JP2007094033A - 描画データ取得方法および装置並びに描画方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光ヘッド30のマイクロミラーの基板12上の仮想的な描画軌跡の情報に対応する、原画像データ上の仮想露光点データ軌跡の情報を複数取得し、その仮想描画点データ軌跡に対応したトレースデータを原画像データからそれぞれ取得して予めテンプレート記憶部56aに記憶し、実際の露光の際の基板12上におけるマイクロミラーの露光軌跡の情報に対応する複数の仮想露光点データ軌跡情報を特定し、その特定された複数の仮想露光点データ軌跡情報に対応するトレースデータを、実際の露光軌跡情報に対応した露光点データとして取得する。
【選択図】図5
Description
複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを原画像データからそれぞれ取得し、その取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係を予め設定し、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、その取得した描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち上記取得した描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、上記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする。
仮想描画点データ軌跡情報と仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、画像の描画の際の基板上における描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、描画軌跡情報取得部よって取得された描画軌跡情報と原画像データとを対応付けて原画像データ上における描画点形成領域の描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち、描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、その選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報選択部と、仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する仮想描画データを上記対応関係に基づいて予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、上記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、その取得した各部分仮想描画データに基づいて描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする。
まず、データ作成装置40において、基板12に露光される露光パターンを表すベクトルデータが作成される。なお、本実施形態の説明においては、液晶ディスプレイの露光パターンを表わすベクトルデータが作成される。液晶ディスプレイの露光パターンRは、図6に示すように、(r、g、b)を表示するための3つのTFTからなるLCD画素Pが直交する方向に2次元状に多数配列された表示部と、その表示部に接続される配線からなる配線部とから構成される。なお、図6においては、rを表示するためのTFTをT1、gを表示するためのTFTをT2、bを表示するためのTFTをT3で表し、配線部を実線で表している。データ作成装置40においては、図6に示すような露光パターンRを表すベクトルデータが作成される。
Δy = y2 −(y1+L0) ・ ・ ・ (2)
pitch_y = pitch_y0 × (L0+Δy)/L0 ・ ・ ・ (3)
具体的には、例えば、N = 4096、pitch_y0 = 0.75μm等となる。
ここで、k=(LCD画素データのy方向サイズ+余裕値α)/L0 ・ ・ (5)
とすることが望ましい。
そして、上記のようにしてテンプレート記憶部56aに記憶されたテンプレートデータは、露光点データ情報取得部54において取得された露光点データ情報に基づいて読み出され、露光ヘッド制御部58に出力されるが、次に、露光点データ情報取得部54における露光点データ情報の取得について説明する。
そして、露光点データ情報取得部54は、入力された各ベクトルV3の情報に基づいて、露光点データ情報を取得する。
次に、上記のようにして露光点データ情報取得部54において取得された各ベクトルV3の露光点データ情報に基づいて、表示部データにおける露光点データを取得する方法を説明する。
次に、上記のようにして取得された各マイクロミラー38毎の露光点データに基づいて基板12上に露光する方法について説明する。
12 基板
12a 基準マーク
12b 基準マーク位置情報
12c 通過位置情報
12d 検出位置情報
14 移動ステージ
18 設置台
20 ガイド
22 ゲート
24 スキャナ
26 カメラ
30 露光ヘッド
32 露光エリア
36 DMD
50 画像処理部(仮想描画点データ軌跡情報取得部、仮想描画データ取得部)
51 検出位置情報取得部
52 露光軌跡情報取得部(描画軌跡情報取得部)
53 露光点データ軌跡情報取得部(描画点データ軌跡情報取得部)
54 露光点データ情報取得部(対応関係設定部、仮想描画点データ軌跡情報選択
部)
55 サンプリングデータ取得部
56 露光点データ取得部(描画データ取得部)
56a テンプレート記憶部(仮想描画データ記憶部)
Claims (10)
- 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、
前記複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち前記取得した描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得することを特徴とする描画データ取得方法。 - 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定することを特徴とする請求項1記載の描画データ取得方法。
- 前記複数の仮想描画軌跡情報を、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定することを特徴とする請求項1または2記載の描画データ取得方法。
- 前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、
前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の描画データ取得方法。 - 請求項1から4いずれか1項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
- 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
該仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、
該仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶する仮想描画データ記憶部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部よって取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち、前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報選択部と、
該仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。 - 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定されていることを特徴とする請求項1記載の描画データ取得装置。
- 前記複数の仮想描画軌跡情報が、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定されていることを特徴とする請求項1または2記載の描画データ取得装置。
- 前記描画軌跡情報取得部が、前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得するものであり、
前記描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得するものであり、
前記仮想描画点データ軌跡情報選択部が、前記描画点データ軌跡情報取得部よって取得された各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得するものであり、
前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の描画データ取得方法。 - 請求項6から9いずれか1項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
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