JP4895571B2 - 描画装置及び画像長さ補正方法 - Google Patents

Description

この発明は、画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき描画点形成要素を描画面に対して所定送りピッチで走査方向に相対的に移動させることで、前記描画面上に描画点列を形成して、前記描画面上に画像を形成する描画装置及び画像長さ補正方法に関する。

従来、プリント配線板やフラットパネルディスプレイの基板に所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が種々提案されている。上記のような露光装置としては、例えば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビームを主走査及び副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、配線パターンを表す画像データに基づいて変調することにより配線パターンを形成する露光装置が提案されている。

このような露光装置として、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤという）等の空間光変調素子を利用し、画像データに応じて前記空間光変調素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。

ＤＭＤは、シリコン等の半導体基板上のメモリアレイ（ＳＲＡＭアレイ）に、微小なマイクロミラーが２次元状に多数配置されて構成されたものである。そして、メモリアレイに蓄積される電荷による静電気力を制御することによってマイクロミラーを傾斜させて反射面の角度を変化させることができ、この反射面の角度変化により描画面上の所望の位置に描画点を形成して画像を形成することができるものである。

そして、上記のようなＤＭＤを用いた露光装置として、この出願の出願人は、例えば、ＤＭＤを露光面の走査方向に対して傾斜させたままでＤＭＤを走査方向に移動させる露光装置を提案している（特許文献１）。

特開２００４−９５９５号公報（図８）

この特許文献１に係る露光装置は、ＤＭＤを露光面の走査方向に対して傾斜させることで、露光ビームの走査軌跡（走査線）のピッチを狭くして走査方向と直交する方向の解像度を高くするとともに、１つの走査線上を異なるマイクロミラー列により重ねて露光することで、画像むらの少なくした露光装置である。

ところで、このような露光装置により、多層プリント配線板を形成するような場合には、各層の配線パターンの位置合わせを高度に行う必要があるが、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えられ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、予め設定された位置に各層の配線パターンを露光したのでは各層の配線パターンの記録位置ずれが生じ、各層の配線パターンの高精度な位置合わせが困難となるおそれがある。また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の記録位置ずれが生じてしまうおそれがある。さらに、例えば、基板を所定の走査方向に移動させることによって基板上を光ビームで走査するようにした場合には、基板を移動させる移動機構の制御精度に応じて、基板の移動方向にずれが生じるような場合があり、このようなずれが生じるとやはり配線パターン等の高精度の位置合わせが困難となるおそれがある。

基板が走査方向に伸縮している場合には、描画面に形成される画像の長さ補正が必要となる。そして、この長さ補正を行うために、画像データに画素データを追加又は削除することが考えられる。一般的には基板の変形に合わせて画像を変形する。

画像データに画素データを追加又は削除する場合に、図４１に示すように、前記描画面に形成される画像が、例えば、液晶パネル用の格子状のブラックマトリクス画像２０１であって、走査方向のある箇所で長さ補正が必要となった場合、例えば１画素分、長さを短くする場合には画素データを読み飛ばし、長さを長くする場合には同一の画素データを重複して読み出すようにすればよい。

しかしながら、長さ補正箇所が、例えば、図４１例に示すように、走査方向と直交する方向に連続すると、長さ補正箇所の開口２０４と、非長さ補正箇所の開口２０６との間で開口率の差が発生し、結果として、長さ補正後の液晶パネルに暗い筋状のムラあるいは明るい筋状のムラが視認される場合があり液晶パネルの品位が下がるという問題がある。

この発明は、このような課題を考慮してなされたものであり、高分解能な長さ補正を行うことを可能とする描画装置及び画像長さ補正方法を提供することを目的とする。

この発明に係る描画装置は、画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素を、描画面上の走査方向に沿って相対的に移動して前記描画面上に描画点列を形成することで、前記描画面上に画像を形成する描画装置において、以下の（１）、（２）の特徴を有する。

（１）前記画像の解像度に対応する１画素が、複数の描画点で形成され、前記描画面に形成される前記画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、前記１画素分の長さ単位の前記補正箇所を、前記描画面上の走査方向で前記描画点単位で分散して補正することを特徴とする。

この（１）の特徴を有する発明によれば、描画面に形成される画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、１画素分の長さ単位の補正箇所を、描画面上の走査方向で描画点単位で分散して補正するようにしているので、高分解能な長さ補正を行うことができる。

また、補正箇所を分散することで、最終的に描画面上に得られる画像上、補正箇所を目立ち難くすることができる。

さらに、描画点単位で分散しているので、元画像の解像度以上に高分解能な長さ補正が可能となるが、描画点画像データはもともと作成してあるデータを擬似的に高解像度化して使用できるので、画像データサイズは増加しない。

（２）上記（１）の特徴を有する発明において、前記１画素分の長さ単位の１個の前記補正箇所を分散させる分散箇所をｎ（ｎ≧２）箇所とするとき、前記画像データの解像度をｎ倍以上に擬似的に高解像度化し、擬似的に高解像度化した画像データ上で、分散箇所を決定することができる。分散箇所ｎの最大値は、１画素を形成する描画点の数で制限される。

この発明に係る画像長さ補正方法は、画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素を、描画面上の走査方向に沿って相対的に移動して前記描画面上に描画点列を形成することで、前記描画面上に画像を形成する描画装置における前記画像の長さを補正する方法おいて、以下の（３）、（４）の特徴を有する。

（３）前記画像の解像度に対応する１画素が、複数の描画点で形成され、前記描画面に形成される前記画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、前記１画素分の長さ単位の前記補正箇所を、前記描画面上の走査方向で前記描画点単位で分散して補正する分散補正ステップを備えることを特徴とする。

この（３）の特徴を有する発明によれば、描画面に形成される画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、１画素分の長さ単位の補正箇所を、描画面上の走査方向で描画点単位で分散して補正する分散補正ステップを備えるようにしているので、高分解能な長さ補正を行うことができる。

また、補正箇所を分散することで、最終的に描画面上に得られる画像上、補正箇所を目立ち難くすることができる。

さらに、描画点単位で分散しているので、元画像の解像度以上に高分解能な長さ補正が可能となるが、描画点画像データはもともと作成してあるデータを擬似的に高解像度化して使用できるので、画像データサイズは増加しない。

（４）上記（３）の特徴を有する発明において、前記１画素分の長さ単位の１個の前記補正箇所を分散させる分散箇所をｎ（ｎ≧２）箇所とするとき、前記画像データの解像度をｎ倍以上に擬似的に高解像度化し、擬似的に高解像度化した画像データ上で、分散箇所を決定することができる。

なお、上記（１）〜（４）の特徴において、描画点形成要素としては、マイクロミラーを有するＤＭＤの他、インクジェット記録ヘッド等が含まれる。

この発明によれば、画像データサイズを変えずに、元画像の解像度以上に高分解能な長さ補正を行うことができる。

以下、図面を参照してこの発明の描画装置及び画像長さ補正方法の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。

図１は、この露光装置１０の概略構成を示す斜視図である。この露光装置１０は、多層プリント配線板である基板１２の各層の配線パターンを露光する装置である。

露光装置１０は、描画面を有する基板１２を表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。そして、４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。移動ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。

設置台１８の中央部には、移動ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設けられている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。このゲート２２を挟んで一方の側にはスキャナ２４が設けられ、他方の側には基板１２の先端及び後端と、基板１２に予め設けられている円形状の複数の基準マーク１２ａの位置とを検知するための複数のカメラ２６が設けられている。

ここで、基板１２における基準マーク１２ａは、予め設定された基準マーク位置情報に基づいて基板１２上に形成された、例えば、孔である。なお、孔の他にランドやヴィアやエッチングマークを用いてもよい。また、基板１２に形成された所定のパターン、例えば、露光しようとする層の下層のパターン等を基準マーク１２ａとして利用するようにしてもよい。また、図１においては、基準マーク１２ａを６個しか示していないが実際には多数の基準マーク１２ａが設けられている。

スキャナ２４及びカメラ２６はゲート２２に各々取り付けられて、移動ステージ１４の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ２４及びカメラ２６は、これらを制御する後述するコントローラ７０に接続されている。

スキャナ２４は、図２及び図３Ｂに示すように、２行５列の略マトリックス状に配列された１０個の露光ヘッド３０（３０Ａ〜３０Ｊ）を備えている。

各露光ヘッド３０の内部には、図４に示すように入射された光ビームを空間変調する空間光変調素子（ＳＬＭ）であるデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が設けられている。ＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８が直交する方向に２次元状に多数配列されたものであり、そのマイクロミラー３８の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド３０による露光エリア３２（３２Ａ〜３２Ｊ：図３Ｂ参照）は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。移動ステージ１４の移動に伴い、基板１２には露光ヘッド３０ごとに、図３Ａに示すような帯状の露光済み領域３４が形成される。なお、各露光ヘッド３０に光ビームを入射する光源については図示省略してあるが、例えば、レーザ光源等を利用することができる。

露光ヘッド３０の各々に設けられたＤＭＤ３６は、マイクロミラー３８単位でオン・オフ制御され、基板１２には、ＤＭＤ３６のマイクロミラー３８に対応したドットパターン（マイクロミラー３８がオンの場合にドットが形成され、オフの場合ドットが形成されない。）が露光される。前述した帯状の露光済み領域３４は、図４に示すマイクロミラー３８に対応した２次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合もあり、例えば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤ３６におけるマイクロミラー３８は常にオフ状態となる。

また、図３Ａ及び図３Ｂに示すように、帯状の露光済み領域３４のそれぞれが、隣接する露光済み領域３４と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド３０の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、例えば、１行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ａ、露光エリア３２Ａの右隣に位置する露光エリア３２Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する露光エリア３２Ｂにより露光される。同様に、露光エリア３２Ｂと、露光エリア３２Ｂの右隣に位置する露光エリア３２Ｄとの間の露光できない部分は、露光エリア３２Ｃにより露光される。

次に、図５を参照して、この露光装置１０を含む露光記録システム４の電気的構成について説明する。

この露光記録システム４は、基本的には、露光しようとする配線パターンを表わす画像データを作成しベクトルデータとして出力するＣＡＤ装置（ＣＡＤサーバー）６と、ＣＡＤ装置６から転送されたベクトルデータをラスタイメージデータであるビットマップデータに変換して出力するラスタイメージプロセッサ（ＲＩＰ）８と、ＲＩＰ８から転送された画像データを一旦記憶し、ＤＭＤ３６で取り扱うのに都合のよい画像データに変換するコントローラ７０を含む露光装置１０とから構成されている。

模式的に内部構成を描いているコントローラ７０は、コンピュータであって図示しないＣＰＵと、ハードディスク８２、主メモリ８４、ミラーデータ一時格納用バッファ（以下、ミラーバッファという。）９０、フレームデータ一時格納用バッファ（フレームバッファ）９４を含むメモリ（記憶手段）８０とを含み、ＣＰＵはハードディスク８２に記憶されているプログラムを実行することで、メモリ８０に対してデータの読み書きを行うメモリ読出手段及びメモリ書込手段として機能するメモリアクセス手段４５等、後述する各種機能手段として動作する。

ここでミラーデータ及びフレームデータについて説明する。

図６の模式図に示すように、画像解像度が、例えば１［μｍ］で、ＤＭＤ３６の走査方向への送りピッチが２倍の２［μｍ］等と、画像解像度と送りピッチが異なっている場合を考慮する。図６は、基板上に形成される画像を模式的に示しているが、その画像を形成するための画素データからなる画像データ２００としても考える。

この図６例では、メモリ（ハードディスクや主メモリを含む。）に格納されている画素データからなる画像データ２００中、同図に示す、例えば２行目の画像データに基づき基板上に１本の走査線に対応する描画点列が形成されるがこの１本の描画点列が描画点形成要素であるミラー（マイクロミラー３８）Ａ、ミラー（マイクロミラー３８）Ｂにより形成される。この場合、ミラーＡに対して、画素「２、４、６、８、１０」の列の画素データがメモリアクセス手段（メモリ読出手段とメモリ書込手段）４５により読み出されてミラーＡに供給され基板上に描画点として露光される一方、ミラーＢに対して、画素「１、３、５、７、９」の列の画素データがメモリアクセス手段４５により読み出されてミラーＢに供給され基板上に描画点が露光されることで、描画面に２行目の画素１〜１０の描画点からなる１本の走査線に対応する描画点列からなる画像が形成される。

ここで、ミラーデータとは、図７Ａに示すように、ＤＭＤ３６を構成する各描画点形成要素であるミラーＡ、ミラーＢ、…による基板１２の露光点（描画点）の各軌跡｛ミラーの軌跡（図６中、左側のミラーＡ、ミラーＢを始点とする矢印の先端で露光点を表す矢印付き線）と考えることもできる。｝に沿ったミラー毎に作成されたデータ（ミラー単位のデータ）である。そして、例えば、露光時点ｔ１で、ミラーＡでは画素「２」の画素データが、ミラーＢでは画素「１」の画素データがメモリアクセス手段４５により読み出される。次いで、次の露光時点ｔ２で、ミラーＡでは画素「４」の画素データが、ミラーＢでは画素「３」の画素データがメモリアクセス手段４５により読み出される。以下、露光時点ｔ５まで順次読み出される。

一方、フレームデータとは、図７Ｂに示すように、ミラーデータをＤＭＤ３６の露光時点ｔ１、ｔ２、…毎にまとめたデータであり、ミラーデータをマトリクスにおける転置処理と同様な処理で変換して得られるデータである。

後述するように、ＤＭＤ３６による基板１２の露光に際して、画像データに基づきミラーデータが作成され、このミラーデータからフレームデータが作成される。時点ｔ（ｔ＝ｔ１、ｔ２、…）毎のフレームデータがミラーＡ、Ｂ、…に供給されることで、基板上に時点ｔ毎に一時にＤＭＤ３６を構成するマイクロミラー３８による複数の描画点が形成される。

なお、前記ＣＰＵにより達成される機能としては、図５のコントローラ７０の模式的な構成で示すように、さらに、カメラ２６により撮影された基準マーク１２ａの画像に基づいて基準マーク１２ａの検出位置情報を取得する検出位置情報取得手段５２と、移動ステージ１４のステージ移動方向（走査方向）と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段５５と、ずれ情報取得手段５５により取得されたずれ情報と検出位置情報取得手段５２により取得された検出位置情報とに基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得手段５４と、この露光軌跡情報取得手段５４により取得された各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報とＲＩＰ８から供給された画像データに基づいて、各マイクロミラー３８毎のミラーデータを作成するミラーデータ作成手段４１と、ミラーデータ作成手段４１により取得された各マイクロミラー３８毎のミラーデータから上述したフレームデータを作成するフレームデータ作成手段４２と、システム管理サーバー１１から供給される基板１２に形成される画像の解像度（画素ピッチ又は描画点ピッチという。）とマイクロミラー３８の送りピッチとが異なっているかどうか判定する判定手段４３と、異なっていると判定した場合に、画像データを、各マイクロミラー３８の走査方向での描画点形成位置（描画点、露光点）の位相に合わせ、かつ走査方向とメモリアドレスが連続する方向とを一致させて予め分割した分割画像データとして記憶手段としての主メモリ８４又はハードディスク８２に格納しておく分割画像データ作成手段４４と、メモリ８０に対するメモリ読出・書込を行うメモリアクセス手段４５とを備える。

露光装置１０は、さらに、フレームデータ作成手段４２により作成されたフレームデータに基づいて露光ヘッド３０のＤＭＤ３６により露光されるよう露光ヘッド３０を制御する露光ヘッド制御部５８と、移動ステージ１４をステージ移動方向へ移動させる移動機構６０とを備えている。なお、移動機構６０は、移動ステージ１４をガイド２０に沿って往復移動させるものであればどのような既知の構成を採用してもよい。

この露光装置１０を含む露光記録システム４は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に露光装置１０の動作及び露光装置１０における画像長さ補正方法について以下の順で説明する。

（１）分割画像データの作成
（２）画像の長さ補正
（３）画像の高解像度長さ補正

（１）分割画像データの作成
まず、ＣＡＤ装置６において、基板１２に露光しようとする配線パターンを表すベクトルデータが作成される。そして、そのベクトルデータはＲＩＰ８に入力され、ＲＩＰ８においてラスタデータに変換され、メモリアクセス手段４５を介して露光装置１０内のハードディスク８２に記憶される。

ハードディスク８２に記憶されたラスタデータは、図６に示す画素データからなる画像データ２００であるものとする。

画像データ２００がハードディスク８２に格納されたとき、判定手段４３は、システム管理サーバー１１から供給される基板１２に形成される画像の解像度と、送りピッチとが異なっているかどうかを判定する（判定ステップ）。

この図６例においては、画像の解像度（ここでは、走査方向の１画素の大きさ）が１０［μｍ］で、基板１２の走査方向に沿うＤＭＤ３６（マイクロミラー３８）の送りピッチが、その整数倍である２倍の２０［μｍ］であるとする。すなわち、判定手段４３により画像の解像度と送りピッチとが異なっていると判定される。

そして、異なっていると判定した場合には、分割画像データ作成手段４４は、メモリアクセス手段４５を利用して、画像データ２００を、マイクロミラー３８のそれぞれの、この実施形態では理解の容易化のためにミラーＡとミラーＢの走査方向での描画点形成位置の位相（図６中、各矢印の先端位置とする。）に合わせ、かつ走査方向とメモリアドレスが連続する方向とを一致させて分割し分割画像データとしてハードディスク８２あるいは主メモリ８４に格納する（分割画像データ作成ステップ）。

すなわち、図８Ａ、図８Ｂに示すように、ミラーＡと同じ画素「２、４、６、８、１０」の列の画素データを利用するマイクロミラー３８用の分割画像データ２００Ａと、ミラーＢと同じ画素「１、３、５、７、９」の列（ハッチングで示している。）の画素データを利用するマイクロミラー３８用の分割画像データ２００Ｂに分割し、分割した分割画像データ２００Ａ、２００Ｂをハードディスク８２又は主メモリ８４のメモリアドレスが連続する位置に一時的に格納する。

一方、上記のようにして分割画像データ２００Ａ、２００Ｂがハードディスク８２又は主メモリ８４に格納されると、露光装置１０全体の動作を制御するコントローラ７０が移動機構６０に制御信号を出力し、移動機構６０はその制御信号に応じて移動ステージ１４を図１に示す位置からガイド２０に沿って一旦上流側の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。

なお、上記上流側とは、図１における右側、つまりゲート２２に対してスキャナ２４が設置されている側のことであり、上記下流側とは、図１における左側、つまりゲート２２に対してカメラ２６が設置されている側のことである。

そして、上記のようにして移動する移動ステージ１４上の基板１２が複数のカメラ２６の下を通過する際、これらのカメラ２６により基板１２が撮影され、その撮影画像を表す撮影画像データが検出位置情報取得手段５２に入力される。

検出位置情報取得手段５２は、入力された撮影画像データに基づいて基板１２の基準マーク１２ａの位置を示す検出位置情報を取得する。基準マーク１２ａの検出位置情報の取得方法については、例えば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他のどのような既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク１２ａの検出位置情報は、具体的には座標値として取得されるが、その座標値の原点は、例えば、基板１２の撮影画像データの４つの角のうちの１つの角のとしてもよいし、撮影画像データにおける予め設定された所定の位置でもよいし、複数の基準マーク１２ａのうちの１つの基準マーク１２ａの位置としてもよい。上記のようにこの実施形態においては、カメラ２６と検出位置情報取得手段５２とにより位置情報検出手段が構成されている。

そして、上記のようにして取得された基準マーク１２ａの検出位置情報は、検出位置情報取得手段５２から露光軌跡情報取得手段５４に出力される。

そして、露光軌跡情報取得手段５４において、入力された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板１２上の各マイクロミラー３８毎の露光軌跡の情報が取得される。具体的には、露光軌跡情報取得手段５４には、各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６の各マイクロミラー３８の像が通過する位置を示す通過位置情報が各マイクロミラー３８毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ１４上の基板１２の設置位置に対する、各露光ヘッド３０の設置位置によって予め設定されているものであり、上記基準マーク位置情報及び上記検出位置情報と同じ点を原点として、ベクトル又は複数点の座標値で表わされるものである。

図９に、プレスエ程等を経ていない理想的な形状の基板１２、つまり、歪等の変形が生じておらず、基準マーク１２ａが予め設定された基準マーク位置情報１２ｂの示す位置に配置している基板１２と、所定のマイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃとの関係を示す模式図を示す。

そして、露光軌跡情報取得手段５４においては、図１０に示すように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄを結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められる。つまり、図１０における×印の点の座標値が求められ、さらに、×印とその×印に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと×印との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと×印との距離との比が求められる。具体的には、図１０におけるａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２、ａ３：ｂ３及びａ４：ｂ４が露光軌跡情報として求められる。上記のようにして求められた比が、変形後の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡（描画点形成軌跡）を表わしていることになる。つまり、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラー３８の露光軌跡を表わしていることになる。

なお、例えば、通過位置情報１２ｃが、図１１に示すように、検出位置情報１２ｄで囲まれる範囲外に位置する場合には、図１１に示すような比が求められる。

そして、上記のようにして各マイクロミラー３８毎に求められた露光軌跡情報が、ミラーデータ作成手段４１に入力される。

ミラーデータ作成手段４１は、上記のようにして入力された露光軌跡情報に基づいて、各マイクロミラー３８用のミラーデータを分割画像データ２００Ａ又は分割画像データ２００Ｂよりメモリアクセス手段４５により取得してミラーバッファ９０に格納する。

この場合、図８Ｃに示すように、ミラーＡに対するミラーデータ２０２Ａは、分割画像データ２００Ａから連続アドレス指定でミラーバッファ９０に格納することができ、ミラーＢに対するミラーデータ２０２Ｂも分割画像データ２００Ｂから連続アドレス指定でミラーバッファ９０に格納することができる。

より具体的には、図１２に示すように、画像データＤ（分割画像データ２００Ａと分割画像データ２００Ｂを模式的に表した画像データ）には、図１２に示すように、上記基準マーク位置情報１２ｂが示す位置に対応した位置に配置された露光画像データ基準位置情報１２ｅが付されており、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点の座標値が求められる。つまり、以下の式を満たすような点の座標値が求められる。
ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１
ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２
ａ３：ｂ３＝Ａ３：Ｂ３
ａ４：ｂ４＝Ａ４：Ｂ４

そして、上記のようにして求められた点を結ぶ直線上にある画素データｄが、実際にマイクロミラー３８の露光軌跡情報に対応したミラーデータである。したがって、露光画像データＤ上を上記直線が通過する点の画素データｄがミラーデータ（ミラーデータ２０２Ａ、２０２Ｂに対応する。）として取得される。なお、画素データｄとは露光画像データＤを構成する最小単位のデータである。図１２の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図１３に示す。具体的には、図１３のハッチングされた部分の画素データがミラーデータとして取得される。なお、露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を結んだ直線が、露光画像データＤ上に存在しない場合には、その直線上のミラーデータは０として取得される。

なお、上記のように露光軌跡情報の示す比に基づいて分割した点を直線で結び、その直線上にある画素データをミラーデータとして取得するようにしてもよいし、図１４に示すように、上記点をスプライン補間等によって曲線で結び、その曲線上にある画素データをミラーデータとして取得するようにしてもよい。

上記のようにスプライン補間等によって曲線で結ぶようにすれば、より基板１２の変形に忠実な露光点データを取得することができる。また、上記スプライン補間等の演算方法に基板１２の材質の特性（例えば、特定の方向にしか伸縮しない等）を反映するようにすれば、さらに、より基板１２の変形に忠実なミラーデータを取得することができる。

ミラーデータには、基板１２の変形の他、移動ステージ１４の移動軌跡のずれ情報を含ませることができる。

すなわち、ずれ情報取得手段５５によって移動ステージ１４のずれ情報が取得される。ずれ情報とは、図１５に示すように、予め設定されたステージ移動方向に対する、実際の移動ステージ１４の移動方向のずれを示したものである。具体的には、図１５に示すように、予め設定されたステージ移動方向への移動軌跡に対する実際の移動ステージ１４の移動軌跡の、ステージ移動方向に直交する方向についてのずれ量を所定の間隔で取得したものである。図１５に示す点線矢印の向きと長さがずれ量を示すものである。

ここで、上記のように移動ステージ１４の移動軌跡にずれがある場合、露光の際の各マイクロミラー３８の基板１２上における実際の露光軌跡は、図１６に示すように、予め設定された各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃに対して上記ずれ量に応じてずれることになる。したがって、各マイクロミラー３８の実際の露光軌跡に対応したミラーデータを取得する必要がある。また、図１６に示すように、マイクロミラーｍ１とマイクロミラーｍ２とは、基板１２上における同じ位置を通過するものであるが、上記のような移動ステージ１４の移動軌跡にずれがあると、これらの実際の露光軌跡は位相がずれたものになる。したがって、これらの位相ずれも考慮してミラーデータを取得する必要がある。

そこで、露光装置１０においては、上記のような各マイクロミラー３８の露光軌跡のずれ量に応じたミラーデータが取得される。具体的には、予め移動ステージ１４のずれ量が計測され、その計測されたずれ量が、上記のようにしてずれ情報取得手段５５によって取得される。

そして、ずれ情報取得手段５５は、取得したずれ量を露光軌跡情報取得手段５４に出力する。ずれ量の計測方法としては、例えば、ＩＣウェーハ・ステッパー装置等で利用されるレーザ光を用いた測定方法を用いることができる。例えば、移動ステージ１４に、ステージ移動方向に延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光源及び上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステージ１４の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することによって上記ずれ量を計測することができる。

露光軌跡情報取得手段５４には、各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃが設定されており、露光軌跡情報取得手段５４は、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。なお、図１６に示す通過位置情報１２ｃは、図９〜図１１を参照して説明した通過位置情報１２ｃの説明と同様である。

そして、その各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報をミラーデータ作成手段４１に出力する。そして、ミラーデータ作成手段４１は、各マイクロミラー３８毎の露光軌跡情報に対応するミラーデータを、一時記憶された露光画像データＤから取得する。

具体的には、図１７に示す露光画像データＤにおいて曲線で示された露光軌跡情報Ｍ１、Ｍ２上に配置されたミラーデータｄが取得される。図１７の太線で囲まれた範囲を抽出した図を図１８に示す。具体的には、図１８のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図１７に示す露光軌跡情報Ｍ１は、図１６に示すマイクロミラーｍ１の露光軌跡情報であり、図１７に示す露光軌跡情報Ｍ２は、図１６に示すマイクロミラーｍ２の露光軌跡情報である。また、露光画像データＤは、通過位置情報１２ｃと相対的な位置関係を有しており、露光画像データＤの各画素データｄの配置の基準となる原点と、上記通過位置情報１２ｃの原点とは一致しているものとする。

露光装置１０においては、上述のようにして検出位置情報取得手段５２において取得された基準マーク１２ａの検出位置情報と、上述のようにしてずれ情報取得手段５５において取得されたずれ情報とが、露光軌跡情報取得手段５４に入力される。

そして、露光軌跡情報取得手段５４は、入力された上記検出位置情報と上記ずれ情報とに基づいて、露光の際の各マイクロミラー３８毎の基板１２上における実際の露光軌跡を表わす露光軌跡情報を取得する。

具体的には、露光軌跡情報取得手段５４において、図９〜図１１を参照して説明したように、走査方向に直交する方向について隣接する検出位置情報１２ｄ同士を結ぶ直線と各マイクロミラー３８の通過位置情報１２ｃを表わす直線との交点の座標値が求められ、その交点とその交点に上記直交する方向に隣接する各検出位置情報１２ｄとの距離が求められ、上記隣接する検出位置情報１２ｄのうちの一方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離と、他方の検出位置情報１２ｄと上記交点との距離との比が求められる。

一方、露光軌跡情報取得手段５４は、入力されたずれ量と各マイクロミラー３８毎の通過位置情報１２ｃに基づいて、図１７に曲線で示されるような、各マイクロミラー３８毎の基板１２上における仮露光軌跡情報を取得する。

そして、露光軌跡情報取得手段５４は、上記のようにして求められた比と仮露光軌跡情報とを露光軌跡情報としてミラーデータ作成手段４１に出力する。

そして、ミラーデータ作成手段４１は、図１９に示すように、露光画像データＤにおいて、走査方向に直交する方向に隣接する露光画像データ基準位置情報１２ｅを結ぶ直線を、入力された比に基づいて分割した点を求めた後、その点を結ぶ直線を求め、その直線の走査方向に対する傾き分だけ仮露光軌跡情報を傾けて露光軌跡情報を表わす曲線を求め、その曲線上における画素データｄを露光点データとして取得する。つまり、図１９のハッチングされた部分の画素データが露光点データとして取得される。なお、図１９におけるＡ１：Ｂ１、Ａ２：Ｂ２は、露光軌跡情報取得手段５４から入力された比がａ１：ｂ１、ａ２：ｂ２である場合に、ａ１：ｂ１＝Ａ１：Ｂ１、ａ２：ｂ２＝Ａ２：Ｂ２を満たすような比である。

そして、マイクロミラー３８毎のミラーデータがそれぞれ作成され、そのマイクロミラー３８毎のミラーデータがミラーバッファ９０に格納される。

一方、上記のように、マイクロミラー３８毎のミラーデータがミラーバッファ９０に格納されると、移動ステージ１４が、再び上流側に所望の速度で移動させられる。

そして、基板１２の先端がカメラ２６により検出されると露光が開始される。具体的には、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６にミラーデータに基づいた制御信号が出力され、露光ヘッド３０は入力された制御信号に基づいてＤＭＤ３６のマイクロミラーをオン・オフさせて基板１２を露光する。

なお、露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０へ制御信号が出力される際には、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ１４の移動にともなって順次露光ヘッド制御部５８から各露光ヘッド３０に出力されるが、このとき、例えば、図２０（図７Ａと同一の技術を示す図）に示すように、各マイクロミラー３８毎に取得されたｍ個のミラーデータの列の各列から、各露光ヘッド３０の各位置に応じたミラーデータを１つずつ順次読み出して各露光ヘッド３０のＤＭＤ３６に出力するようにしてもよいが、この実施形態では、フレームデータ作成手段４２により、図２０に示すように取得されたミラーデータに９０度回転処理もしくは行列を用いた転置変換等を施し、図２１（図７Ｂと同一の技術を示す図）に示すように、基板１２に対する各露光ヘッド３０の各位置に応じたフレームデータ１〜ｍを生成し、このフレームデータ１〜ｍを各露光ヘッド３０に順次出力するようにしている。

そして、移動ステージ１４の移動にともなって順次各露光ヘッド３０に制御信号が出力されて露光が行われ、基板１２の後端がカメラ２６により検出されると露光が終了する。

以上のように（１）分割画像データの作成によれば、基板１２に画像を形成するための画素データからなる画像データ２００に基づき複数のマイクロミラー（描画点形成要素）３８を、基板（描画面）１２上の走査方向に沿って所定送りピッチで相対的に移動して基板（描画面）１２上に描画点列を形成することで、基板（描画面）１２上に画像を露光記録（形成）する露光装置（描画装置）１０において、基板（描画面）１２に形成される画像の解像度（１０［μｍ］）と、送りピッチ（２０［μｍ］）とが異なっている場合に、画像データ２００を、予め分割した分割画像データ２００Ａ、２００Ｂとして格納するメモリ８０（主メモリ８４又はハードディスク８２）を有している。

この分割画像データ２００Ａ、２００Ｂは、画像データ２００が、複数のマイクロミラー３８のそれぞれの走査方向での描画点形成位置の位相に合わせ、かつ走査方向とメモリ８０のメモリアドレスが連続する方向とを一致させて分割されている。

このように、画像を形成するための画素データからなる画像データ２００を、複数のマイクロミラー３８のそれぞれの走査方向での画像形成位置の位相に合わせ、かつ走査方向とメモリアドレスが連続する方向とを一致させて予め分割した分割画像データ２００Ａ、２００Ｂとしてメモリ８０に格納しておくようにしているので、画像の解像度と、複数のマイクロミラー３８の送りピッチが異なる場合であっても、分割画像データ２００Ａ、２００Ｂからそれぞれメモリアクセス手段（メモリ読出手段）４５によりデータを読み出すことにより、高速（短時間）に読出処理を行うことができる。

なお、図１２〜図１９に示したようなアライメントが異なることによる補正（傾き補正）は、各分割画像データ２００Ａ、２００Ｂ内で行うことができる。

（２）画像の長さ補正
この（２）画像の長さ補正では、基板１２が走査方向に伸縮している場合で、描画面に形成される画像の長さ補正が必要となった場合のメモリ読出のアクセス制御を高速に行えるようにする構成について説明する。

例えば、図２２に示すように、走査方向について基板１２が伸縮している場合には、その伸縮の程度に応じて、画像データＤにおける１つの画素データｄから取得するミラーデータの数を変化させるようにしてもよい。具体的には、例えば、上記のように走査方向に基板１２が伸縮し、検出位置情報１２ｄと通過位置情報１２ｃとが図２２に示すような関係となり、走査方向に隣接する検出位置情報１２ｄの間隔が、理想的な長さＬの領域Ａと、基板１２が走査方向に伸びての上記間隔が長さＬの２倍となった領域Ｂと、基板１２が走査方向に縮んで上記間隔が長さＬの１/２となった領域Ｃとが存在する場合には、例えば、図２３に示すように、領域Ａに対応するミラーデータについては、１つの画素データｄに対し１つのミラーデータを取得し、領域Ｂに対応するミラーデータについては、１つの画素データｄに対して２つのミラーデータを取得し、領域Ｃのミラーデータについては、２つの画素データに対して１つのミラーデータを取得するようにしてもよい。なお、図２３おける点線矢印は、各領域について取得するミラーデータの数とそのミラーデータに対応する画素データｄとを示している。

また、２つの画素データに対して１つのミラーデータを取得する際には、２つの画素データのうちの１つの画素データをミラーデータとして選択して取得するようにすればよい。上記のように基板１２の伸縮に応じてミラーデータの数を変化させるようにすれば、基板１２上の所望の位置に所望の露光画像を露光することができる。

次に、長さ補正を行い、位相分割画像データから画素データを連続アクセスする方法について説明する。

図２４に示すように画像の解像度０．５［μｍ］の画像データ２２０に対して、送りピッチ１［μｍ］の４つのミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓが画像形成用に用いられるものとする。なお、図２４において、矢印付き実線は、ミラーｐの走査軌跡（露光軌跡）、矢印付き一点鎖線線は、ミラーｑの走査軌跡、２点鎖線は、ミラーｒの走査軌跡、点線は、ミラーｓの走査軌跡とする。

ここで、図２５に示すように、画素「７」と同じ画素データの画素「７´」を１画素挿入した画像データ２２１とした場合に、各ミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓによる走査軌跡に係わる位相が挿入前後で変わる。

同様に、図２６に示すように、画素「７」を削除して画像データ２０９とした場合に、各ミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓによる走査軌跡に係わる位相が削除前後で変わる。

次に、図２７〜図３２Ｂを参照して、このように同一１画素挿入又は１画素削除の長さ補正を行った場合の分割画像データから、なるべくメモリアドレスの連続性を崩さないでアクセスするデータアクセス処理について説明する。

図２７は、長さ補正前の画素「１〜３２」までの画像データ２３０とミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓとの位相関係を示している。

図２８は、長さ補正前の画像データ２３０に対して画素「１１」と画素「２２」の画素データを追加した２画素データ追加の長さ補正後の画像データ２３２とミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓとの位相関係を示している。

図２９は、長さ補正前の画像データ２３０に対して画素「１１」と画像「２２」の画素データを削除した２画素データ削除の長さ補正後の画像データ２２０とミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓとの位相関係を示している。

このとき、長さ補正前のミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓに対する分割画像データは、図２７を参照すれば、ミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓによる軌跡の矢印の先端位置から図３０に示すような分割画像データ２３０ｐ、２３０ｑ、２３０ｒ、２３０ｓが得られる。

長さ補正前の分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓを表す図３０中、Ｉｎｄｅｘ「０、１、…７」は、メモリアドレスの連続する方向である。また、図３０に示すように、分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓの画像データのファイル番号をそれぞれ、ＦｉｌｅＮｏ＝０、１、２、３とする。さらに、図３０において、下向きの矢線は、データ追加の情報を示し、ハッチングはデータ削除の情報を示している。

そうすると、データ追加の場合のミラーｐ用の分割画像データの読出方を例として説明すると、ミラーｐは、画素「１、５、９」を読み出す際、図２８、図３０、図３１Ａを参照すれば、分割画像データ２３０ｐが割り当てられることが分かるが、次に露光する画素「１２、１６、２０」を読み出す際、下向きの矢線を参照して、分割画像データ２３０ｓが割り当てられ、次に露光する画素「２３、２７、３１」を読み出す際、下向きの矢線を参照して、分割画像データ２３０ｑが割り当てられることが分かる。このように読み出すことにより、図３１Ｂに示すように、２データ追加後の読出画像データ２４０Ｐが正しく得られる。

同様に、データ削除の場合のミラーｐ用の分割画像データの読出方を例として説明すると、図２９、図３０、図３２Ａを参照すれば、ミラーｐは、画素「１、５、９」を読み出す際、分割画像データ２３０ｐが割り当てられることが分かるが、次に露光する画素「１４、１８」を読み出す際、削除画素「１１」を参照すれば、分割画像データ２３０ｒが割り当てられ、次に露光する画素「２３、２７、３１」を読み出す際、削除画素「２２」を参照すれば、分割画像データ２３０ｑが割り当てられることが分かる。このように読み出すことにより、図３２Ｂに示すように、２データ削除後の読出画像データ２５０ｐが正しく得られる。

以上説明したように、この長さ補正によれば、基板１２に形成される画像の長さ補正を行うために、長さ補正前の画像データ２３０に画素データを追加又は削除する場合、分割画像データ作成手段４４は、長さ補正前の分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓから対応する画素データを追加又は削除し、走査方向上、追加又は削除した画素データ以降で、メモリアドレスの連続アクセス読出が継続されるように、図３０に示したような、下向き矢印に対応する追加情報、ハッチングに対応する削除情報を長さ補正前の分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓに目当てを付けておいて記憶しておけば、この目当てに沿って、分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓの再割当を行うようにすることで、長さ補正を行っても、ハードディスク８２又は主メモリ８４からメモリアドレスの連続アクセス読出を継続することができる。

なお、長さ補正時に、分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓで、実際に画素データの追加や画素データの削除を行うことなく、描画点を削除又は追加する画素データが記憶されているメモリアドレスを読み飛ばし（削除の場合）又は重複して読み出す（追加の場合）ようにすれば、分割画像データ２３０ｐ、２３０ｒ、２３０ｑ、２３０ｓの再割当を行うことなく、長さ補正を行うことができる。

ところで、画像データに画素データを追加又は削除する場合に、図４１に示したように、基板上（描画面）に形成される画像が、例えば、液晶パネル用の格子状のブラックマトリクス画像２０１であって、走査方向のある箇所で長さ補正が必要となった場合、例えば１画素分、長さを短くする場合には、ブラックマトリクス画像２０１を構成する画像データ中の長さ補正が必要となる箇所に対応する画素データを読み飛ばし、長さを長くする場合には同一の画素データを重複して読み出すようにすればよい。

しかしながら、長さ補正箇所が、例えば、図４１に示したように、走査方向と直交する方向に連続すると、長さ補正箇所の開口２０４と、非長さ補正箇所の開口２０６との間で開口率の差が発生し、結果として、長さ補正後の液晶パネルに暗い筋状のムラあるいは明るい筋状のムラが視認される場合があり、結果として、液晶パネルの品位が下がるという問題がある。

このムラの発生を防止する仕方について、図３３を参照して説明する。

長さ補正計算の結果、ｍ箇所画素を増加することとなり、それらの位置（補正箇所）がＹｊ（ｊ＝１、２、３、…ｍ）で求められたものとする。従来技術では、ミラー１〜８（ビーム１〜８）毎にその軌跡に沿って画像データを読み込む際に、位置Ｙｊの箇所で重複して画素データを読み込むことで補正する。しかし、これでは、各位置Ｙｊの箇所で開口率が大きく変化してしまうためにミラー１〜８毎に意図的に重複読み込み箇所をずらすこととする。

この図３３例では、以下のアルゴリズムに示すように、補正箇所分散手段（長さ補正箇所分散手段）４６によりＬｏｏｐ１（ステップ１）で補正箇所１〜ｍを選択し、Ｌｏｏｐ２（ステップ２）で各ミラー１〜８について分散後補正箇所を決定する。

Ｎ：分散のために格子ピッチＬｐを整数倍するための整数
Ｌｏｏｐ１：補正箇所１〜ｍのそれぞれについて選択
Ｌｏｏｐ２：各ミラー１〜８について、（パラメータｉ＝−Ｎで開始）
補正箇所（分散後）＝補正箇所（計算値）＋ｉ×格子ピッチ
ｉ＝ｉ＋１、もしｉ＞Ｎならｉ＝−Ｎ
ここでは、Ｎ＝２とする。

ミラー１では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ−２×Ｌｐ＝Ｙｊ−２Ｌｐ
ミラー２では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ−１×Ｌｐ＝Ｙｊ−Ｌｐ
ミラー３では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ−０×Ｌｐ＝Ｙｊ
ミラー４では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ＋１×Ｌｐ＝Ｙｊ＋Ｌｐ
ミラー５では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ＋２×Ｌｐ＝Ｙｊ＋２Ｌｐ
ミラー６では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ−２Ｌｐ
ミラー７では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ−Ｌｐ
ミラー８では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ

すなわち、この図３３例では、ミラー１〜８の軌跡上、○印を付けた補正箇所（分散後）で同じ画素データを重複読込するようにしている。

なお、このように補正箇所（分散後）を決めると、画像上に階段状のぎざぎざであるジャギーが発生するように思われるが、実際上、ビーム間隔に比較してビーム径が大きいため、ジャギーは視認されない。

ここでは、ミラー１〜８毎に、計算の簡単のために、格子ピッチＬｐの整数倍だけ位置をずらすようにしているが、必ずしも格子ピッチＬｐにこだわることはない。また、ずらし方も乱数でずらすようにしてもよい。

なお、この例では、１画素分挿入（増加）する補正について説明したが、１画素分削除する補正についても同様である。

このように、画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素からなるＤＭＤ３６を、描画面である基板上の走査方向に沿って相対的に移動して基板上に描画点列を形成することで、基板上に画像を形成する描画装置としての露光装置１０において、基板に形成される画像の所望の補正箇所Ｙｊの長さ（走査方向の長さ）を１画素分の長さ単位で補正する際、ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー３８毎に、所望の補正箇所Ｙｊの近傍で走査方向前後に所定位置ずらし補正箇所Ｙｊを分散して補正するようにしている。

このように補正することで、長さ補正が行えるとともに、補正箇所Ｙｊが走査方向と直交する方向に連続しなくなるので、長さ補正後の液晶パネルに暗い筋状のムラあるいは明るい筋状のムラが視認されることがなくなり、結果として、液晶パネルの品位が下がることがない。

（３）画像の高解像度長さ補正
次に、画像データの解像度を擬似的にあげ、長さ補正箇所を分散させる技術について説明する。

以下、１画素分の長さ補正を１箇所ではなく、２箇所に分散させる例を示す。比較のために、まず、図３４に画素７と画素８との間に画素７と同一の画素７´（例えば、画素７の値が「１」であれば、画素７´の値も「１」、画素７の値が「０」であれば、画素７´の値も「０」とする。）を挿入した長さ補正後の画像データ３００と露光軌跡情報の位相との関係を示している。この例では、画像解像度を０．５［μｍ］とし、ビーム送りピッチを１［μｍ］で４個のミラーｐ、ｑ、ｒ、ｓの露光軌跡を示している。なお、この例において、例えば画素「０」は、２つのミラーｐとミラーｑによる２つの露光点（描画点）で形成され、画素［１］は、残りの２つのミラーｒとミラーｓによる２つの露光点（描画点）で形成されている。

図３５は、１画素分の長さ補正を１箇所で行った比較例としての長さ補正後のミラーデータを示している。この図３５からミラーデータは、ミラーｐ、ｑで同一のミラーデータ３０２となり、ミラーｒ、ｓで同一のミラーデータ３０３となることが分かる。

これに対して、補正箇所分散手段４６により１画素の挿入を２箇所に分散させて追加し補正する。このとき、まず、図３６に示すように、画像データ３００の解像度を擬似的に２倍（画像解像度０．２５［μｍ］）にした２倍解像度データ３０４とする。２倍解像度の各画素が、１つのミラーの露光点（描画点）で形成される。

次に、図３７に示すように２倍解像度データ３０４上で、走査方向上、補正箇所を２箇所に分散させて長さ補正を行う。この例では、所望の１つの補正箇所（計算上の補正箇所）の画素「７」の位置に対して、画素「４」と画素「１１」の位置に補正箇所を２箇所に分散させている。

ここで、図３８に示すように、２倍解像度データ３０４は、位相毎に、４つの画像データファイル１−１、１−２、２−１、２−２に分割されることが分かる（１÷０．２５＝４）。

図３８では、この分割画像データファイル１−１、１−２、２−１、２−２からメモリアクセス手段４５でミラーデータを取得するための様子（データ読込軌跡）を示している。また、データ挿入箇所を、太い縦線で記入している。

図３９は、このようにして読み込まれて取得されたミラーｐ、ｑ、ｓ、ｒ用のミラーデータ３１１、３１２、３１３、３１４を示している。図３５と図３９のミラーデータ３０２、３０３とミラーデータ３１１〜３１４とを比較すると、所望の補正箇所の画素「７´」が、分散された長さ補正箇所の画素「４₂」と画素「１１₁」にされていることが分かる。

ただし、図３８に示した位相毎に分割した４つの分割画像データ１−１、１−２、２−１、２−２中、分割画像データ１−１と分割画像データ１−２とはデータ内容が同一であるのでまとめることができ、分割画像データ２−１と分割画像データ２−２も同一データ内容であるのでまとめることができる。

よって、高解像度化しても位相分割画像データのファイルサイズ（データサイズ）は、元の解像度データと同じままで補正を行うことが可能である。

図４０は、液晶パネル用の格子状のブラックマトリクス画像２０１に対して、ブラックマトリクス画像２０１を構成する画像データを擬似的に高解像度化して補正箇所を分散させた例を模式的に示している。なお、実際には、図４０の例に対して数百倍から数千倍のミラー解像度で描画が行われる。

この図４０例では、所望の補正箇所Ｙｊを、以下のように○印を付けた補正箇所に分散させている（補正箇所Ｙ１、Ｙ２、Ｙｍでも同様に分散させる。）。

ミラー１では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±２Ｌｐ
ミラー２では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±Ｌｐ
ミラー３では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ（分散していない。）
ミラー４では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±Ｌｐ
ミラー５では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±２Ｌｐ
ミラー６では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±２Ｌｐ
ミラー７では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ±Ｌｐ
ミラー８では、補正箇所（分散後）は、Ｙｊ（分散していない。）

すなわち、この図４０例では、ミラー１〜８の軌跡上、○印を付けた補正箇所（分散後）で画素を挿入するようにしている。

この場合にも、ミラー１〜８毎に、計算の簡単のために、格子ピッチＬｐの整数倍だけ位置をずらすようにしているが、必ずしも格子ピッチＬｐにこだわることはない。また、ずらし方も乱数でずらすようにしてもよい。

なお、この例では、１画素分挿入（増加）する補正について説明したが、１画素分削除する補正についても同様である。

上述した（３）画像の高解像度長さ補正技術では、画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素からなるＤＭＤ３６を、基板等の描画面上の走査方向に沿って所定送りピッチで相対的に移動して描画面上に描画点列を形成することで、描画面上に画像を形成する露光装置１０において、画像の解像度に対応する１画素が、複数の描画点（図４０例では、２個）で形成され、描画面上に形成される画像の所望の補正箇所（Ｙｊ等）の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、前記１画素分の長さ単位の補正箇所（Ｙｊ等）を、基板上の走査方向で描画点単位で分散して補正するようにしているので、高分解能な長さ補正を行うことができる。

また、補正箇所を分散することで、最終的に描画面上に得られる画像上、補正箇所を目立ち難くすることができる。

さらに、描画点単位で分散しているので、元画像の解像度以上に高分解能な長さ補正が可能となるが、描画点画像データはもともと作成してあるデータを擬似的に高解像度化して使用できるので、図３９を参照して説明したように、画像データサイズは増加しない。

例えば、前記１画素分の長さ単位の１個の前記補正箇所を分散させる分散箇所をｎ（ｎ≧２）箇所とするとき、図３６、図３７に示したように、画像データ３００の解像度をｎ倍以上に擬似的に高解像度化し、擬似的に高解像度化した画像データである２倍解像度データ３０４上で、分散箇所を決定することができる。分散箇所ｎの最大値は、１画素を形成する描画点の数で制限される。分散箇所ｎの最大化は、ビーム径（描画点径）とビーム密度（描画点密度）で制限されると考えることもできる。

なお、描画面に形成される画像が、液晶パネル用の格子状のブラックマトリクス画像２０１であって、画像の所望の補正箇所が、走査方向上、ブラックマトリクス画像の格子間の所定開口であるとき、図４０に示したように、補正箇所を分散させる分散箇所に、走査方向上、所定開口２０４の近傍であって、所定開口２０４以外の開口２０６が含まれるように分散箇所を決定することで、補正箇所と非補正箇所の開口率の差を少なくすることができる。

なお、上記の実施形態では、描画点形成要素としての空間光変調素子としてＤＭＤ３６を備えた露光装置１０について説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を使用することもできる。

また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装置としてもよい。

また、上記実施形態の露光対象である基板１２は、プリント配線基板だけでなく、フラットパネルディスプレイの基板やブラックマトリクスであってもよい。また、基板１２の形状は、シート状のものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板等）であってもよい。

また、本発明は、インクジェット方式等のプリンタにおける描画にも適用することができる。例えば、インクの吐出による描画点を、本発明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考えることができる。

この発明の描画装置及び画像長さ補正方法の実施形態を用いた露光装置の概略構成を示す斜視図である。 図１の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図である。 図３Ａは、基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図、図３Ｂは、露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図である。 図１の露光ヘッドにおけるＤＭＤを示す説明図である。 この発明の実施形態の露光装置の電気制御系の構成を示すブロック図である。 画像データの解像度とＤＭＤを構成するミラーの送りピッチとの関係説明図である。 図７Ａは、ミラーデータの説明図、図７Ｂは、フレームデータの説明図である。 図８Ａは、分割前の画像データの説明図、図８Ｂは、分割画像データの説明図、図８Ｃは、ミラーデータの説明図である。 理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位置情報との関係を示す模式図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法の説明図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法の説明図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいてミラーデータを取得する方法の説明図である。 図１２の太枠内を抽出した説明図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいてミラーデータを取得する方法の説明図である。 移動ステージの移動方向のずれの説明図である。 所定のマイクロミラーの露光軌跡を示す説明図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいてミラーデータを取得する方法の説明図である。 図１７の太線枠内を抽出した説明図である。 マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法の説明図である。 ミラーデータの説明図である。 フレームデータの説明図である。 基板の走査方向への伸縮の説明図である。 基板の伸縮に応じたミラーデータの取得方法の説明図である。 長さ補正前の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 １画素挿入した長さ補正後の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 １画素削除した長さ補正後の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 長さ補正前の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 ２箇所に１画素を挿入した長さ補正後の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 ２箇所で１画素を削除した長さ補正後の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 長さ補正前の分割画像データの説明図である。 図３１Ａは、２箇所に１画素を挿入した長さ補正後の分割画像データの読出方法の説明図、図３１Ｂは、読み出された後の分割画像データの説明図である。 図３２Ａは、２箇所で１画素を削除した長さ補正後の分割画像データの読出方法の説明図、図３２Ｂは、読み出された後の分割画像データの説明図である。 ブラックマトリクスを形成する際のミラーの走査軌跡と分散補正の説明図である。 １画素長さ補正後の画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 １画素長さ補正後のミラーデータの説明図である。 画像データの解像度を擬似的に２倍にした２倍解像度画像データと露光軌跡情報の位相との関係説明図である。 ２倍解像度画像データ上で補正箇所を分散させて長さ補正を行う際の説明図である。 図３７例の２倍解像度画像データについての分割画像データの読出方法の説明図である。 １画素長さ補正分散後のミラーデータの説明図である。 ブラックマトリクスを形成する際のミラーの走査軌跡と走査方向上分散補正の説明図である。 ブラックマトリクスの長さ補正に係わる不具合発生の説明図である。

符号の説明

４…露光記録システム ６…ＣＡＤ装置
８…ＲＩＰ １０…露光装置
１１…システム管理サーバー １２…基板
１４…移動ステージ ２４…スキャナ
２６…カメラ ３０…露光ヘッド
３６…ＤＭＤ ３８…マイクロミラー
４４…分割画像データ作成手段 ４５…メモリアクセス手段
４６…補正箇所分散手段 ５２…検出位置情報取得手段
５４…露光軌跡情報取得手段 ５５…ずれ情報取得手段
５８…露光ヘッド制御部 ７０…コントローラ
８０…メモリ（記憶手段）

Claims (4)

1. 画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素を、描画面上の走査方向に沿って相対的に移動して前記描画面上に描画点列を形成することで、前記描画面上に画像を形成する描画装置において、
   前記画像の解像度に対応する１画素が、前記複数の描画点形成要素のうちの少なくとも２つの描画点形成要素によりそれぞれ形成された少なくとも２つの描画点で構成され、
   前記描画面に形成される前記画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、前記１画素分の長さ単位の前記補正箇所を、前記描画面上の走査方向で前記描画点単位で分散して補正する
   ことを特徴とする描画装置。
2. 請求項１記載の描画装置において、
   前記１画素分の長さ単位の１個の前記補正箇所を分散させる分散箇所をｎ（ｎ≧２）箇所とするとき、前記画像データの解像度をｎ倍以上に擬似的に高解像度化し、擬似的に高解像度化した画像データ上で、分散箇所を決定する
   ことを特徴とする描画装置。
3. 画像を形成するための画素データからなる画像データに基づき複数の描画点形成要素を、描画面上の走査方向に沿って相対的に移動して前記描画面上に描画点列を形成することで、前記描画面上に画像を形成する描画装置における前記画像の長さを補正する方法おいて、
   前記画像の解像度に対応する１画素が、前記複数の描画点形成要素のうちの少なくとも２つの描画点形成要素によりそれぞれ形成された少なくとも２つの描画点で構成され、
   前記描画面に形成される前記画像の所望の補正箇所の長さを１画素分の長さ単位で補正する際、前記１画素分の長さ単位の前記補正箇所を、前記描画面上の走査方向で前記描画点単位で分散して補正する分散補正ステップを
   備えることを特徴とする画像長さ補正方法。
4. 請求項３記載の画像長さ補正方法において、
   前記１画素分の長さ単位の１個の前記補正箇所を分散させる分散箇所をｎ（ｎ≧２）箇所とするとき、前記画像データの解像度をｎ倍以上に擬似的に高解像度化し、擬似的に高解像度化した画像データ上で、分散箇所を決定する
   ことを特徴とする画像長さ補正方法。

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