JP2007316561A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】マスクの搬送装置を簡潔な構成で構築でき、且つ、大きなマスクをマスクステージまで容易に搬送することができ、低コストな露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥの基板ステージ１１は、基板Ｗが載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクＭを保持する複数のマスク保持ピンとを備える。複数のマスク保持ピンは、マスクＭがマスクローダによってローディング位置ＷＰ１に位置する基板ステージ１１に供給され、基板ステージ１１がローディング位置ＷＰ１からマスクステージ１０の下方位置に移動し、マスクステージ１０に装着される間、マスクＭを保持する。
【選択図】図２

Description

本発明は、露光装置に関し、より詳細には、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置に関する。

露光装置は、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ装置のカラーフィルタ等を製造するのに使用されている。露光装置は、マスクと基板を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光を照射し、これにより、基板にマスクパターンを露光転写する。従来、マスクのマスクホルダへの取付けは、ロボット等の搬送装置を用いて行われている（例えば、特許文献１参照。）。

特許文献１に記載の露光装置は、マスクと基板の搬送に兼用できる搬送アームを開示しており、基板はアーム部材によって吸着しながら搬送され、マスクはアーム部材に吸着保持されたマスクパッドによって搬送される。
特開２００３−１３１３８７号公報

ところで、最近のディスプレイパネルの大型化に伴いマスクも大きくなっており、マスクを搬送する搬送装置が大型化する傾向がある。従って、露光装置の製作費用が嵩むだけでなく、露光装置の設置に広い設置スペースが必要となる。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、マスクの搬送装置を簡潔な構成で構築でき、且つ、大きなマスクをマスクステージまで容易に搬送することができ、低コストな露光装置を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成及び方法により達成される。
（１） マスクを保持するマスクステージと、
被露光材としての基板を保持し、マスクに対向配置される露光位置と基板を載置するローディング位置との間で移動可能な基板ステージと、
基板に対してパターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
マスクを供給搬送するマスクローダと、
を備えた露光装置であって、
基板ステージは、基板が載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクを保持する複数のマスク保持ピンとを備え、
複数のマスク保持ピンは、マスクがマスクローダによってローディング位置に位置する基板ステージに供給され、基板ステージがローディング位置からマスクステージの下方位置に移動し、マスクステージに装着される間、マスクを保持することを特徴とする露光装置。
（２） 基板ステージは、基板保持板の上面から進退自在に配置され、基板を保持する複数の基板保持ピンと、基板保持板に対して上下方向に移動自在に配置され、基板保持ピンが取り付けられるピン支持板と、該ピン支持板に取り付けられ、前記マスク保持ピンを前記ピン支持板に対して上下方向に移動自在となるように前記マスク保持ピンを駆動するピン駆動機構と、を備えることを特徴とする（１）に記載の露光装置。

本発明の露光装置によれば、基板ステージは、基板が載置される基板保持板と、基板保持板の上面から進退自在に配置され、マスクを保持する複数のマスク保持ピンとを備え、複数のマスク保持ピンは、マスクがマスクローダによってローディング位置に位置する基板ステージに供給され、基板ステージがローディング位置からマスクステージの下方位置に移動し、マスクステージに装着される間、マスクを保持するので、基板ステージをマスクの搬送装置として兼用することができる。これにより、マスクの搬送装置を簡潔な構成で構築でき、且つ、大きなマスクをマスクステージまで容易に搬送することができ、低コストなものとなる。また、マスクローダを基板ステージのローディング位置の周囲に配置することができ、レイアウトを柔軟に変更することができる。

以下、本発明に係る露光装置の各実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

（第１実施形態）
図１は本発明の露光装置の全体構成を概略示す平面図、図２は露光装置の要部正面図、図３は基板ステージの側面図である。図１〜図３に示すように、露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、第２基板ローダ１６、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８を備え、それぞれ基台２１上に載置されている。

マスクステージ１０は、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０に対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備える。マスク保持部２５には、下面に複数の吸引孔２５ｂが開設されており、露光すべきパターンを有するマスクＭは、開口２５ａに臨むようにして、真空吸着によって吸引孔２５ｂを介してマスク保持部２５に保持される。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。

図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上部にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構３２，３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。

具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に、リニアガイド３８とＹ軸送り駆動機構３９とを備える。ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、２台のＹ軸ステージ３３，３３が、２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に沿って移動可能に支持される。

また、ステージベース２３上には、モータ４２によって回転駆動されるボールねじ軸４３が、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対応してそれぞれ設けられており、ボールねじ軸４３には、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたボールねじナット４４が螺合されている。

また、Ｘ軸送り機構３６も、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間に、リニアガイド４５とＸ軸送り駆動機構４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。さらに、Ｙ軸テーブル３３上には、モータ４９によって回転駆動されるボールねじ軸５０が設けられており、ボールねじ軸５０には、Ｙ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたボールねじナット５１が螺合されている。

一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動するとともに、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。

そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。

これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗを個別にマスクステージ１０の下方位置に配置された露光位置ＥＰに配置すべく、第１基板ステージ１１を第１待機位置（ローディング位置）ＷＰ１と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２待機位置ＷＰ２と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｘ軸送り機構３６及びＹ軸送り機構３４は、露光位置ＥＰにある基板保持部３１ａ，３１ｂをマスクＭに対してＸ、Ｙ方向にステップ移動させるように第１及び第２基板ステージ１１，１２を移動させる。
なお、Ｙ軸送り駆動機構３９、Ｘ軸送り駆動機構４６、及び可動くさび機構は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。

また、図１〜図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１ａ，３１ｂのＸ方向側部とＹ方向側部にそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられており、また、ステージベース２３のＹ軸方向の両側と、ステージベースのＸ軸方向の一側には、３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６１，６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第１及び第２ステージ１１，１２の位置を検出する。

図２に示すように、照明装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照明装置１３は、露光位置に移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンＰが露光転写される。

プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置された基板カセット７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１または第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うものであり、図中、マスクステージ１０の手前側に配置されている。プリアライメントユニット１４は、図示しないＸ軸送り機構、Ｙ軸送り機構、および回転機構を備え、プリアライメントユニット１４上に載置された基板Ｗの位置を所定の位置に調整する。

第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第２基板ステージ１２に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを基板カセット７０Ａへ搬送する。

第２基板ローダ１６は、プリアライメントユニット１４に対して第１基板ローダ１５と対向配置、即ち、図中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第１基板ステージ１１に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送し、さらに、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上の露光転写後の基板Ｗを基板カセット７０Ｂへ搬送する。

また、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されている。マスクローダ１７は、図４に示すように、基台２１に固定されたコラム８１に複数の搬送部８２，８３が揺動自在に配設されるローダロボットである。複数の搬送部８２，８３は、昇降機構(図示せず。) によってコラム８１に沿って上下移動すると共に、それぞれサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される。各搬送部８２，８３は、第１及び第２アーム８４，８５と、第１アーム８４の先端に、複数の棒状部材８６が平行して植設されたマスク載置台８７とを有する。そして、それぞれのサーボモータを制御して作動させることにより、マスク載置台８７を昇降、回転、及び移動させて、マスク載置台８７上のマスクＭを搬送する。これにより、マスクローダ１７は、基台２１の外側に設けられたマスクカセット９１からマスクＭを搬入し、マスクアライナ１８でプリアライメントされたマスクＭを第１基板ステージ１１へ搬送しており、搬送されたマスクＭは第１基板ステージ１１によってマスクステージ１０へ供給される。

なお、マスクローダ１７は、搬送部が一つであってもよいが、複数の搬送部８２，８３を有する場合には、露光転写前のマスクＭを複数の搬送部８２，８３の一方のマスク載置台８７に保持した状態で、露光転写後のマスクＭを他方のマスク載置台８７で取り外し、取り外し直後に一方のマスク載置台８７に保持した露光転写前のマスクを搭載することが可能となる。

第１基板ステージ１１の基板保持部３１ａは、図５に示すように、基板ステージ機構３２の上部に設けられた基台９０と、基台９０の側方に取り付けられた固定部９１を介して、基台９０の上方に配置されるバーミラー支持板９２と、バーミラー支持板９２の上面に一体的に固着される基板保持板９３と、基台９０の側方に設けられたリニアガイド９４によって案内され、アクチュエータ（図示せず）によって基台９０に対して上下方向に移動自在に配置されるピン支持板９５と、ピン支持板９５上に配置される複数の基板保持ピン９６と、ピン支持板９５上に駆動装置であるピン駆動機構９７を介して配置される複数のマスク保持ピン９８と、をそれぞれ備える。

バーミラー支持板９２は、中間部分に複数の開口部９２ａを有しており、基板保持板９３から側方に延出した端部に、バーミラー６１，６２を固定している。図５（ａ）に示すように、基板保持板９３には、板厚方向に貫通する第１及び第２の複数のピン孔９３ａ，９３ｂと、基板Ｗを真空吸着により吸着するための複数の吸引孔（図示せず）が形成されている。基板保持ピン９６は、基板保持板９３、或いはバーミラー支持板９２と基板保持板９３の両方を貫通し、第１のピン孔９３ａにより基板保持板９３の上面から進退自在に配置される。これにより、基板保持ピン９６は、アクチュエータを作動してピン支持板９５を上方に移動させることで、基板保持板９３の上面より上方に突出して基板Ｗを保持する。なお、基板保持ピン９６は、図５（ａ）のＶ方向から見て８列に配置されているが、図５（ｂ）は、簡略化のため、軸方向一端側の一本の基板保持ピン９６のみを示している。

また、マスク保持ピン９８は、バーミラー支持板９２の開口部９２ａを通って、第２のピン孔９３ｂ或いは基板保持板９３の側方により基板保持板９３の上面から進退自在に配置される。これにより、マスク保持ピン９８は、アクチュエータを作動してピン支持板９５を上方に移動させるか、或いは、ピン駆動機構９７を作動することで、基板保持板９３の上面より上方に突出し、マスクＭを保持する。本実施形態のマスク保持ピン９８は、マスクＭが基板保持部３１ａに搬入される位置でのマスクＭの周縁部に２本ずつ８箇所配置されており、これらのうち、マスクＭの長手方向（Ｘ方向）両縁部となる位置に第１のマスク保持ピン９８ａが４箇所配置され、マスクＭの短手方向（Ｙ方向）両縁部となる位置に第２のマスク保持ピン９８ｂが４箇所配置されている。

ピン駆動機構９７は、図９に示すように、マスク保持ピン９８が取り付けられるピン取付部１００がガイド１０１によってピン支持板９５に対して上下方向に移動自在に配置されており、ピン支持板９５に設けられたシリンダ部１０２内をピストン部１０３が移動することで、ピン取付部１００を上下に駆動する。なお、ピン駆動機構９７は、本実施形態のようにエアシリンダ等のシリンダ駆動であってもよいが、モータ駆動であってもよい。 なお、本実施形態では簡略のため図示しないが、ピン支持板９５には、マスク保持ピン９８ａ，９８ｂにマスクＭが保持されているかどうかを検出するためのセンサが取り付けられている。

次に、このように構成される露光装置ＰＥにおいて、マスクステージ１０にマスクＭを装着する過程について図５から図８を参照して説明する。まず、マスクローダ１７は、マスクカセット９１から供給されてマスクアライナ１８で所定の位置に調整されたマスクＭを、マスク載置台８７上に載置する。次に、マスクローダ１７は、マスクＭを載置した状態で、第１待機位置ＷＰ１にある第１基板ステージ１１の基板保持部３１ａの上方に移動する。

この状態で、図６に示すように、基板保持部３１ａのアクチュエータを作動させてピン支持板９５を上方に移動させると共に、第１のマスク保持ピン９８ａのピン駆動機構９７を駆動させ、第１のマスク保持ピン９８ａをマスクローダ１７のマスク載置台８７に載置されているマスクＭの周縁部下面に当接させ、マスクＭを上方に持ち上げる。この状態で、マスクローダ１７がマスク載置台８７をマスクＭの下部から引き抜き、マスクＭを８本の第１のマスク保持ピン９８ａで保持しながら、アクチュエータを作動させてピン支持板９５を移動させる（図７参照）。

なお、マスクＭの第１のマスク保持ピン９８ａへの載置は、上記の方法の他に、予め基板保持部３１ａのアクチュエータを作動させてピン支持板９５を上方に移動させると共に、第１のマスク保持ピン９８ａのピン駆動機構９７を駆動させ、第１のマスク保持ピン９８ａを突出させておき、その上にマスクローダ１７でマスクＭを置いてくることも可能である。

そして、マスクＭを第１のマスク保持ピン９８ａで保持した状態で、Ｙ方向送り機構３４を作動させ、第１基板ステージ１１を、第１待機位置ＷＰ１からマスクステージ１０のマスク保持部２５の下方位置に移動させる。

次いで、図８に示すように、第２のマスク保持ピン９８ｂのピン駆動機構９７を駆動して、第２のマスク保持ピン９８ｂも基板保持板９３の上面から突出させ、すべてのマスク保持ピン９８ａ、９８ｂでマスクＭを保持する。そして、基板保持部３１ａのアクチュエータを作動させて、ピン支持板９５を上昇させ、マスク保持ピン９８ａ，９８ｂ上のマスクＭをマスク保持部２５に接近させる。そして、マスク保持部２５の吸引孔２５ｂから真空吸着によってマスクＭの周縁部を吸引することで、マスクＭはマスク保持部に吸着される。これにより、マスクＭはマスクステージ１０に装着される。

このようにして、マスクＭがマスクステージ１０に搭載されると、プリアライメントユニット１４によってプリアライメントされた基板Ｗを、第１及び第２ワークローダ１５，１６によって第１及び第２待機位置ＷＰ１，ＷＰ２に位置する第１及び第２基板ステージ１１，１２に交互に供給する。この時、基板保持部３１ａでは、マスク保持ピン９８はピン駆動機構９７によって下方位置まで下げられており、基板Ｗは基板保持ピン９６によって保持される。

その後、基板Ｗが載置された第１及び第２基板ステージ１１，１２を露光位置ＥＰに移動させて、図示しないギャップセンサを用いてマスクＭと基板Ｗとのギャップ調整を行った後、照明装置１３から１ショット目のパターン露光用の光がマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭに形成されたマスクパターンＰが基板Ｗに露光転写される。さらに、基板ステージをステップ移動させ、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４，６５を用いてアライメント調整を行うとともに、ギャップ調整を行った後、２ショット目のパターン露光用の光によりマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写し、以後、同様にしてステップ露光を行う。特に、本実施形態では、第１及び第２基板ステージ１１，１２の一方に載置された基板Ｗを露光している間に、他方の基板ステージ１１，１２では、既に露光された基板Ｗの搬出やプリアライメントされた基板Ｗの搬入作業を行うことができるので、タクトタイムを短縮することができる。

なお、ギャップ調整後のマスクＭと基板Ｗの位置合わせをする場合は、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４を用いる代わりに、アライメントカメラを用いて行ってもよい。この場合、１ショット目の露光転写の際にも、ギャップ調整後、このアライメントカメラを用いて位置合わせをする場合がある。

従って、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、基板ステージ１１は、基板Ｗが載置される基板保持板９３と、基板保持板９３の上面から進退自在に配置され、マスクＭを保持する複数のマスク保持ピン９８とを備え、複数のマスク保持ピン９８は、マスクＭがマスクローダ１７によってローディング位置ＷＰ１に位置する基板ステージ１１に供給され、基板ステージ１１がローディング位置ＷＰ１からマスクステージ１０の下方位置に移動し、マスクステージ１０に装着される間、マスクＭを保持するので、基板ステージ１１をマスクＭの搬送装置として兼用することができる。これにより、マスクＭの搬送装置の構成を簡潔とし、且つ、大きなマスクＭをマスクステージ１０まで容易に搬送することができる、低コストなものとなる。また、マスクローダ１７を基板ステージ１１のローディング位置の周囲に配置することができ、レイアウトを柔軟に変更することができる。

また、基板ステージ１１は、基板保持板９３の上面から進退自在に配置され、基板Ｗを保持する複数の基板保持ピン９６と、基板保持板９３に対して上下方向に移動自在に配置され、基板保持ピン９６が取り付けられるピン支持板９５と、該ピン支持板９５に取り付けられ、マスク保持ピン９８をピン支持板９５に対して上下方向に移動自在となるようにマスク保持ピン９８を駆動するピン駆動機構９７と、を備えるので、マスク保持ピン９８を基板保持ピン９６と独立に上下駆動することができる。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る露光装置について、図１０及び図１１を参照して説明する。なお、第１実施形態と同等部分については、同一符号を付して、説明を省略或は簡略化する。

第１実施形態の露光装置ＰＥは、２つの基板ステージ１１，１２を用いて構成されているが、マスクローダ１７とマスクステージ１０間でのマスクＭの搬入及び搬出を第１基板ステージ１１によって行う本発明の特徴は、第１基板ステージ１１のみを用いた第２実施形態の露光装置ＰＥにも適用可能である。

即ち、本実施形態の露光装置ＰＥでは、図１０及び図１１に示すように、基台２１上に、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８が載置されており、第１基板ローダ１５の近傍に第１基板カセット７０Ａが、マスクアライナ１８の近傍にマスクカセット９１が配置されている。第１基板ステージ１１の基板保持部３１ａの構成及び動作は、図５〜図９に示した第１実施形態のものと同様である。

従って、本実施形態の露光装置ＰＥにおいても、第１基板ステージ１１は、第１実施形態と同様の構成、即ち、基板Ｗが載置される基板保持板９３と、基板保持板９３の上面から進退自在に配置され、マスクＭを保持する複数のマスク保持ピン９８とを備え、複数のマスク保持ピン９８は、マスクＭがマスクローダ１７によってローディング位置ＷＰに位置する基板ステージ１１に供給され、基板ステージ１１がローディング位置ＷＰからマスクステージ１０の下方位置に移動し、マスクステージ１０に装着される間、マスクＭを保持するので、基板ステージ１１をマスクＭの搬送装置として兼用することができる。これにより、マスクＭの搬送装置の構成を簡潔とし、且つ、大きなマスクＭをマスクステージ１０まで容易に搬送することができ、低コストなものとなる。また、マスクローダ１７を基板ステージ１１のローディング位置の周囲に配置することができ、レイアウトを柔軟に変更することができる。

また、基板ステージ１１は、基板保持板９３の上面から進退自在に配置され、基板Ｗを保持する複数の基板保持ピン９６と、基板保持板９３に対して上下方向に移動自在に配置され、基板保持ピン９６が取り付けられるピン支持板９５と、該ピン支持板９５に取り付けられ、マスク保持ピン９８をピン支持板９５に対して上下方向に移動自在となるようにマスク保持ピン９８を駆動するピン駆動機構９７と、を備えるので、マスク保持ピン９８を基板保持ピン９６と独立に上下駆動することができる。

なお、本実施形態の露光装置ＰＥは、第１基板ステージ１１のみで露光作業が行なわれるので、露光位置ＥＰに位置する第１基板ステージ１１に載置された基板Ｗの露光作業後、第１基板ステージ１１を露光位置ＥＰからローディング位置ＷＰに移動後、既に露光された基板Ｗの搬出とプリアライメントされた次の基板Ｗの搬入作業が行なわれる。そして、第１基板ステージ１１をローディング位置ＷＰから露光位置ＥＰへ移動した後、露光作業が繰り返される。
その他の構成及び作用については、第１実施形態のものと同様である。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
本実施形態では、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されているが、第２基板ステージ１２に対して第２基板ローダ１６と対向配置してもよく、この場合、第２基板ステージ１２がマスクＭをマスクステージ１０まで移載する機能を有する。

本発明の露光装置の全体構成を概略示す平面図である。 露光装置の要部正面図である。 基板ステージの側面図である。 図１におけるマスクローダの側面図である。 （ａ）は基板ステージの基板保持部の正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ方向から見た側面図である。 （ａ）は基板ステージの基板保持部のマスクが載置される状態を示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ方向から見た側面図である。 （ａ）は基板ステージの基板保持部のマスクが搬送される状態を示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ方向から見た側面図である。 （ａ）は基板ステージの基板保持部のマスクがマスクステージに装着される状態を示す正面図であり、（ｂ）は（ａ）のＶ方向から見た側面図である。 マスク保持ピンを駆動するピン駆動機構を示す図である。 本発明の第２実施形態に係る露光装置の全体構成を概略示す平面図である。 図１０の露光装置の要部正面図である。

符号の説明

１０ マスクステージ
１１ 第１基板ステージ
１２ 第２基板ステージ
１３ 照明装置
１４ プリアライメントユニット
１５ 第１基板ローダ
１６ 第２基板ローダ
７０Ａ，７０Ｂ 基板カセット
９３ 基板保持板
９５ ピン支持板
９６ 基板保持ピン
９７ ピン駆動機構
９８ マスク保持ピン
ＰＥ 露光装置
Ｍ マスク
Ｐ マスクパターン
Ｗ 基板
ＥＰ 露光位置
ＷＰ１ 第１待機位置（ローディング位置）
ＷＰ２ 第２待機位置

Claims (2)

1. マスクを保持するマスクステージと、
   被露光材としての基板を保持し、前記マスクに対向配置される露光位置と前記基板を載置するローディング位置との間で移動可能な基板ステージと、
   前記基板に対してパターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
   前記マスクを供給搬送するマスクローダと、
   を備えた露光装置であって、
   前記基板ステージは、前記基板が載置される基板保持板と、該基板保持板の上面から進退自在に配置され、前記マスクを保持する複数のマスク保持ピンとを備え、
   前記複数のマスク保持ピンは、前記マスクが前記マスクローダによって前記ローディング位置に位置する前記基板ステージに供給され、前記基板ステージが前記ローディング位置から前記マスクステージの下方位置に移動し、前記マスクステージに装着される間、前記マスクを保持することを特徴とする露光装置。
2. 前記基板ステージは、前記基板保持板の上面から進退自在に配置され、前記基板を保持する複数の基板保持ピンと、前記基板保持板に対して上下方向に移動自在に配置され、前記基板保持ピンが取り付けられるピン支持板と、該ピン支持板に取り付けられ、前記マスク保持ピンを前記ピン支持板に対して上下方向に移動自在となるように前記マスク保持ピンを駆動するピン駆動機構と、を備えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。

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