구체적으로는 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 상기 노광점 데이터에 기초한 제어 신호가 출력되고, 노광 헤드(30)는 입력된 제어 신호에 기초하여 DMD(36)의 마이크로 미러를 온/오프시켜 기판(12)을 노광한다.

또한, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)에 제어 신호가 출력될 때에는 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 대응한 제어 신호가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)에 출력되지만, 이 때, 예컨대, 도 12에 나타내는 바와 같이, 각 마이크로 미러(38)마다 취득된 m개의 노광점 데이터의 열의 각 열로부터 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 노광점 데이터를 1개씩 순차적으로 판독하여 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 출력하도록 해도 되고, 도 12에 나타내는 바와 같이 취득된 노광점 데이터에 90도 회전 처리 혹은 행렬을 이용한 전치 변환 등을 실시하고, 도 13에 나타내는 바와 같이, 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 프레임 데이터(1~m)를 생성하고, 이 프레임 데이터(1~m)를 각 노광 헤드(30)에 순차적으로 출력하도록 해도 된다.

그리고, 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 각 노광 헤드(30)에 제어 신호가 출력되어 노광이 행해지고, 기판(12)의 후단이 카메라(26)에 의해 검출되면 노광이 종료된다.

상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)에 의하면, 기판(12) 상의 소정 위치에 미리 형성된 복수의 기준 마크(12a)를 검출해서 그 기준 마크(12a)의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고, 그 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보를 취득하고, 그 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보에 대응한 화소 데이터(d)를 노광 화상 데이터(D)로부터 노광점 데이터로서 취득하도록 했으므로, 기판(12)의 변형에 따른 노광점 데이터를 취득할 수 있고, 기판(12)의 변형에 따른 노광 화상을 기판(12) 상에 노광할 수 있다. 따라서, 예컨대, 다층 프린트 배선판 등에 있어서의 각 층의 패턴을 그 각 층의 노광 시의 변형에 따라 형성할 수 있으므로 각 층의 패턴의 위치 맞춤을 행할 수 있다.

또한, 상기 설명에 있어서는 프레스 공정 등에 있어서 변형한 기판(12)에 노광할 때의 노광점 데이터의 취득 방법에 대해서 설명했지만, 변형하지 않은 이상적인 형상의 기판(12)에 노광할 때에 대해서도 상기와 같은 방법을 채용하여 노광점 데이터를 취득할 수 있다. 예컨대, 각 마이크로 미러(38)마다 미리 설정된 상기 통과 위치 정보에 대응한 노광 화상 데이터상에 있어서의 노광점 데이터 궤적의 정보를 취득하고, 그 취득한 노광점 데이터 궤적 정보에 기초하여 노광점 데이터 궤적에 대응한 복수의 노광점 데이터를 노광 화상 데이터로부터 취득하도록 해도 된다.

또한, 상기와 같이 각 마이크로 미러(38)마다의 통과 위치 정보에 기초하여 미리 노광점 데이터 궤적 정보를 노광 화상 데이터상에 설정하고, 그 노광점 데이터 궤적에 기초하여 노광점 데이터를 취득하는 방법은, 예컨대, 전혀 노광 화상이 노광되어 있지 않은 기판 상에 최초로 노광 화상을 노광하는 경우에도 채용할 수 있다. 또한, 기판의 변형에 따라 노광 화상 데이터를 변형시킨 경우에도 이 방법을 채용할 수 있다. 이 방법을 채용하는 경우, 노광 화상 데이터를 기억하는 메모리의 어드레스를 노광점 데이터 궤적을 따라 계산하여 노광점 데이터를 취득할 수 있고, 그 때문에 어드레스의 계산을 용이하게 행할 수 있다.

또한, 예컨대, 도 14A에 나타내는 바와 같이, 기판(12)이 경사져 스테이지(14) 상에 설치되어 있는 경우, 이 기판(12)의 에지를 카메라(26)에 의해 검출하고, 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)에 대한 에지의 경사를 취득하고, 이 취득한 경사에 기초하여, 도 14B에 나타내는 바와 같이 노광 화상 데이터상에 노광 점 데이터 궤적 정보(도 14B 중의 화살표)를 설정하고, 이 노광점 데이터 궤적 정보상의 노광점 데이터를 취득하도록 해도 된다.

또한, 예컨대, 도 15에 나타내는 바와 같이, 주사 방향에 대해서 기판(12)이 신축하고 있는 경우에는 그 신축의 정도에 따라 노광 화상 데이터(D)에 있어서의 1개의 화소 데이터(D)로부터 취득하는 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다. 구체적으로는, 예컨대, 상기와 같이 주사 방향으로 기판(12)이 신축하고, 검출 위치 정보(12d)와 통과 위치 정보(12c)가 도 15에 나타내는 바와 같은 관계로 되고, 주사 방향으로 인접하는 검출 위치 정보(12d)의 간격이 이상적인 길이(L)의 영역(A)과, 기판(12)이 주사 방향으로 늘어난 상기 간격이 길이(L)의 2배로 된 영역(B)과, 기판(12)이 주사 방향으로 줄어들어 상기 간격이 길이(L)의 1/2로 된 영역(C)이 존재하는 경우에는, 예컨대, 도 16에 나타내는 바와 같이, 영역(A)에 대응하는 노광점 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(D)에 대하여 1개의 노광점 데이터를 취득하고, 영역(B)에 대응하는 노광점 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(d)에 대하여 2개의 노광점 데이터를 취득하고, 영역(C)의 노광점 데이터에 대해서는 2개의 화소 데이터에 대하여 1개의 노광점 데이터를 취득하도록 해도 된다. 또한, 도 16 있어서의 점선 화살표는 각 영역에 대해서 취득하는 노광점 데이터의 수와 그 노광점 데이터에 대응하는 화소 데이터(d)를 나타내고 있다. 또한, 2개의 화소 데이터에 대하여 1개의 노광점 데이터를 취득할 때는 2개의 화소 데이터 중 1개의 화소 데이터를 노광점 데이터로서 선택해서 취득하도록 하면 된다. 또한, 상기 설명에 있어서는 기판(12)이 주사 방향으로만 신축한 경우에 있어서의 노광점 데이터의 취득 방법을 설명했지만, 상기와 같은 경우에 한정되지 않고, 그 외의 방향으로도 기판(12)이 변형되어 있는 경우에 있어서도 기판(12)의 검출 위치 정보(12d)에 의해 나누어진 영역마다 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보의 길이가 다른 경우에는 상기와 마찬가지로 그 길이에 따라 1개의 화소 데이터로부터 취득하는 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다. 상기와 같이 기판(12)의 신축에 따라 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 하면 기판(12) 상의 원하는 위치에 원하는 노광 화상을 노광할 수 있다.

또한, 상기와 같이 기판(12)의 신축에 따라 취득하는 노광점 데이터의 수를 가감시키는 경우에는, 도 17에 나타내는 바와 같이, 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터 궤적 정보(도 17 중의 화살표)에 대해서 노광 화상 데이터(D)의 화상 공간상의 주사 방향에 대해서 동일 개소(도 17 중의 검정 삼각)의 노광점 데이터를 가감하도록 하는 것이 바람직하다.

다음에, 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치의 제 2 실시형태를 이용한 노광 장치(25)에 대해서 상세하게 설명한다. 노광 장치(25)의 외관의 개략적인 구성에 대해서는 도 1에 나타내는 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)와 마찬가지이다.

노광 장치(25)는, 도 18에 나타내는 바와 같이, 래스터 변환 처리부(50)와, 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향과 직교하는 방향으로의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단(80)과, 어긋남 정보 취득 수단(80)에 취득된 어긋남 정보에 기초하여 실제의 노광시에 있어서의 기판(12) 상의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 정보를 취득하는 노광 궤적 정보 취득 수단(82)과, 노광 궤적 정보 취득 수단(82)에 의해 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보와 래스터 변환 처리부(50)로부터 출력된 래스터 데이터의 노광 화상 데이터에 기초하여 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터를 취득하는 노광점 데이터 취득 수단(84)과, 노광 헤드 제어부(58)와, 이동 기구(60)와, 본 노광 장치 전체를 제어하는 컨트롤러(70)를 구비하고 있다. 또한, 도 18에 있어서 도 5와 동일한 부호가 붙여져 있는 구성에 대해서는 상기 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)와 그 작용은 같다.

다음에, 노광 장치(25)의 작용에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.

우선, 노광점 데이터 취득 수단(84)에 래스터 데이터를 일시 기억할 때까지의 작용에 대해서는 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)와 같다.

그리고, 다음에, 어긋남 정보 취득 수단(80)에 의해 이동 스테이지(14)의 상기 어긋남 정보가 취득된다. 어긋남 정보는, 도 19에 나타내는 바와 같이, 미리 설정된 스테이지 이동 방향에 대한 실제의 이동 스테이지(14)의 이동 방향의 어긋남을 나타낸 것이다. 구체적으로는, 도 19에 나타내는 바와 같이, 미리 설정된 스테이지 이동 방향으로의 이동 궤적에 대한 실제의 이동 스테이지(14)의 이동 궤적의 스테이지 이동 방향에 직교하는 방향에 대한 어긋남량을 소정의 간격으로 취득한 것이다. 도 19에 나타내는 점선 화살표의 방향과 길이가 어긋남량을 나타내는 것이다.

여기서, 상기와 같이 이동 스테이지(14)의 이동 궤적에 어긋남이 있는 경우, 노광시의 각 마이크로 미러(38)의 기판(12) 상에 있어서의 실제의 노광 궤적은, 도 20에 나타내는 바와 같이, 미리 설정된 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)에 대하여 상기 어긋남량에 따라 어긋나게 된다. 따라서, 각 마이크로 미러(38)의 실제의 노광 궤적에 대응한 노광점 데이터를 취득할 필요가 있다. 또한, 도 20에 나타내는 바와 같이, 마이크로 미러(m1)와 마이크로 미러(m2)는 기판(12) 상에 있어서의 동일한 위치를 통과하는 것이지만, 상기와 같은 이동 스테이지(14)의 이동 궤적에 어긋남이 있으면 이들 실제의 노광 궤적은 위상이 어긋난 것으로 된다. 따라서, 이들 위상 어긋남도 고려해서 노광점 데이터를 취득할 필요가 있다.

그래서, 노광 장치(25)에 있어서는 상기와 같은 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적의 어긋남량에 따른 노광점 데이터가 취득된다. 구체적으로는, 미리 이동 스테이지(14)의 어긋남량이 계측되고, 그 계측된 어긋남량이 상기와 같이 하여 어긋남량 취득 수단(80)에 의해 취득된다. 그리고, 어긋남량 취득 수단(80)은 취득한 어긋남량을 노광 궤적 정보 취득 수단(82)에 출력한다. 어긋남량의 계측 방법으로서는, 예컨대, IC 웨이퍼 스텝퍼 장치 등에서 이용되는 레이저 광을 이용한 측정 방법을 이용할 수 있다. 예컨대, 이동 스테이지(14)에 스테이지 이동 방향으로 연장되는 반사면을 설치함과 아울러, 그 반사면을 향해 레이저 광을 사출하는 레이저 광원 및 상기 반사면에 있어서 반사된 반사광을 검출하는 검출부를 설치하고, 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 반사광의 위상 어긋남을 순차적으로 검출부에 의해 검출함으로써 상기 어긋남량을 계측할 수 있다.

노광 궤적 정보 취득 수단(82)에는 각 마이크로 미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)가 설정되어 있고, 노광 궤적 정보 취득 수단(82)은 입력된 어긋남량과 각 마이크로 미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)에 기초하여 노광시의 각 마이크로 미러(38)마다의 기판(12) 상에 있어서의 실제의 노광 궤적을 나타내는 노광 궤적 정보를 취득한다. 또한, 상기 통과 위치 정보(12c)에 대해서는 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)의 설명과 같다.

그리고, 그 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보를 노광점 데이터 취득 수단(84)에 출력한다. 그리고, 노광점 데이터 취득 수단(84)은 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보에 대응하는 노광점 데이터를 일시 기억된 노광 화상 데이터(D)로부터 취득한다.

구체적으로는, 도 21에 나타내는 노광 화상 데이터(D)에 있어서 곡선으로 나타내어진 노광 궤적 정보(M1,M2) 상에 배치된 노광점 데이터(d)가 취득된다. 도 21의 굵은선으로 둘러싸여진 범위를 추출한 도면을 도 22에 나타낸다. 구체적으로는 도 22의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 도 21에 나타내는 노광 궤적 정보(M1)는 도 20에 나타내는 마이크로 미러(m1)의 노광 궤적 정보이고, 도 21에 나타내는 노광 궤적 정보(M2)는 도 20에 나타내는 마이크로 미러(m2)의 노광 궤적 정보이다. 또한, 노광 화상 데이터(D)는 통과 위치 정보(12c)와 상대적인 위치 관계를 갖고 있고, 노광 화상 데이터(D)의 각 화소 데이터(d)의 배치의 기준이 되는 원점과, 상기 통과 위치 정보(12c)의 원점은 일치하고 있는 것으로 한다.

그리고, 상기와 마찬가지로 하여, 각 마이크로 미러(38)마다에 대해서 복수 의 노광점 데이터가 각각 취득되고, 그 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력된다.

한편, 상기와 같이 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력됨과 아울러, 이동 스테이지(14)가 상류측으로 원하는 속도로 이동된다.

그리고, 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되면 노광이 개시된다. 구체적으로는, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 상기 노광점 데이터에 기초한 제어 신호가 출력되고, 노광 헤드(30)는 입력된 제어 신호에 기초하여 DMD(36)의 마이크로 미러를 온/오프시켜 기판(12)을 노광한다.

상기 제 2 실시형태를 이용한 노광 장치(25)에 의하면, 미리 설정된 기판(12)의 소정 상대 이동 방향에 대한 노광 화상의 노광시의 기판(12)의 실제 상대 이동 방향의 어긋남 정보를 취득하고, 그 취득한 어긋남 정보에 기초하여 노광 궤적 정보를 취득하고, 그 노광 궤적 정보에 대응한 노광점 데이터를 노광 화상 데이터(D)로부터 취득할 수 있으므로, 기판(12)의 이동 방향의 어긋남에 영향을 주는 일 없이 기판(12) 상의 원하는 위치에 원하는 노광 화상을 노광할 수 있다.

다음에, 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치의 제 3 실시형태를 이용한 노광 장치(35)에 대해서 상세하게 설명한다.

노광 장치(35)는, 도 23에 나타내는 바와 같이, 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)의 구성과 상기 제 2 실시형태를 이용한 노광 장치(25)의 구성을 모두 겸비한 것이다.

노광 장치(35)에 있어서는 상술한 바와 같이 해서 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 있어서 취득된 기준 마크(12a)의 검출 위치 정보와, 상술한 바와 같이 해서 어긋남 정보 취득 수단(80)에 있어서 취득된 어긋남 정보가 노광 궤적 정보 취득 수단(86)에 입력된다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)은 입력된 상기 검출 위치 정보와 상기 어긋남 정보에 기초하여 노광시의 각 마이크로 미러(38)마다의 기판(12) 상의 화상 공간상에 있어서의 실제의 노광 궤적을 나타내는 노광 궤적 정보를 취득한다.

구체적으로는, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)에 있어서 상기 제 1 실시형태와 마찬가지로, 주사 방향에 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)끼리를 연결하는 직선과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선의 교점의 좌표값이 구해지고, 그 교점과 그 교점에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d)의 거리가 구해지고, 상기 인접하는 검출 위치 정보(12d) 중 한쪽의 검출 위치 정보(12d)와 상기 교점의 거리와, 다른쪽의 검출 위치 정보(12d)와 상기 교점의 거리의 비가 구해진다.

한편, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)은, 상기 제 2 실시형태와 마찬가지로, 입력된 어긋남량과 각 마이크로 미러(38)마다의 통과 위치 정보(12c)에 기초하여 도 21에 곡선으로 나타내는 바와 같은 각 마이크로 미러(38)마다의 기판(12) 상에 있어서의 임시 노광 궤적 정보를 취득한다.

그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단(86)은 상기와 같이 해서 구해진 비와 임시 노광 궤적 정보를 노광 궤적 정보로서 노광점 데이터 취득 수단(88)에 출력한 다.

그리고, 노광점 데이터 취득 수단(56)은, 상기 제 1 실시형태와 마찬가지로, 도 24에 나타내는 바와 같이, 노광 화상 데이터(D)에 있어서 주사 방향에 직교하는 방향으로 인접하는 노광 화상 데이터 기준 위치 정보(12e)를 연결하는 직선을 입력된 비에 기초하여 분할한 점을 구한 후, 그 점을 연결하는 직선을 구하고, 그 직선의 주사 방향에 대한 경사분만큼 임시 노광 궤적 정보를 경사지게 하여 노광 궤적 정보를 나타내는 곡선을 구하고, 그 곡선 상에 있어서의 화소 데이터(d)를 노광점 데이터로서 취득한다. 즉, 도 24의 해칭된 부분의 화소 데이터가 노광점 데이터로서 취득된다. 또한, 도 24에 있어서의 A1:B1, A2:B2는 노광 궤적 정보 취득 수단(86)으로부터 입력된 비가 a1:b1, a2:b2일 경우에 a1:b1=A1:B1, a2:b2=A2:B2를 만족하는 비이다.

그리고, 상기와 마찬가지로 하여, 각 마이크로 미러(38)마다의 노광 궤적 정보를 나타내는 곡선이 상기와 마찬가지로 하여 구해지고, 각 곡선 상에 있어서의 화소 데이터(d)가 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터로서 취득된다.

그리고, 상기와 같이 하여 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력된다.

한편, 상기와 같이 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터가 노광 헤드 제어부(58)에 출력됨과 아울러, 이동 스테이지(14)가 상류측으로 원하는 속도로 이동된다.

그리고, 기판(12)의 선단이 카메라(26)에 의해 검출되면 노광이 개시된다. 구체적으로는, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)에 상기 노광점 데이터에 기초한 제어 신호가 출력되고, 노광 헤드(30)는 입력된 제어 신호에 기초하여 DMD(36)의 마이크로 미러를 온/오프시켜 기판(12)을 노광한다.

다음에, 본 발명의 묘화점 데이터 취득 방법 및 장치, 묘화 방법 및 장치의 제 4 실시형태를 이용한 노광 장치(45)에 대해서 상세하게 설명한다. 노광 장치(45)의 외관의 개략적인 구성에 대해서는 도 1에 나타내는 본 발명의 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)와 같다.

노광 장치(45)는, 도 25에 나타내는 바와 같이, 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)의 구성에다가 추가로, 기판(12)의 이동의 속도 변동 정보를 미리 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단(90)을 구비하고 있다. 그리고 노광점 데이터 취득 수단(91)은 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 이동 스테이지(14)의 이동의 속도가 느릴수록 각 화소 데이터로부터 취득되는 노광점 데이터의 수가 많아지도록 각 화소 데이터로부터 노광점 데이터를 취득하는 것이다. 또한, 도 25에 있어서 도 5와 동일한 부호가 붙여져 있는 구성에 대해서는 상기 제 1 실시형태를 이용한 노광 장치(10)와 그 작용은 같다.

또한, 상기 기판(12)의 이동의 속도 변동 정보는, 본 실시형태에 있어서는 이동 스테이지(14)의 이동 기구(60)의 제어 정밀도에 따라 발생하는 이동 속도의 불균일이다.

도 26은 실제의 노광시의 기판(12) 상에 있어서의 소정의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적과 그 마이크로 미러(38)에 의해 노광점을 노광하는 타이밍을 나타낸 것이다. 또한, 도 26에 있어서의 점선 화살표가 이동 스테이지의 속도 변동이 없는 경우에 있어서의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적과 노광 타이밍을 나타낸 것이고, 실선 화살표가 이동 스테이지의 속도 변동이 있는 경우에 있어서의 마이크로 미러(38)의 노광 궤적과 노광 타이밍을 나타낸 것이다. 그리고, 직선상에 있어서 화살표를 붙인 부분이 마이크로 미러(38)에 의한 노광점의 노광 타이밍을 나타내고 있다. 또한, 도 26에 있어서는, 설명의 편의상, 2개의 노광 궤적을 따로 따로 직선으로 나타내고 있지만, 이들 노광 궤적은 동일한 마이크로 미러의 노광 궤적이다. 그리고, 도 26에 있어서의 P1~P8은 기판(12) 상에 노광되는 화상을 구성하는 각 화소를 나타낸 것이다. 또한, 노광 타이밍과 이동 스테이지(14)는 원하는 해상도로 기판(12) 상에 노광 화상이 노광되도록 미리 상대적인 관계를 가지고 설정되어 있는 것이다.

도 26에 나타내는 바와 같이, 이동 스테이지(14)의 속도 변동이 없는 경우에는 각 화소(P1~P8)는 마이크로 미러(38)에 의해 1개의 노광점에 의해 노광된다. 즉, 1개의 화소에 대하여 마이크로 미러(38)가 노광하는 노광점의 수는 1개이다.

한편, 이동 스테이지(14)의 속도 변동이 있는 경우에는 각 화소(P1~P8)를 노광하는 노광점의 수는 그 속도 변동에 따라 다르다. 구체적으로는, 1개의 화소의 폭을 이동 스테이지(14)가 이동하는 동안에 노광 타이밍이 2회 이상 있을 경우에는 즉 상대적으로 느린 속도로 이동 스테이지(14)가 이동해서 노광되는 영역은 각 화소는 2 이상의 노광점에 의해 노광되게 된다. 그리고, 1개의 화소의 폭을 이동 스테이지(14)가 이동하는 동안에 노광 타이밍이 전혀 없을 경우에는 즉 상대적으로 빠른 속도로 이동 스테이지(14)가 이동해서 노광되는 영역은 각 화소는 노광되지 않는다.

도 26에 있어서는, 화소(P1,P5)를 노광할 때에는 이동 스테이지(14)는 상대적으로 느린 속도로 이동하고, 화소(P4,P8)를 노광할 때에는 이동 스테이지(14)는 상대적으로 빠른 속도로 이동하고, 화소(P2,P3,P6,P7)를 노광할 때에는 이동 스테이지(14)는 미리 설정된 일정한 속도로 이동하고 있다.

따라서, 상기와 같은 이동 스테이지의 속도 변동에 따라 노광점 데이터를 취득할 필요가 있다.

그래서, 노광점 데이터 취득 수단(91)은 노광 화상 데이터(D)의 1개의 화소 데이터(d)로부터 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 의해 취득된 속도 변동 정보에 따른 수의 노광점 데이터를 취득한다. 속도 변동 정보는, 구체적으로는, 예컨대, 소정의 노광 타이밍 피치에 있어서의 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향으로의 이동 거리의 변동 정보이며, 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 미리 설정된다.

그리고, 상기와 같이 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 미리 설정된 속도 변동 정보가 노광점 데이터 취득 수단(91)에 출력되고, 노광점 데이터 취득 수단(91)은, 예컨대, 이동 스테이지(14)의 이동 속도에 변화가 없을 경우, 즉 속도 변동 정보가 미리 설정된 이동 거리와 동일한 경우에는, 도 27에 점선 화살표로 나타내는 바와 같이, 1개의 화소 데이터(D)에 대해서 1개의 노광점 데이터(pn)(n은 예컨대 1~8)를 취득한다. 한편, 이동 스테이지(14)의 이동 속도에 변화가 있을 경우, 즉 속도 변동 정보가 미리 설정된 이동 거리보다 짧거나 혹은 길 경우에는 노광 화상 데이터(D)의 1개의 화소 데이터(d)로부터 그 속도 변동에 따른 수의 노광점 데이터를 취득한다. 예컨대, 도 26의 실선 화살표로 나타낸 바와 같은 속도 변동이 있을 경우에는, 도 27의 실선 화살표로 나타내는 바와 같이, 화소(P1)를 노광하기 위한 노광점 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(d)로부터 3개의 노광점 데이터(p1)를 취득하고, 마찬가지로, 화소(P5)를 노광하기 위한 노광점 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(d)로부터 3개의 노광점 데이터(p5)를 취득한다. 또한, 화소(P4) 및 화소(P8)를 노광하기 위한 노광점 데이터는 취득하지 않는다. 그리고, 화소(P2,P3,P6,P7)를 노광하기 위한 노광 데이터에 대해서는 1개의 화소 데이터(d)로부터 1개의 노광점 데이터(p2,p3,p6,p7)를 취득한다. 즉, 도 26에 나타내는 속도 변동이 있을 경우에는, 노광점 데이터 점 데이터로서는 3개의 노광점 데이터(p1)와, 1개의 노광점 데이터(p2,p3)와, 3개의 노광점 데이터(p5)와, 1개의 노광점 데이터(p6,p7)가 취득된다.

그리고, 상기와 같이 해서 취득된 노광점 데이터가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 순차적으로 노광 헤드 제어부(58)에 출력되고, 노광 헤드 제어부(58)로부터 각 노광 헤드(30)의 마이크로 미러(38)에 그 노광점 데이터에 따른 제어 신호가 출력되고, 그 제어 신호에 따라 마이크로 미러가 온/오프되어 기판(12)에 노광점이 노광된다.

상기 제 4 실시형태를 이용한 노광 장치(45)에 의하면, 미리 설정된 기판(12)의 소정 상대 이동 속도에 대한 노광 화상의 노광시의 기판(12)의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고, 그 취득한 속도 변동 정 보에 기초하여 기판(12)의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 기판(12) 상의 노광 영역일수록 각 화소 데이터(d)로부터 취득되는 노광점 데이터(pn)의 수가 많아지도록 각 화소 데이터(d)로부터 노광점 데이터(pn)를 취득하도록 했으므로, 이동 스테이지(14)의 이동 속도의 불균일에 영향을 주는 일 없이 기판(12) 상의 원하는 위치에 원하는 노광 화상을 노광할 수 있다.

또한, 상기 제 4 실시형태의 노광 장치(45)에 있어서, 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 검출 위치 정보를 취득하고, 그 검출 위치 정보에 기초하여 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 있어서 노광 궤적 정보를 취득하고, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 있어서 상기 노광 궤적 정보에 따른 화소 데이터를 특정할 때까지의 작용에 대해서는 상기 제 1 실시형태의 노광 장치(10)와 같다. 그리고, 상기와 같이 해서 특정된 화소 데이터(d)로부터 노광점 데이터를 판독할 때에 상기와 같은 방법을 채용할 수 있다.

또한, 상기 제 2, 제 3 실시형태의 노광 장치에 있어서도 상기와 같은 방법을 이용하여 노광점 데이터를 취득하도록 할 수 있다. 그 경우에 있어서도 노광 궤적 정보에 따른 화소 데이터를 특정할 때까지의 작용에 대해서는 상기 제 2, 제 3 실시형태의 노광 장치와 같다.

또한, 상기 제 2 실시형태의 노광 장치에 있어서 상기 제 4 실시형태의 노광 장치와 같이 속도 변동 정보에 따라 취득하는 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 하면, 예컨대, 도 28A에 나타내는 바와 같은 이동 스테이지(14)의 사행을 보정할 수 있을 뿐만 아니라, 도 28B에 나타내는 바와 같은 요잉도 고려한 보정, 즉 기판 의 이동 자세를 고려한 보정을 행할 수 있다. 또한, 요잉은 도 28A에 나타내는 바와 같은 이동 스테이지(14)의 사행에 이동 스테이지(14)의 회전이 가해진 것이다. 상기와 같은 이동 스테이지(14)의 회전에 의해 각 마이크로 미러(38)의 기판(12) 위의 상의 위치가 변화됨과 아울러, 소정의 노광 타이밍 피치에 있어서의 이동 스테이지(14)의 스테이지 이동 방향으로의 이동 거리가 변화되게 되므로, 즉 상기 회전에 의해 이동 스테이지(14)의 국소적 속도 변동이 생기므로, 상기 상의 위치 변동 및 속도 변동 정보에 따라 노광점 데이터의 수를 변화시키도록 하면 된다. 또한, 사행 성분을 0으로 하여 회전 성분만을 고려해도 된다.

예컨대, 도 29A에 나타내는 바와 같이, 스테이지(14)(기판(12))가 요잉했을 경우, 점(B)의 이동 거리에 따라 노광 타이밍을 결정한 경우, 점(A)의 이동 거리는 일정하지 않으므로, 도 29B에 나타내는 바와 같이, 점(A)을 통과하는 노광 궤적 상의 노광점의 간격이 일정하지 않게 된다. 따라서, 점(A)을 통과하는 노광점 데이터 궤적 정보상의 노광점 데이터의 판독 피치를 점(A)의 이동 거리에 따라 변화시키도록 하면 된다.

그리고, 상기와 같이 노광점 데이터 궤적상의 노광점 데이터의 판독 피치를 변화시키는 경우에는, 도 30에 나타내는 바와 같이, 각 마이크로 미러(38)의 노광점 데이터 궤적 정보(도 30 중의 화살표) 상에 대해서 시간적으로 동일 개소(도 30중의 검정 삼각)에서 판독 피치를 가감하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 제 1~제 4 실시형태를 모두 이용한 노광 장치로 할 수도 있다. 그렇게 구성한 경우에 있어서의 노광 장치의 작용에 대해서 도 31 및 도 32의 플로 우차트를 이용하여 간단하게 설명한다. 또한, 상세한 작용에 대해서는 상기 설명과 같다.

우선, 노광 궤적 정보 취득 수단(54)에 각 노광 헤드(30)의 DMD(36)의 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보가 입력 설정되고(S10), 이동 스테이지(14)의 어긋남 정보 및 속도 변동 정보가 각각 어긋남 정보 취득 수단, 속도 변동 정보 취득 수단(90)에 입력 설정된다(S12). 그리고, 데이터 작성 장치(40)에 있어서 작성된 배선 패턴을 나타내는 벡터 데이터가 래스터 변환 처리부(50)에 입력되고, 래스터 변환 처리부(50)에 있어서 래스터 데이터로 변환되어 노광점 데이터 취득 수단(56)에 출력되고, 노광점 데이터 취득 수단(56)에 의해 노광 화상 데이터로서 일시 기억된다(S14).

한편, 상기와 같이 해서 벡터 데이터가 래스터 변환 처리부(50)에 입력되면 노광 장치(10) 전체의 동작을 제어하는 컨트롤러(70)가 이동 기구(60)에 제어 신호를 출력하고, 이동 기구(60)는 그 제어 신호에 따라 이동 스테이지(14)를 도 1에 나타내는 위치로부터 가이드(20)를 따라 일단 상류측의 소정의 초기 위치까지 이동시킨 후, 스테이지 이동 방향으로 원하는 속도로 이동시킨다(S16).

그리고, 상기와 같이 해서 이동하는 이동 스테이지(14) 상의 기판(12)에 기준 마크(12a)가 카메라(26)에 의해 촬영되고, 그 촬영 화상 데이터에 기초하여 검출 위치 정보 취득 수단(52)에 의해 검출 위치 정보가 취득된다(S18).

그리고, 상기와 같이 해서 취득된 검출 위치 정보가 검출 위치 정보 취득 수단(52)으로부터 노광 궤적 정보 취득 수단에 출력됨과 아울러, 어긋남 정보 취득 수단에 있어서 설정된 어긋남 정보가 노광 궤적 정보 취득 수단에 출력된다. 그리고, 노광 궤적 정보 취득 수단에 있어서 기판(12) 상에 있어서의 각 마이크로 미러(38)의 노광 궤적 정보가 산출되지만, 구체적으로는, 우선, 제 1 실시형태의 노광 장치에 있어서 설명한 바와 같이, 주사 방향에 직교하는 방향에 대해서 인접하는 검출 위치 정보(12d)를 연결하는 직선과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보(12c)를 나타내는 직선과의 교점의 좌표값이 구해지고, 그 교점과 그 교점에 상기 직교하는 방향으로 인접하는 각 검출 위치 정보(12d)의 거리의 비가 구해진다. 구체적으로는, 도 7에 있어서의 a1:b1, a2:b2, a3:b3 및 a4:b4가 노광 궤적 정보로서 구해진다. 또한, 상기 비는 상기와 같이 해서 취득된 검출 위치 정보로부터 어긋남량을 뺀 후에 구해진다.(S20).

또한, 노광 궤적 정보 취득 수단에 있어서는 상기한 바와 같은 비가 산출됨과 아울러, 입력된 어긋남량과 각 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보에 기초하여 각 마이크로 미러(38)마다의 임시 노광 궤적 정보가 구해지고, 이 임시 노광 궤적 정보와 상기 비가 노광 궤적 정보로서 취득되고, 노광점 데이터 취득 수단에 출력된다. 또한, 비와 임시 노광 궤적을 구하는 순번은 반대이어도 된다. 그리고, 노광점 데이터 취득 수단에 있어서는 도 22에서 설명한 바와 같이 하여 노광 궤적 정보에 대응하는 곡선이 구해지고, 노광 화상 데이터(D)에 있어서의 상기 곡선상의 화소 데이터가 노광해야 할 화소 데이터로서 특정된다(S24). 그리고, 노광점 데이터 취득 수단에는 속도 변동 정보 취득 수단에 있어서 취득된 속도 변동 정보가 입력되고, 상기 제 4 실시형태의 노광 장치에 있어서 설명한 바와 같이, 상기 속도 변 동 정보에 따른 수의 노광점 데이터가 노광 화상 데이터에 있어서의 각 화소 데이터로부터 취득된다(S26). 또한, 이 때 속도 변동 정보뿐만 아니라, 기판(12)의 주사 방향으로의 신축도 고려하여, 즉, 기판(12)의 검출 위치 정보(12d)에 의해 나누어진 영역마다의 마이크로 미러(38)의 통과 위치 정보의 길이도 고려해서 노광점 데이터의 수를 결정하는 것이 바람직하다.

그리고, 상기와 같이 해서 취득된 각 마이크로 미러(38)마다의 노광점 데이터의 열에 90도 회전 처리 혹은 행렬을 이용한 전치 변환 등이 실시되고, 도 13에 나타내는 바와 같이, 기판(12)에 대한 각 노광 헤드(30)의 각 위치에 따른 프레임 데이터(1~m)가 생성된다(S28). 그리고, 이 프레임 데이터(1~m)가 이동 스테이지(14)의 이동에 따라 각 노광 헤드(30)에 순차적으로 출력되고, 각 노광 헤드(30)에 의해 프레임 데이터에 기초한 노광 화상이 기판(12) 상에 노광된다(S30). 그리고, 모든 프레임 데이터가 노광 헤드(30)에 입력되고, 노광이 종료되면 다시 이동 스테이지(14)는 초기 위치까지 이동한다(S32). 그리고, 다음 기판(12)이 있을 경우에는 그 기판(12)으로 교환된 후, 다시 S16에서부터의 처리가 행해지고, 다음 기판(12)이 없을 경우에는 그대로 종료된다(S34).

또한, 상기 실시형태에 있어서의 노광점 데이터 취득 수단은 묘화점 데이터 궤적 취득 수단과 묘화점 데이터 취득 수단 양쪽을 포함하고 있는 것으로 한다.

또한, 상기 실시형태에서는 공간 광변조 소자로서 DMD를 구비한 노광 장치에 대해서 설명했지만, 이러한 반사형 공간 광변조 소자 외에 투과형 공간 광변조 소자를 사용할 수도 있다.

또한, 상기 실시형태에서는 소위 플랫 베드 타입의 노광 장치를 예로 들었지만, 감광 재료가 감겨지는 드럼을 갖는 소위 아우터 드럼 타입(outer-drum-type)(또는 이너 드럼 타입(inner-drum-type))의 노광 장치로 해도 된다.

또한, 상기 실시형태의 노광 대상인 기판(12)은 프린트 배선 기판뿐만 아니라 플랫 패널 디스플레이의 기판이어도 된다. 이 경우, 패턴은 액정 디스플레이 등의 컬러 필터, 블랙 매트릭스, TFT 등의 반도체 회로 등을 구성하는 것이어도 된다. 또한, 기판(12)의 형상은 시트형상이어도, 길이가 긴 형상의 것(플렉시블 기판 등)이어도 된다.

또한, 본 실시형태에 있어서의 묘화 방법 및 장치는 잉크젯 방식 등의 프린터에 있어서의 묘화에도 적용할 수 있다. 예컨대, 잉크의 토출에 의한 묘화점을 본 발명과 마찬가지로 형성할 수 있다. 즉, 본 발명에 있어서의 묘화점 형성 영역을 잉크젯 방식의 프린터의 각 노즐로부터 토출된 잉크가 부착되는 영역으로서 생각할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 있어서의 묘화 궤적 정보는 실제 기판 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 이용하여 묘화 궤적 정보로 해도 되고, 실제 기판 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 근사한 것을 묘화 궤적 정보로 해도 되며, 실제 기판 상에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적을 예측한 것을 묘화 궤적 정보로 해도 된다.

또한, 본 실시형태에 있어서는 묘화 궤적의 거리가 길수록 묘화점 데이터의 수를 많게 하고, 거리가 짧을수록 묘화점 데이터의 수를 적게 함으로써, 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 거리에 따라 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 묘화점 데이터의 수를 변화시키도록 해도 된다.

또한, 본 실시형태에 있어서의 화상 공간은 기판 상에 묘화해야 할 또는 묘화된 화상을 기준으로 한 좌표 공간이여도 된다.

또한, 상기와 같이, 본 실시형태에 있어서의 묘화점 형성 영역의 묘화 궤적 정보는 기판 좌표 공간에 있어서의 묘화 궤적과, 화상 좌표 공간에 있어서의 묘화 궤적 양쪽에서 취할 수 있다. 또한, 기판 좌표와 화상 좌표가 다른 경우가 있다.

또한, 상기 실시형태에 있어서는 2개 이상의 마이크로 미러(빔)마다 1개의 노광점 데이터 궤적을 취득하도록 해도 된다. 예컨대, 마이크로 렌즈 어레이를 구성하는 1개의 마이크로 렌즈에 의해 집광되는 복수의 빔마다 노광점 데이터 궤적을 구할 수 있다.

또한, 각 노광점 데이터 궤적 정보에 데이터 판독 피치 정보를 부수시키도록 해도 된다. 이 경우, 피치 정보에 샘플링 레이트(묘화점 데이터를 바꾸는 최소의 빔 이동 거리(보정이 없을 경우에 전체 빔 공통)와 화상의 해상도(화소 피치)의 비)가 포함되어 있어도 된다. 또한, 노광 궤적의 길이 보정에 따른 노광점 데이터의 가감의 정보를 피치의 정보에 포함시키도록 할 수 있다. 또한, 노광점 데이터의 가감의 정보와 함께, 가감의 위치를 피치 정보에 포함시키도록 하고, 노광 궤적에 부수시키도록 해도 된다. 또한, 각 노광점 데이터 궤적 정보로서, 각 프레임에 대응하는 데이터 판독 어드레스(x,y)(시계열순의 판독 어드레스)를 모두 갖고 있어도 된다.

또한, 화상 데이터상에 있어서의 데이터 판독 궤적을 따른 방향과, 메모리상에 있어서의 어드레스의 연속 방향을 일치시키도록 해도 된다. 예컨대, 도 9의 예에서는 가로 방향이 어드레스의 연속 방향이 되도록 메모리에 화상 데이터가 저장된다. 이 경우, 빔마다 화상 데이터를 판독하는 처리를 고속으로 행할 수 있다. 또한, 메모리로서는, DRAM을 이용할 수 있지만, 저장된 데이터가 어드레스가 연속되는 방향으로 순차적으로 고속으로 판독될 수 있는 것이면 어떠한 것을 사용해도 된다. 예컨대, SRAM(Static Random Access Memory) 등의 랜덤 액세스로도 고속의 것을 이용할 수도 있지만, 이 경우, 메모리상의 어드레스의 연속 방향을 노광 궤적을 따른 방향으로 정의하고, 또한, 그 연속 방향을 따라 데이터의 판독이 행해지도록 해도 된다. 또한, 메모리는 어드레스의 연속 방향을 따라 데이터의 판독이 행해지도록 미리 배선 또는 프로그램된 것이어도 된다. 또한, 어드레스의 연속 방향을 연속하는 복수 비트분이 통합되어 판독되는 경로를 따른 방향으로 해도 된다.

Claims (64)

1. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:

   상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되,

   상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
2. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:

   상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되,

   상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
3. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 방법으로서:

   상기 묘화 대상 위의 화상 공간에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되,

   상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 방법.
4. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서:

   상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

   상기 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
5. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서:

   상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

   상기 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
6. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서:

   상기 묘화 대상 위의 화상 공간에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하고;

   상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

   상기 취득한 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
7. 제 5 항에 있어서, 상기 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크를 검출해서 상기 기준 마크의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고,

   상기 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
8. 제 6 항에 있어서, 상기 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크를 검출해서 상기 기준 마크의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고,

   상기 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
9. 제 5 항에 있어서, 상기 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 부위를 검출해서 상기 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고,

   상기 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
10. 제 6 항에 있어서, 상기 묘화 대상 위의 소정 위치에 있는 복수의 기준 부위를 검출해서 상기 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하고,

    상기 취득한 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
11. 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향의 어긋남 정보를 취득하고,

    상기 취득한 어긋남 정보 및 상기 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
12. 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 자세에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하고,

    상기 취득한 어긋남 정보 및 상기 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
13. 제 5 항에 있어서, 상기 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
14. 제 6 항에 있어서, 상기 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 묘화 궤적의 거리에 따라 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
15. 제 4 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고;

    상기 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
16. 제 5 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고;

    상기 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
17. 제 6 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하고;

    상기 취득한 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
18. 제 4 항에 있어서, 복수의 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화를 행하는 묘화 방법으로서,

    상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
19. 제 5 항에 있어서, 복수의 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화를 행하는 묘화 방법으로서,

    상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
20. 제 6 항에 있어서, 복수의 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화를 행하는 묘화 방법으로서,

    상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
21. 제 4 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역이 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿인 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
22. 제 5 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역이 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿인 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
23. 제 6 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역이 공간 광변조 소자에 의해 형성되는 빔 스폿인 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
24. 제 4 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
25. 제 5 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
26. 제 6 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
27. 제 4 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고, 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
28. 제 5 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고, 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
29. 제 6 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고, 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
30. 제 4 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
31. 제 5 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
32. 제 6 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 방법.
33. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서:

    상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단; 및

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
34. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서:

    상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단;

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단; 및

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
35. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화할 때에 이용되는 상기 묘화점 데이터를 취득하는 묘화점 데이터 취득 장치로서:

    상기 묘화 대상 위의 화상 공간에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단;

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단; 및

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터인 것을 특징으로 하는 묘화점 데이터 취득 장치.
36. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 수단과,

    상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과,

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

    상기 묘화 수단은 상기 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
37. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 수단과,

    상기 화상의 묘화를 행할 때의 상기 묘화 대상 위에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과,

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

    상기 묘화 수단은 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
38. 묘화점 데이터에 기초하여 묘화점을 형성하는 묘화점 형성 영역을 묘화 대상에 대하여 상대적으로 이동시킴과 아울러, 그 이동에 따라 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 순차적으로 형성해서 상기 묘화 대상 위에 화상을 묘화하는 묘화 수단과,

    상기 묘화 대상 위의 화상 공간에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화 궤적의 정보를 취득하는 묘화 궤적 정보 취득 수단과,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단에 의해 취득한 묘화 궤적 정보에 기초하여, 상기 화상의 화상 데이터 상에서 상기 묘화점 형성 영역이 이동하는 궤적을 나타내는 묘화점 데이터 궤적의 정보를 취득하는 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단과,

    상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 복수의 상기 묘화점 데이터를 상기 화상 데이터로부터 취득하는 묘화점 데이터 취득 수단을 구비하되, 상기 묘화점 데이터는 상기 묘화점 데이터 궤적에 대응하는 상기 화상 데이터 상의 화소 데이터이고,

    상기 묘화 수단은 상기 묘화점 데이터 취득 수단에 의해 취득된 묘화점 데이터에 기초하여 상기 묘화점 형성 영역에 의해 상기 묘화점을 상기 묘화 대상 위에 형성하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
39. 제 37 항에 있어서, 기판 상의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크를 검출해서 상기 기준 마크의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
40. 제 38 항에 있어서, 기판 상의 소정 위치에 있는 복수의 기준 마크를 검출해서 상기 기준 마크의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
41. 제 37 항에 있어서, 기판 상의 소정 위치에 있는 복수의 기준 부위를 검출해서 상기 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
42. 제 38 항에 있어서, 기판 상의 소정 위치에 있는 복수의 기준 부위를 검출해서 상기 기준 부위의 위치를 나타내는 검출 위치 정보를 취득하는 위치 정보 검출 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화 궤적 정보 취득 수단은 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
43. 제 37 항 내지 제 40 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 방향에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 방향의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화점 궤적 취득 수단은 상기 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보 및 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
44. 제 37 항 내지 제 40 항 중 어느 하나의 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 자세에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 자세의 어긋남 정보를 취득하는 어긋남 정보 취득 수단을 추가로 구비하고,

    상기 묘화점 궤적 취득 수단은 상기 어긋남 정보 취득 수단에 의해 취득된 어긋남 정보 및 상기 위치 정보 검출 수단에 의해 취득된 검출 위치 정보에 기초하여 상기 묘화 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
45. 제 37 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 거리에 따라 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
46. 제 38 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 묘화 궤적 정보에 의해 나타내어지는 거리에 따라 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수를 변화시키는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
47. 제 36 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단을 추가로 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 속도 변동 정보 취득 수단에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
48. 제 37 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단을 추가로 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 속도 변동 정보 취득 수단에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
49. 제 38 항에 있어서, 미리 설정된 상기 묘화 대상의 소정 상대 이동 속도에 대한 상기 화상의 묘화시의 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도의 변동을 나타내는 속도 변동 정보를 취득하는 속도 변동 정보 취득 수단을 추가로 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 속도 변동 정보 취득 수단에 의해 취득된 속도 변동 정보에 기초하여 상기 묘화 대상의 실제 상대 이동 속도가 상대적으로 느린 상기 묘화 대상 위의 묘화 영역일수록 상기 화상 데이터를 구성하는 각 화소 데이터로부터 취득되는 상기 묘화점 데이터의 수가 많아지도록 상기 각 화소 데이터로부터 상기 묘화점 데이터를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
50. 제 36 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 복수개 갖고;

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
51. 제 37 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 복수개 갖고,

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
52. 제 38 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 복수개 갖고;

    상기 묘화점 데이터 취득 수단은 상기 묘화점 형성 영역마다 상기 묘화점 데이터의 취득을 행하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
53. 제 36 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
54. 제 37 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
55. 제 38 항에 있어서, 상기 묘화점 형성 영역을 형성하는 공간 광변조 소자를 구비한 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
56. 제 36 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
57. 제 37 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
58. 제 38 항에 있어서, 상기 묘화점 데이터 궤적 정보에 상기 묘화점 데이터를 취득하는 피치 성분이 부수되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
59. 제 36 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단은 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
60. 제 37 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단은 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
61. 제 38 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역을 구비하고;

    상기 묘화점 데이터 궤적 정보 취득 수단은 2개 이상의 묘화점 형성 영역마다 1개의 묘화점 데이터 궤적 정보를 취득하는 것임을 특징으로 하는 묘화 장치.
62. 제 36 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
63. 제 37 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.
64. 제 38 항에 있어서, 복수의 묘화점 형성 영역이 2차원상으로 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 묘화 장치.

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