JP6783172B2 - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Description
2 走査機構
5 撮像部
6 制御部
9 基板
43 光源
46 光変調部
61 記憶部
63 データ生成部
64 伸縮率取得部
S11〜S15,S131,S132 ステップ
Claims (12)
- 対象物上に画像を描画する描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構と、
描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部が、
基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する記憶部と、
前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して前記描画データを生成するデータ生成部と、
を備え、
前記複数の伸縮率は、前記描画装置において機械的な補正で対応できる伸縮率である対応限界伸縮率よりも大きい伸縮率を含み、
前記実際の伸縮率と前記選択描画データに対応する伸縮率との差は前記対応限界伸縮率以下であることを特徴とする描画装置。 - 請求項1に記載の描画装置であって、
前記対象物上に位置する複数の目印を撮像する撮像部をさらに備え、
前記制御部が、前記撮像部による撮像結果に基づいて前記複数の目印の測定位置を取得し、前記複数の目印の前記測定位置と設計位置とを比較することにより、前記対象物の実際の伸縮率を取得する伸縮率取得部をさらに備えることを特徴とする描画装置。 - 対象物上に画像を描画する描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構と、
描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部が、
基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する記憶部と、
前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して前記描画データを生成するデータ生成部と、
を備え、
前記データ生成部において、仮に、前記基準状態に対応する初期描画データを利用して前記描画データが生成された場合、前記走査機構による主走査方向への走査時における前記光変調部による変調間隔の変更、および、前記走査機構による前記主走査方向への走査時に走査される走査領域の副走査方向における間隔の変更によって描画可能な前記対象物の伸縮率よりも大きい伸縮率が、前記複数の伸縮率に含まれることを特徴とする描画装置。 - 対象物上に画像を描画する描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構と、
描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部が、
基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する記憶部と、
前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して前記描画データを生成するデータ生成部と、
を備え、
前記対象物上の描画領域に複数の描画ブロックが設定されており、
前記データ生成部が、前記描画データを生成する際に、前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分を前記描画領域の歪みに基づいて補正することを特徴とする描画装置。 - 請求項4に記載の描画装置であって、
前記データ生成部による前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分の補正が、前記描画領域における前記複数の描画ブロックのそれぞれの設計位置からの位置ずれの補正であることを特徴とする描画装置。 - 対象物上に画像を描画する描画装置であって、
光源と、
前記光源からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構と、
描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる制御部と、
を備え、
前記制御部が、
基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する記憶部と、
前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して前記描画データを生成するデータ生成部と、
を備え、
前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが前記複数の初期描画データに含まれていない場合、前記対象物に対する描画が中止されて他の対象物に対する描画が開始され、他の対象物に対する描画と並行して前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが生成された後、前記対象物に対する描画が行われることを特徴とする描画装置。 - 光源と、前記光源からの光を変調する光変調部と、前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構とを備える描画装置により、前記対象物上に画像を描画する描画方法であって、
a)基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する工程と、
b)前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して描画データを生成する工程と、
c)前記描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる工程と、
を備え、
前記複数の伸縮率は、前記描画装置において機械的な補正で対応できる伸縮率である対応限界伸縮率よりも大きい伸縮率を含み、
前記実際の伸縮率と前記選択描画データに対応する伸縮率との差は前記対応限界伸縮率以下であることを特徴とする描画方法。 - 請求項7に記載の描画方法であって、
d)前記b)工程よりも前に、前記対象物上に位置する複数の目印を撮像する工程と、
e)前記d)工程における撮像結果に基づいて前記複数の目印の測定位置を取得し、前記複数の目印の前記測定位置と設計位置とを比較することにより、前記対象物の実際の伸縮率を取得する工程と、
をさらに備えることを特徴とする描画方法。 - 光源と、前記光源からの光を変調する光変調部と、前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構とを備える描画装置により、前記対象物上に画像を描画する描画方法であって、
a)基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する工程と、
b)前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して描画データを生成する工程と、
c)前記描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる工程と、
を備え、
前記b)工程において、仮に、前記基準状態に対応する初期描画データを利用して前記描画データが生成された場合、前記走査機構による主走査方向への走査時における前記光変調部による変調間隔の変更、および、前記走査機構による前記主走査方向への走査時に走査される走査領域の副走査方向における間隔の変更によって描画可能な前記対象物の伸縮率よりも大きい伸縮率が、前記複数の伸縮率に含まれることを特徴とする描画方法。 - 光源と、前記光源からの光を変調する光変調部と、前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構とを備える描画装置により、前記対象物上に画像を描画する描画方法であって、
a)基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する工程と、
b)前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して描画データを生成する工程と、
c)前記描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる工程と、
を備え、
前記対象物上の描画領域に複数の描画ブロックが設定されており、
前記b)工程において、前記描画データが生成される際に、前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分が、前記描画領域の歪みに基づいて補正されることを特徴とする描画方法。 - 請求項10に記載の描画方法であって、
前記b)工程における前記選択描画データの前記複数の描画ブロックにそれぞれ対応する部分の補正が、前記描画領域における前記複数の描画ブロックのそれぞれの設計位置からの位置ずれの補正であることを特徴とする描画方法。 - 光源と、前記光源からの光を変調する光変調部と、前記光変調部により変調された光を対象物上にて走査する走査機構とを備える描画装置により、前記対象物上に画像を描画する描画方法であって、
a)基準状態からの前記対象物の伸縮の程度を示す複数の伸縮率について、各伸縮率にて伸縮している前記対象物に対して描画が行われる場合の画像のランレングスデータを、複数の初期描画データとして予め記憶する工程と、
b)前記対象物の実際の伸縮率に基づいて前記複数の初期描画データから選択された1つの初期描画データである選択描画データを利用して描画データを生成する工程と、
c)前記描画データに基づいて前記光変調部および前記走査機構を制御することにより前記対象物に対する描画を実行させる工程と、
を備え、
前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが前記複数の初期描画データに含まれていない場合、前記対象物に対する描画が中止されて他の対象物に対する描画が開始され、他の対象物に対する描画と並行して前記対象物の実際の伸縮率に対応する初期描画データが生成された後、前記対象物に対する描画が行われることを特徴とする描画方法。
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