WO2007037165A1 - 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents

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WO2007037165A1
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Naoto Kinjo
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Fujifilm Corporation
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    • G03F7/706843—Metrology apparatus

Definitions

  • the present invention relates to a drawing data acquisition method and apparatus for acquiring drawing data used when drawing an image on a substrate based on the drawing data, and the drawing data acquired by the drawing data acquisition method and apparatus.
  • the present invention relates to a drawing method and apparatus for drawing an image on a substrate based on data!
  • an optical beam is scanned in a main scanning direction and a sub scanning direction on a substrate coated with a photoresist, and the light beam is exposed to represent an exposure pattern.
  • An exposure apparatus that forms an exposure pattern by modulating based on image data has been proposed.
  • a spatial light modulation element such as a digital 'micromirror' device (hereinafter referred to as DMD) is used, and a light beam is modulated by the spatial light modulation element in accordance with exposure image data.
  • DMD digital 'micromirror' device
  • Various exposure apparatuses that perform exposure are proposed.
  • the DMD is moved relative to the exposure surface in a predetermined scanning direction, and the DMD is moved according to the movement in the scanning direction.
  • An exposure apparatus has been proposed in which drawing data corresponding to a large number of micromirrors is input to a memory cell and a desired image is formed on the exposure surface by sequentially forming drawing points corresponding to the DMD micromirrors in time series. (See, for example, JP-A-2004-233718).
  • the substrate when the color filter pattern is exposed, the substrate is subjected to a heat treatment, so that the substrate expands and contracts due to the heat, and the recording position shift of each color of R, G, B occurs. Therefore, it is necessary to form an exposure pattern corresponding to the deformation of the substrate as described above.
  • exposure image data corresponding to the deformation amount for each substrate is generated in real time, and the exposure image data is based on the exposure image data. Therefore, if the exposure is performed, it takes time to generate exposure image data corresponding to the deformation amount of the substrate, which may cause a reduction in production efficiency.
  • the present invention relates to improvements in a drawing data acquisition method and apparatus used in the drawing method and apparatus as described above.
  • a drawing point forming region for forming a drawing point based on the drawing data is moved relative to the substrate, and the drawing point is placed on the substrate in accordance with the movement.
  • the virtual drawing data corresponding to the virtual drawing point data locus is acquired from the original image data based on the plurality of virtual drawing point data locus information, and the obtained plurality of virtual drawings are obtained.
  • the data is stored in advance, the correspondence between the virtual drawing point data trajectory information and the virtual drawing data is set in advance, and the drawing trajectory information of the drawing point formation area on the substrate at the time of drawing the image is obtained and obtained.
  • the drawing trajectory information and the original image data are associated with each other to obtain drawing point data trajectory information corresponding to the drawing trajectory information of the drawing point formation area on the original image data, and among the plurality of virtual drawing point data trajectory information.
  • a plurality of virtual drawing point data trajectory information corresponding to the acquired drawing point data trajectory information is selected, and corresponding to the drawing point data trajectory information in each virtual drawing point data trajectory indicated by the selected virtual drawing point data trajectory information.
  • Information indicating the range is acquired, and virtual drawing data corresponding to the selected plurality of virtual drawing point data trajectory information is based on the correspondence! Identified, drawing point data from among the pre-stored plurality of virtual rendering data was Te Then, partial virtual drawing data is acquired from each of the specified virtual drawing data, and drawing data corresponding to the drawing point data trajectory information is acquired based on the acquired partial virtual drawing data.
  • only virtual drawing trajectory information parallel to the relative movement direction can be set as a plurality of virtual drawing trajectory information.
  • a plurality of virtual drawing trajectory information can be set with coarser quantization widths than the quantization widths of the drawing trajectory information on the substrate.
  • the drawing point data trajectory is acquired as a plurality of partial drawing point data trajectories corresponding to the curved line or the broken line, and each acquired partial drawing point data is acquired.
  • a range corresponding to partial drawing point data trajectory information in each virtual drawing point data trajectory indicated by the selected virtual drawing point data trajectory information is selected for each trajectory information.
  • Each of the virtual drawing data corresponding to the selected plurality of virtual drawing point data trajectory information is identified from the plurality of virtual drawing data stored in advance based on the correspondence relationship, Based on the information indicating the range corresponding to the drawing point data trajectory information, partial virtual drawing data is acquired from each of the identified virtual drawing data, and the acquisition is performed.
  • the drawing data corresponding to the partial drawing point data trajectory information is obtained based on each partial virtual drawing data, and the drawing point data trajectory is determined based on the obtained drawing data for each partial drawing point data trajectory information. It is possible to get drawing data corresponding to information
  • the drawing method of the present invention is characterized in that drawing data is acquired using the drawing data acquisition method of the present invention, and an image is drawn on a substrate based on the acquired drawing data.
  • the drawing data acquisition apparatus of the present invention moves a drawing point forming area for forming a drawing point based on the drawing data relative to the substrate, and places the drawing point on the substrate in accordance with the movement.
  • a drawing data acquisition apparatus that acquires drawing data used when drawing images by sequentially forming images, information on a virtual drawing trajectory of a drawing point formation region on a preset substrate, A plurality of virtual drawing trajectory information on the original image data by associating a plurality of virtual drawing trajectory information having start points at different positions with the original image data representing the image in a direction orthogonal to the direction of relative movement
  • a virtual drawing point data trajectory information acquisition unit that respectively acquires information on a plurality of virtual drawing point data trajectories corresponding to a plurality of virtual drawing point data trajectory information acquisition units.
  • a virtual drawing data acquisition unit for acquiring virtual drawing data corresponding to the virtual drawing point data locus from the original image data based on the drawing point data locus information, and a plurality of virtual drawing data acquired by the virtual drawing data acquisition unit.
  • a virtual drawing data storage unit to store in advance;
  • Correspondence setting section in which the correspondence between virtual drawing point data trajectory information and virtual drawing data is set in advance, and drawing trajectory information for acquiring drawing trajectory information of the drawing point formation area on the substrate at the time of image drawing
  • drawing trajectory information for acquiring drawing trajectory information of the drawing point formation area on the substrate at the time of image drawing
  • the drawing point data trajectory information corresponding to the drawing trajectory information in the drawing point formation area on the original image data by associating the drawing trajectory information acquired by the acquisition unit and the drawing trajectory information acquisition unit with the original image data.
  • the drawing point data trajectory information acquisition unit and the virtual drawing point data trajectory information acquisition unit acquired from the virtual drawing point data trajectory information acquisition unit.
  • the virtual drawing data corresponding to the plurality of virtual drawing point data trajectory information selected by the data locus information selection unit is specified from the plurality of virtual drawing data stored in advance based on the correspondence relationship, and the drawing point data is selected.
  • partial virtual drawing data is obtained from each of the identified virtual drawing data, and the drawing points are obtained based on the obtained partial virtual drawing data.
  • a drawing data acquisition unit that acquires drawing data corresponding to the data trajectory information.
  • only virtual drawing trajectory information parallel to the relative movement direction can be set as a plurality of virtual drawing trajectory information.
  • a plurality of virtual drawing trajectory information can be set with a coarser quantization width than a quantization width on the substrate of the drawing trajectory information.
  • the drawing trajectory information acquisition unit acquires the drawing trajectory as a curve or a broken line
  • the drawing point data trajectory information acquisition unit includes a plurality of partial drawing points corresponding to the drawing point data trajectory as a curve or a broken line.
  • the virtual drawing point data trajectory information selection unit is assumed to be acquired as a data trajectory.
  • a plurality of virtual drawing point data trajectory information For each partial drawing point data trajectory information acquired by the drawing point data trajectory information acquisition unit, a plurality of virtual drawing point data trajectory information In addition to performing selection, information indicating a range corresponding to the partial drawing point data trajectory information in each virtual drawing point data trajectory indicated by the selected virtual drawing point data trajectory information is acquired, and the drawing data acquisition unit is Based on the above correspondence, virtual drawing data corresponding to a plurality of virtual drawing point data trajectory information selected by the virtual drawing point data trajectory information selection unit Specific virtual drawing data stored in advance and based on information indicating the range corresponding to the partial drawing point data trajectory information! It is possible to acquire data and acquire drawing data corresponding to the partial drawing point data trajectory information based on the acquired partial virtual drawing data.
  • the drawing device of the present invention includes the drawing data acquisition device of the present invention and a drawing data acquisition device. And a drawing means for drawing an image on the substrate based on the drawing data acquired by the position.
  • the “drawing point formation region” may be any region that forms a drawing point on the substrate.
  • a spatial light modulation element such as a DMD may be used. It can be a beam spot formed by the beam light reflected by each modulation element of the child, a beam spot formed by the beam light itself that has also generated light source power, or from each nozzle of an ink jet printer. It may be a region to which the ejected ink adheres.
  • each virtual drawing data set may be a set of data given to the drawing point formation area in time series! It may be a set of data given simultaneously to a plurality of grouped drawing point formation areas.
  • virtual drawing data acquired based on different virtual drawing point data trajectory information is stored in advance, and the image is drawn on the substrate.
  • the drawing point data trajectory information Based on information specifying and indicating the range corresponding to the drawing point data trajectory information, and obtaining partial virtual drawing data from each of the specified virtual drawing data, Based on the acquired partial virtual drawing data, the drawing point data trajectory information Since the corresponding drawing data is acquired, it is possible to acquire the drawing data corresponding to the deformation of the substrate without causing a decrease in production efficiency.
  • a plurality of virtual drawing point data trajectory information is selected with respect to one drawing point data trajectory information, and the drawing point is determined by combining the plurality of virtual drawing point data trajectory information. Since the drawing data corresponding to the data trajectory information is acquired, for example, the drawing point data trajectory information is obtained by using a plurality of virtual drawing point data trajectory information having an inclination smaller than the inclination of the drawing point data trajectory information. Can be approximated. Therefore, since it is not necessary to preset virtual drawing point data trajectory information having a large inclination corresponding to the drawing data trajectory information, the number of virtual drawing point data trajectory information can be reduced, and virtual drawing data The capacity of can be reduced.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an exposure apparatus using an embodiment of a drawing method and apparatus of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the scanner of the exposure apparatus in FIG.
  • FIG. 3A is a plan view showing an exposed area formed on the exposed surface of the substrate.
  • FIG. 3B Plan view showing the arrangement of exposure areas by each exposure head
  • FIG. 4 is a diagram showing DMD in the exposure head of the exposure apparatus in FIG.
  • FIG. 5 is a block diagram showing an electrical configuration of an exposure apparatus using the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 Schematic diagram showing the relationship between the reference mark on the ideally shaped substrate and the passing position information of a given micromirror
  • FIG. 11 A diagram for explaining a method of acquiring exposure trace information of a micromirror
  • FIG. 12 is a diagram for explaining a method for acquiring exposure point data trajectory information based on the exposure trajectory information of the micromirror.
  • FIG. 13 is a diagram for explaining a method for acquiring exposure point data trajectory information based on the exposure trajectory information of the micromirror.
  • FIG.14 Diagram for explaining how to select trace data corresponding to vector V3 (exposure point data trajectory information)
  • FIG. 15 is a diagram showing an example of the data structure of exposure point data information
  • FIG. 16 is a diagram showing an example of the data structure of exposure point data information
  • FIG.17 Diagram for explaining another method for selecting trace data corresponding to vector V3 (exposure point data trajectory information)
  • FIG.18 Diagram for explaining another method of selecting trace data corresponding to vector V3 (exposure point data trajectory information)
  • FIG.19 Diagram for explaining another method of selecting trace data corresponding to vector V3 (exposure point data trajectory information)
  • FIG. 21 is a diagram showing an exposure point data string for each micromirror.
  • FIG.23 Diagram for explaining how to obtain vector V3 (exposure point data trajectory information) when the exposure trajectory is a curve or a polygonal line
  • FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of the present exposure apparatus.
  • This exposure apparatus is an apparatus for exposing a predetermined exposure pattern, and particularly has a feature in a method for creating exposure image data used for exposing the exposure pattern. The configuration will be described.
  • the exposure apparatus 10 includes a flat plate-like moving stage 14 that holds the substrate 12 by being attracted to the surface. And a thick plate-like installation stand supported by four legs 16 On the upper surface of 18, two guides 20 extending along the stage moving direction are installed.
  • the moving stage 14 is arranged so that the longitudinal direction thereof faces the stage moving direction, and is supported by the guide 20 so as to be reciprocally movable.
  • a U-shaped gate 22 is provided at the center of the installation base 18 so as to straddle the movement path of the movement stage 14. Each end of the U-shaped gate 22 is fixed to both side surfaces of the installation base 18.
  • a scanner 24 is provided on one side of the gate 22 and the other side has a front end and a rear end of the substrate 12, and positions of a plurality of circular reference marks 12a provided in advance on the substrate 12.
  • a plurality of cameras 26 are provided for detecting the above.
  • the reference mark 12a on the substrate 12 is, for example, a hole formed on the substrate 12 based on preset reference mark position information.
  • a land or via etching mark may be used.
  • a predetermined pattern formed on the substrate 12, for example, a pattern below the layer to be exposed may be used as the reference mark 12a.
  • six reference marks 12a are not shown, but actually, a large number of reference marks 12a are provided.
  • the scanner 24 and the camera 26 are respectively attached to the gate 22 and fixedly arranged above the moving path of the moving stage 14.
  • the scanner 24 and the camera 26 are connected to a controller (described later) that controls them.
  • the scanner 24 includes 10 exposure heads 30 (30A to 30J) arranged in an approximate matrix of 2 rows and 5 columns!
  • Each exposure head 30 is provided with a digital 'micromirror' device (DMD) 36 that is a spatial light modulation element (SLM) that spatially modulates an incident light beam as shown in FIG. ing.
  • DMD digital 'micromirror' device
  • SLM spatial light modulation element
  • the DMD 36 a large number of micromirrors 38 are two-dimensionally arranged in a direction orthogonal to each other, and the micromirrors 38 are attached so that the column direction of the micromirrors 38 forms a predetermined set inclination angle ⁇ . Therefore, the exposure area 32 by each exposure head 30 is a rectangular area inclined with respect to the scanning direction. As shown in FIG. 3A, as the moving stage 14 moves, a strip-shaped exposed region 34 for each exposure head 30 is formed on the substrate 12.
  • a force that is not shown in the drawing can be used for the light source that makes the light beam incident on each exposure head 30, for example, a laser light source.
  • the DMD 36 provided in each of the exposure heads 30 is ON / OFF controlled in units of micromirrors 38, and the substrate 12 is exposed to a dot pattern (black / white) corresponding to the micromirrors 38 of the DMD36.
  • the aforementioned strip-shaped exposed region 34 is formed by two-dimensionally arranged dots corresponding to the micromirrors 38 shown in FIG.
  • the two-dimensional dot pattern is tilted with respect to the scanning direction, so that dots arranged in the scanning direction pass between dots arranged in the direction intersecting the scanning direction. I can plan.
  • the exposure heads 30 in each row arranged in a line so that each of the strip-shaped exposed regions 34 partially overlaps the adjacent exposed region 34.
  • Each of these is arranged at a predetermined interval in the arrangement direction. For this reason, for example, the non-exposure portion between the exposure area 32A on the leftmost side of the first row and the exposure area 32C located on the right side of the exposure area 32A is the exposure area located on the leftmost side of the second row. ⁇ Exposed with 32B. Similarly, the portion that cannot be exposed between the exposure area 32B and the exposure area 32D that is located to the right of the exposure area 32B is exposed by the exposure area 32C.
  • the exposure apparatus 10 accepts vector data representing an exposure pattern to be exposed, which is output from a data creation apparatus 40 having a CAM (Computer Aided Manufacturing) station.
  • An image processing unit 50 that performs predetermined processing on the data, a detection position information acquisition unit 51 that acquires detection position information of the reference mark 12a based on an image of the reference mark 12a captured by the camera 26, and detection position information Based on the detection position information acquired by the acquisition unit 51, an exposure trajectory information acquisition unit 52 that acquires information on the exposure trajectory of each micromirror 38 on the substrate 12 during actual exposure, and an exposure trajectory information acquisition unit
  • Exposure point data trajectory information acquisition unit for acquiring exposure point data trajectory information in the coordinate system of exposure image data based on the exposure trajectory information for each micromirror 38 acquired by 52 53 and the exposure point data acquired by the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 Based on the trajectory information 1, based on the exposure point data trajectory information acquired by the exposure point data trajectory information acquisition unit 54 and the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 that acquire exposure point data information to be
  • Wiring unit data force described later Based on the exposure point data information acquired by the sampling data acquisition unit 55 for sampling the exposure point data for each micromirror 38 and the exposure point data information acquisition unit 54, a display unit described later Based on the exposure point data acquired by the exposure point data acquisition unit 56 and the exposure point data acquisition unit 56 that acquire the exposure point data for each micromirror 38 from the data!
  • An exposure head controller 58 that generates a control signal and outputs the control signal to each exposure head 30 and a controller 70 that controls the entire exposure apparatus are provided.
  • the exposure apparatus 10 includes a moving mechanism 60 that moves the moving stage 14 in the stage moving direction.
  • the moving mechanism 60 may adopt any known configuration as long as it moves the moving stage 14 back and forth along the guide 20.
  • the exposure apparatus 10 moves the substrate 12 placed on the moving stage 14 in the stage moving direction, and sequentially outputs a control signal from the exposure head controller 58 to the exposure head 30 along with the movement.
  • a desired exposure pattern is exposed on the substrate 12 by forming exposure points on the substrate 12 in time series.
  • the exposure apparatus 10 selects predetermined trace data of template data force stored in the exposure point data acquisition unit 56 in advance, and the exposure point for each micromirror 38 based on the selected trace data.
  • a data sequence is acquired, and a control signal is output from the exposure head control unit 58 to each micromirror 30 of the exposure head 30 based on the acquired exposure point data sequence to expose the substrate 12 with an exposure pattern.
  • template data stored in advance in the exposure point data acquisition unit 56 and a method for creating the template data will be described.
  • the liquid crystal display Vector data representing the exposure pattern is created.
  • the exposure pattern R of a liquid crystal display is a display in which a large number of two-dimensionally arranged LCD pixels P consisting of three TFTs for displaying (r, g, b) are orthogonal to each other. And a wiring part that also has a wiring force connected to the display part.
  • the TFT for displaying r is represented by Tl
  • the TFT for displaying g by T2 the TFT for displaying b by ⁇ 3
  • the wiring portion by a solid line is created.
  • the vector data created by the data creation device 40 is output to the image processing unit 50.
  • the image processing unit 50 separates the display unit data representing the display unit and the wiring unit data representing the wiring unit.
  • the display unit data and the wiring unit data are converted into raster data and temporarily stored.
  • template data is created for the display unit data temporarily stored as described above.
  • template data is not created for the wiring portion data, but the method for acquiring the wiring portion data force exposure point data will be described later.
  • the LCD pixel data PD in the display unit data D and the coordinate system of the exposure point on the substrate exposed by each micromirror 38 are associated with each other, and the LCD Pixel VI
  • the vector VI connecting the specified start point s (xl, yl) force to the specified end point e (xl, y2) in the PD is set, and the LCD pixel data on the extension vector Vlt of the vector VI is A partial exposure point data string is obtained by sampling at a predetermined sampling pitch.
  • the y direction in FIG. 7 is a direction corresponding to the scanning direction of the micromirror 38 with respect to the substrate 12, and the X direction is a direction corresponding to a direction orthogonal to the scanning direction. That is, the vector VI is a part of the trajectory through which the image of the micromirror 38 can pass on the substrate 12.
  • a reference vector VI having a predetermined length L0 in the y direction is set for one start point s in one LCD pixel data, and the reference vector LCD pixel data PD on VI extension vector Vlt is sampled at sampling pitch pitchijO. Then, the starting point s of the reference vector VI and the reference vector LCD pixel data on the extension vector Vlt of each set vector VI is set by connecting multiple end points e that are located in the predetermined fluctuation range W around the end point e in the predetermined fluctuation range W. PD is sampled at a sampling pitch pitch j, and a partial exposure point data string is acquired for each vector Vlt.
  • the vector parallel to the y direction is set as the vector VI as described above.
  • the size of the fluctuation range W is set in advance according to the degree of deformation of the substrate 12.
  • the length L0 of the reference vector VI, the number of exposure point data N to be sampled, the sampling pitch pitch_y0 of the reference vector VI, the fluctuation width Ay in the y direction, and the exposure points of the vector VI other than the reference vector nore The sampling pitch pitch_y in the y direction of the data has the following relationship.
  • pitch j pitch X (L0 + Ay) / L0 (3)
  • N 4096
  • pitch 0.75 ⁇ m, and the like.
  • the extension vector Vlt is a vector obtained by extending the end point e (xl, y2) of the vector VI to the end point side of the vector VI, and can be expressed by the following relationship.
  • Vlt VI X (1 + k) ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ (4)
  • k (size of LCD pixel data in y direction + margin value a) / L0 (5).
  • the positions of all the exposure points in one LCD pixel data PD are set as the start points s, and the start points s are connected to the end points e located in the predetermined fluctuation range W in the same manner as described above.
  • a vector VI is set, and a partial exposure point data string is acquired for each extension vector Vlt of each vector VI.
  • the partial exposure point data sequence obtained as described above is hereinafter referred to as “trace data”.
  • the fluctuation amount Ay indicates the deviation amount of each end point e in the fluctuation range W in the y direction when the position of the end point e of the reference vector is used as a reference, as described above. . Therefore, the variation Ay of the end point e of the reference vector is 0.
  • each trace data is associated with a trace data number and collected as template data.
  • the data is stored in the template storage unit 56a of the data acquisition unit 56.
  • the force that connects the start point s and the end point e with a straight line is not limited to this.
  • the start point s and the end point e may be connected with a curved line or a broken line.
  • the display unit data as the raster data D is the force for obtaining the exposure point data corresponding to the force vector VI.
  • the raster data is not necessarily displayed as the vector data.
  • Department data force Let's get the exposure point data corresponding to the vector VI.
  • the trace data corresponding to the vector VI is stored in advance.
  • the end point e may be changed in the X direction.
  • trace data is acquired in the same manner as described above, and a trace data number is assigned in correspondence with the variation amount ⁇ in the X direction of the end point e.
  • the variation amount ⁇ in the X direction is preset according to the degree of deformation of the substrate 12, but is preferably smaller than the assumed degree of deformation of the substrate.
  • the vector VI it is desirable to set a vector having an inclination smaller than the inclination of the vector V3 (exposure point data trajectory information) to be described later with respect to the y direction.
  • the number of vector VIs can be reduced, reducing the amount of trace data. Can be reduced.
  • the quantization width of the vector VI is the quantization width of the exposure point that is actually exposed on the substrate, that is, each micromirror on the substrate 12 at the time of actual exposure.
  • the quantization width of the force vector VI which is set to be the same as the quantization width of every 38 exposure trajectories, may be made coarser.
  • the start point s is set at every other exposure point sequence in the direction of the force X in which the positions of all exposure points in one LCD pixel data PD are set as the start point s. You may make it set. In the y direction, the start point s may be set every other exposure point sequence.
  • the quantization width of the variation width in the y direction of the end point e may be made coarser than the quantization width of the exposure locus.
  • the quantization width of the fluctuation range in the X direction may be made coarser than the quantization width of the exposure trajectory.
  • the template data stored in the template storage unit 56a as described above is based on the exposure point data information acquired by the exposure point data information acquisition unit 54!
  • the data is read out and output to the exposure head controller 58.
  • acquisition of exposure point data information in the exposure point data information acquisition unit 54 will be described.
  • the controller 70 outputs a control signal to the moving mechanism 60, and the moving mechanism 60 moves the moving stage 14 in accordance with the control signal, and the positional force shown in FIG. After moving to the initial position, it is moved toward the downstream side at a desired speed.
  • the upstream side is the right side in FIG. 1, that is, the side where the scanner 24 is installed with respect to the gate 22, and the downstream side is the left side in FIG. This is the side where the camera 26 is installed.
  • the substrate 12 on the moving stage 14 moving as described above passes under the plurality of cameras 26, the substrate 12 is photographed by these cameras 26, and a photographed image representing the photographed image is displayed.
  • Data is input to the detected position information acquisition unit 51.
  • the detected position information acquisition unit 5 1 is based on the input captured image data! Indicate the position of the reference mark 12a on the board 12 Obtains detected position information.
  • the detection position information of the reference mark 12a for example, it may be acquired by extracting a circular image, but any other known acquisition method may be adopted.
  • the detection position information of the reference mark 12a is specifically a force acquired as a coordinate value, and its coordinate system is the same as the coordinate system of the exposure point exposed by each micromirror 38.
  • the detected position information of the reference mark 12a acquired as described above is output from the detected position information acquiring unit 51 to the exposure trajectory information acquiring unit 52.
  • the exposure trajectory information acquisition unit 52 information on the exposure trajectory for each micromirror 38 on the substrate 12 at the time of actual exposure is obtained based on the input detected position information.
  • a passing position information force indicating a position through which an image of each micromirror 38 of the DMD 36 of each exposure head 30 passes is set in advance for each micromirror 38.
  • the passage position information is preset by the installation position of each exposure head 30 with respect to the installation position of the substrate 12 on the moving stage 14, and is expressed by a plurality of vectors or coordinate values of a plurality of points. .
  • FIG. 10 shows an ideally shaped substrate 12 that has not undergone a pressing process, that is, no deformation such as distortion has occurred, and the reference mark 12a is placed at the position indicated by the preset reference mark position information 12b.
  • FIG. 4 is a schematic diagram showing the relationship between the substrate 12 and the passing position information 12c of the predetermined micromirror 38.
  • the coordinate system of the passage position information is the same as the coordinate system of the exposure point exposed by the micromirror 38.
  • the length of the vector V2 delimited by a plurality of reference points 12e (white circles shown in FIG. 10) in the passage position information 12c is set to the same length as the above-described reference vector.
  • the passage position information 12c and the detection position information 12d are associated with each other, and the detection position is detected for each reference point 12e in the passage position information 12c.
  • a positional relationship with information 12d is required.
  • the areas of rectangles Sa, Sb, Sc, and Sd determined by the reference point 12e and the detection position information 12d surrounding the reference point 12e are obtained.
  • the areas as described above are obtained for each reference point 12e and output to the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 as exposure trajectory information.
  • the exposure trajectory information as described above passes through each micromirror 38. It is obtained for each position information 12c and output to the exposure point data locus information acquisition unit 53.
  • the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 acquires exposure point data trajectory information corresponding to the exposure trajectory information based on the exposure trajectory information input as described above.
  • the exposure point data locus acquisition unit 53 is preset with position information 12f of the reference mark 12a in the coordinate system of the exposure image data.
  • the coordinates of the trace point 12g satisfying equation (6) are obtained for each reference point 12e.
  • the information of the vector V3 connecting the trace points 12g is output to the exposure point data information acquisition unit 54 as exposure point data trajectory information.
  • the exposure point data information acquisition unit 54 acquires exposure point data information based on the input information on each vector V3.
  • the exposure point data information acquisition unit 54 acquires the coordinate values of the start point and end point of each vector V3, and uses the coordinate values in the coordinate system of the exposure points in one LCD pixel data. Relative conversion to the standard value is performed, and the end point variation ( ⁇ , ⁇ ) is obtained based on the relative coordinate values of the start point and end point.
  • the trace data number where the coordinate value of the starting point coincides with the vector V3 and the variation amount Ay of the end point matches is obtained.
  • the vector V3 is a vector as shown in FIG. 14, the trace data number corresponding to the line i is acquired.
  • Fig. 14 shows the correspondence between the coordinate system of the exposure point in the LCD pixel data and the vector V3.
  • Line i is a line extending parallel to the y direction.
  • trace data numbers corresponding to line i + 1 and line i + 2 are acquired. That is, the trace data number has the same y-coordinate as the y-coordinate of the start point of vector V3, and the X-coordinate of the start point obtained by adding 1 and 2 to the X-coordinate of the start point of vector V3. The same trace data number as the fluctuation amount ⁇ y of vector V3 is acquired. [0076] Further, for each trace data number corresponding to line i, line i + l, and line i + 2 obtained as described above, the trace data read length and read position are respectively To be acquired. The length in the y direction of the shaded portion shown in FIG.
  • the read length 14 is the read length
  • y0, yl, and y2 are the read positions.
  • the read length and read position are determined according to the variation amount ( ⁇ , Ay) of the vector V3, and are acquired according to a predetermined determination method.
  • the reading position is acquired by the number of bits from the first bit of the trace data, and the reading length is acquired by the number of bits corresponding to the length of the shaded portion shown in FIG.
  • y0 is always 0, so it is not always necessary to acquire it.
  • exposure point data information represented by a data structure as shown in FIG. 15 is obtained based on each trace data number, readout position, and readout length obtained as described above.
  • the exposure point data information has flags 1 to 3 as shown in FIG. These flags 1 to 3 are set to 1 when the trace data number that follows is present, and is set to 0 when it does not exist. In the present embodiment, the reading position y0 is always 0, so the reading position y0 is not necessarily provided.
  • exposure point data information as shown in FIG. 15 is acquired for each vector V 3, and the exposure point data information is output to exposure point data acquisition unit 56.
  • the data structure of the exposure point data information is not limited to the data structure as shown in FIG. 15.
  • the trace data numbers corresponding to line i + 1 and line i + 2 are shown in FIG. As shown, it may be a relative number to the trace data number corresponding to line i.
  • the vector V3 is a vector as shown in FIG. 14, the relative numbers are +1 and +2.
  • the trace data numbers are assigned consecutive numbers for trace data with the same X-coordinate value at the start point and the variation ⁇ y.
  • the vector V3 matches the coordinate value of its start point, and the force that can identify one trace data number that matches the end point variation ⁇ y. If the trace data number and the trace data are obtained by changing the value, the trace data number where the vector V3 matches the coordinate value of the start point as described above, and the fluctuation amount ⁇ y of the end point matches. There will be more than one. Therefore, when the trace data number is obtained by changing the end point of the vector VI in the X direction as described above, for example, the trace data number having the nearest slope is specified by the slope of the vector V3. If you do, ⁇ .
  • the positions of all exposure points in one LCD pixel data are set as the start point s, and the trace data is acquired by setting the vector VI for the start point s.
  • the position of the starting point s in the y direction may be limited to the shaded area shown in FIG. 17 to reduce the number of trace data.
  • the length of the extension vector Vlt is given as trace data.
  • the vector V3 represented by the start point P1 and the end point P2 is extended to the start point P1 side, and the extension line on FIG.
  • the start point PO existing in the correspondence shown is obtained.
  • a trace data number is obtained in which the coordinate values of the start point PO and the start point match, and the value of the variation Ay matches the variation Ay of the vector V3.
  • the vector V3 is a vector as shown in FIG. 19, the trace data number corresponding to the line j is acquired.
  • the trace data numbers corresponding to the line j + 1 and the line j + 2 are acquired.
  • it has the same y coordinate as the y coordinate of the starting point PO, the X coordinate of the starting point obtained by adding 1 and 2 to the X coordinate of the starting point PO, and the value of the variation Ay is the variation Ay of the vector V3.
  • a matching trace data number is obtained.
  • template data as shown in FIG. 9 is stored in the template storage unit 56a.
  • the information is sequentially decoded from the head information of the exposure point data information. That is, first, the trace data number corresponding to the line i is obtained, the read position yO and the read length L1 are obtained, the flag is detected as 1, and the trace data corresponding to the subsequent line i + 1 is obtained. Go to read the number. Further, the trace data number corresponding to the line i + 1 is obtained, the read position yl and the read length L2 are obtained, it is detected that the flag is 1, and the corresponding line i + 2 is obtained.
  • the trace data of each trace data number in the exposure point data information acquired as described above is selected, and for each selected trace data, only the reading position force of the exposure point data information and the reading length are selected.
  • the relationship between the trace data number and the trace data storage area for example, the correspondence between the trace data number and the start address of the storage area where the trace data of that trace data number is stored, as shown in FIG. Is set in advance, the reading start address is acquired based on the reading position in the exposure point data information and the top address, and the reading start address force reading of the exposure point data is started.
  • the exposure point data corresponding to the vector V3 is acquired by connecting the exposure point data of the respective trace data read out as described above.
  • exposure point data is acquired for each vector V3 as described above. By connecting them, an exposure point data string corresponding to the exposure point data locus of one micromirror 38 is obtained.
  • Exposure point data information is obtained based on the exposure point data trajectory information for each micromirror 38, trace data is read based on the exposure point data information for each micromirror 38, and each micromirror 38 is read.
  • the exposure point data sequence is acquired.
  • the wiring unit data is raster-converted and temporarily stored in the image processing unit 50.
  • the wiring unit data temporarily stored in the image processing unit 50 is output to the sampling data acquisition unit 55.
  • the exposure point data trajectory information for each micromirror 38 acquired in the exposure point data trajectory information acquisition unit 53 as described above is also output to the sampling data acquisition unit 55.
  • the sampling data acquisition unit 55 associates each vector V3 of the exposure point data trajectory information with the wiring unit data, samples the wiring unit data on each vector V3 at a predetermined sampling pitch, and reads it as exposure point data. put out.
  • the exposure point data sequence for each micromirror 38 acquired as described above is output to the exposure point data acquisition unit 56. It is assumed that the portion corresponding to the display portion data in the wiring portion data is zero data.
  • the exposure point data acquisition unit 56 acquires the exposure point data string for each micromirror 38 for the display unit data acquired by reading out the trace data, and the sampling data acquisition unit 56 acquires it. Then, the exposure point data string for each microphone mirror 38 for the wiring section data is synthesized, and an exposure point data string for each micromirror 38 representing the exposure pattern R of the liquid crystal display is generated. Note that the above composition is based on the exposure point data trajectory information for each micromirror 38, and the exposure point data sequence acquired by reading the trace data and the exposure point data sequence acquired by the sampling data acquisition unit 56. This is done by calculating the logical sum of [0096] [Exposure]
  • the exposure point data for each micromirror 38 acquired as described above is output to the exposure head controller 58. Then, along with the above output, the moving stage 14 is again moved to the upstream side at a desired speed.
  • exposure is started when the tip force of the substrate 12 is detected by the S camera 26.
  • a control signal based on the exposure point data is output from the exposure head control unit 58 to the DMD 36 of each exposure head 30, and the exposure head 30 rotates the micromirror of the DMD 36 based on the input control signal. Turn on / off to expose the substrate 12.
  • a control signal is output from the exposure head controller 58 to each exposure head 30, a control signal corresponding to each position of each exposure head 30 with respect to the substrate 12 accompanies the movement of the moving stage 14.
  • the force output from the exposure head control unit 58 to each exposure head 30 may be sequentially read out one by one and output to the DMD 36 of each exposure head 30. Then, the exposure point data obtained as shown in FIG.
  • the frame data 1 to L corresponding to each position of each exposure head 30 with respect to the substrate 12 is generated as shown in FIG. L to each exposure head 30 Choi so as to be next out of power.
  • exposure point data can be obtained by employing the same method as described above.
  • the exposure point data trajectory information corresponding to the passage position information set in advance for each micromirror 38 is acquired, and the acquired exposure point data trajectory is acquired.
  • the exposure point data information may be acquired based on the trace information, and the trace data may be read based on the exposure point data information.
  • the variation amount ( ⁇ , ⁇ ⁇ ) of the vector V3 is 0, so the exposure point data information is only the trace data number having the start point of the same coordinate value as the start point of the vector V3. become.
  • the reference mark 12a on the substrate 12 is detected, and based on the detected position information, the exposure locus information of each micromirror 38 on the substrate 12 at the time of actual exposure is obtained.
  • a displacement information acquisition unit that acquires displacement information in a direction orthogonal to the stage moving direction of the moving stage 14 is provided, and the displacement information acquired by the displacement information acquisition unit is included in the displacement information acquired by the displacement information acquisition unit.
  • the exposure point data trajectory information consisting of the vector V3 is obtained.
  • exposure point data may be acquired in the same manner as described above.
  • the deviation information may be set in advance in the deviation information acquisition unit.
  • a measurement method of deviation information for example, a measurement method using a laser beam used in an IC wafer stepper device or the like can be used.
  • the moving stage 14 is provided with a reflecting surface extending in the stage moving direction, a laser light source that emits laser light toward the reflecting surface, and a detection unit that detects the reflected light reflected on the reflecting surface. As the stage 14 moves, the shift amount can be measured by sequentially detecting the phase shift of the reflected light by the detection unit.
  • the exposure track information may be acquired in consideration of both the detection position information of the reference mark 12a and the above-described deviation information.
  • the exposure trajectory information may be acquired as a curve or a polygonal line. If the exposure trajectory information is acquired as a curve or a polygonal line as described above, each trace point shown in FIG.
  • the vector V3 may be set by connecting 12g with a broken line in correspondence with the exposure trajectory information. If the vector V3 is obtained as a polygonal line as described above, for example, as shown in FIG.
  • the exposure point data may be acquired in the same manner as described above for the line segment vector V31 and the line segment vector V32.
  • a speed fluctuation information acquisition unit that acquires speed fluctuation information of the movement of the substrate 12 in advance is provided, and the movement speed of the substrate 12 is determined based on the speed fluctuation information acquired by the speed fluctuation information acquisition means 90.
  • the exposure point data may be acquired by decreasing the sampling pitch pitch j0 of the reference vector so that the density of the exposure point data increases in the region on the substrate 12. Note that the movement speed fluctuation information of the substrate 12 is unevenness of the movement speed generated according to the control accuracy of the moving mechanism 60 of the moving stage 14.
  • the method of acquiring the exposure point data of the display portion data in which the LCD pixel data PD is repeatedly arranged in the y direction has been described using the trace data.
  • the original image data that is a target for acquiring the image does not necessarily have a data structure such as display data.
  • the vector VI is set with the position of the exposure point in the entire original image data that is not just the starting point s in one LCD pixel data PD as described above. Therefore, it is necessary to obtain the trace data corresponding to the vector VI.
  • the method of setting the end point e of the vector VI is the same as above.
  • the coordinates of the start point s and end point e of the vector V3 are used as they are without relative conversion of the coordinates of the start point s and end point e of the vector V3 as described above. Then, trace data can be acquired in the same way as above.
  • the exposure apparatus provided with the DMD as the spatial light modulation element has been described.
  • a transmissive spatial light modulation element is used. You can do it.
  • a so-called flood bed type exposure apparatus has been described as an example.
  • a so-called outer drum type exposure apparatus having a drum around which a photosensitive material is wound may be used.
  • the substrate 12 to be exposed in the above embodiment may be a flat panel display substrate that is not limited to a printed wiring board.
  • the shape of the substrate 12 may be a sheet shape or a long shape (such as a flexible substrate).
  • the drawing method and apparatus according to the present invention can also be applied to drawing in an ink jet printer or the like.
  • a drawing point by ink ejection can be formed in the same manner as in the present invention. That is, the drawing point formation region in the present invention can be considered as a region to which ink ejected from each nozzle of an ink jet printer adheres.
  • the drawing trajectory information in the present invention may be used as drawing trajectory information by using the drawing trajectory of the drawing point formation area on the actual substrate, and the drawing trajectory of the drawing point formation area on the actual substrate. May be used as the drawing trajectory information, and the drawing trajectory information obtained by predicting the drawing trajectory of the drawing point formation region on the actual substrate may be used.
  • the image pattern to be templated may be an image that appears discretely many times in addition to the repeated pattern.
  • the image pattern to be templated may not be a digitally matched pattern, but may be a pattern that can be approximated to substantially the same. For example, the difference in the error range during exposure may be ignored.
  • the repeated pattern to be templated may be a pattern in which a plurality of types of image patterns appear repeatedly.
  • a template may be created for each type of image pattern, and if there is regularity in how the image patterns are arranged, template selection may be performed for each type of arrangement.
  • the exposure target may be an LSI.
  • the same pattern of memory cells or the like can be templated.

Landscapes

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Abstract

　露光点データに基づいて露光ヘッドにより基板上に露光パターンを露光する際に用いられる露光点データであって、基板の変形などに応じて原画像データから取得される露光点データの取得方法において、その露光点データの取得時間を短縮し、生産効率の向上を図る。 　露光ヘッド３０のマイクロミラーの基板１２上の仮想的な描画軌跡の情報に対応する、原画像データ上の仮想露光点データ軌跡の情報を複数取得し、その仮想描画点データ軌跡に対応したトレースデータを原画像データからそれぞれ取得して予めテンプレート記憶部５６ａに記憶し、実際の露光の際の基板１２上におけるマイクロミラーの露光軌跡の情報に対応する複数の仮想露光点データ軌跡情報を特定し、その特定された複数の仮想露光点データ軌跡情報に対応するトレースデータを、実際の露光軌跡情報に対応した露光点データとして取得する。

Description

明 細 書
描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
技術分野
[0001] 本発明は、描画データに基づいて基板上に画像を描画する際に用いられる描画デ ータを取得する描画データ取得方法および装置並びにその描画データ取得方法お よび装置により取得された描画データに基づ!/ヽて基板上に画像を描画する描画方 法および装置に関するものである。
背景技術
[0002] 従来、プリント配線板や液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイの基板に 所定のパターンを記録する装置として、フォトリソグラフの技術を利用した露光装置が 種々提案されている。
[0003] 上記のような露光装置としては、たとえば、フォトレジストが塗布された基板上に光ビ 一ムを主走査および副走査方向に走査させるとともに、その光ビームを、露光パター ンを表す露光画像データに基づいて変調することにより露光パターンを形成する露 光装置が提案されている。
[0004] 上記のような露光装置として、たとえば、デジタル 'マイクロミラー'デバイス（以下、 DMDという）等の空間光変調素子を利用し、露光画像データに応じて空間光変調 素子により光ビームを変調して露光を行う露光装置が種々提案されている。
[0005] そして、上記のような DMDを用いた露光装置としては、たとえば、 DMDを露光面 に対して所定の走査方向に相対的に移動させるとともに、その走査方向への移動に 応じて DMDのメモリセルに多数のマイクロミラーに対応した描画データを入力し、 D MDのマイクロミラーに対応した描画点群を時系列に順次形成することにより所望の 画像を露光面に形成する露光装置が提案されて 、る（たとえば特開 2004 - 23371 8号公報参照)。
[0006] ここで、上記のような露光装置を用いて、たとえば、多層プリント配線板の露光パタ ーンを形成する際には、各層を張り合わせるプレス工程において基板に熱が加えら れ、その熱により基板が変形してしまう場合があるため、各層の露光パターンの位置 合わせを高精度に行うためには、上記のような基板の変形に応じた露光パターンを 各層にお 、て形成する必要がある。
[0007] また、フラットパネルディスプレイにおいてもカラーフィルタパターンを露光する際、 基板に加熱処理が施されるのでその熱によって基板が伸縮し、 R、 G、 Bの各色の記 録位置ずれが生じてしまうおそれがあるため、上記のような基板の変形に応じた露光 ノターンを形成する必要がある。
[0008] し力しながら、たとえば、同じ露光パターンを多数の基板に形成する場合などにお いて、リアルタイムに基板毎の変形量に応じた露光画像データを生成し、その露光画 像データに基づ 、て露光を行うようにしたのでは、基板の変形量に応じた露光画像 データの生成に時間が力かり生産効率の低下を招くおそれがある。
[0009] そこで、上記のような基板の変形を想定し、その基板の変形に応じた露光画像デー タを画像処理装置で予め複数種類生成して露光部に予め記憶しておき、実際に露 光する際に、基板の変形量の情報を取得し、その変形量に応じた露光画像データを 読み出して利用することによって、上記のような生産効率の低下を招くことなく露光画 像データを取得する方法が考えられる。
[0010] 本発明は、上記のような描画方法および装置に用いられる描画データの取得方法 および装置の改良に関する。
発明の開示
[0011] 本発明の描画データ取得方法は、描画データに基づいて描画点を形成する描画 点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点 を基板上に順次形成して画像を描画する際に用 ヽられる描画データを取得する描 画データ取得方法において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮 想的な描画軌跡の情報であって、上記相対的移動の方向に直交する方向にっ 、て 互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原 画像データとを対応付けて原画像データ上における複数の仮想描画軌跡情報に対 応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した 仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画 データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの 対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画 軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原 画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌 跡の情報を取得し、複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち上記取得した描画点 データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、 その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における 描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、上記選択し た複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係 に基づ!/、て予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点データ
Figure imgf000005_0001
、て、上記特定した各仮想描画データ からそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに 基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする
[0012] また、上記本発明の描画データ取得方法にぉ 、ては、複数の仮想描画軌跡情報と して上記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定するようにすることが できる。
[0013] また、複数の仮想描画軌跡情報を、描画軌跡情報の基板上における量子化幅より も粗 、量子化幅で設定するようにすることができる。
[0014] また、描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、描画点データ軌跡を曲 線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得し、その取得し た各部分描画点データ軌跡情報毎にっ 、て、複数の仮想描画点データ軌跡情報の 選択を行うとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点 データ軌跡における部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれ ぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画 データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から 特定し、部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記 特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得し た各部分仮想描画データに基づいて部分描画点データ軌跡情報に対応した描画デ ータを取得し、その取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づ Vヽて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得するようにすることができる
[0015] 本発明の描画方法は、上記本発明の描画データ取得方法を用いて描画データを 取得し、その取得した描画データに基づ 、て基板上に画像を描画することを特徴と する。
[0016] 本発明の描画データ取得装置は、描画データに基づいて描画点を形成する描画 点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、その移動に応じて描画点 を基板上に順次形成して画像を描画する際に用 ヽられる描画データを取得する描 画データ取得装置において、予め設定された基板上における描画点形成領域の仮 想的な描画軌跡の情報であって、上記相対的移動の方向に直交する方向にっ 、て 互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と画像を表わす原 画像データとを対応付けて原画像データ上における複数の仮想描画軌跡情報に対 応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ 軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の 仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描 画データを原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、仮想描画 データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶する仮想描画 データ記憶部と、
仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対 応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の 情報を取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部よつて取得された描 画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領 域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌 跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮 想描画点データ軌跡情報のうち、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された 描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択すると ともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡 における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮 想描画点データ軌跡情報選択部と、仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選 択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応 関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点デ ータ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づ 、て、上記特定した各仮想描画デ ータからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画デ ータに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得する描画デー タ取得部とを備えたことを特徴とする。
[0017] また、本発明の描画データ取得装置においては、複数の仮想描画軌跡情報として 相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定するようにすることができる。
[0018] また、複数の仮想描画軌跡情報を、描画軌跡情報の基板上における量子化幅より も粗 、量子化幅で設定するようにすることができる。
[0019] また、描画軌跡情報取得部を、描画軌跡を曲線または折れ線で取得するものとし、 描画点データ軌跡情報取得部を、描画点データ軌跡を曲線または折れ線に対応し た複数の部分描画点データ軌跡として取得するものとし、仮想描画点データ軌跡情 報選択部を、描画点データ軌跡情報取得部よつて取得された各部分描画点データ 軌跡情報毎について、複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、そ の選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における部 分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得するものとし、 描画データ取得部を、仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数 の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づ いて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、部分描画点データ軌 跡情報に対応する範囲を示す情報に基づ!、て、上記特定した各仮想描画データか らそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データ〖こ 基づいて部分描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得するものとするこ とがでさる。
[0020] 本発明の描画装置は、上記本発明の描画データ取得装置と、描画データ取得装 置により取得された描画データに基づいて基板上に画像を描画する描画手段とを備 えたことを特徴とする。
[0021] ここで、上記「描画点形成領域」とは、基板上に描画点を形成する領域であれば如 何なるものによって形成される領域でもよぐたとえば、 DMDのような空間光変調素 子の各変調素子によって反射されたビーム光によって形成されるビームスポットでも ょ 、し、光源力も発せられたビーム光自体によって形成されるビームスポットでもよ ヽ し、もしくはインクジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する 領域としてもよい。
[0022] なお、本発明は、描画点形成領域による描画面への個別の描画処理に際し、描画 点形成領域と描画面との間の想定される複数の仮想的な位置関係に基づいて予め 用意された複数の仮想描画データセットから、描画点形成領域と描画面との間の実 際の位置関係に基づ 、て少なくとも 2つの特定仮想描画データセットを選択し、その 少なくとも 2つの特定仮想描画データセットの各々から、描画点形成領域と描画面と の間の実際の位置関係に対応した部分を抽出し、その抽出された部分のデータを組 み合わせて描画処理用の描画データを取得する方法 Z装置であってもよ 、。この場 合、各仮想描画データセットは、描画点形成領域に時系列的に与えられるデータの 集合であってもよ！/ヽし、グループ化された複数の描画点形成領域に同時に与えられ るデータの集合であってもよ 、。
[0023] 本発明の描画データ取得方法および装置によれば、互いに異なる仮想描画点デ ータ軌跡情報に基づ 、て取得された仮想描画データを予め記憶し、画像の描画の 際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌 跡情報を取得し、その取得した描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画 点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が 示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示 す情報をそれぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応 する仮想描画データを特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報 に基づ!/ヽて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを 取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に 対応した描画データを取得するようにしたので、生産効率の低下を招くことなぐ基板 の変形などに応じた描画データを取得することができる。
[0024] そして、上記のように 1つの描画点データ軌跡情報に対して複数の仮想描画点デ ータ軌跡情報を選択し、その複数の仮想描画点データ軌跡情報の組み合わせによ つて上記描画点データ軌跡情報に対応する描画データを取得するようにしたので、 たとえば、描画点データ軌跡情報の傾きよりも小さ!ヽ傾きの仮想描画点データ軌跡 情報を複数利用して上記描画点データ軌跡情報を近似することができる。したがって 、上記描画転データ軌跡情報に対応する、大きい傾きの仮想描画点データ軌跡情 報を予め設定する必要がな 、ので、仮想描画点データ軌跡情報の数を削減すること ができ、仮想描画データの容量を削減することができる。
[0025] そして、本発明の描画方法および装置においても、上記と同様の効果を得ることが できる。
図面の簡単な説明
[0026] [図 1]本発明の描画方法および装置の一実施形態を用いた露光装置の概略構成を 示す斜視図
[図 2]図 1の露光装置のスキャナの構成を示す斜視図
[図 3A]基板の露光面上に形成される露光済み領域を示す平面図
[図 3B]各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す平面図
[図 4]図 1の露光装置の露光ヘッドにおける DMDを示す図
[図 5]本発明の第 1の実施形態を用いた露光装置の電気的構成を示すブロック図
[図 6]液晶ディスプレイの露光パターンを示す図
[図 7]トレースデータの作成方法を説明するための図
[図 8]ベクトル VI (仮想描画点データ軌跡情報）とトレースデータとの対応関係を示す 図
[図 9]テンプレートデータを示す図
[図 10]理想的な形状の基板上における基準マークと所定のマイクロミラーの通過位 置情報との関係を示す模式図
[図 11]マイクロミラーの露光軌跡情報の取得方法を説明するための図 [図 12]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する 方法を説明するための図
[図 13]マイクロミラーの露光軌跡情報に基づいて露光点データ軌跡情報を取得する 方法を説明するための図
[図 14]ベクトル V3 (露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択する方 法を説明するための図
[図 15]露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図
[図 16]露光点データ情報のデータ構造の一例を示す図
[図 17]ベクトル V3 (露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するそ の他の方法を説明するための図
[図 18]ベクトル V3 (露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するそ の他の方法を説明するための図
[図 19]ベクトル V3 (露光点データ軌跡情報）に対応するトレースデータを選択するそ の他の方法を説明するための図
[図 20]トレースデータ番号と先頭アドレスとの対応関係を示す図
[図 21]各マイクロミラー毎の露光点データ列を示す図
[図 22]各フレームデータを示す図
[図 23]露光軌跡が曲線または折れ線の場合におけるベクトル V3 (露光点データ軌跡 情報)の取得方法を説明するための図
発明を実施するための最良の形態
[0027] 以下、図面を参照して本発明の描画データ取得方法および装置並びに描画方法 および装置の第 1の実施形態を用いた露光装置について詳細に説明する。図 1は、 本露光装置の概略構成を示す斜視図である。本露光装置は、所定の露光パターン を露光する装置であって、特に、その露光パターンを露光するために用いられる露光 画像データの作成方法に特徴を有するものであるが、まずは、露光装置の概略構成 について説明する。
[0028] 露光装置 10は、図 1に示すように、基板 12を表面に吸着して保持する平板状の移 動ステージ 14を備えている。そして、 4本の脚部 16に支持された厚い板状の設置台 18の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた 2本のガイド 20が設置されている 。移動ステージ 14は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共 に、ガイド 20によって往復移動可能に支持されている。
[0029] 設置台 18の中央部には、移動ステージ 14の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲー ト 22が設けられている。コの字状のゲート 22の端部の各々は、設置台 18の両側面に 固定されている。このゲート 22を挟んで一方の側にはスキャナ 24が設けられ、他方 の側には基板 12の先端および後端と、基板 12に予め設けられている円形状の複数 の基準マーク 12aの位置とを検知するための複数のカメラ 26が設けられている。
[0030] ここで、基板 12における基準マーク 12aは、予め設定された基準マーク位置情報 に基づいて基板 12上に形成された、たとえば孔である。なお、孔の他にランドゃヴィ ァゃエッチングマークを用いてもよい。また、基板 12に形成された所定のパターン、 たとえば、露光しょうとする層の下層のパターンなどを基準マーク 12aとして利用する ようにしてもよい。また、図 1においては、基準マーク 12aを 6個し力示していないが実 際には多数の基準マーク 12aが設けられている。
[0031] スキャナ 24およびカメラ 26はゲート 22に各々取り付けられて、移動ステージ 14の 移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ 24およびカメラ 26は、これら を制御する後述するコントローラに接続されて 、る。
[0032] スキャナ 24は、図 2および図 3Bに示すように、 2行 5列の略マトリックス状に配列さ れた 10個の露光ヘッド 30 (30A〜30J)を備えて!/、る。
[0033] 各露光ヘッド 30の内部には、図 4に示すように入射された光ビームを空間変調する 空間光変調素子（SLM)であるデジタル 'マイクロミラ一'デバイス (DMD) 36が設け られている。 DMD36は、マイクロミラー 38が直交する方向に 2次元状に多数配列さ れたものであり、そのマイクロミラー 38の列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度 Θをなすように取り付けられている。したがって、各露光ヘッド 30による露光エリア 32 は、走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。そして、図 3Aに示すように、 移動ステージ 14の移動に伴い、基板 12には露光ヘッド 30毎の帯状の露光済み領 域 34が形成される。なお、各露光ヘッド 30に光ビームを入射する光源については図 示省略してある力 たとえば、レーザ光源などを利用することができる。 [0034] 露光ヘッド 30の各々に設けられた DMD36は、マイクロミラー 38単位でオン/オフ 制御され、基板 12には、 DMD36のマイクロミラー 38に対応したドットパターン (黒/ 白）が露光される。前述した帯状の露光済み領域 34は、図 4に示すマイクロミラー 38 に対応した 2次元配列されたドットによって形成される。二次元配列のドットパターン は、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶドットが、走査方向と 交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることがで きる。なお、傾斜角度の調整のバラツキによって、利用しないドットが存在する場合も あり、たとえば、図 4では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応 する DMD36におけるマイクロミラー 38は常にオフ状態となる。
[0035] また、図 3Aおよび Bに示すように、帯状の露光済み領域 34のそれぞれが、隣接す る露光済み領域 34と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド 30の各々は、その配列方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、たとえば 、 1行目の最も左側に位置する露光エリア 32A、露光エリア 32Aの右隣に位置する 露光エリア 32Cとの間の露光できない部分は、 2行目の最も左側に位置する露光エリ ァ 32Bにより露光される。同様に、露光エリア 32Bと、露光エリア 32Bの右隣に位置 する露光エリア 32Dとの間の露光できない部分は、露光エリア 32Cにより露光される
[0036] 次に、露光装置 10の電気的構成について説明する。
[0037] 本露光装置 10は、図 5に示すように、 CAM (Computer Aided Manufacturing)ステ ーシヨンを有するデータ作成装置 40から出力された、露光すべき露光パターンを表 わすベクトルデータを受け付け、このベクトルデータに所定の処理を施す画像処理部 50と、カメラ 26により撮影された基準マーク 12aの画像に基づ 、て基準マーク 12aの 検出位置情報を取得する検出位置情報取得部 51と、検出位置情報取得部 51により 取得された検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の各マイ クロミラー 38の露光軌跡の情報を取得する露光軌跡情報取得部 52と、露光軌跡情 報取得部 52により取得された各マイクロミラー 38毎の露光軌跡情報に基づいて露光 画像データの座標系における露光点データ軌跡情報を取得する露光点データ軌跡 情報取得部 53と、露光点データ軌跡情報取得部 53により取得された露光点データ 軌跡情報に基づ 1、て、後述する露光点データ情報を取得する露光点データ情報取 得部 54と、露光点データ軌跡情報取得部 53により取得された露光点データ軌跡情 報に基づ 、て、後述する配線部データ力 各マイクロミラー 38毎の露光点データを サンプリングするサンプリングデータ取得部 55と、露光点データ情報取得部 54により 取得された露光点データ情報に基づいて、後述する表示部データから各マイクロミラ 一 38毎の露光点データを取得する露光点データ取得部 56、露光点データ取得部 5 6により取得された露光点データに基づ!/、て各マイクロミラーに供給される制御信号 を生成し、その制御信号を各露光ヘッド 30に出力する露光ヘッド制御部 58と、本露 光装置全体を制御するコントローラ 70とを備えて 、る。
[0038] また、本露光装置 10は、移動ステージ 14をステージ移動方向へ移動させる移動機 構 60を備えている。移動機構 60は、移動ステージ 14をガイド 20に沿って往復移動 させるものであれば如何なる既知の構成を採用してもよい。
[0039] なお、上記各構成要素の作用については後で詳述する。
[0040] 次に、本露光装置 10の作用について図面を参照しながら説明する。
[0041] 本露光装置 10は、移動ステージ 14上に設置された基板 12を、ステージ移動方向 に移動させ、その移動にともなって順次露光ヘッド制御部 58から露光ヘッド 30に制 御信号を出力し、基板 12上に時系列に露光点を形成することによって所望の露光パ ターンを基板 12上に露光するものである。
[0042] そして、本露光装置 10は、予め露光点データ取得部 56に記憶されたテンプレート データ力 所定のトレースデータを選択し、その選択されたトレースデータに基づい て各マイクロミラー 38毎の露光点データ列を取得し、その取得した露光点データ列 に基づいて露光ヘッド制御部 58から露光ヘッド 30の各マイクロミラー 30に制御信号 を出力して基板 12に露光パターンを露光するものである。
[0043] まずは、露光点データ取得部 56に予め記憶されるテンプレートデータおよびその 作成方法について説明する。
[0044] [テンプレートデータの作成方法]
まず、データ作成装置 40において、基板 12に露光される露光パターンを表すべク トルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの 露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パター ン Rは、図 6に示すように、（r、g、b)を表示するための 3つの TFTからなる LCD画素 Pが直交する方向に 2次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される 配線力もなる配線部とから構成される。なお、図 6においては、 rを表示するための TF Tを Tl、 gを表示するための TFTを T2、 bを表示するための TFTを Τ3で表し、配線 部を実線で表している。データ作成装置 40においては、図 6に示すような露光バタ ーン Rを表すベクトルデータが作成される。
[0045] そして、データ作成装置 40にお 、て作成されたベクトルデータは、画像処理部 50 に出力される。そして、画像処理部 50において、表示部を表わす表示部データと、 配線部を表わす配線部データとに分離される。そして、表示部データおよび配線部 データは、それぞれラスターデータに変換され、それぞれ一時記憶される。
[0046] そして、上記のようにして一時記憶された表示部データについて、テンプレートデー タが作成される。なお、本実施形態においては、配線部データについてはテンプレ ートデータを作成しな 、が、配線部データ力 露光点データを取得する方法にっ 、 ては後述する。
[0047] 画像処理部 50においては、図 7に示すように、表示部データ Dにおける LCD画素 データ PDと各マイクロミラー 38により露光される基板上の露光点の座標系とが対応 付けられ、 LCD画素データ PD内の所定の始点 s (xl,yl)力 所定の終点 e (xl,y2)ま でを結んだベクトル VIが設定され、そのベクトル VIの延長ベクトル Vlt上の LCD画 素データが、所定のサンプリングピッチでサンプリングされて部分露光点データ列が 取得される。なお、図 7における y方向は、マイクロミラー 38の基板 12に対する走査方 向に対応する方向であり、 X方向は上記走査方向に直交する方向に対応する方向で ある。つまり、ベクトル VIは、マイクロミラー 38の像が基板 12上を通過し得る軌跡の 一部である。
[0048] 具体的には、図 7に示すように、 1つの LCD画素データ内の 1つの始点 sに対して、 y方向について所定の長さ L0を有する基準ベクトル VIが設定され、その基準ベクトル VIの延長ベクトル Vlt上における LCD画素データ PDがサンプリングピッチ pitchijO でサンプリングされる。そして、さらに上記基準ベクトル VIの始点 sと、基準ベクトルの 終点 eを中心として y方向について所定の変動範囲 Wに位置する複数の終点 eとをそ れぞれ結んだベクトル VIが設定され、その設定された各ベクトル VIの延長ベクトル Vlt上における LCD画素データ PDがサンプリングピッチ pitch jでサンプリングされ、 各ベクトル Vlt毎にそれぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、本実施形態 にお 、ては、上記のように y方向に平行なベクトルのみをベクトル VIとして設定するも のとする。また、変動範囲 Wのサイズは、基板 12の変形の程度に応じて予め設定さ れているものとする。
[0049] なお、基準ベクトル VIの長さ L0、サンプリングされる露光点データ数 N、基準べタト ル VIのサンプリングピッチ pitch_y0、 y方向の変動幅 Ay、基準べクトノレ以外のベタト ル VIの露光点データの y方向のサンプリングピッチ pitch_yは、以下の様な関係にな る。
[0050] L0 = N X pitch j0 · · · (1)
Ay = y2 (yl+LO) · · · (2)
pitch j = pitch X (L0+ Ay)/L0 · · · (3)
具体的には、例えば、 N = 4096、 pitch = 0.75 μ m等となる。
[0051] また、延長ベクトル Vltとは、ベクトル VIの終点 e(xl,y2)をベクトル VIの終点側に延 長したベクトルであり、以下の関係で表すことができる。
[0052] Vlt = VI X ( 1 + k) · · · (4)
ここで、 k= (LCD画素データの y方向サイズ +余裕値 a ) /L0 · · (5) とすることが望ましい。
[0053] ただし、 k〉0は必須ではなぐ k=0(即ち Vlt=Vl)とすることも可能である。
[0054] そして、 1つの LCD画素データ PD中における全ての露光点の位置が始点 sとされ、 それぞれの始点 sについて、上記と同様に、所定の変動範囲 Wに位置する終点 eまで を結んだベクトル VIが設定され、その各ベクトル VIの延長ベクトル Vlt毎について それぞれ部分露光点データ列が取得される。なお、上記のようにして取得された部 分露光点データ列を、以下「トレースデータ」と 、う。
[0055] そして、 1つの LCD画素データ PD中の全ての始点 sの座標（xl,yl)とその始点 sに 結ばれた終点 eの変動量 Ayとの組み合わせについて、図 8に示すように、トレースデ ータ番号が付される。なお、上記変動量 Ayとは、上述したように、上記基準ベクトル の終点 eの位置を基準とした場合における、変動範囲 W内の各終点 eの y方向へのず れ量を示すものである。したがって、上記基準ベクトルの終点 eの変動量 Ayは 0という ことになる。
[0056] そして、図 8に示す対応関係と、表における各トレースデータ番号に対応するトレー スデータが、画像処理部 50から出力される。そして、図 8に示す対応関係は、露光点 データ情報取得部 54に設定され、各トレースデータは、図 9に示すように、それぞれ トレースデータ番号と対応付けられてテンプレートデータとしてまとめられ、露光点デ ータ取得部 56のテンプレート記憶部 56aに記憶される。
[0057] なお、上記のようにして各ベクトル VIについて取得されたトレースデータを互いに 比較し、全ての露光点データが一致するベクトル VI同士については、そのトレース データを共通化し、同じトレースデータ番号を付するようにすればよ!、。
[0058] また、本実施形態においては、始点 sと終点 eとを直線で結ぶようにした力 これに限 らず、たとえば、曲線で結んだり、もしくは折れ線で結んだりするようにしてもよい。
[0059] また、本実施形態においては、ラスターデータとされた表示部データ D力 ベクトル VIに対応する露光点データを取得するようにした力 必ずしもラスターデータにする 必要はなぐベクトルデータのままの表示部データ力 ベクトル VIに対応する露光点 データを取得するようにしてもょ 、。
[0060] また、本実施形態においては、上記のように y方向に平行なベクトル VIのみ設定し 、このベクトル VIに対応するトレースデータを予め記憶するようにした力 これに限ら ず、ベクトル VIの終点 eを X方向に変動させるようにしてもよい。そして、その各べタト ル VIについて、上記と同様にしてトレースデータを取得するとともに、終点 eの X方向 の変動量 Δχにも対応させてトレーデータ番号を付するようにすればよい。なお、 X方 向の変動量 Δχは、基板 12の変形の程度に応じて予め設定されるものであるが、想 定される基板の変形の程度よりも小さい量とすることが望ましい。つまり、ベクトル VI としては、後述するベクトル V3 (露光点データ軌跡情報）の y方向に対する傾きよりも 小さ 、傾きを有するベクトルを設定することが望まし 、。上記のようにベクトル VIを設 定することによってベクトル VIの数を削減することができ、トレースデータの容量を削 減することができる。
[0061] また、本実施形態においては、ベクトル VIの量子化幅は、実際に基板上に露光さ れる露光点の量子化幅、つまり、実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラ 一 38毎の露光軌跡の量子化幅と同じになるようにした力 ベクトル VIの量子化幅の 方をより粗くするようにしてもよい。たとえば、本実施形態においては、図 7において、 1つの LCD画素データ PD中における全ての露光点の位置を始点 sとするようにした 力 X方向について、 1列の露光点列おきに始点 sを設定するようにしてもよい。また、 y方向についても、 1列の露光点列おきに始点 sを設定するようにしてもよい。また、終 点 eの y方向への変動幅の量子化幅を、露光軌跡の量子化幅よりも粗くするようにして もよい。また、上記のように終点 eを X方向についても変動させる場合には、その X方向 への変動幅の量子化幅を、露光軌跡の量子化幅よりも粗くするようにしてもょ 、。
[0062] 上記のようにして量子化幅をより粗く設定することによってベクトル VIの数を減らす ことができ、これによりトレースデータの容量を削減することができる。
[0063] [露光点データ情報の取得]
そして、上記のようにしてテンプレート記憶部 56aに記憶されたテンプレートデータ は、露光点データ情報取得部 54にお 、て取得された露光点データ情報に基づ！/、て 読み出され、露光ヘッド制御部 58に出力されるが、次に、露光点データ情報取得部 54における露光点データ情報の取得について説明する。
[0064] まず、コントローラ 70が移動機構 60に制御信号を出力し、移動機構 60はその制御 信号に応じて移動ステージ 14を、図 1に示す位置力もガイド 20に沿ってー且上流側 の所定の初期位置まで移動させた後、下流側に向けて所望の速度で移動させる。な お、上記上流側とは、図 1における右側、つまりゲート 22に対してスキャナ 24が設置 されている側のことであり、上記下流側とは、図 1における左側、つまりゲート 22に対 してカメラ 26が設置されている側のことである。
[0065] そして、上記のようにして移動する移動ステージ 14上の基板 12が複数のカメラ 26 の下を通過する際、これらのカメラ 26により基板 12が撮影され、その撮影画像を表 す撮影画像データが検出位置情報取得部 51に入力される。検出位置情報取得部 5 1は、入力された撮影画像データに基づ！、て基板 12の基準マーク 12aの位置を示す 検出位置情報を取得する。基準マーク 12aの検出位置情報の取得方法については 、たとえば、円形状の画像を抽出することにより取得するようにすればよいが、他の如 何なる既知の取得方法を採用してもよい。また、上記基準マーク 12aの検出位置情 報は、具体的には座標値として取得される力 その座標系は各マイクロミラー 38によ り露光される露光点の座標系と同じである。
[0066] そして、上記のようにして取得された基準マーク 12aの検出位置情報は、検出位置 情報取得部 51から露光軌跡情報取得部 52に出力される。
[0067] そして、露光軌跡情報取得部 52において、入力された検出位置情報に基づいて、 実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラー 38毎の露光軌跡の情報が取 得される。具体的には、露光軌跡情報取得部 52には、各露光ヘッド 30の DMD36 の各マイクロミラー 38の像が通過する位置を示す通過位置情報力 各マイクロミラー 38毎に予め設定されている。上記通過位置情報は、移動ステージ 14上の基板 12の 設置位置に対する、各露光ヘッド 30の設置位置によって予め設定されているもので あり、複数のベクトルまたは複数点の座標値で表わされるものである。図 10に、プレス 工程などを経ていない理想的な形状の基板 12、つまり、歪などの変形が生じておら ず、基準マーク 12aが予め設定された基準マーク位置情報 12bの示す位置に配置し ている基板 12と、所定のマイクロミラー 38の通過位置情報 12cとの関係を示す模式 図を示す。なお、上記通過位置情報の座標系も、マイクロミラー 38により露光される 露光点の座標系と同じである。そして、上記通過位置情報 12cにおける複数の基準 点 12e (図 10に示す白丸）によって区切られるベクトル V2の長さと、上述した基準べ タトルの長さとは同じ長さに設定されている。
[0068] そして、露光軌跡情報取得部 52においては、図 11に示すように、通過位置情報 1 2cと検出位置情報 12dとが対応付けられ、通過位置情報 12cにおける各基準点 12e について、検出位置情報 12dとの位置関係が求められる。具体的には、たとえば、図 12に示すように、基準点 12eとその基準点 12eを囲む検出位置情報 12dとで決定さ れる矩形 Sa、 Sb、 Sc、 Sdの面積が求められる。そして、上記のような面積が、各基準 点 12eにつ 、てそれぞれ求められ、露光軌跡情報として露光点データ軌跡情報取得 部 53に出力される。なお、上記のような露光軌跡情報は、各マイクロミラー 38の通過 位置情報 12c毎に求められ、露光点データ軌跡情報取得部 53に出力される。
[0069] そして、露光点データ軌跡情報取得部 53は、上記のようにして入力された露光軌 跡情報に基づ 、て、その露光軌跡情報に対応する露光点データ軌跡情報を取得す る。
[0070] 具体的には、露光点データ軌跡取得部 53には、図 13に示すように、露光画像デ ータの座標系における基準マーク 12aの位置情報 12fが予め設定されており、以下 の式 (6)を満たすようなトレース点 12gの座標が、各基準点 12eにつ 、てそれぞれ求 められる。そして、図 13に示すように、各トレース点 12gを結んだベクトル V3の情報 が露光点データ軌跡情報として露光点データ情報取得部 54に出力される。
[0071] Sa : Sb : Sc : Sd=Ta:Tb :Tc :Td · · · (6)
そして、露光点データ情報取得部 54は、入力された各ベクトル V3の情報に基づい て、露光点データ情報を取得する。
[0072] 具体的には、露光点データ情報取得部 54は、各ベクトル V3の始点と終点の座標 値を取得し、その座標値を、 1つの LCD画素データ中の露光点の座標系における座 標値に相対変換し、その相対変換された始点と終点の座標値に基づ 、て終点の変 動量（Δχ, Δγ)を求める。
[0073] そして、図 8に示す対応関係に基づいて、各ベクトル V3について、それぞれ対応 するトレースデータ番号を取得する。
[0074] 具体的には、まず、ベクトル V3とその始点の座標値が一致するとともに、その終点 の変動量 Ayがー致するトレースデータ番号を取得する。たとえば、ベクトル V3が、 図 14に示すようなベクトルである場合には、ライン iに対応するトレースデータ番号を 取得する。なお、図 14は、 LCD画素データ中の露光点の座標系とベクトル V3とを対 応付けたものである。また、ライン iは y方向に平行に延びるラインである。
[0075] そして、さらに、たとえば、 Δχが +2である場合には、ライン i+1およびライン i+2に対応 するトレースデータ番号が取得される。つまり、ベクトル V3の始点の y座標と同じ y座 標を有するとともに、ベクトル V3の始点の X座標に 1および 2を加算した始点の X座標 を有するトレースデータ番号であって、変動量 Δ yがベクトル V3の変動量 Δ yと同じト レースデータ番号が取得される。 [0076] そして、さらに、上記のようにして取得されたライン i、ライン i+l、およびライン i+2に対 応する各トレースデータ番号について、それぞれトレースデータの読出長、および読 出位置が取得される。図 14に示す斜線部分の y方向についての長さが読出長であり 、 y0、 ylおよび y2が読出位置である。なお、読出長および読出位置は、ベクトル V3の 変動量（ Δχ, Ay)に応じて決定されるものであり、予め設定された決定方法に従って 取得されるものとする。また、読出位置は、トレースデータの先頭ビットからのビット数 で取得され、読出長は、図 14に示す斜線部分の長さに応じたビット数で取得されるも のとする。なお、本実施形態においては、 y0は必ず 0となるので、必ずしも取得しなく てもよい。
[0077] そして、上記のようにして取得された各トレースデータ番号、読出位置および読出 長に基づいて、図 15に示すようなデータ構造で表される露光点データ情報が取得さ れる。
[0078] なお、露光点データ情報は、図 15に示すように、フラグ 1〜3を有している。そして、 このフラグ 1〜3は、その後に続くトレースデータ番号が存在する場合には 1とし、存在 しない場合には 0とする。また、本実施形態においては読出位置 y0は必ず 0となるの で、読出位置 y0は必ずしも設けなくてもよい。
[0079] そして、図 15に示すような露光点データ情報が各ベクトル V3毎に取得され、その 露光点データ情報は露光点データ取得部 56に出力される。
[0080] なお、露光点データ情報のデータ構造は、図 15に示すようなデータ構造に限らず 、たとえば、ライン i+1およびライン i+2に対応するトレースデータ番号については、図 1 6に示すように、ライン iに対応するトレースデータ番号に対する相対番号とするように してもよい。たとえば、ベクトル V3が、図 14に示すようなベクトルである場合には、相 対番号は +1および +2となる。露光点データ情報を図 16に示すようなデータ構造とす ることによりその使用ビット数を低減することができる。なお、トレースデータ番号は、 始点の X座標値および変動量 Δ yが同じトレースデータについて続き番号で付されて いるものとする。
[0081] また、本実施形態においては、上述したように、 y方向に平行なベクトル VIのみ設 定し、このベクトル VIに対応するトレースデータ番号を取得するようにしたため、上記 のようにベクトル V3とその始点の座標値が一致するとともに、その終点の変動量 Δ y がー致するトレースデータ番号を 1つ特定することができる力 たとえば、ベクトル VI の終点を X方向についても変動させてトレースデータ番号およびトレースデータを取 得するようにした場合には、上記のようにベクトル V3とその始点の座標値が一致する とともに、その終点の変動量 Δ yがー致するトレースデータ番号は複数存在すること になる。したがって、上記のようにベクトル VIの終点を X方向についても変動させてト レースデータ番号を取得するようにした場合には、たとえば、ベクトル V3の傾きにより 近 ヽ傾きを有するトレースデータ番号を特定するようにすればょ ヽ。
[0082] また、本実施形態においては、上述したように、 1つの LCD画素データ中における 全ての露光点の位置を始点 sとし、その始点 sについてベクトル VIを設定してトレース データを取得するようにした力 たとえば、始点 sの y方向についての位置を、図 17に 示す斜線部のみにしてトレースデータの数を削減するようにしてもよい。なお、トレー スデータとして上記延長ベクトル Vltの長さを持たせるものとする。
[0083] そして、上記のようにしてトレースデータの数を削減した場合、ベクトル V3の始点の 座標が、たとえば、図 17に示す位置である場合、その始点の座標値と同じ座標値を 有するトレースデータ番号が存在しな ヽこと〖こなる。
[0084] そこで、上記のような場合には、たとえば、図 18に示すように、始点 P1および終点 P 2によって表されるベクトル V3を始点 P1側に延長し、その延長線上における、図 8に 示す対応関係に存在する始点 POを求める。そして、始点 POと始点の座標値が一致 し、かつ変動量 Ayの値が、ベクトル V3の変動量 Ayと一致するトレースデータ番号を 取得する。たとえば、ベクトル V3が、図 19に示すようなベクトルである場合には、ライ ン jに対応するトレースデータ番号を取得する。
[0085] そして、さらに、たとえば、 Δχが +2である場合には、ライン j+1およびライン j+2に対応 するトレースデータ番号が取得される。つまり、始点 POの y座標と同じ y座標を有する とともに、始点 POの X座標に 1および 2を加算した始点の X座標を有し、かつ変動量 Ay の値が上記ベクトル V3の変動量 Ayと一致するトレースデータ番号が取得される。
[0086] そして、上記と同様に、ライン j、ライン j+l、およびライン j+2に対応する各トレースデ ータ番号について、それぞれトレースデータの読出長、および読出位置が取得され る。
[0087] [露光点データの取得]
次に、上記のようにして露光点データ情報取得部 54において取得された各べタト ル V3の露光点データ情報に基づ 、て、表示部データにおける露光点データを取得 する方法を説明する。
[0088] まず、露光点データ取得部 56には、上述したように、図 9に示すようなテンプレート データがテンプレート記憶部 56aに記憶されている。そして、上記のようにして各べク トル V3に対応する露光点データ情報が入力されると、露光点データ情報の先頭の 情報から順次解読する。つまり、まず、ライン iに対応するトレースデータ番号を取得し 、その読出位置 yOおよび読出長 L1を取得し、フラグが 1であることを検出して、その後 のライン i+1に対応するトレースデータ番号を読みに行く。そして、さらに、ライン i+1に 対応するトレースデータ番号を取得し、その読出位置 ylおよび読出長 L2を取得し、 フラグが 1であることを検出して、その後のライン i+2に対応するトレースデータ番号を 読みに行く。そして、さらに、ライン i+2に対応するトレースデータ番号を取得し、その 読出位置 y2および読出長 L3を取得し、フラグが 0であることを検出することによって 1 つの露光点データ情報が終了したことを認識する。
[0089] そして、上記のようにして取得した露光点データ情報における各トレースデータ番 号のトレースデータを選択し、その選択した各トレースデータについて、露光点デー タ情報の読出位置力 読出長分だけ露光点データを読み出す。なお、読出位置が 0 の場合は、トレースデータは先頭力も読み出される。また、トレースデータ番号とトレ ースデータの記憶領域との関係については、たとえば、図 20に示すような、トレース データ番号とそのトレースデータ番号のトレースデータが記憶された記憶領域の先頭 アドレスとの対応関係を予め設定しておくようにすればよぐ露光点データ情報にお ける読出位置と上記先頭アドレスに基づいて、読出開始アドレスが取得され、その読 出開始アドレス力 露光点データの読出しが開始される。
[0090] そして、上記のようして読み出された各トレースデータの露光点データを繋ぎ合わ せることによってベクトル V3に対応する露光点データが取得される。
[0091] そして、上記のようにして各ベクトル V3について、それぞれ露光点データを取得し 、これらを繋ぎ合わせることによって 1つのマイクロミラー 38の露光点データ軌跡に対 応した露光点データ列が取得される。
[0092] そして、上記と同様にして、各マイクロミラー 38毎の通過位置情報と検出位置情報 とに基づいて、各マイクロミラー 38毎の表示部データ上における露光点データ軌跡 情報が求められ、その各マイクロミラー 38毎の露光点データ軌跡情報に基づいて露 光点データ情報が求められ、その各マイクロミラー 38毎の露光点データ情報に基づ いてトレースデータが読み出されて各マイクロミラー 38毎の露光点データ列が取得さ れる。
[0093] ここまで表示部データ力 の露光点データの取得について説明した力 次に、配線 部データにおける露光点データを取得する方法について説明する。
[0094] 上述したように、配線部データはラスター変換されて画像処理部 50に一時記憶さ れてある。そして、画像処理部 50に一時記憶された配線部データは、サンプリングデ ータ取得部 55に出力される。また、上記のようにして露光点データ軌跡情報取得部 5 3において取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データ軌跡情報もサンプリング データ取得部 55に出力される。そして、サンプリングデータ取得部 55は上記露光点 データ軌跡情報の各ベクトル V3と配線部データとを対応付け、各ベクトル V3上の配 線部データを所定のサンプリングピッチでサンプリングして露光点データとして読み 出す。そして、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データ列 を露光点データ取得部 56に出力する。なお、配線部データにおける表示部データ に該当する部分は 0データになっているものとする。
[0095] そして、露光点データ取得部 56において、トレースデータを読み出すことによって 取得された、表示部データについての各マイクロミラー 38毎の露光点データ列と、サ ンプリングデータ取得部 56において取得された、配線部データについての各マイク 口ミラー 38毎の露光点データ列とが合成されて、液晶ディスプレイの露光パターン R を表す、各マイクロミラー 38毎の露光点データ列が生成される。なお、上記合成は、 各マイクロミラー 38毎の露光点データ軌跡情報にっ 、て、トレースデータを読み出す ことによって取得された露光点データ列とサンプリングデータ取得部 56において取 得された露光点データ列との論理和を演算することによって行われる。 [0096] [露光]
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データに基づい て基板 12上に露光する方法について説明する。
[0097] 上記のようにして取得された各マイクロミラー 38毎の露光点データは露光ヘッド制 御部 58に出力される。そして、上記出力とともに移動ステージ 14力 再び上流側に 所望の速度で移動させられる。
[0098] そして、基板 12の先端力 Sカメラ 26により検出されると露光が開始される。具体的に は、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30の DMD36に上記露光点データに基 づいた制御信号が出力され、露光ヘッド 30は入力された制御信号に基づいて DMD 36のマイクロミラーをオン ·オフさせて基板 12を露光する。
[0099] なお、露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30へ制御信号が出力される際には、 基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に対応した制御信号が、移動ステージ 14 の移動にともなって順次露光ヘッド制御部 58から各露光ヘッド 30に出力される力 こ のとき、たとえば、図 21に示すように、各マイクロミラー 38毎に取得された L個の露光 点データ列の各列から、各露光ヘッド 30の各位置に応じた露光点データを 1つずつ 順次読み出して各露光ヘッド 30の DMD36に出力するようにしてもょ 、し、図 21に 示すように取得された露光点データに 90度回転処理もしくは行列を用いた転置変換 などを施し、図 22に示すように、基板 12に対する各露光ヘッド 30の各位置に応じた フレームデータ 1〜Lを生成し、このフレームデータ 1〜Lを各露光ヘッド 30に順次出 力するようにしてちょい。
[0100] そして、移動ステージ 14の移動にともなって順次各露光ヘッド 30に制御信号が出 力されて露光が行われ、基板 12の後端力 Sカメラ 12により検出されると露光が終了す る。
[0101] なお、上記説明においては、プレス工程などにおいて変形した基板 12に露光する 際の露光点データの取得方法について説明したが、変形してない理想的な形状の 基板 12に露光する際についても、上記と同様の方法を採用して露光点データを取 得することができる。たとえば、各マイクロミラー 38毎に予め設定された上記通過位置 情報に対応する露光点データ軌跡の情報を取得し、その取得した露光点データ軌 跡情報に基づいて露光点データ情報を取得し、その露光点データ情報に基づいてト レースデータを読み出すようにすればよい。なお、上記の場合、ベクトル V3の変動量 ( Δχ, ΔΥ)は 0になるので、露光点データ情報は、ベクトル V3の始点の座標値と同じ 座標値の始点を有するトレースデータ番号のみということになる。
[0102] また、上記実施形態においては、基板 12上における基準マーク 12aを検出し、そ の検出位置情報に基づいて、実際の露光の際における基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡情報を取得するようにした力 これに限らず、たとえば、移動ステージ 14のステージ移動方向と直交する方向へのずれ情報を取得するずれ情報取得手段 を設け、そのずれ情報取得手段に取得されたずれ情報に基づいて、実際の露光の 際における基板 12上の各マイクロミラー 38の露光軌跡情報を取得し、その露光軌跡 情報に基づ 、てベクトル V3からなる露光点データ軌跡情報を取得し、各ベクトル V3 について、上記と同様にして露光点データを取得するようにしてもよい。なお、上記 ずれ情報は、ずれ情報取得手段に予め設定しておけばよい。ずれ情報の計測方法 としては、たとえば、 ICゥエーハ'ステッパー装置などで利用されるレーザ光を用いた 測定方法を用いることができる。たとえば、移動ステージ 14に、ステージ移動方向に 延びる反射面を設けるとともに、その反射面に向けてレーザ光を射出するレーザ光 源および上記反射面において反射した反射光を検出する検出部を設け、移動ステ ージ 14の移動にともなって、反射光の位相ずれを順次検出部により検出することに よって上記ずれ量を計測することができる。
[0103] また、移動ステージ 14のョーイングも考慮して露光軌跡情報を取得するようにして ちょい。
[0104] また、基準マーク 12aの検出位置情報と上記ずれ情報との両方を考慮して露光軌 跡情報を取得するようにしてもょ 、。
[0105] また、露光軌跡情報を曲線または折れ線などで取得するようにしてもよぐ上記のよ うに露光軌跡情報を曲線または折れ線で取得するようにした場合には、図 13に示す 各トレース点 12gを、上記露光軌跡情報に対応させて折れ線で結びベクトル V3を設 定するようにしてもよい。そして、上記のようにベクトル V3を折れ線で取得するようにし た場合には、図 23に示すように、たとえば、ベクトル V3を 2つの線分ベクトル V31お よび線分ベクトル V32に分割し、この線分ベクトル V31および線分ベクトル V32につ いて、それぞれ上記と同様にして露光点データを取得するようにすればよい。
[0106] また、基板 12の移動の速度変動情報を予め取得する速度変動情報取得手段を設 け、速度変動情報取得手段 90により取得された速度変動情報に基づいて、基板 12 の移動の速度が遅 、基板 12上の領域ほど露光点データの密度が大となるように、上 記基準ベクトルのサンプリングピッチ pitch j0を小とし、露光点データを取得するよう にしてもよい。なお、上記基板 12の移動の速度変動情報とは、移動ステージ 14の移 動機構 60の制御精度に応じて発生する移動速度のムラである。
[0107] また、上記実施形態では、 LCD画素データ PDが y方向に繰り返して配置された表 示部データの露光点データを、トレースデータを利用して取得する方法を説明したが 、露光点データを取得する対象である原画像データは必ずしも表示部データのよう なデータ構造でなくてもよい。ただし、その場合には、ベクトル VIの始点 sとしては、 上記のように 1つの LCD画素データ PD中における始点 sだけでなぐ原画像データ 全体における露光点の位置を始点 sとしてベクトル VIを設定し、そのベクトル VIに対 応するトレースデータを取得する必要がある。なお、ベクトル VIの終点 eの設定の方 法については上記と同様である。そして、ベクトル V3に対応するトレースデータを取 得する際には、上記のようにベクトル V3の始点 sおよび終点 eの座標を相対変換する ことなく、ベクトル V3の始点 sおよび終点 eの座標をそのまま利用して、上記と同様に してトレースデータを取得するようにすればよ 、。
[0108] また、上記実施形態では、空間光変調素子として DMDを備えた露光装置にっ 、 て説明したが、このような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子を 使用することちできる。
[0109] また、上記実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの露光装置を例に挙げたが 、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの露光装 置としてもよい。
[0110] また、上記実施形態の露光対象である基板 12は、プリント配線基板だけでなぐフ ラットパネルディスプレイの基板であってもよい。また、基板 12の形状は、シート状の ものであっても、長尺状のもの（フレキシブル基板など）であってもよい。 [0111] また、本発明における描画方法および装置は、インクジェット方式などのプリンタに おける描画にも適用することができる。たとえば、インクの吐出による描画点を、本発 明と同様に形成することができる。つまり、本発明における描画点形成領域を、インク ジェット方式のプリンタの各ノズルから吐出されたインクが付着する領域として考える ことができる。
[0112] また、本発明における描画軌跡情報は、実際の基板上における描画点形成領域の 描画軌跡を用いて描画軌跡情報としてもよ!ヽし、実際の基板上における描画点形成 領域の描画軌跡を近似したものを描画軌跡情報としてもょ 、し、実際の基板上にお ける描画点形成領域の描画軌跡を予測したものを描画軌跡情報としてもよい。
[0113] また、テンプレートイ匕する画像パターンは、繰り返しパターン以外に、離散的に何度 も現れる画像であってもよ 、。
[0114] また、テンプレートイ匕する画像パターンは、デジタル的に一致したパターンでなくて も、実質上同一のものと近似できるパターンであってもよい。例えば、露光時の誤差 の範囲の相違は、無視するようにしてもよい。
[0115] また、テンプレートイ匕する繰り返しパターンは、複数種類の画像パターンが繰り返し 現れるものであってもよい。この場合、画像パターンの種類毎にテンプレートを作成 するようにしてもよいし、画像パターンの並び方に規則性がある場合には、その並び 方の種類毎にテンプレートイ匕を行ってもよい。
[0116] また、露光対象を LSIとしてもよぐその場合メモリセル等の同一パターンをテンプレ ー卜ィ匕することちできる。

Claims

請求の範囲
描画データに基づ ヽて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対 的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して 画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法に おいて、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の 情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向にっ 、て互いに異なる位置 にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データと を対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応 する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応 した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点デー タ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の 情報を取得し、
該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ 上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌 跡の情報を取得し、
前記複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち前記取得した描画点データ軌跡情 報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択し た仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画 点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データ を前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特 定し、
前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づ!、て、前記特定し た各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、 該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応 した前記描画データを取得することを特徴とする描画データ取得方法。
[2] 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡 情報のみ設定することを特徴とする請求項 1記載の描画データ取得方法。
[3] 前記複数の仮想描画軌跡情報を、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子 化幅よりも粗い量子化幅で設定することを特徴とする請求項 1または 2記載の描画デ ータ取得方法。
[4] 前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、
前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点デ ータ軌跡として取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎にっ 、て、前記複数の仮想描画点デ ータ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す 各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範 囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データ を前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特 定し、
前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づ！/ヽて、前記特 定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に 対応した前記描画データを取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づいて前記描画点 データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする請求項 1から 3い ずれか 1項記載の描画データ取得方法。
[5] 請求項 1から 4 、ずれか 1項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取 得し、該取得した描画データに基づ ヽて前記基板上に画像を描画することを特徴と する描画方法。
[6] 描画データに基づ!/ヽて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対 的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して 画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置に おいて、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の 情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向にっ 、て互いに異なる位置 にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データと を対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応 する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌 跡情報取得部と、
該仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点デー タ軌跡情報に基づいて前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前 記原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、
該仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶 する仮想描画データ記憶部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定 された対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の 情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部よつて取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対 応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報 に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、 前記仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点デ ータ軌跡情報のうち、前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点 データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとと もに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡にお ける前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮 想描画点データ軌跡情報選択部と、
該仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点デー タ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記 憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記描画点データ軌跡情報に対 応する範囲を示す情報に基づ!、て、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ 部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づ!ヽて前記 描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得する描画データ取得部と を備えたことを特徴とする描画データ取得装置。
[7] 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡 情報のみ設定されていることを特徴とする請求項 1記載の描画データ取得装置。
[8] 前記複数の仮想描画軌跡情報が、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子 化幅よりも粗い量子化幅で設定されていることを特徴とする請求項 1または 2記載の 描画データ取得装置。
[9] 前記描画軌跡情報取得部が、前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得するもの であり、
前記描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡を前記曲線または 折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得するものであり、 前記仮想描画点データ軌跡情報選択部が、前記描画点データ軌跡情報取得部よ つて取得された各部分描画点データ軌跡情報毎にっ 、て、前記複数の仮想描画点 データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示 す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する 範囲を示す情報をそれぞれ取得するものであり、
前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択 された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対 応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前 記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づ 、て、前記特定し た各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部 分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描 画データを取得するものであることを特徴とする請求項 1から 3いずれか 1項記載の 描画データ取得方法。 請求項 6から 9いずれか 1項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づ!、て前記基 画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
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