TWI648603B - 描繪裝置及描繪方法 - Google Patents

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北村清志
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日商斯庫林集團股份有限公司
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Abstract

描繪裝置(1)之光調變部(46)，係對來自光源(43)之光進行調變。掃描機構(2)係在基板(9)上掃描藉由光調變部(46)而調變之光。控制部(6)根據描繪資料控制光調變部(46)及掃描機構(2)，以執行對基板(9)之描繪。控制部(6)具備記憶部及資料生成部。關於顯示基板(9)之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率，記憶部係預先記憶對以各伸縮率伸縮之基板(9)進行描繪之情況之圖像的掃描長度資料(run-length data)而作為複數個之初始描繪資料。資料生成部係利用選擇描繪資料生成上述描繪資料，該選擇描繪資料，係根據基板(9)之實際的伸縮率而自複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料。藉此，可迅速且精度良好地對產生伸縮之基板(9)進行描繪。

Description

描繪裝置及描繪方法
本發明係關於一種在對象物上描繪圖像之技術。
習知，藉由對形成於半導體基板、印刷電路基板或者電漿顯示裝置或液晶顯示裝置用之玻璃基板等(以下，稱為「基板」)之感光材料照射光，而進行圖案之描繪。近年來，伴隨圖案之高精細化，利用有一種描繪裝置，其係於感光材料上掃描經調變之光束而直接描繪圖案。
上述之描繪裝置中，於基板產生有翹曲、畸形、應變等變形之情況下，配合基板之變形而補正描繪資料。描繪資料之補正，通常藉由測量設置於基板上之對準標記等的記號之位置，且根據測量結果計算出基板上之各位置之位移之後，使各位置之描繪資料與該位移整合而進行。
例如，於日本專利第5752967號公報(文獻1)中，提出有一種自描繪圖案之襯底圖案求得偏移量而補正描繪資料時，對應於較像素尺寸小之偏移量而對描繪資料進行補正之技術。具體而言，於文獻1之描繪裝置中，自第1柵格化開始位置將以向量資料記述之描繪圖案柵格化而取得第1描繪資料。此外，自第2柵格化開始位置將描繪圖案柵格化而取得第2描繪資料，其中，該第2柵格化開始位置，係自第1柵格化開始位置位移了較像素尺寸小之位 移量之位置。然後，選擇第1描繪資料及第2描繪資料中之與用以補正相對於襯底圖案之位置偏移之補正量對應之描繪資料，且根據該補正量進行補正。
此外，於不是此種之襯底圖案之局部應變(亦即，非線形應變)，而是產生有基板整體之伸縮(亦即，線形應變)之情況下，於習知之描繪裝置中進行機械式之補正。具體而言，調整在感光材料上進行掃描之光束之調變間隔，並且，調整光束之掃描區域之寬度方向上之步進移動之間隔。藉此，使描繪於基板上之圖案縱橫伸縮。
然而，於薄膜基板、印刷電路基板、樹脂基板或金屬基板等之伸縮較大之基板中，於如上述之描繪裝置之機械性補正中，存在有不能與基板之伸縮對應之情況。
本發明係應用於將圖像描繪在對象物上之描繪裝置，其目的在於迅速地對產生伸縮之對象物進行描繪。本發明還可應用於將圖像描繪在對象物上之描繪方法。
本發明之描繪裝置，其具備：光源；光調變部，其對來自上述光源之光進行調變；掃描機構，其在對象物上掃描藉由上述光調變部而調變之光；及控制部，其根據描繪資料控制上述光調變部及上述掃描機構，藉此執行對上述對象物之描繪；上述控制部具備：記憶部，其針對顯示上述對象物之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率，預先記憶對以各伸縮率伸縮之上述對象物進行描繪之情況之圖像的掃描長度資料，作為複數個之初始描繪資料；及資料生成部，其利用選擇描繪資料生成上述描繪資料，該選擇描繪 資料，係根據上述對象物之實際的伸縮率而自上述複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料。根據該描繪裝置，可迅速地對產生伸縮之對象物進行描繪。
於本發明之一較佳實施形態中，進而具備攝像部，其拍攝位於上述對象物上之複數個記號，上述控制部進而具備伸縮率取得部，該伸縮率取得部係根據上述攝像部之攝像結果，取得上述複數個記號之測量位置，且比較上述複數個記號之上述測量位置與設計位置，藉以取得上述對象物之實際伸縮率。
於本發明之另一較佳實施形態中，於上述資料生成部中，假定利用與上述基準狀態對應之初始描繪資料而生成上述描繪資料之情況下，於上述複數之伸縮率內包含有較藉由下述間隔之變更而可描繪之上述對象物之伸縮率大之伸縮率，上述間隔之變更包含：利用上述掃描機構進行之朝主掃描方向掃描時利用上述光調變部進行之調變間隔之變更、及利用上述掃描機構進行之朝上述主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域在副掃描方向上之間隔之變更。
於本發明之又一較佳實施形態中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，上述資料生成部於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
更佳為，利用上述資料生成部進行之分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
於本發明之再一較佳實施形態中，於上述複數個初始描繪資料內不包含與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資 料之情況，中止對上述對象物之描繪且開始進行對其他之對象物之描繪，在與對其他之對象物之描繪同步地生成與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資料之後，進行對上述對象物之描繪。
上述目的及其他之目的、特徵、態樣及益處，根據以下進行之本發明之詳細之說明，且參照所附之圖式自可明瞭。
1‧‧‧描繪裝置
2‧‧‧掃描機構
3‧‧‧基板保持部
4‧‧‧光照射部
5‧‧‧攝像部
6‧‧‧控制部
9‧‧‧基板
11‧‧‧基台
12‧‧‧框架
23‧‧‧副掃描機構
24‧‧‧底板
25‧‧‧主掃描機構
31‧‧‧工件台
32‧‧‧工件台旋轉機構
33‧‧‧支撐板
41‧‧‧光學頭
42‧‧‧光源光學系統
43‧‧‧光源
44‧‧‧光源驅動部
45‧‧‧出射部
46‧‧‧光調變部
47、451‧‧‧光學系統
61‧‧‧記憶部
62‧‧‧掃描長度資料生成部
63‧‧‧資料生成部
64‧‧‧伸縮率取得部
65‧‧‧描繪控制部
91‧‧‧上面
231‧‧‧線性馬達
232‧‧‧線性導軌
251‧‧‧線性馬達
252‧‧‧氣動滑塊
321‧‧‧旋轉軸
S11~S15、S131、S132‧‧‧步驟
圖1為描繪裝置之側視圖。
圖2為描繪裝置之俯視圖。
圖3為控制部之方塊圖。
圖4為顯示描繪裝置之描繪流程之圖。
圖5為顯示描繪裝置之描繪流程之圖。
圖1為顯示本發明之一實施形態之描繪裝置1之構成之側視圖。圖2為顯示描繪裝置1之俯視圖。描繪裝置1係藉由對設置於描繪之對象物即薄膜基板、印刷電路基板、樹脂基板或金屬基板等(以下，簡稱為「基板9」)之表面之感光材料照射光，而於基板9上直接描繪電路圖案等之圖像之直接描繪裝置。
描繪裝置1具備掃描機構2、基板保持部3、光照射部4及攝像部5。基板保持部3係保持基板9，該基板9係於(+Z)側之主面91(以下，稱為「上面91」)上形成有感光材料之層。掃描機構2係設置於基台11上，且朝垂直於Z方向之X方向及Y方向移動基板保持部3。換言之，掃描機構2係水平移動基板保持部3之保持部移動機構。
於基台11上橫跨基板保持部3及掃描機構2而固定有框架12。光照射部4及攝像部5，係安裝於框架12。光照射部4係對基板9上之感光材料照射經調變之光。攝像部5例如橫跨於基板9之X方向之全寬而設置，對基板9之上面91進行攝像。此外，如圖1所示，描繪裝置1具備控制掃描機構2、光照射部4及攝像部5等各構成之控制部6。再者，於圖2中，省略控制部6之圖示。
基板保持部3具備工件台31、工件台旋轉機構32及支撐板33。基板9係載置於工件台31上。支撐板33係可旋轉地支撐工件台31。工件台旋轉機構32，係於支撐板33上，使工件台31以垂直於基板9之上面91之旋轉軸321為中心進行旋轉。
掃描機構2具備副掃描機構23、底板24及主掃描機構25。副掃描機構23，係使基板保持部3沿X方向(以下，稱為「副掃描方向」)移動。底板24係經由副掃描機構23而支撐支撐板33。主掃描機構25，係使基板保持部3與底板24一同沿垂直於X方向之Y方向(以下，稱為「主掃描方向」)移動。於描繪裝置1中，藉由掃描機構2，使基板保持部3朝與基板9之上面91平行之主掃描方向及副掃描方向移動。
副掃描機構23，具備線性馬達231及一對之線性導軌232。線性馬達231，係於支撐板33之下側(即(-Z)側)，沿平行於工件台31之主面、且與主掃描方向垂直之副掃描方向延長。一對之線性導軌232，係沿副掃描方向延長。一對之線性導軌232，係配置於線性馬達231之(+Y)側及(-Y)側。主掃描機構25，具備線性馬達251及一對之氣動滑塊252。線性馬達251，係於底板24之下側，沿平行於工件台31之主面之主掃描方向延長。一對之氣動 滑塊252，係沿主掃描方向延長。一對之氣動滑塊252，係配置於線性馬達251之(+X)側及(-X)側。
如圖2所示，光照射部4，具備沿副掃描方向且以等間距排列而被安裝於框架12之複數個(本實施形態中為8個)之光學頭41。此外，如圖1所示，光照射部4，具備連接於各光學頭41之光源光學系統42、暨出射紫外光之光源43及光源驅動部44。光源43係固體雷射。藉由驅動光源驅動部44，自光源43出射波長355nm之紫外光，且經由光源光學系統42而被朝光學頭41導引。
各光學頭41，具備出射部45、光學系統451、47及光調變部46。出射部45係朝下方出射來自光源43之光。光學系統451，係將來自出射部45之光反射後朝光調變部46導引。光調變部46，一面調變經由光學系統451而照射之來自出射部45之光(亦即，來自光源43之光)一面進行反射。光學系統47，係將來自光調變部46之經調變之光朝設置於基板9之上面91之感光材料上導引。
光調變部46，例如具備衍射光柵型(diffraction grating)之複數個光調變元件，其等光調變元件，係將經由出射部45而被照射之來自光源43之光朝基板9之上面91導引。作為衍射光柵型之光調變元件，例如已知一種GLV(Grating Light Valve：光柵式光閥)(Silicon Light Machines(森尼韋爾、加利福尼亞州)之註冊商標)。再者，於光調變部46中，也可利用衍射光柵型之光調變元件以外之各種各樣之光調變元件或光調變裝置。此外，光調變部46之對光之調變，也可僅為ON/OFF，也可為能將ON時之光量變更為多階層。
於描繪裝置1中，對藉由掃描機構2之主掃描機構 25而沿主掃描方向移動之基板9，照射藉由光照射部4之光調變部46而被調變之光。換言之，主掃描機構25，係成為一種照射位置移動機構，其使自光調變部46而被朝基板9導引之光之照射在基板9上之照射位置，相對於基板9而沿主掃描方向相對地移動。再者，於描繪裝置1中，例如也可不移動基板9，而藉由使光調變部46沿主掃描方向移動以使基板9上之照射位置沿主掃描方向移動。於描繪裝置1中，使基板9沿副掃描方向步進移動而確定了副掃描方向上之光之照射位置之後，一面控制光調變部46之對光之調變，一面使基板9沿主掃描方向移動。於描繪裝置1中，藉由反覆地進行該動作，於基板9上描繪圖案。
圖3為顯示控制部6之功能之方塊圖。於圖3中，還一併描繪控制部6以外之構成。控制部6，具備記憶部61、掃描長度資料生成部62、資料生成部63、伸縮率取得部64及描繪控制部65。控制部6係與普通之電腦相同，將進行各種運算處理之CPU、作為記憶或運算處理被執行之程式之作業區域之RAM、記憶基本程式之ROM、記憶各種資訊之固定磁碟、對作業者顯示各種資訊之顯示器、及鍵盤、滑鼠等之輸入部等連接而構成。於圖3中，顯示有藉由控制部6之CPU等根據程式進行運算處理等而實現之複數個功能。再者，其等之功能也可藉由複數台之電腦而實現。
記憶部61係記憶藉由CAD(Computer Aided Design，電腦輔助設計)等製成之圖案資料，作為描繪於基板9之圖像之資料。圖案資料，係電路圖案等圖像之設計資料。圖案資料，通常為多邊形等之向量資料。掃描長度資料生成部62，係將該向量資料變換而生成掃描長度資料。藉由掃描長度資料生成部62生成之掃描 長度資料，被儲存於記憶部61。資料生成部63，根據基板9之變形對記憶於記憶部61之掃描長度資料進行補正，生成最終之描繪資料。描繪控制部65，根據該描繪資料，控制光調變部46及掃描機構2，藉此於基板9上掃描藉由光調變部46調變之光，執行對基板9之描繪。伸縮率取得部64，係取得基板9之伸縮率。
其次，對補正描繪於基板上之電路圖案之資料之處理之基本概念進行說明。圖案資料，通常在假定為無變形且上面平坦之理想形狀之基板(以下，稱為「基準狀態之基板」)之情況下而製成。然而，實際之基板上有時卻會產生伴隨前步驟之處理而導致之伸縮及應變等之變形。該情況下，若將電路圖案描繪在以圖案資料設定之基板上之配置位置，則不能獲得所期望之產品。因此，需要以配合產生於基板之變形而形成電路圖案之方式，進行根據基板之變形而變換電路圖案之描繪位置之補正處理。
於習知之描繪裝置中，基板之始自基準狀態之伸縮，係藉由光調變部及掃描機構之機械性補正而加以應對。具體而言，於基板朝主掃描方向伸展之情況下，例如，使光調變部中之光之調變間隔增大。此外，於基板朝副掃描方向伸展之情況下，例如，使副掃描機構之在基板上之光的照射位置之步進移動距離(亦即，主掃描機構之光的掃描區域之副掃描方向上之間隔)增大。然而，能以此種之機械性補正進行應對之伸縮率(以下，稱為「應對極限伸縮率」)，例如為100ppm左右。
因此，於圖1及圖2所示之描繪裝置1中，為了還能應對超過應對極限伸縮率之基板9之伸縮，首先，根據基板9之伸縮進行使電路圖案整體伸縮之線形補正(所謂之整體校準)。然後， 根據基板9之局部應變，進行補正電路圖案之一部分形狀之非線形補正(所謂之局部校準)，而生成描繪資料。
圖4為顯示描繪裝置1之描繪流程之圖。於描繪裝置1中，首先設定顯示基板9之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率。以下，將被設定之伸縮率稱為「設定伸縮率」。複數之設定伸縮率，分別較應對極限伸縮率大。複數之設定伸縮率，例如，於0ppm至+10000ppm之間每隔100ppm而設定。該複數之設定伸縮率，例如還包含基板9不伸縮之情況之伸縮率(亦即，基準狀態之伸縮率)即0ppm。並且，對以各設定伸縮率伸縮之基板9進行描繪之情況之圖像之掃描長度資料，係藉由掃描長度資料生成部62所生成。與複數之設定伸縮率對應之複數個之掃描長度資料，係作為複數之初始描繪資料而被儲存於圖3所示之控制部6之記憶部61(步驟S11)。亦即，初始描繪資料，係將以設定伸縮率使上述圖案資料伸縮者變換為掃描長度資料者。
其次，藉由攝像部5拍攝位於基板9之上面91上之複數個記號(步驟S12)。該複數個記號，例如，係為了利用於基板9之定位等而設置之對準標記(即整體校準標記)。再者，只要可正確地特定該位置，記號不限於對準標記，例如也可為設置於基板之貫通孔或電路圖案之一部分。藉由攝像部5取得之圖像，被傳送至伸縮率取得部64。
於伸縮率取得部64中，根據攝像部5之攝像結果(亦即，步驟S12之攝像結果)，取得上述複數個記號之測量位置。然後，比較該複數個記號之測量位置、與預先記憶於記憶部61之該複數個記號之設計位置(亦即，基準狀態之基板9上之複數個記號 之位置)。藉此，取得基板9之實際的伸縮率(步驟S13)。藉由伸縮率取得部64取得之基板9之實際伸縮率，被傳送至資料生成部63。
於資料生成部63中，根據基板9之實際伸縮率，自於步驟S11中被預先記憶於記憶部61之複數個初始描繪資料中，選擇一個初始描繪資料。以下，將選出之初始描繪資料稱為「選擇描繪資料」。初始描繪資料，例如為與最接近於基板9之實際伸縮率之設定伸縮率對應之掃描長度資料。基板9之實際伸縮率與該最接近之設定伸縮率之差，係上述應對極限伸縮率以下。於資料生成部63中，利用選擇描繪資料進行描繪資料之生成(步驟S14)。
具體而言，根據該描繪區域之應變(亦即，各描繪區塊之應變)，對選擇描繪資料中之分別與預先被設定於基板9上之描繪區域之複數個描繪區塊對應之部分(以下，稱為「區塊描繪資料」)進行補正。複數個描繪區塊，例如為將描繪區域分割成矩陣狀之區域，且分別為矩形之區域。描繪區域之應變，係較與應對極限伸縮率對應之變形小之變形。
描繪區域之應變，例如，藉由攝像部5拍攝位於基板9之上面91上之複數個記號(所謂之局部校準標記)，且根據攝像結果而求得。用以求得描繪區域之應變之記號之攝像，也可與步驟S12中之複數個記號之攝像分別進行，也可同步進行。各區塊描繪資料之補正，例如為源自描繪區域中之各描繪區塊之設計位置之位置偏移之補正。亦即，使區塊描繪資料之座標位移基板9上之描繪區塊之實際位置與該描繪區塊之設計位置之差。
藉由資料生成部63生成之描繪資料，被傳送至描繪控制部65。然後，藉由描繪控制部65且根據描繪資料控制掃描機 構2及光調變部46，而執行對基板9之圖案之描繪(步驟S15)。具體而言，如上述，藉由一面控制光調變部46之對光之調變一面使基板9沿主掃描方向移動，以進行朝沿主掃描方向延伸之線狀或帶狀之掃描區域之描繪。該掃描區域，係當掃描機構2之朝主掃描方向之光之掃描時，藉由該光掃描之基板9上之區域。接著，於基板9沿副掃描方向步進移動既定之距離之後，一面控制光調變部46之對光之調變一面使基板9沿主掃描方向移動，藉此於副掃描方向上進行朝鄰接於上述掃描區域之下一掃描區域之描繪。然後，藉由依序進行朝排列於副掃描方向之複數個掃描區域之描繪，而進行朝基板9上之圖案之描繪。
於描繪裝置1中，在步驟S13中取得之基板9之實際伸縮率、與對應於步驟S14中選出之選擇描繪資料之設定伸縮率不同之情況下，因該設定伸縮率與實際伸縮率之差，可以上述之機械性補正進行應對，因此，於步驟S15中之對基板9之描繪時被機械性地補正。例如，主掃描方向上之伸縮率之差，係藉由利用掃描機構2進行之朝主掃描方向掃描時之光調變部46之對光之調變間隔之變更而被補正。副掃描方向上之伸縮率之差，例如，藉由利用掃描機構2進行之朝主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域之在副掃描方向上之間隔之變更而被補正。具體而言，變更副掃描機構23之基板9之朝副掃描方向之步進移動之距離。或者，利用變焦透鏡，變更照射於基板9上之光之副掃描方向之寬度。
如以上說明，描繪裝置1，具備光源43、光調變部46、掃描機構2及控制部6。光調變部46，係調變來自光源43之光。掃描機構2，係於對象物(亦即基板9)上掃描藉由光調變部46 調變之光。控制部6藉由根據描繪資料控制光調變部46及掃描機構2，執行對基板9之描繪。控制部6具備記憶部61及資料生成部63。記憶部61係對於顯示基板9之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率而預先記憶對以各伸縮率伸縮之基板9進行描繪之情況之圖像之掃描長度資料而作為複數個之初始描繪資料(步驟S11)。資料生成部63，係利用選擇描繪資料生成上述描繪資料，該選擇描繪資料，係根據基板9之實際伸縮率而自複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料(步驟S14)。藉此，每當對產生伸縮之基板9進行描繪時，由於不需要新規製作配合基板9之伸縮率之掃描長度資料，因此可迅速地生成描繪資料。其結果，可迅速且精度良好地對產生伸縮之基板9進行描繪。
如上述，描繪裝置1進而具備攝像部5。攝像部5係拍攝位於基板9上之複數個記號(步驟S12)。控制部6進而具備伸縮率取得部64。伸縮率取得部64，係根據攝像部5之攝像結果，取得該複數個記號之測量位置，且比較複數個記號之測量位置與設計位置，藉以取得基板9之實際之伸縮率(步驟S13)。藉此，可於描繪裝置1內取得基板9之實際伸縮率。此外，藉由還將上述複數個記號之攝像結果利用於描繪裝置1內之基板9之定位，可縮短基板9之描繪所需之時間。
於描繪裝置1中，於上述複數之伸縮率內包含較應對極限伸縮率大之伸縮率。如上述，應對極限伸縮率，係於資料生成部63中，假定利用與基準狀態對應之初始描繪資料而生成描繪資料之情況下，可藉由利用掃描機構2進行之朝主掃描方向掃描時之光調變部46之調變間隔的變更、及利用掃描機構2進行之朝主掃 描方向掃描時被掃描之掃描區域之在副掃描方向上之間隔的變更而進行描繪之基板9之伸縮率之上限值。藉此，即使對於以在描繪裝置1中之上述機械性補正中不能應對之伸縮率而伸縮之基板9，也可精度良好地進行描繪。
於以描繪裝置1進行描繪之基板9上之描繪區域設定有複數個描繪區塊。資料生成部63，於生成描繪資料時，根據描繪區域之應變，對分別與選擇描繪資料之複數個描繪區塊對應之部分進行補正(步驟S14)。藉此，可與基板9上之描繪區域之應變對應，精度良好地描繪圖像。
此外，資料生成部63之分別與選擇描繪資料之複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自描繪區域之複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。如上述，於描繪裝置1中，由於藉由選自複數個初始描繪資料中之選擇描繪資料之選擇而進行基板9之較大之伸縮之補正，因此可依此而簡化描繪區域之應變之補正。
圖5為顯示描繪裝置1之描繪流程之其他例子之圖。圖5中之步驟S11~S13之動作，係與圖4所示之步驟S11~S13相同。此外，圖5中之步驟S14、S15之動作，係與圖4所示之步驟S14、S15相同。
於圖5所示之例中，當於資料生成部63中選擇選擇描繪資料時，將最接近基板9之實際伸縮率之設定伸縮率、與基板9之實際伸縮率之差，與應對極限伸縮率進行比較。然後，於該伸縮率之差較應對極限伸縮率大之情況下，判斷為與基板9之實際伸縮率對應之初始描繪資料，未被包含於預先記憶在記憶部61之複 數個初始描繪資料內，進而中止選擇描繪資料之選擇(步驟S131)。
然後，中止對基板保持部3上之基板9之描繪，且自描繪裝置1搬出基板9。接著，將下一片基板9搬入描繪裝置1(步驟S132)，返回步驟S12，對該下一片基板9進行攝像、伸縮率之取得、及伸縮率之比較(步驟S12、S13、S131)。然後，在與該下一片基板9之實際伸縮率對應之初始描繪資料包含於預先記憶在記憶部61之複數個初始描繪資料內之情況下，進行選擇描繪資料之選擇，並進行描繪資料之生成、及圖像之描繪(步驟S14、S15)。
於描繪裝置1中，藉由掃描長度資料生成部62生成與在步驟S132中被搬出之基板9之實際伸縮率對應的初始描繪資料，且儲存於記憶部61。該初始描繪資料之生成，較佳為與對其他之基板9(例如，上述之下一片基板9)之描繪同步進行。然後，於對該其他之基板9之描繪結束之後(例如，於對一批量內包含之複數片基板9之描繪結束之後)，進行對在步驟S132中被搬出之基板9之描繪。
如此，於描繪裝置1中，在與基板9之實際伸縮率對應之初始描繪資料未包含於上述複數個初始描繪資料內之情況下，中止對基板9之描繪，開始對其他之基板9之描繪。此外，與對該其他之基板9之描繪同步，生成與被中止描繪之基板9之實際伸縮率對應之初始描繪資料。然後，進行對該基板9之描繪。藉此，可縮短對複數片基板9之描繪所需之時間。
再者，於描繪裝置1中，在與基板9之實際伸縮率對應之初始描繪資料未包含於上述複數個初始描繪資料內之情況下，也可不搬出基板9，而生成與基板9之實際伸縮率對應之初始 描繪資料，進行對基板9之描繪。惟，根據描繪裝置1之節拍縮短之觀點，較佳為可進行圖5所示之上述處理。
於上述描繪裝置1中，可進行各種各樣之變更。
例如，資料生成部63之對各區塊描繪資料之補正，不限於源自上述描繪區塊之設計位置之位置偏移之補正，也可藉由其他之方法(例如，自各描繪區塊之設計形狀之變形之補正)而進行。
此外，根據描繪區域之應變之上述各區塊描繪資料之補正，不一定要藉由資料生成部63而進行。於不以資料生成部63進行各區塊描繪資料之補正之情況下，於資料生成部63中，自複數個初始描繪資料選擇選擇描繪資料，且例如藉由將該選擇描繪資料直接作為描繪資料而予沿用，進行描繪資料之生成。然後，根據需要對該描繪資料進行基於描繪區域之應變之補正，且根據補正後之描繪資料進行對基板9之描繪。
上述初始描繪資料，例如，也可假定為主掃描方向及副掃描方向上之伸縮率為相同者，且根據各伸縮率而生成。或者，也可將主掃描方向上之伸縮率與副掃描方向上之伸縮率不同之情況考慮在內，針對主掃描方向之伸縮率及副掃描方向之伸縮率之各組合，生成初始描繪資料。
於描繪裝置1中，也可省略攝像部5及伸縮率取得部64。該情況下，例如，將藉由描繪裝置1以外之裝置而取得之基板9之實際伸縮率輸入描繪裝置1，且預先記憶於記憶部61。然後，藉由資料生成部63，根據該伸縮率選擇選擇描繪資料。
於描繪裝置1中，也可省略掃描長度資料生成部62。該情況下，例如，將以描繪裝置1以外之裝置而預先生成之複數個 初始描繪資料輸入描繪裝置1，且記憶於記憶部61。
藉由描繪裝置1進行描繪之對象物，不限於上述基板9，例如，也可為液晶顯示裝置等之平板顯示裝置用之玻璃基板、光罩用之玻璃基板、或半導體基板。此外，描繪裝置1也可於在基板以外之各種對象物上描繪圖像時被利用。
上述實施形態及各變形例之構成，只要不相互矛盾，也可適宜組合。
雖對發明進行了詳細地描寫及說明，惟已述之說明僅為例示而並非限制。因此，只要不超出本發明之範圍，即可實施大量之變形及態樣。

Claims (22)

  1. 一種描繪裝置，係於對象物上描繪圖像者，其具備：光源；光調變部，其對來自上述光源之光進行調變；掃描機構，其在對象物上掃描藉由上述光調變部而調變之光；及控制部，其根據描繪資料控制上述光調變部及上述掃描機構，藉此執行對上述對象物之描繪；上述控制部具備：記憶部，其針對顯示上述對象物之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率，預先記憶對以各伸縮率伸縮之上述對象物進行描繪之情況之圖像的掃描長度資料，作為複數個之初始描繪資料；及資料生成部，其利用選擇描繪資料生成上述描繪資料，該選擇描繪資料係根據上述對象物之實際的伸縮率而自上述複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料。
  2. 如請求項1之描繪裝置，其中，進而具備攝像部，其拍攝位於上述對象物上之複數個記號，上述控制部進而具備伸縮率取得部，該伸縮率取得部係根據上述攝像部之攝像結果，取得上述複數個記號之測量位置，且比較上述複數個記號之上述測量位置與設計位置，藉以取得上述對象物之實際伸縮率。
  3. 如請求項2之描繪裝置，其中，於上述資料生成部中，假定利用與上述基準狀態對應之初始描繪資料而生成上述描繪資料之情況下，於上述複數之伸縮率內包含有較藉由下述間隔之變更而可描繪之上述對象物之伸縮率大之伸縮率，上述間隔之變更包含利用上 述掃描機構進行之朝主掃描方向掃描時利用上述光調變部進行之調變間隔之變更、及利用上述掃描機構進行之朝上述主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域在副掃描方向上之間隔之變更。
  4. 如請求項3之描繪裝置，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，上述資料生成部於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  5. 如請求項4之描繪裝置，其中，上述資料生成部之分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  6. 如請求項1之描繪裝置，其中，於上述資料生成部中，假定利用與上述基準狀態對應之初始描繪資料而生成上述描繪資料之情況下，於上述複數之伸縮率內包含有較藉由下述間隔之變更而可描繪之上述對象物之伸縮率大之伸縮率，上述間隔之變更包含利用上述掃描機構進行之朝主掃描方向掃描時利用上述光調變部進行之調變間隔之變更、及利用上述掃描機構進行之朝上述主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域在副掃描方向上之間隔之變更。
  7. 如請求項6之描繪裝置，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，上述資料生成部於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  8. 如請求項7之描繪裝置，其中，利用上述資料生成部進行之分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  9. 如請求項1之描繪裝置，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，上述資料生成部於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  10. 如請求項9之描繪裝置，其中，利用上述資料生成部進行之分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  11. 如請求項1至10中任一項之描繪裝置，其中，於上述複數個初始描繪資料內不包含與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資料之情況，中止對上述對象物之描繪且開始進行對其他之對象物之描繪，在與對其他之對象物之描繪同步地生成與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資料之後，進行對上述對象物之描繪。
  12. 一種描繪方法，係藉由描繪裝置而於對象物上描繪圖像之描繪方法，該描繪裝置具備光源、對來自上述光源之光進行調變之光調變部、及在上述對象物上掃描藉由上述光調變部而調變之光之掃描機構，該描繪方法具備以下之步驟：a)針對顯示上述對象物之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率，預先記憶對以各伸縮率伸縮之上述對象物進行描繪之情況之圖 像的掃描長度資料，作為複數個之初始描繪資料；b)利用選擇描繪資料生成描繪資料，該選擇描繪資料係根據上述對象物之實際的伸縮率而自上述複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料；及c)根據上述描繪資料控制上述光調變部及上述掃描機構，藉此執行對上述對象物之描繪。
  13. 如請求項12之描繪方法，其中，進而具備以下之步驟：d)於上述b)步驟之前，拍攝位於上述對象物上之複數個記號；及e)根據上述d)步驟中之攝像結果，取得上述複數個記號之測量位置，且比較上述複數個記號之上述測量位置與設計位置，藉以取得上述對象物之實際伸縮率。
  14. 如請求項13之描繪方法，其中，於上述b)步驟中，假定利用與上述基準狀態對應之初始描繪資料而生成上述描繪資料之情況下，於上述複數之伸縮率內包含有較藉由下述間隔之變更而可描繪之上述對象物之伸縮率大之伸縮率，上述間隔之變更包含利用上述掃描機構進行之朝主掃描方向掃描時利用上述光調變部進行之調變間隔之變更、及利用上述掃描機構進行之朝上述主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域在副掃描方向上之間隔之變更。
  15. 如請求項14之描繪方法，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，於上述b)步驟中，於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  16. 如請求項15之描繪方法，其中，上述b)步驟中分別與上述 選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  17. 如請求項12之描繪方法，其中，於上述b)步驟中，假定利用與上述基準狀態對應之初始描繪資料而生成上述描繪資料之情況下，於上述複數之伸縮率內包含有較藉由下述間隔之變更而可描繪之上述對象物之伸縮率大之伸縮率，上述間隔之變更包含利用上述掃描機構進行之朝主掃描方向掃描時利用上述光調變部進行之調變間隔之變更、及利用上述掃描機構進行之朝上述主掃描方向掃描時被掃描之掃描區域在副掃描方向上之間隔之變更。
  18. 如請求項17之描繪方法，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，於上述b)步驟中，於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  19. 如請求項18之描繪方法，其中，上述b)步驟中分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  20. 如請求項12之描繪方法，其中，於上述對象物上之描繪區域設定有複數個描繪區塊，於上述b)步驟中，於生成上述描繪資料時，根據上述描繪區域之應變，對分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分進行補正。
  21. 如請求項20之描繪方法，其中，上述b)步驟中分別與上述選擇描繪資料之上述複數個描繪區塊對應之部分之補正，係源自上述描繪區域中之上述複數個描繪區塊之各設計位置之位置偏移之補正。
  22. 如請求項12至21中任一項之描繪方法，其中，於上述複數個初始描繪資料內不包含與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資料之情況，中止對上述對象物之描繪且開始進行對其他之對象物之描繪，在與對其他之對象物之描繪同步地生成與上述對象物之實際伸縮率對應之初始描繪資料之後，進行對上述對象物之描繪。
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