JP5336301B2 - パターン描画方法、パターン描画装置および描画データ生成方法 - Google Patents
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Description
CHIPと、描画ブロック91の基板レイアウトを表現するSTRUCTURE
WAFERを用意する。そして、STRUCTURE CHIPには描画パターンを定義しておき、STRUCTURE WAFERには、
SREF bx1,by1 CHIP
SREF bx2,by2 CHIP
SREF bx3,by3 CHIP
SREF bx4,by4 CHIP
SREF bx5,by5 CHIP
と定義しておく。そして、実際のRIP処理では、まずSTRUCTURE
WAFERの中身を走査してSREFで参照されている他のSTRUCTUREのリストを作成する。次に、当該リストに記載されているSTRUCTURE単位にRIP処理を実行する。このようにして拡張ラスターデータ813を作成することで、拡張CADデータ812全体に対してRIP処理を施して拡張ラスターデータ813を得る場合よりも、RIP処理に要する時間を短縮することができる。
dx1=mx1−rx1、dy1=my1−ry1、
dx2=mx2−rx2、dy2=my2−ry2、
dx3=mx3−rx3、dy3=my3−ry3、
dx4=mx4−rx4、dy4=my4−ry4
が実行されて両マークの差分(dx1、dy1)、(dx2、dy2)、(dx3、dy3)、(dx4、dy4)が算出される(ステップS53)。こうして得られた差分(dx1、dy1)、(dx2、dy2)、(dx3、dy3)、(dx4、dy4)が下地パターンPTNとの位置ズレ量に相当する。このステップS53が本発明の「検出工程」に相当する。
bdx1=wbx1−bx1、bdy1=wby1−by1、
bdx2=wbx2−bx2、bdy2=wby2−by2、
bdx3=wbx3−bx3、bdy3=wby3−by3、
bdx4=wbx4−bx4、bdy4=wby4−by4
にしたがって求める。さらに、補正量算出部85はこれらの差分bdx1、bdy1、bdx2、bdy2、bdx3、bdy3、bdx4、bdy4をRIP処理の解像度で割り、その商を歪み補正量として求める。
mag_x=(rx3−rx1)/(mx3−mx1)
ただし、mx3>mx1
にしたがってX方向の変倍率mag_xを算出している。
mag_y=(ry4−ry2)/(my4−my2)
ただし、my4>my2
にしたがってY方向の変倍率mag_yを算出している。
dx1=(mag_x)*mx1−rx1、
dy1=(mag_y)*my1−ry1、
dx2=(mag_x)*mx2−rx2、
dy2=(mag_y)*my2−ry2、
dx3=(mag_x)*mx3−rx3、
dy3=(mag_y)*my3−ry3、
dx4=(mag_x)*mx4−rx4、
dy4=(mag_y)*my4−ry4
に基づき補正済のマーク座標と参照アライメントマーク座標(設計値)の差分(dx1、dy1)、(dx2、dy2)、(dx3、dy3)、(dx4、dy4)を算出する(ステップS58)。
bdx1=rx1−mx1
bdy1=ry1−my1
となる。また、初期描画位置(bx1、by1)から各参照アライメントマーク座標RM1〜RM4までの距離に応じて重み付けを行ってもよい。つまり、初期描画位置(bx1、by1)から各参照アライメントマークRM1〜RM4までの距離を、それぞれW1〜W4としたとき、
bdx1=(rx1−mx1)*W1+(rx2−mx2)*W2
+(rx3−mx3)*W3+(rx4−mx4)*W4
bdy1=(ry1−my1)*W1+(ry2−my2)*W2
+(ry3−my3)*W3+(ry4−my4)*W4
で位置ズレ量を求めてもよい(検出工程)。
3…光学ヘッド(照射部)
8…コンピュータ
83…拡張処理部
85…補正量算出部(検出部、データ抽出部)
91…描画ブロック
92…描画パターン
93…切出描画ブロック
813…拡張ラスターデータ
814…修正ラスターデータ
PTN…下地パターン
W…基板(描画対象物)
Claims (9)
- 描画ブロックに含まれる描画パターンを描画対象物の初期描画位置に描画することを示す、レイアウト画像データに対して前記描画ブロックの周囲が非描画領域であることを示すデータを付加して拡張画像データを作成するデータ拡張工程と、
前記拡張画像データを描画データに変換して拡張描画データを得るデータ変換工程と、
前記描画対象物への前記描画パターンの描画前に前記描画対象物に対して形成された、下地パターンの前記初期描画位置からの位置ズレ量を検出する検出工程と、
前記描画ブロックと同一サイズで、かつ前記位置ズレ量に対応して前記描画ブロックからずれたデータ領域内の描画データを前記拡張描画データから抽出するデータ抽出工程と、
前記データ抽出工程で抽出された描画データに基づき描画パターンを前記描画対象物上の前記描画ブロックに描画する描画工程と
を備えたことを特徴とするパターン描画方法。 - 前記初期描画位置からの前記下地パターンの位置ズレ量は所定の位置ズレ許容値以下であり、
前記データ拡張工程は、前記描画ブロックの外周から前記位置ズレ許容値だけ離れた範囲内を前記非描画領域とする工程である請求項1に記載のパターン描画方法。 - 前記検出工程は、
前記レイアウト画像データに含まれる第1基準マークに対応する前記描画対象物に形成された第2基準マークの位置を取得する工程と、
前記第1基準マークの位置と前記第2基準マークの位置から前記位置ズレ量を求める工程と
を有する請求項1または2に記載のパターン描画方法。 - 前記検出工程は、前記レイアウト画像データに含まれる第1基準マークに対応する前記描画対象物に形成された第2基準マークの位置を取得する工程と、前記描画対象物の伸縮量を示す変倍率を前記第1基準マークの位置と前記第2基準マークの位置に基づき求める工程と、前記変倍率に基づき前記第2基準マークの位置を補正する工程と、補正された前記第2基準マークの位置と前記第1基準マークの位置から前記位置ズレ量を求める工程とを有し、
前記描画工程は、光ビームを前記描画対象物に向けて出射する照射部に対して前記描画対象物を相対的に移動させることによって前記前記描画ブロックを描画する工程であり、前記検出工程で求められた前記変倍率に応じて前記描画対象物の相対移動を調整する請求項1または2に記載のパターン描画方法。 - 前記描画対象物に前記下地パターンが複数個形成され、前記複数の下地パターンの各々に対して前記描画ブロックの前記描画パターンを重ね合わせて描画する請求項1ないし4のいずれか一項に記載のパターン描画方法。
- 前記複数の描画ブロックのうち1つを変換対象ブロックとし、
前記データ変換工程は、前記変換対象ブロックの周囲に位置する非描画領域と前記変換対象ブロックを含む画像データを描画データに変換して得られる描画データと、前記複数の描画ブロックの配置情報に基づき前記拡張描画データを得る請求項5に記載のパターン描画方法。 - 前記描画工程は、前記データ抽出工程で抽出された前記複数の描画データを合成して合成描画データを作成し、前記合成描画データにしたがって前記描画対象物に前記複数の描画ブロックを描画する工程である請求項5または6に記載のパターン描画方法。
- 描画対象物に形成された下地パターンに対して描画パターンを重ね合わせて描画するパターン描画装置であって、
描画ブロックに含まれる前記描画パターンを前記描画対象物の初期描画位置に描画することを示す、レイアウト画像データに対して前記描画ブロックの周囲が非描画領域であることを示すデータを付加して拡張画像データを作成するデータ拡張部と、
前記拡張画像データを描画データに変換して拡張描画データを得るデータ変換部と、
前記描画対象物に形成された下地パターンの前記初期描画位置からの位置ズレ量を検出する検出部と、
前記位置ズレ量に対応して前記描画ブロックからずれるとともに前記描画ブロックと同一サイズの描画データを前記拡張描画データから抽出するデータ抽出部と、
前記データ抽出部で抽出された描画データに基づきエネルギービームを前記描画対象物に照射して前記描画ブロックを描画する照射部と
を備えたことを特徴とするパターン描画装置。 - 描画ブロックに含まれる描画パターンを描画対象物の初期描画位置に描画することを示す、レイアウト画像データから描画データを生成する描画データ生成方法であって、
前記レイアウト画像データに対して前記描画ブロックの周囲が非描画領域であることを示すデータを付加して拡張画像データを作成するデータ拡張工程と、
前記拡張画像データを描画データに変換して拡張描画データを得るデータ変換工程と、
前記描画対象物に形成されている下地パターンの前記初期描画位置からの位置ズレ量を検出する検出工程と、
前記描画ブロックと同一サイズで、かつ前記位置ズレ量に対応して前記描画ブロックからずれたデータ領域内の描画データを前記拡張描画データから抽出して前記描画データを得るデータ抽出工程と
を備えたことを特徴とする描画データ生成方法。
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