JP2007094033A5 - - Google Patents
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- 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得方法において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得し、
該複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて該仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得し、
該取得した複数の仮想描画データを予め記憶するとともに、前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係を予め設定し、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得し、
該取得した描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得し、
前記複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち前記取得した描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得することを特徴とする描画データ取得方法。 - 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定することを特徴とする請求項1記載の描画データ取得方法。
- 前記複数の仮想描画軌跡情報を、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定することを特徴とする請求項1または2記載の描画データ取得方法。
- 前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得した場合には、
前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得し、
前記選択した複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、
前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、
該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得し、
該取得した各部分描画点データ軌跡情報毎の描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した描画データを取得することを特徴とする請求項1から3いずれか1項記載の描画データ取得方法。 - 請求項1から4いずれか1項記載の描画データ取得方法を用いて描画データを取得し、該取得した描画データに基づいて前記基板上に画像を描画することを特徴とする描画方法。
- 描画データに基づいて描画点を形成する描画点形成領域を、基板に対して相対的に移動させるとともに、該移動に応じて前記描画点を前記基板上に順次形成して画像を描画する際に用いられる前記描画データを取得する描画データ取得装置において、
予め設定された前記基板上における前記描画点形成領域の仮想的な描画軌跡の情報であって、前記相対的移動の方向に直交する方向について互いに異なる位置にある始点を有する複数の仮想描画軌跡情報と前記画像を表わす原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記複数の仮想描画軌跡情報に対応する複数の仮想描画点データ軌跡の情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報取得部と、
該仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報に基づいて前記仮想描画点データ軌跡に対応した仮想描画データを前記原画像データからそれぞれ取得する仮想描画データ取得部と、
該仮想描画データ取得部によって取得された複数の仮想描画データを予め記憶する仮想描画データ記憶部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報と前記仮想描画データとの対応関係が予め設定された対応関係設定部と、
前記画像の描画の際の前記基板上における前記描画点形成領域の描画軌跡の情報を取得する描画軌跡情報取得部と、
該描画軌跡情報取得部よって取得された描画軌跡情報と前記原画像データとを対応付けて前記原画像データ上における前記描画点形成領域の前記描画軌跡情報に対応する描画点データ軌跡の情報を取得する描画点データ軌跡情報取得部と、
前記仮想描画点データ軌跡情報取得部によって取得された複数の仮想描画点データ軌跡情報のうち、前記描画点データ軌跡情報取得部によって取得された描画点データ軌跡情報に対応する前記複数の仮想描画点データ軌跡情報を選択するとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得する仮想描画点データ軌跡情報選択部と、
該仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得する描画データ取得部とを備えたことを特徴とする描画データ取得装置。 - 前記複数の仮想描画軌跡情報として前記相対的移動方向に平行な仮想描画軌跡情報のみ設定されていることを特徴とする請求項6記載の描画データ取得装置。
- 前記複数の仮想描画軌跡情報が、前記描画軌跡情報の前記基板上における量子化幅よりも粗い量子化幅で設定されていることを特徴とする請求項6または7記載の描画データ取得装置。
- 前記描画軌跡情報取得部が、前記描画軌跡を曲線または折れ線で取得するものであり、
前記描画点データ軌跡情報取得部が、前記描画点データ軌跡を前記曲線または折れ線に対応した複数の部分描画点データ軌跡として取得するものであり、
前記仮想描画点データ軌跡情報選択部が、前記描画点データ軌跡情報取得部よって取得された各部分描画点データ軌跡情報毎について、前記複数の仮想描画点データ軌跡情報の選択を行うとともに、該選択した仮想描画点データ軌跡情報が示す各仮想描画点データ軌跡における前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報をそれぞれ取得するものであり、
前記描画データ取得部が、前記仮想描画点データ軌跡情報選択部によって選択された複数の仮想描画点データ軌跡情報に対応する前記仮想描画データを前記対応関係に基づいて前記予め記憶された複数の仮想描画データの中から特定し、前記部分描画点データ軌跡情報に対応する範囲を示す情報に基づいて、前記特定した各仮想描画データからそれぞれ部分仮想描画データを取得し、該取得した各部分仮想描画データに基づいて前記部分描画点データ軌跡情報に対応した前記描画データを取得するものであることを特徴とする請求項6から8いずれか1項記載の描画データ取得装置。 - 請求項6から9いずれか1項記載の描画データ取得装置と、
前記描画データ取得装置により取得された描画データに基づいて前記基板上に画像を描画する描画手段とを備えたことを特徴とする描画装置。
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