JP2005352070A - 基板交換装置及び露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 基板の交換時間を短縮して露光装置のスループットの向上を図る。
【解決手段】 マスクＭのパターンが露光転写された後に露光位置の基板ステージ２上の基板Ｗに対して、該基板Ｗの搬出を行うと共に、基板ステージ２上に交換用の基板Ｗを搬入する基板交換装置１０において、基板ステージ２の移動方向（Ｘ軸方向）に対して直交する基板Ｗの幅方向（Ｙ軸方向）に水平移動可能とされた搬出用ハンド部５０Ｌ及び搬入用ハンド部５０Ｒを備え、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは基板Ｗを保持する把持部を有し、且つ該基板Ｗの厚さ方向（Ｚ軸方向）に昇降可能とされると共に、基板Ｗの厚さ方向を向く軸線回り（Ｚ軸回り）に旋回可能とされている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイ等の製造工程で用いられ、基板上にマスクのパターンを露光転写するのに好適な露光装置に用いられる基板交換装置及び該基板交換装置を備えた露光装置に関する。

例えば液晶ディスプレイ等の製造工程において、ガラス等の基板にカラーフィルタや電極の回路等のパターンを露光転写する工程がある。
露光方式には例えば近接露光があり、この近接露光は、被露光材としての基板を近接露光装置の基板ステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させて両者のすき間を例えば数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって露光用の光をマスクに向けて照射することにより該基板上に該マスクに描かれたパターンを露光転写するようにしたものである。なお、近接露光の他に、投影露光等の方式もある。

ところで、近接露光には、マスクを基板と同じ大きさにして一括で露光する方式があるが、このような方式では、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合にマスクが大型化し、マスクの撓みによるパターン精度への影響やコスト面等で問題が生じる。
このような事情から、従来においては、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合には、基板より小さいマスクを用い、基板ステージを搭載した移動テーブルをマスクに対して例えばＸ軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にマスクを基板テーブル上の基板に近接配置した状態でパターン露光光を照射し、これにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写する、所謂ステップ式の近接露光方式が用いられる場合がある。また、近接露光の他に、スキャン方式を組み合わせる等して大型の基板の露光を行う方式もある。

なお、露光終了後は、基板交換装置によって基板ステージから露光後の基板を搬出すると共に、該基板ステージに交換用の基板を搬入した後、次の露光を行う。このような基板の搬入、搬出に用いる基板交換装置としては、例えば直動式のアーム伸縮軸を有するものや、多関節アームによる伸縮軸を有するものが開示されている（例えば特許文献１参照）
特開２００３−１３６４４２号公報

上記従来の基板交換装置においては、近接露光装置側の基板ステージの軸方向の移動ストロークは、基板の前記軸方向のサイズより小さく、且つフットプリントの関係でできるだけ短い長さとされているため、基板が大型化すると、基板交換装置の伸縮軸の伸縮量が長くなって基板の搬入、搬出に時間がかかり、装置全体のスループットが低下する問題がある。

特に、多関節アームによる伸縮軸を有する基板交換装置では、伸縮軸の方向に関して高速度を得ることができる区間が限られるため、アームの伸縮動作が遅く、基板の搬入、搬出に時間がかかってしまう。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、基板の交換時間を短縮して露光装置のスループットの向上を図ることができる基板交換装置及び該基板交換装置を備えた露光装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、マスクのパターンが露光転写された後に露光位置の基板ステージ上の基板に対して、該基板の搬出を行うと共に、前記基板ステージ上に交換用の基板を搬入する基板交換装置において、
前記基板ステージの移動軸方向に対して直交する前記基板の幅方向に水平移動可能とされた搬出用ハンド部及び搬入用ハンド部を備え、各ハンド部は前記基板を保持する把持部を有し、且つ該基板の厚さ方向に昇降可能とされていることを特徴とする。

請求項２に係る発明は、請求項１において、前記各ハンド部は、前記基板の厚さ方向を向く軸線回りに独立して旋回可能とされたことを特徴とする。
請求項３に係る発明は、請求項１又は２に記載した基板交換装置を備え、前記基板と前記マスクとをそれぞれＸ軸及びＹ軸の２軸方向に相対位置を変えて前記マスクのパターンを前記基板に露光可能とされた露光装置において、
前記搬入用ハンド部から前記基板ステージへの前記基板の受け渡しに際して、前記搬入用ハンド部のＹ軸方向の水平移動に同期して前記基板ステージを前記搬入用ハンド部に近づける方向に移動させる制御手段を備えることを特徴とする。

請求項１の発明によれば、搬出用ハンド部の昇降動作により交換位置にある基板ステージ上の露光後の基板を該搬出用ハンド部で受け取ると共に、搬出用ハンド部及び搬入用ハンド部の基板ステージの移動軸方向に対して直交する方向への水平移動動作、並びに搬入用ハンド部の昇降動作により該搬入用ハンド部から交換位置にある基板ステージ上に交換用の基板を搬入して基板の交換を行い、該交換後の搬出用ハンド部及び搬入用ハンド部の基板ステージの移動軸方向に対して直交する方向への水平移動動作及び昇降動作により、搬出用ハンド部から露光後の基板を装置外に搬出すると共に、搬入用ハンド部で装置外の新たな基板を受け取ることができるので、基板の大きさに影響されることなく、高速に基板の交換を行うことができ、これにより、基板の交換時間を短縮して露光装置のスループットの向上を図ることができる。

請求項２の発明では、前記交換後に搬出用ハンド部及び搬入用ハンド部の旋回動作を加えることで、前記水平移動動作のストロークを短くすることができるので、装置のフットプリントを小さくすることができる。
請求項３の発明では、露光装置の更なるスループットの向上を図ることができると共に、基板交換装置の移動ストロークの短縮化を図ることができる。

以下、本発明の実施の形態の一例を図を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態の一例である基板交換装置を用いた近接露光装置を説明するための平面図、図２は図１の矢印Ａ方向から見た図、図３はリニアモータ部の拡大断面図、図４〜図１０は基板交換装置の動作を説明するための図である。
まず、近接露光装置から説明すると、近接露光装置は、図１及び図２に示すように、ベース７上にＸ軸方向に移動可能に設けられたＸ軸移動テーブル３ｘと、Ｘ軸移動テーブル３ｘ上にＹ軸方向に移動可能に設けられたＹ軸移動テーブル３ｙと、Ｙ軸移動テーブル３ｙに搭載され、被露光材としての基板Ｗを保持するワークチャック１を上面に有する基板ステージ２と、基板Ｗより小さいマスクＭを該基板Ｗに対向させた状態でマスク保持枠４を介して保持するマスクステージ５と、マスクＭのパターンを基板Ｗに露光転写すべく露光用の光をマスクＭに向けて照射する照射装置６とを備えており、ベース７のＸ軸方向の端部に本発明の実施の形態の一例である基板交換装置１０が配置されて、基板ステージ２に対して基板Ｗの搬入、搬出が行われる。

なお、この実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘの移動方向をＸ軸、Ｘ軸移動テーブル３ｘの移動方向に対して直交する基板Ｗの幅方向をＹ軸、基板Ｗの厚さ方向をＺ軸とする。
Ｘ軸移動テーブル３ｘは、裏面にリニアガイド装置のスライダ２４が取り付けられ、該スライダ２４はベース７上にＸ軸方向に沿って平行に設置された案内レール８に転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、Ｘ軸移動テーブル３ｘが、案内レール８にＸ軸方向に沿って移動可能に支持されている。

また、この実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘをＸ軸方向に駆動（ステップ移動含む）する駆動手段として、リニアモータ１４を採用している。
このリニアモータ１４は、図３に示すように、ベース７の略中央部にＸ軸方向に沿って形成された溝１５の両側壁に取り付けられた固定子１６と、各Ｘ軸移動テーブル３ｘの裏面にＸ軸方向に沿って設けられた凸条１８の両側面に取り付けられた可動子１７とを備えており、制御装置２０によって制御される。

なお、Ｘ軸移動テーブル３ｘの駆動手段としては、リニアモータ１４の他に、例えば、ボールねじ装置と該ボールねじ装置のねじ軸を回転駆動するモータとの組合せ、タイミングベルトと駆動用モータとの組合せや、シリンダ装置等を用いることができる。
更に、ベース７上のＹ軸方向の両側には、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出する手段として、２本のリニアスケール３０，４０がＸ軸方向に沿って設けられている。２本のリニアスケール３０，４０の内の一方のリニアスケール３０は、他方のリニアスケール４０より短くされて、主に露光領域で高精度なＸ軸移動テーブル３ｘの位置決めが要求される領域に配置されており、他方のリニアスケール４０は、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を前記リニアスケール３０より低い分解能で検出するもので、ベース７のＸ軸方向の略全長に渡って配置されている。

これらのリニアスケール３０，４０の信号は制御装置２０に出力され、制御装置２０は、Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度の位置決め領域ではリニアスケール３０からの信号を選択して該Ｘ軸移動テーブル３ｘの速度を遅くするようにリニアモータ１４を制御し、その他の領域ではリニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御する。なお、図１において符号２１はリニアモータの動力線、２２はリニアスケール３０の信号線、２３はリニアスケール４０の信号線である。

Ｙ軸移動テーブル３ｙは、裏面にリニアガイド装置のスライダ２４が取り付けられており、該スライダ２４はＸ軸移動テーブル３ｘ上にＹ軸方向に沿って平行に設置された案内レール８に転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、Ｙ軸移動テーブル３ｙが、Ｘ軸移動テーブル３ｘ上の案内レール８にＹ軸方向に沿って移動可能に支持されている。

また、Ｙ軸移動テーブル３ｙと基板ステージ２との間には、基板ステージ２の単純な上下動作を行うことにより該基板ステージ２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる上下粗動装置（図示せず）と、基板ステージ２を上下に微動させてマスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置（図示せず）が設置されている。

Ｙ軸移動テーブル３ｙは、ステップ送り専用のＹ軸駆動制御手段（例えば、ボールねじ装置、該ボールねじ装置のねじ軸を回転駆動するモータ及び該モータを制御する制御装置の組合せや、リニアモータと該リニアモータを制御する制御装置の組合せ等）によってＹ軸方向にステップ移動できるようになっており、これと前記Ｘ軸方向の駆動手段により、基板ステージ２上の基板ＷのＸ軸及びＹ軸の２軸のステップ露光を可能にしている。
ここで、この実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の移動ストロークを基板Ｗの前記Ｘ軸方向の寸法より長く、且つ該基板ＷがマスクＭから完全に外れる長さとし、基板ＷがマスクＭから完全に外れた位置で本発明の実施の形態の一例である基板交換装置１０によって基板ステージ２に対して基板Ｗの搬入、搬出を行う。

基板交換装置１０はベース７のＸ軸方向の端部に設置されており、Ｙ軸方向に互いに離間配置された搬出用ハンド部５０Ｌ及び搬入用ハンド部５０Ｒを備えている。ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは上面に基板Ｗを吸着保持する把持部を有している。一方、基板ステージ２は、基板Ｗの搬入、搬出時にはワークチャック１のチャック面からピン１ａが突出した状態となるようにしている。そして、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒはその先端部が基板ステージ２の複数のピン１ａ間（図２参照）に挿入可能になっている。

ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの基板載置面、及びピン１ａの先端にはそれぞれ真空吸着孔が設けられ、基板Ｗを吸着保持可能になっている。それぞれは図示しない吸引ポンプを含む空圧制御機構に接続され、基板Ｗの受け渡しに際し、吸着／解除の制御が可能である。
また、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは独立してＺ軸方向に昇降駆動されると共に、Ｚ軸回りに旋回駆動され、更に、Ｙ軸方向にリニアガイド装置等（例えばモータとボールねじとの組合せ、或いはリニアモータ等の駆動装置を含む）を介して一体移動できるようになっている。

次に、図4 〜図１０を参照して、基板交換装置１０の作動を説明する。
図４は基板交換装置１０が待機している状態を示しており、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは先端部がＸ軸方向を向いて左側の搬出用ハンド部５０Ｌがベース７のＸ軸方向の端部中央の上方に配置され、右側の搬入用ハンド部５０Ｒに交換用の基板Ｗが吸着保持されている。このとき、本実施の形態では、Ｚ軸方向に関しては、ハンド部５０Ｌが下降位置、ハンド部５０Ｒが上昇位置にある。

そして、露光位置での基板Ｗのステップ露光が終了すると、ワークチャック１による基板Ｗの吸着を解除し、代わってピン１ａの先端部で基板Ｗを吸着させた状態でピン１ａを突出させる。この状態でＸ軸移動テーブル３ｘがベース７のＸ軸方向の基板交換装置１０側の端部（図１の二点鎖線で示す基板交換位置）に移動して搬出用ハンド部５０Ｌが基板ステージ２のワークチャック１のピン１ａ間に挿入され、搬出用ハンド部５０Ｌの上方に露光後の基板Ｗが配置される（図５参照）。このとき、制御装置２０は、リニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御するため、Ｘ軸移動テーブル３ｘは高速で基板Ｗの交換位置に移動する。

次に、図６を参照して、搬出用ハンド部５０ＬをＺ軸方向に上昇させてピン１ａに保持された露光後の基板Ｗのハンド部５０Ｌへの受け渡しを行うと共に、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを一体にＹ軸方向の左方に移動させて交換用の基板Ｗを保持した搬入用ハンド部５０Ｒを基板ステージ２のワークチャック１の上方に配置し、この状態で搬入用ハンド部５０ＲをＺ軸方向に下降させ、ハンド部５０Ｒから基板ステージ２の複数のピン１ａへの交換用の新たな基板Ｗの受け渡しを行う。

基板ステージ２の複数のピン１ａに交換用の基板Ｗが保持されると、図７を参照して、Ｘ軸移動テーブル３ｘはマスクＭ下方の露光位置までＸ軸方向に沿って移動して基板Ｗの最初の露光エリアをマスクＭに対向配置させ、基板ステージ２の上昇、又はピン１ａの下降により、基板Ｗをワークチャック１により吸着保持させて新たなステップ露光が行われる。なお、この最初の露光エリアまでの移動の際も、制御装置２０は、リニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御するため、Ｘ軸移動テーブル３ｘは高速で露光位置に移動する。

次に、図８を参照して、各ハンド部５０Ｌ，５０ＲをＺ軸回りに互いに外方に略９０°旋回させ、この状態で搬出用ハンド部５０Ｌを下降させて露光後の基板Ｗを装置外（例えば露光済の基板Ｗを収納するカセット）に搬出すると共に、図９を参照して、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを一体にＹ軸方向の右方に移動させて搬入用ハンド部５０Ｒをプリアライメント装置（図示せず）でプリアライメントがなされた新たな基板Ｗの下方に配置し、この状態で搬入用ハンド部５０ＲをＺ軸方向に上昇させて該搬入用ハンド部５０Ｒで新たな基板Ｗを受け取る。
次に、図１０を参照して、各ハンド部５０Ｌ，５０ＲをＺ軸回りに互いに内方に略９０°旋回させて元の向きに復帰させた後、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを一体にＹ軸方向の左方に移動させて、図４に示す待機位置に待機させ、上記同様の工程で基板Ｗの搬入、搬出を行う。

このようにこの実施の形態では、搬出用ハンド部５０ＬのＺ軸方向の昇降動作により交換位置にある基板ステージ２上の露光後の基板Ｗを該搬出用ハンド部５０Ｌで受け取ると共に、搬出用ハンド部５０Ｌ及び搬入用ハンド部５０ＲのＹ軸方向の一体的な水平移動動作、並びに搬入用ハンド部５０ＲのＺ軸方向の昇降動作により該搬入用ハンド部５０Ｒから交換位置にある基板ステージ２上に交換用の基板Ｗを搬入して基板Ｗの交換を行い、該交換後の搬出用ハンド部５０Ｌ及び搬入用ハンド部５０ＲのＺ軸回りの旋回動作、Ｙ軸方向への一体的な水平移動動作及びＺ軸方向の昇降動作により、搬出用ハンド部５０Ｌから露光後の基板Ｗを装置外に搬出すると共に、搬入用ハンド部５０Ｒで装置外の新たな基板Ｗを受け取ることができるので、基板Ｗの大きさに影響されることなく、高速に基板Ｗの交換を行うことができ、これにより、基板Ｗの交換時間を短縮して露光装置のスループットの向上を図ることができる。

また、基板Ｗの交換後に各ハンド部５０Ｌ，５０ＲをＺ軸回りに互いに外方に旋回動作させてからＹ軸方向へ一体的に水平移動させて露光後の基板Ｗの搬出と新たな基板Ｗの受け取りを行うようにしているので、各ハンド部５０Ｌ，５０ＲのＹ軸方向の水平移動動作のストロークを短くすることができ、装置のフットプリントを小さくすることができる。

更に、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の移動ストロークを基板Ｗの前記Ｘ軸方向の寸法より長く、且つ該基板ＷがマスクＭから完全に外れる長さとし、基板ＷがマスクＭから完全に外れた位置で、基板交換装置１０によって基板ステージ２から露光後の基板Ｗを搬出すると共に、該基板ステージ２に交換用の基板Ｗを搬入するようにしているので、従来の基板交換装置の速度の遅い伸縮軸の伸縮動作を移動速度の速いＸ軸移動テーブル３ｘの移動動作に代えることができ、これにより、基板Ｗの搬入、搬出にかかる時間が短縮されて、露光装置のスループットの更なる向上を図ることができる。

更に、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出するリニアスケール３０と、該Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置をリニアスケール３０より低い分解能で検出するリニアスケール４０とを備え、制御装置２０が、リニアスケール３０及びリニアスケール４０からの信号を選択すると共に、該選択信号に基づいてリニアモータ１４を制御することで、Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度の位置決め領域ではリニアモータ３０からの信号を選択して該Ｘ軸移動テーブル３ｘの速度を遅くし、その他の領域ではリニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くしているので、基板交換位置までのＸ軸移動テーブル３ｘの速度をより高速化することができ、これにより、基板Ｗの搬入、搬出にかかる時間の更なる短縮化を図ることができる。

なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、各ハンド部５０Ｌ，５０ＲをＺ軸回りに旋回駆動させる場合を例に採ったが、必ずしもこのようにする必要はなく、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの独立したＺ軸方向の昇降駆動とＹ軸方向の一体移動だけで、基板Ｗの交換を行うようにしてもよい。

即ち、図８に示すような各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの旋回動作は行わず（即ち、旋回動作機構を省略してもよい。）、図７の状態から各ハンド部５０Ｌ，５０ＲをＹ軸方向に水平移動させて、露光後の基板Ｗの搬出と新たな基板Ｗの受け取りを行う。
また、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを共通のＺ軸方向昇降駆動機構により昇降させるようにしてもよい。この場合も、旋回駆動を省くようにしてもよい。即ち、１つのＺ軸昇降駆動機構により、旋回しないハンド部５０Ｌ，５０Ｒを昇降するようにしてもよい。

また、図６で各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを一体にＹ軸方向の左方に移動させる際に、Ｙ軸移動テーブル３ｙをＹ軸方向の右方に移動させることで、各ハンド部５０Ｌ，５０ＲのＹ軸方向左方への移動ストロークをＹ軸移動テーブル３ｙの移動量分短くすることができ、基板Ｗの交換作業のより高速化を図ることができる。
即ち、上記実施の形態では、基板Ｗの搬入、搬出の際に、基板ステージ２はＸ軸移動テーブル３ｘのＹ軸方向中央に位置させていたが、例えば図４及び図５に相当する工程では、基板ステージ２をＹ軸方向左方に位置させ、図６に相当する工程で、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの左方への移動時、Ｙ軸移動テーブル３ｙを右方へ移動させ、基板ステージ２をＹ軸方向右方へ位置させるようにしてもよい。これも上で述べたいずれの変形例とも組合せ可能である。このような動作は制御装置２０によって制御される。

また、上記実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出する２つのセンサとして、共にリニアスケールを採用した場合を例に採ったが、これに限定されず、Ｘ軸移動テーブル３ｘの駆動手段としてボールねじ装置と回転モータとの組合せを採用した場合には、２つのセンサの内のいずれかを回転モータの回転速度を検出するレゾルバやロータリーエンコーダ等として、該検出信号からＸ軸移動テーブル３ｘの位置を検出するようにしてもよい。

更に、上記実施の形態では、基板ステージ２をマスクＭに対して二軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射する露光装置に本発明を適用した場合を例に採ったが、これに限定されず、基板ステージ２をマスクＭに対して一軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にパターン露光用の光を照射する露光装置、或いはステップ動作を伴わない一括露光方式の露光装置にも本発明を適用することができるのは勿論である。
更に、上記実施の形態では、近接露光方式の露光装置を例に採ったが、これに限定されず、投影露光等の他の方式の露光装置に本発明を適用してもよい。

本発明の実施の形態の一例である基板交換装置を用いた近接露光装置を説明するための平面図である。 図１の矢印Ａ方向から見た図である。 リニアモータ部の拡大断面図である。 待機状態の基板交換装置を示す説明図である。 基板交換装置の基板の搬出動作を説明するための説明図である。 基板交換装置の基板の搬入動作を説明するための説明図である。 基板搬入後の基板交換装置の様子を示す説明図である。 ハンド部の旋回動作を説明するための説明図である。 露光後の基板の搬出と次回の搬入基板の受け取り動作を説明するための説明図である。 基板交換装置が待機状態に戻る様子を説明するための説明図である。

符号の説明

Ｗ 基板
Ｍ マスク
２ 基板ステージ
１０ 基板交換装置
５０Ｌ 搬出用ハンド部
５０Ｒ 搬入用ハンド部

Claims (3)

1. マスクのパターンが露光転写された後に露光位置の基板ステージ上の基板に対して、該基板の搬出を行うと共に、前記基板ステージ上に交換用の基板を搬入する基板交換装置において、
   前記基板ステージの移動軸方向に対して直交する前記基板の幅方向に水平移動可能とされた搬出用ハンド部及び搬入用ハンド部を備え、各ハンド部は前記基板を保持する把持部を有し、且つ該基板の厚さ方向に昇降可能とされていることを特徴とする基板交換装置。
2. 前記各ハンド部は、前記基板の厚さ方向を向く軸線回りに独立して旋回可能とされたことを特徴とする請求項１に記載した基板交換装置。
3. 請求項１又は２に記載した基板交換装置を備え、前記基板と前記マスクとをそれぞれＸ軸及びＹ軸の２軸方向に相対位置を変えて前記マスクのパターンを前記基板に露光可能とされた露光装置において、
   前記搬入用ハンド部から前記基板ステージへの前記基板の受け渡しに際して、前記搬入用ハンド部のＹ軸方向の水平移動に同期して前記基板ステージを前記搬入用ハンド部に近づける方向に移動させる制御手段を備えることを特徴とする露光装置。

Images