CN109585348B - 基板处理装置以及基板处理方法 - Google Patents

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Abstract

提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板(W)的手部(31)，从缓冲单元(14)输送基板(W)。缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(W)。

Description

基板处理装置以及基板处理方法
技术领域
本发明的实施方式涉及基板处理装置以及基板处理方法。
背景技术
基板处理装置是在半导体、液晶面板等的制造工序中对晶片、液晶基板等基板进行处理的装置。在该基板处理装置中，从均匀性、再现性的角度出发，采用了将基板在专用的处理室逐张进行处理的单张处理方式。另外，为了实现基板输送系统的共用化，基板被收纳于共用的专用箱(例如，FOUP等)而进行输送。在该专用箱中，基板以规定间隔层叠而被收纳。
在基板处理装置中，使用输送机器人等基板输送装置，从专用箱取出基板并输送至处理室，然后，处理结束的基板被收纳于专用箱。此时，基板处理的种类并不限定于一个种类，也存在多种处理工序在每个种类的专用的处理室中进行之后，处理结束的基板被返回到专用箱的情况。
输送机器人在专用箱、处理室、以及它们的中途的缓冲间等中，进行将处理结束的基板与未处理的基板交换的动作。该输送机器人在进行基板交换的情况下，有时用一个臂使一个手部移动来进行基板交换。
通常，缓冲间是使基板W在上下方向上层叠地收纳的类型。因此，输送机器人使臂伸缩，利用手部将处理结束的基板置于缓冲间内，然后，使手部移动到新的位置，之后再次使臂伸缩，将未处理的基板从缓冲间内取出。因此，在一次基板交换换时，手部的出入(伸缩动作)被进行两次。因此，基板输送效率较差，基板处理装置的生产性降低。
发明内容
本发明所要解决的课题在于，提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。
实施方式的基板处理装置具备：交接台，具有单独地支承基板第1载置台以及第2载置台；以及输送部，具有保持基板的手部，在与交接台之间交换基板而输送基板，交接台形成为能够实现：手部从第1载置台的上位置朝向下位置向下方向移动，将基板置于第1载置台，移动到第1载置台的下位置的手部从第1载置台的下位置向第2载置台的下位置横向移动，移动到第2载置台的下位置的手部从第2载置台的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台抬起基板。
实施方式的基板处理方法利用基板处理装置处理基板，该基板处理装置具备：交接台，具有单独地支承基板的第1载置台以及第2载置台；以及输送部，具有保持基板的手部，其中，基板处理方法具有如下工序：手部从第1载置台的上位置朝向下位置向下方向移动而将基板置于第1载置台；移动到第1载置台的下位置的手部从第1载置台的下位置向第2载置台的下位置横向移动；以及移动到第2载置台的下位置的手部从第2载置台的下位置朝向上位置向上方向移动而从第2载置台抬起基板。
根据前述的实施方式的基板处理装置或者基板处理方法，能够使生产性提高。
附图说明
图1是表示第1实施方式的基板处理装置的概略结构的俯视图。
图2是表示第1实施方式的缓冲单元、第1输送机器人以及第1移动机构的立体图。
图3是表示第1实施方式的缓冲单元、第2输送机器人以及第2移动机构的立体图。
图4是表示第1实施方式的缓冲单元的立体图。
图5是用于说明第1实施方式的第1输送机器人的基板交换作业的第1说明图。
图6是用于说明第1实施方式的第1输送机器人的基板交换作业的第2说明图。
图7是用于说明第1实施方式的第1输送机器人的基板交换作业的第3说明图。
图8是用于说明第1实施方式的第1输送机器人的基板交换作业的第4说明图。
图9是用于说明第1实施方式的第2输送机器人的基板交换作业的第1说明图。
图10是用于说明第1实施方式的第2输送机器人的基板交换作业的第2说明图。
图11是用于说明第1实施方式的第2输送机器人的基板交换作业的第3说明图。
图12是用于说明第1实施方式的第2输送机器人的基板交换作业的第4说明图。
图13是用于说明第1实施方式的缓冲单元以及第2输送机器人的移动动作的说明图。
图14是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第1说明图。
图15是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第2说明图。
图16是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第3说明图。
图17是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第4说明图。
图18是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第5说明图。
图19是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第6说明图。
图20是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第7说明图。
图21是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第8说明图。
图22是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第9说明图。
图23是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第10说明图。
图24是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第11说明图。
图25是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第12说明图。
图26是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第13说明图。
图27是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第14说明图。
图28是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第15说明图。
图29是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第16说明图。
图30是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第17说明图。
图31是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第18说明图。
图32是用于说明第1实施方式的基板处理的流程的第19说明图。
图33是表示第1实施方式的第1处理室以及第2处理室的处理时间与第2输送机器人的动作时间的关联的图。
图34是用于说明第2实施方式的缓冲单元以及第2输送机器人的移动动作的说明图。
图35是表示第3实施方式的缓冲单元的图。
具体实施方式
＜第1实施方式＞
参照图1～图33对第1实施方式进行说明。
(基本构成)
如图1所示，第1实施方式的基板处理装置10具备多个开闭单元11、第1输送机器人12、第1移动机构13、缓冲单元14、第2输送机器人15、第2移动机构16、多个基板处理单元17、以及装置附带单元18。另外，第1输送机器人12、第2输送机器人15作为输送部发挥功能，缓冲单元14作为交接台发挥功能。
另外，关于本实施方式的基板处理装置10，作为对基板表面供给处理液(例如，抗蚀剂剥离液、漂洗液、清洗液等)、并对基板表面进行处理的装置进行说明。在多个基板处理单元17中，进行多种处理工序(例如，抗蚀剂剥离工序、漂洗工序、清洗工序等)。
各开闭单元11被设置成排成一列。这些开闭单元11使作为输送容器发挥功能的专用箱(例如FOUP)的门开闭。另外，在专用箱是FOUP的情况下，开闭单元11被称为FOUP开启部(opener)。在该专用箱中，基板W以规定间隔层叠而被收纳。
第1输送机器人12以沿着各开闭单元11排列的第1输送方向移动的方式被设置在开闭单元11的列的旁边。该第1输送机器人12从通过开闭单元11打开了门的专用箱取出未处理的基板W而旋转，置于缓冲单元14内。另外，第1输送机器人12从缓冲单元14取出处理结束的基板W而旋转，置于通过开闭单元11打开了门的专用箱内。另外，第1输送机器人12在位于缓冲单元14与基板W不能交接的位置的情况下，向第1输送方向移动至能够进行该交接的位置。作为第1输送机器人12，例如能够采用具有机械臂、机械手等的机器人。
第1移动机构13为在沿第1输送方向延伸、且在与第1输送方向平行的直线上使第1输送机器人12移动的机构。第1输送机器人12设于第1移动机构13上，能够从沿第1输送方向排列的各开闭单元11的端部移动到端部。作为第1移动机构13，例如能够采用使用了直线导轨的移动机构。
缓冲单元14位于第1输送机器人12移动的第1机器人移动通路的中央附近，被设置在该第1机器人移动通路的一侧、即与各开闭单元11相反的一侧。该缓冲单元14构成为在与前述的第1输送方向正交的第2输送方向(与第1输送方向交叉的方向的一个例子)上移动。缓冲单元14是为了在第1输送机器人12与第2输送机器人15之间进行基板W的交换而暂时放置基板W的缓冲间台。在该缓冲单元14中，未处理、处理结束的基板W以规定间隔层叠而被收纳。作为缓冲单元14，例如能够使用具有收纳部、支柱等的单元(之后详细叙述)。
第2输送机器人15与缓冲单元14相同，被设置成沿前述的第2输送方向移动。该第2输送机器人15从缓冲单元14取出未处理的基板W而旋转，将未处理的基板W置于所希望的基板处理单元17内。另外，第2输送机器人15从基板处理单元17取出处理结束的基板W而旋转，将处理结束的基板W置于其他基板处理单元17或缓冲单元14内。另外，第2输送机器人15在位于不能进行缓冲单元14与基板W的交接的位置的情况下，沿第2输送方向移动至能够进行该交接的位置。作为第2输送机器人15，例如能够使用具有机器人臂、机器人手部等的机器人(之后详细叙述)。
第2移动机构16是沿第2输送方向延伸、并在与第2输送方向平行的直线上使缓冲单元14以及第2输送机器人15单独地(分开地)移动的机构。缓冲单元14以及第2输送机器人15设于第2移动机构16上，缓冲单元14被定位于比第2输送机器人15靠第1输送机器人12侧。缓冲单元14以及第2输送机器人15能够从沿第2输送方向排列的各基板处理单元17的端部移动到端部。作为第2移动机构16，例如能够采用使用了直线导轨的移动机构(之后详细叙述)。
基板处理单元17在第2输送机器人15移动的第2机器人移动通路的两侧例如各设有4个，以二列排列。基板处理单元17具有处理室17a、基板保持部17b、第1处理液供给部17c、以及第2处理液供给部17d。基板保持部17b、第1处理液供给部17c以及第2处理液供给部17d设于处理室17a内。
处理室17a例如形成为长方体形状，具有基板闸门17a1。基板闸门17a1以能够开闭的方式形成于处理室17a中的第2机器人移动通路侧的壁面。另外，处理室17a内通过下降流(down flow，垂直层流)被保持为清洁，另外，与外部相比被保持为负压。
基板保持部17b是通过销(未图示)等将基板W保持为水平状态，并以与基板W的被处理面的大致中央垂直相交的轴(与基板W的被处理面相交的轴的一个例子)为旋转中心使基板W在水平面内旋转的机构。例如，基板保持部17b通过具有旋转轴、马达等的旋转机构(未图示)使保持为水平状态的基板W旋转。
第1处理液供给部17c向基板保持部17b上的基板W的被处理面的中央附近供给第1处理液。该第1处理液供给部17c例如具有排出处理液的喷嘴，使喷嘴移动到基板保持部17b上的基板W的被处理面的中央附近，来从该喷嘴供给处理液。第1处理液从液供给单元18a经由配管(未图示)供给至第1处理液供给部17c。
第2处理液供给部17d向基板保持部17b上的基板W的被处理面的中央附近供给第2处理液。该第2处理液供给部17d例如具有排出处理液的喷嘴，使喷嘴移动到基板保持部17b上的基板W的被处理面的中央附近，来从该喷嘴供给处理液。第2处理液从液供给单元18a经由配管(未图示)被供给至第2处理液供给部17d。
装置附带单元18被设置在第2机器人移动通路的一端、即与第1输送机器人12相反侧的端。该装置附带单元18收纳液供给单元18a与控制单元(控制部)18b。液供给单元18a向各基板处理单元17供给各种处理液(例如，抗蚀剂剥离液、漂洗液、清洗液等)。控制单元18b具备将各部集中控制的微型计算机、和存储与基板处理有关的基板处理信息、各种程序等的存储部(均未图示)。该控制单元18b基于基板处理信息、各种程序来控制各开闭单元11、第1输送机器人12、第1移动机构13、第2输送机器人15、第2移动机构16、各基板处理单元17等各部。
(第1输送机器人以及第1移动机构)
接下来，参照图2对第1输送机器人12以及第1移动机构13进行说明。
如图2所示，第1输送机器人12具备第1臂单元12a、第2臂单元12b、以及旋转部12c。该第1输送机器人12是在上下两段具有二台臂单元12a、12b的双臂机器人。
第1臂单元12a具备手部(基板保持部)21与臂部22。手部21形成为能够利用把持机构(未图示)进行基板W的把持以及释放。作为把持机构，例如能够使用将抵接于基板W的外周面的多个爪部分为用于从基板W的两侧夹住基板W的组、并按照每组向接触分离方向移动的机构。臂部22连结在旋转部12c上，形成为能够利用旋转部12c以铅垂方向的轴为中心旋转。该臂部22形成为能够伸缩，保持手部21而使其沿水平的直线方向移动。第1臂单元12a利用手部21保持基板W，臂部22前进，从而向缓冲单元14、处理室17a搬入基板W，或臂部22后退，从而从它们中搬出基板W。
第2臂单元12b为与第1臂单元12a基本相同的构造，具备手部21和臂部22。它们为与前述相同的构造，因此省略其说明。另外，第1臂单元12a的手部21和第2臂单元12b的手部21设于上下两段。
旋转部12c保持第1臂单元12a以及第2臂单元12b的各臂部22，使其以铅垂方向的轴为旋转轴(机器人旋转轴)旋转。该旋转部12c内置有旋转机构(未图示)。旋转部12c电连接于控制单元18b(参照图1)，其驱动被控制单元18b控制。
第1移动机构13具备直线导轨(移动轴)13a和移动基座(移动部)13b。直线导轨13a设于地面，是沿前述的第1输送方向延伸的导轨。移动基座13b支承第1输送机器人12的旋转部12c，以能够沿直线导轨13a移动的方式设于直线导轨13a上。第1移动机构13使第1输送机器人12与移动基座13b一同沿直线导轨13a移动。该第1移动机构13电连接于控制单元18b(参照图1)，其驱动被控制单元18b控制。
(第2输送机器人、缓冲单元以及第2移动机构)
接下来，参照图3以及图4，对第2输送机器人15、缓冲单元14以及第2移动机构16进行说明。
如图3所示，第2输送机器人15具备第1臂单元15a、第2臂单元15b、液接受罩15c、以及升降旋转部15d。该第2输送机器人15是在上下两段具有二台臂单元15a、15b的双臂机器人。
第1臂单元15a具备手部(基板保持部)31与臂部32。手部31形成为能够利用把持机构(未图示)进行基板W的把持以及释放。作为把持机构，例如能够使用将抵接于基板W的外周面的多个爪部分为用于从基板W的两侧夹住基板W的组、并按照每组向接触分离方向移动的机构。臂部32连结在升降旋转部15d上，形成为能够利用升降旋转部15d沿铅垂方向升降，而且形成为能够以铅垂方向的轴为中心旋转。该臂部32形成为能够伸缩，保持手部31而使其沿水平的直线方向移动。第1臂单元15a利用手部31保持基板W，臂部32前进，从而向缓冲单元14、处理室17a搬入基板W，或臂部32后退，从而从它们中搬出基板W。
第2臂单元15b为与第1臂单元15a基本相同的构造，具备手部31和臂部32。它们为与前述相同的构造，因此省略其说明。另外，第1臂单元15a的手部31、第2臂单元15b的手部31设为上下两段。
液接受罩15c被设置成包围第1臂单元15a以及第2臂单元15b，并形成为不妨碍各臂部32的伸缩动作。由于存在该液接受罩15c，所以即使在对处理结束后的润湿了的状态的基板W进行输送的情况下液体从基板W上落下并飞溅，该液体也会打在液接受罩15c上。由此，能够抑制从基板W上落下的液体飞散到装置的地面、第2移动机构16。
升降旋转部15d保持第1臂单元15a以及第2臂单元15b的各臂部32并使它们沿铅垂方向的轴移动，使第1臂单元15a以及第2臂单元15b与液接受罩15c一同升降。另外，升降旋转部15d以铅垂方向的轴为旋转轴(机器人旋转轴)进行旋转，将保持的各臂部32与液接受罩15c一同转动。该升降旋转部15d内置有升降机构、旋转机构(都未图示)。升降旋转部15d电连接于控制单元18b(参照图1)，其驱动被控制单元18b控制。
如图3以及图4所示，缓冲单元14具备收纳部14a和支柱14b。收纳部14a具有第1载置台14a1以及第2载置台14a2、和支承它们的支承体14a3，形成为能够收纳二张基板W。支柱14b形成为将收纳部14a支承在能够利用第1输送机器人12以及第2输送机器人15进行基板W的出入的高度。
第1载置台14a1以及第2载置台14a2被定位在同一平面(例如，水平面)内，以使单独地置于这些载置台14a1、14a2的基板W横向排列地设于支承体14a3。这些第1载置台14a1以及第2载置台14a2分别由一对载置台部件41构成，单独地支承基板W。一对载置台部件41分别仅离开规定距离，且以手部31(以及手部21)能够通过该一对载置台部件41之间的方式设于支承体14a3。由此，手部31(以及手部21)能够向相对于载置台14a1、14a2从其上位置朝向下位置的下方向、还有从下位置朝向上位置的上方向通过载置台14a1、14a2(一对载置台部件41之间)地移动。换句话说，关于第1载置台14a1以及第2载置台14a2分别形成为，手部31(以及手部21)从载置台14a1、14a2的上位置通过载置台14a1、14a2(一对载置台部件41之间)向载置台14a1、14a2的下位置移动，能够将基板W置于载置台14a1、14a2，且手部31(以及手部21)从载置台14a1、14a2的下位置通过载置台14a1、14a2(一对载置台部件41之间)向载置台14a1、14a2的上位置移动，能够从载置台14a1、14a2提起基板W。
支承体14a3将第1载置台14a1以及第2载置台14a2、即二组的一对载置台部件41在同一平面内定位地支承。支承体14a3利用对置的两个侧壁42分别支承二组的一对载置台部件41中的位于外侧的两个载置台部件41，利用支承部件43支承二组的一对载置台部件41中的位于内侧的两个载置台部件41。支承部件43形成为从支承体14a3的上部中央向下方延伸至侧壁42的高度方向的长度的一半。一对载置台部件41在同一平面内被定位为对置，相互支承基板W的外周的一部分地保持一张基板W。在一对载置台部件41上，从其上方利用手部31(或者手部21)载置基板W。支承体14a3在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方具有手部31能够沿水平方向移动的空间。换句话说，支承体14a3形成为手部31能够从两个载置台14a1、14a2中的一方的下位置横向移动到另一方的下位置。该手部31的向横向的移动是相对于手部31的上下方向的移动的左右方向的移动，但手部31的移动并不限定于水平移动，例如也可以是向倾斜方向的移动。
第2移动机构16具备直线导轨(第1移动轴)16a、移动基座(第1移动部)16b、和移动基座(第2移动部)16c。直线导轨16a设于地面，是沿前述的第2输送方向延伸的导轨。移动基座16b支承缓冲单元14的支柱14b，以能够沿直线导轨16a移动的方式设于直线导轨16a上。另外，移动基座16c将第2输送机器人15的升降旋转部15d支承为能够旋转，以能够沿直线导轨16a移动的方式设于直线导轨16a上。第2移动机构16使缓冲单元14与移动基座16b一同沿直线导轨16a移动，另外，使第2输送机器人15与移动基座16c一同沿直线导轨16a移动。该第2移动机构16电连接于控制单元18b(参照图1)，其驱动被控制单元18b控制。
这里，缓冲单元14、第2输送机器人15的移动也根据需要被限制。例如，缓冲单元14与第2输送机器人15交接基板W时，缓冲单元14、第2输送机器人15的移动被限制。其中，在使缓冲单元14、第2输送机器人15以相同的速度向同一方向一同移动的情况下，能够在移动中进行基板W的交接。另外，例如，在图1中，第2输送机器人15在隔着沿上下(连结装置附带单元18与开闭单元11的方向)延伸的第2机器人输送通路从左侧的处理室17a向与其对置的右侧的处理室17a输送基板W的情况下(180度的旋转动作时)，第2输送机器人15的移动被限制。在该旋转动作时，缓冲单元14位于阻碍第2输送机器人15的旋转动作的位置的情况下，在第2输送机器人15的旋转动作前，缓冲单元14退避到不阻碍第2输送机器人15的旋转动作的位置。另外，例如，在图1中，缓冲单元14、第2输送机器人15以不同速度向相同方向移动的情况下、一方移动而另一方不移动的情况下、相互向靠近的方向反向移动的情况下等，第2输送机器人15与缓冲单元14干扰(碰撞)这种情况下，缓冲单元14先移动到不阻碍第2输送机器人15的移动的位置、或缓冲单元14以与第2输送机器人15相同的速度同向移动。另外，第1输送机器人12、缓冲单元14的移动也根据需要被限制。例如，第1输送机器人12与缓冲单元14交接基板W时，第1输送机器人12、缓冲单元14的移动被限制。
(第1输送机器人相对于缓冲单元的基板交换作业)
接下来，参照图5～图8说明第1输送机器人12相对于缓冲单元14的基板交换作业。第1载置台14a1(图5～图8中的右侧)是放置处理结束的基板W的载置台，第2载置台14a2(图5～图8中的左侧)是放置未处理的基板W的载置台。
图5～图8示出第1输送机器人12利用第1臂单元12a的手部21将置于缓冲单元14的收纳部14a内的处理结束的基板W取出，而且利用第2臂单元12b的手部21向缓冲单元14的收纳部14a内放置未处理的基板W的基板交换作业的流程。另外，图5所示的手部21的位置是第1载置台14a1的下位置，图6所示的手部21的位置是第1载置台14a1的上位置，图7所示的手部21的位置是第2载置台14a2的上位置，图8所示的手部21的位置是第2载置台14a2的下位置。这样“第1载置台14a1的下位置”指的是相对于第1载置台14a1为下方的位置，“第2载置台14a2的下位置”指的是相对于第2载置台14a2为下方的位置。同样，“第1载置台14a1的上位置”指的是相对于第1载置台14a1为上方的位置，“第2载置台14a2的上位置”指的是相对于第2载置台14a2为上方的位置。
如图5所示，处理结束的基板W置于收纳部14a的第1载置台14a1上。第1臂单元12a的手部21利用臂部22的伸长动作，进入置于第1载置台14a1的处理结束的基板W的下方而向第1载置台14a1的下位置移动，从该第1载置台14a1的下位置朝向上位置向上方向移动。该手部21通过第1载置台14a1(一对载置台部件41之间)，如图6所示那样抵接于放置于第1载置台14a1的处理结束的基板W的下表面而抬起处理结束的基板W，并把持抬起的处理结束的基板W。然后，手部21在第1载置台14a1的上位置停止，利用臂部22的收缩动作从第1载置台14a1的上位置退避。这样，收纳部14a内的处理结束的基板W被第1臂单元12a从收纳部14a内取出。
另外，第2臂单元12b的手部21如图7所示，以保持未处理的基板W的状态，利用臂部22的伸长动作，进入第2载置台14a2的上方，将未处理的基板W定位于第2载置台14a2的上位置，支承未处理的基板W的同时解除手部21的把持，从第2载置台14a2的上位置朝向下位置向下方向移动。该手部21通过第2载置台14a2(一对载置台部件41之间)，如图8所示那样将未处理的基板W置于第2载置台14a2上。然后，手部21在第2载置台14a2的下位置停止，利用臂部22的收缩动作从第2载置台14a2的下位置退避。这样，未处理的基板W被第2臂单元12b载置于收纳部14a内。
这样，在第1输送机器人12的基板交换作业中，首先，置于收纳部14a的第1载置台14a1上的处理结束的基板W从其下方被第1臂单元12a的手部21抬起，被从收纳部14a内取出。另外，未处理的基板W被第2臂单元12b的手部21从收纳部14a的第2载置台14a2的上方放置于其第2载置台14a2上。
(第2输送机器人相对于缓冲单元的基板交换作业)
接下来，参照图9～图12说明第2输送机器人15对于缓冲单元14的基板交换作业。与前述相同，第1载置台14a1(图9～图12中的右侧)是放置处理结束的基板W的载置台，第2载置台14a2(图9～图12中的左侧)是放置未处理的基板W的载置台。
图9～图12示出第2输送机器人15利用第1臂单元15a的手部31向缓冲单元14的收纳部14a内放置处理结束的基板W、接着将置于缓冲单元14的收纳部14a内的未处理的基板W取出的基板交换作业的流程。另外，图9所示的手部31的位置是第1载置台14a1的上位置，图10所示的手部31的位置是第1载置台14a1的下位置，图11所示的手部31的位置是第2载置台14a2的下位置，图12所示的手部31的位置是第2载置台14a2的上位置。
如图9所示，未处理的基板W置于收纳部14a的第2载置台14a2上。第1臂单元15a的手部31以保持处理结束的基板W的状态，利用臂部32的伸长动作，进入第1载置台14a1的上方，将处理结束的基板W定位于第1载置台14a1的上位置，支承处理结束的基板W的同时解除手部31的把持，从第1载置台14a1的上位置朝向下位置向下方向移动。该手部31通过第1载置台14a1(一对载置台部件41之间)，如图10所示那样将处理结束的基板W置于第1载置台14a1上，在第1载置台14a1的下位置停止。这样，处理结束的基板W利用第1臂单元15a载置于收纳部14a内。然后，手部31以臂部32伸长的状态，以机器人旋转轴为中心旋转，从第1载置台14a1的下位置横向移动到第2载置台14a2的下位置。
如图11所示，移动到第2载置台14a2的下位置的手部31从置于第2载置台14a2的未处理的基板W的下方朝向上方移动，从第2载置台14a2的下位置朝向上位置向上方向移动。该手部31通过第2载置台14a2(一对载置台部件41之间)，如图12所示那样抵接于置于第2载置台14a2的未处理的基板W的下表面而抬起未处理的基板W，并把持抬起的未处理的基板W。然后，手部31在第2载置台14a2的上位置停止，利用臂部32的收缩动作从第2载置台14a2的上位置退避。这样，收纳部14a内的未处理的基板W被第1臂单元15a从收纳部14a内取出。
这样，在第2输送机器人15的基板交换作业中，首先，处理结束的基板W被第1臂单元15a的手部31从收纳部14a的第1载置台14a1的上方置于其第1载置台14a1上。之后，置于收纳部14a的第2载置台14a2上的未处理的基板W从其下方被第1臂单元15a的手部31抬起，并从收纳部14a内取出。该基板交换作业时，手部31从第1载置台14a1的上位置通过第1载置台14a1(一对载置台部件41之间)而向第1载置台14a1的下位置移动，接着以机器人旋转轴为中心旋转，从第1载置台14a1的下位置横向移动到第2载置台14a2的下位置，从第2载置台14a2的下位置通过第2载置台14a2(一对载置台部件41之间)而向第2载置台14a2的上位置移动。
第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方有连通的空间，手部31能够不与这些第1载置台14a1以及第2载置台14a2干扰地在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方横向移动。
这里，输送机器人15进行基板交换的情况下，有时利用一个臂部32使一个手部31移动而进行基板交换。例如，如本实施方式那样，从第1处理室17a接着向第2处理室17a进行湿式处理的情况下，例如有时在基于纯水的清洗处理后，保持基板表面被水润湿的状态进行接下来的工序的处理较为高效。此时，若基板表面未被均匀地润湿，则基板表面局部干燥而基板品质降低。因此，基板W被设为水平，以其表面被液膜覆盖的浸液状态输送到接下来的处理室17a。在该输送中，重要的是以水不会从基板表面落下的方式进行输送。这样的情况下，即使具有两个臂单元15a、15b，根据基板W的处理状态进行分开使用，也由于有进入缓冲单元14的臂部32限定于一根臂的情况，所以有时不得不以一根臂部32进行基板W的取放。
在该情况下，在从第1处理室17a接着向第2处理室17a进行湿式处理时，使用将第1处理结束的基板W保持湿润地向第2处理室17a输送的一方的臂单元的手部31作为湿润手部。而且，在从缓冲单元14取出未处理的基板W而安置于第1处理室17a时，或者从第2处理室17a取出处理完毕的基板W而向缓冲单元14交接时，使用另一方的臂单元的手部31作为干燥手部。即，向载置未处理以及处理完毕的基板W的缓冲单元14的进入由干燥手部来进行行。由此，湿润手部不进入缓冲单元14，能够抑制未处理以及处理完毕的基板W被液体附着。
在本实施方式的情况下，第1臂单元15a的手部31作为干燥手部发挥作用，第2臂单元15b的手部31作为湿润手部发挥作用。湿润手部位于比干燥手部靠下方位置，从而即使在输送湿润的基板W的中途，也能抑制够从基板W落下的液体附着于干燥手部。
以往的缓冲单元是使基板W在上下方向上层叠地收纳的类型的缓冲间。在进行对于该缓冲间的以往的基板交换作业的情况下，输送机器人使臂伸缩而利用手部(干燥手部)将处理结束的基板W置于缓冲间内，然后，使手部移动到新的位置，然后再次使臂伸缩而从缓冲间内取出未处理的基板W。因此，在以往的基板交换作业中，臂的伸缩动作成为二次。然而，根据前述的收纳部14a，仅在将处理结束的基板W置于第1载置台14a1之后，保持着伸长臂部32地以将手部31定位于第1载置台14a1的下位置的状态，使手部31与臂部32一同旋转，就能够使位于第1载置台14a1的下位置的手部31沿横向移动并定位于第2载置台14a2的下位置。在该基板交换作业中，无需使臂部32伸缩，就能够使手部31从第1载置台14a1的下位置移动到第2载置台14a2的下位置，臂部32的伸缩动作成为一次。因此，能够抑制臂部32的伸缩动作，所以能够使基板输送效率提高。
(基板处理工序)
接下来，对前述的基板处理装置10进行的基板处理(包含基板输送处理)的流程进行说明。另外，在针对基板W进行两种处理的情况下，在图1中，设定为隔着沿上下延伸的第2机器人输送通路，左侧的4个处理室17a(以下，有时设为第1处理室17a)和右侧的4个处理室17a(以下，有时设为第2处理室17a)进行不同的处理。在进行不同的处理的情况下，第1处理室17a是进行第1处理的处理室，第2处理室17a是进行第1处理之后的处理(第2处理)的处理室。
(包含基本的基板交换作业的基板处理)
首先，参照图1说明包含基本的基板交换作业的基板处理的流程。第1处理室17a和与该第1处理室17a对置的第2处理室17a被设为一组，对于未处理的基板W的第1处理以及第2处理的执行按照每组被重复。另外，第1输送机器人12、缓冲单元14以及第2输送机器人15有时如前述那样根据需要移动，但关于它们的移动的说明进行省略。
第1输送机器人12从开闭单元11内的专用箱取出未处理的基板W，旋转而将未处理的基板W置于缓冲单元14内。由此，缓冲单元14中收纳未处理的基板W。另外，在缓冲单元14内置有第2处理结束的基板W的情况下，如前述那样(参照图5～图8)，第1输送机器人12从缓冲单元14内取出第2处理结束的基板W。
第2输送机器人15从缓冲单元14内取出未处理的基板W，旋转而将未处理的基板W置于所希望的第1处理室17a内。由此，未处理的基板W被安置于第1处理室17a内。之后，在第1处理室17a中对基板W进行第1处理。另外，第2输送机器人15在将未处理的基板W从缓冲单元14内取出时保持第2处理结束的基板W的情况下，如前述那样(参照图9～图12)，在从缓冲单元14内取出未处理的基板W之前，将第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内。
若前述的第1处理室17a中的第1处理结束，则第2输送机器人15从第1处理室17a内取出第1处理结束的基板W，旋转180度而将第1处理结束的基板W置于第2处理室17a内。由此，将第1处理结束的基板W安置于第2处理室17a内。之后，在第2处理室17a中对基板W进行第2处理。
若第2处理室17a中的处理结束，则第2输送机器人15从第2处理室17a内取出第2处理结束的基板W，旋转而将第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内。由此，在缓冲单元14收纳第2处理结束的基板W。第1输送机器人12从缓冲单元14内取出第2处理结束的基板W，旋转而将处理结束的基板W置于所希望的专用箱内。由此，处理结束的基板W被收纳于专用箱。
这样的基板处理的流程按照前述的第1处理室17a和与其对置的第2处理室17a的组的每一个而执行，但在第1处理室17a与第2处理室17a中，处理内容不同，因此处理时间也不同。另外，为了使生产性提高，在各处理室17a中，处理完成后，立即利用第1、第2臂单元15a、15b中的一方的臂单元取出处理结束的基板W，利用另一方的臂单元安置接下来的处理对象的基板W。在该情况下，第2输送机器人15在缓冲单元14、第1处理室17a、第2处理室17a的各场所将处理结束的基板W的取出动作和未处理的基板W的交接动作作为1组动作来进行，第1输送机器人12在缓冲单元14中将处理结束的基板W的取出动作与未处理的基板W的交接动作作为1组动作来进行。另外，为了使生产性提高，分别向各第1处理室17a安置未处理的基板W而在各第1处理室17a中一并进行第1处理，从第1处理结束的第1处理室17a取出第1处理完毕的基板W，并安置于对应的第2处理室17a，在各第2处理室17a中一并进行第2处理。因此，实际的基板处理的流程变得比前述的基板处理的流程复杂，因此以下说明包含更具体的基板交换作业的基板处理。
(包含具体的基板交换作业的基板处理)
接着，参照图1以及图13～图32说明包含具体的基板交换作业的基板处理(包含缓冲单元14以及第2输送机器人15的移动处理的一个例子)。缓冲单元14以及第2输送机器人15基于与基板W的处理有关的基板处理信息，根据控制单元18b的控制单独地移动。作为基板处理信息，例如可列举表示需要基板交换的处理室17a的信息、表示处理室17a中的处理完成、处理开始的信息等。另外，在图14～图32中，被涂阴影线的基板W表示第1处理结束的基板W，被涂成黑色的基板W表示第2处理结束的基板W，白色的基板W表示未处理的基板W。
在图1中，将4台第1处理室17a从第1输送机器人12侧沿第2机器人输送通路依次表示为(A1)、(A2)、(A3)、(A4)，将4台第2处理室17a从第1输送机器人12侧沿第2机器人输送通路依次表示为(B1)、(B2)、(B3)、(B4)。
在图13中，与图1相同，将4台的第1处理室17a从第1输送机器人12侧沿第2机器人输送通路(直线导轨16a)依次表示为(A1)、(A2)、(A3)、(A4)。另外，在图13中，将第2输送机器人15在与缓冲单元14之间交接基板W的位置表示为(1)、(2)、(3)、(4)。
其中，(1)的位置也是第2输送机器人15相对于(A1)或者(B1)的处理室17a搬入或者搬出基板W的位置。(2)的位置也是第2输送机器人15相对于(A2)或者(B2)的处理室17a搬入或者搬出基板W的位置。(3)的位置也是第2输送机器人15相对于(A3)或者(B3)的处理室17a搬入或者搬出基板W的位置。(4)的位置也是第2输送机器人15相对于(A4)或者(B4)的处理室17a搬入或者搬出基板W的位置。另外，(1)的位置也是第1输送机器人12在与缓冲单元14之间交接基板W的位置。
在基板交换的动作中，根据前述的基板处理信息，若判断为接下来需要基板交换的处理室17a是(A1)，则位于(1)的位置的缓冲单元14从第1输送机器人12接受未处理的基板W，停留在(1)的位置。另外，在本实施例中，第1输送机器人12在与缓冲单元14之间交接基板W的位置即(1)的位置也成为在进行(A1)的处理室17a中的处理的情况下待机位置，但也可以设为不同。在该情况下，从第1输送机器人12接受未处理的基板W后，缓冲单元14移动到进行(A1)的处理室17a中的处理时待机的位置。
如图14所示，第2输送机器人15从缓冲单元14接受未处理的基板W，向(A1)的处理室17a安置基板W，并进行第1处理。接着，第2输送机器人15向(A2)～(A4)的各处理室17a安置未处理的基板W，进行第1处理。
这里，至少第2输送机器人15未对缓冲单元14进行基板W的交接的期间、例如进行(A1)的处理室17a中的第1处理的期间，缓冲单元14朝向第1输送机器人12与缓冲单元14交接基板W的位置(1)，从第1输送机器人12接受接下来处理的未处理的基板W。
如图15所示，(A1)的处理室17a中的第1处理结束前，第2输送机器人15从缓冲单元14接受未处理的基板W。若(A1)的处理室17a中的第1处理结束，则第2输送机器人15取出第1处理结束的基板W，并且将未处理的基板W安置于(A1)的处理室17a。之后，如图16所示，第2输送机器人15旋转180度，将基板W安置于(B1)的处理室17a，进行第2处理。
接着，如图17所示，第2输送机器人15在(A2)的处理室17a中，交换第1处理结束的基板W与未处理的基板W，如图18所示，旋转180度，向(B2)的处理室17a安置第1处理结束的基板W。接着，如图19所示，第2输送机器人15在(A3)的处理室17a中交换第1处理结束的基板W与未处理的基板W，如图20所示，旋转180度，向(B3)的处理室17a安置第1处理结束的基板W。接着，如图21所示，第2输送机器人15在(A4)的处理室17a中交换第1处理结束的基板W与未处理的基板W，如图22所示，旋转180度，向(B4)的处理室17a安置第1处理结束的基板W。之后，在(A1)的处理室17a安置的基板W的第1处理完成。
接着，如图23所示，若(B1)的处理室17a中的第2处理结束，则第2输送机器人15从缓冲单元14接受未处理的基板W。然后，第2输送机器人15在(A1)的处理室17a中将未处理的基板W与第1处理结束的基板W交换。接着，如图24所示，第2输送机器人15旋转180度，在(B1)的处理室17a中，将第1处理结束的基板W与第2处理结束的基板W交换。接着，第2输送机器人15如图25所示，向缓冲单元14交接第2处理结束的基板W，从缓冲单元14接受未处理的基板W。此时的动作具体而言是，第2输送机器人15将利用第1臂单元15a保持的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。
之后，(B2)～(B4)中的第2处理结束后，也以相同的流程进行包含基板交换的基板处理。
在上述的基板处理的流程中，缓冲单元14以及第2输送机器人15的移动以及基板交换动作如下所述。
从(A1)～(A4)、(B1)～(B4)的全部的处理室17a中安置有基板W的状态即图23起，说明缓冲单元14以及第2输送机器人15的移动以及基板交换动作。图23是在(B1)的处理室17a中第2处理结束的状态图。另外，在以下的说明中，位置(1)～(4)被设为参照图13。
根据前述的基板处理信息，若判断为接下来需要基板交换的处理室17a是(A1)，则如图23所示，在缓冲单元14位于(1)的位置的状态下，第2输送机器人15从缓冲单元14接受未处理的基板W。接着，第2输送机器人15面向(A1)的处理室17a，利用第2臂单元15b的手部31(湿润手部)从(A1)的处理室17a内取出第1处理结束的基板W，并且将由第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持的未处理的基板W安置于(A1)的处理室17a内。
若该第1处理结束的基板W的取出以及未处理的基板W的安置完成，则第2输送机器人15如图24所示，旋转180度，面向(B1)的处理室17a。在该状态下，第2输送机器人15利用第1臂单元15a从第2处理室17a取出第2处理结束的基板W，并且将利用第2臂单元15b保持的第1处理结束的基板W安置于(B1)的处理室17a内。第1输送机器人12如图24所示，将未处理的基板W置于缓冲单元14内。
接着，根据前述的基板处理信息，若判断为接下来需要基板交换的处理室17a是(A2)，则位于(1)的位置的缓冲单元14在基于第1输送机器人12的基板交换结束后，保持接下来处理的未处理的基板W，如图25所示，从(1)的位置向(2)的位置移动。此时，在缓冲单元14的移动与第2输送机器人15的动作干扰的情况下，如图24所示，缓冲单元14在(1)的位置待机。
另外，如图25所示，第2输送机器人15在之前的作业中结束(B1)的处理室17a的基板交换作业时，以用第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业的(2)的位置移动。在该第2输送机器人15的移动的同时，在(1)的位置待机的缓冲单元14也向(2)的位置移动((1)→(2)的移动)。
然后，如图25所示，第2输送机器人15将由第1臂单元15a取出的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。未处理的基板W被取出，载置了第2处理结束的基板W的缓冲单元14如图26所示，从(2)的位置向(1)的位置移动((2)→(1)的移动)。
另外，例如，在缓冲单元14以及第2输送机器人15的移动速度相同的情况下等，也可以在缓冲单元14以及第2输送机器人15从(1)的位置向(2)的位置移动的过程中，执行未处理的基板W的交接。
如图26所示，第2输送机器人15面向(A2)的处理室17a，利用第2臂单元15b的手部31(湿润手部)，从(A2)的处理室17a内取出第1处理结束的基板W，并且将由第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持的未处理的基板W安置于(A2)的处理室17a内。
若该第1处理结束的基板W的取出以及未处理的基板W的安置完成，则第2输送机器人15如图27所示，旋转180度，面向(B2)的处理室17a。在该状态下，第2输送机器人15利用第1臂单元15a从第2处理室17a取出第2处理结束的基板W，并且将由第2臂单元15b保持的第1处理结束的基板W安置于(B2)的处理室17a内。
另外，第1输送机器人12如图26所示，从返回(1)的位置的缓冲单元14取出第2处理结束的基板W，并且将未处理的基板W置于缓冲单元14内(参照图5～图8)。
若该第1输送机器人12对基板W的交接结束，则缓冲单元14基于前述的基板处理信息，向接下来进行基板交换作业的场所移动。在接下来需要基板交换的处理室17a是(A3)的情况下，缓冲单元14如图28所示，从(1)的位置向(3)的位置移动。在该缓冲单元14的移动与第2输送机器人15的动作干扰的情况下，如图27所示，缓冲单元14移动至(2)的位置，在该(2)的位置待机((1)→(2)的移动)。
另外，如图28所示，第2输送机器人15一旦在之前的作业中结束(B2)的处理室17a中的基板交换作业，则以用第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业(3)的位置移动。与该第2输送机器人15的移动同时，在(2)的位置待机的缓冲单元14也向(3)的位置移动((2)→(3)的移动)。
然后，如图28所示，第2输送机器人15将由第1臂单元15a取出的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。未处理的基板W被取出，载置了第2处理结束的基板W的缓冲单元14如图29所示，从(3)的位置向(1)的位置移动((3)→(1)的移动)。
如图29所示，第2输送机器人15面向(A3)的处理室17a，利用第2臂单元15b的手部31(湿润手部)，从(A3)的处理室17a内取出第1处理结束的基板W，并且将由第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持的未处理的基板W安置于(A3)的处理室17a内。
若该第1处理结束的基板W的取出以及未处理的基板W的安置完成，则第2输送机器人15如图30所示，旋转180度，面向(B3)的处理室17a。在该状态下，第2输送机器人15利用第1臂单元15a从第2处理室17a取出第2处理结束的基板W，并且将由第2臂单元15b保持的第1处理结束的基板W安置于(B3)的处理室17a内。
另外，第1输送机器人12如图29所示，从返回到(1)的位置的缓冲单元14取出第2处理结束的基板W，并且将未处理的基板W置于缓冲单元14内(参照图5～图8)。
若该第1输送机器人12对基板W的交接结束，则缓冲单元14基于前述的基板处理信息，向接下来进行基板交换作业的场所移动。在接下来需要基板交换的处理室17a是(A4)的情况下，缓冲单元14如图31所示，从(1)的位置向(4)的位置移动。在该缓冲单元14的移动与第2输送机器人15的动作干扰的情况下，缓冲单元14移动到(3)的位置，如图30所示，在该(3)的位置待机((1)→(3)的移动)。
另外，如图31所示，第2输送机器人15一旦在之前的作业中结束(B2)的处理室17a中的基板交换作业，则以用第1臂单元15a的手部31(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业(4)的位置移动。与该第2输送机器人15的移动同时，在(3)的位置待机的缓冲单元14也向(4)的位置移动((3)→(4)的移动)。
然后，如图31所示，第2输送机器人15将由第1臂单元15a取出的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。接着，第2输送机器人15与前述的(A3)与(B3)的处理室17a中的基板交换作业相同，进行(A4)与(B4)的处理室17a中的基板交换作业。未处理的基板W被取出的缓冲单元14如图32所示，从(4)的位置向(1)的位置移动((4)→(1)的移动)。
另外，第1输送机器人12如图32所示，从返回到(1)的位置的缓冲单元14取出第2处理结束的基板W，并且将未处理的基板W置于缓冲单元14内(参照图5～图8)。
通过重复前述的那种动作，使得基板处理进展。第1输送机器人12以缓冲单元14位于(1)的位置的状态，重复以下处理：利用第1臂单元12a从缓冲单元14取出第2处理结束的基板W，并利用第2臂单元12b向缓冲单元14内放置未处理的基板W。
在这样的基板处理工序中，第2输送机器人15与缓冲单元14进行基板交换作业。在该基板交换作业时，第2输送机器人15的手部31如图9～图12所示，从第1载置台14a1的上位置通过第1载置台14a1(一对载置台部件41之间)而向第1载置台14a1的下位置移动，以机器人旋转轴为中心旋转，从第1载置台14a1的下位置横向移动到第2载置台14a2的下位置，进而从第2载置台14a2的下位置通过第2载置台14a2(一对载置台部件41之间)而向第2载置台14a2的上位置移动。在该一系列的动作中，不产生臂部32的伸缩动作。换句话说，在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方具有连通的空间，手部31能够不干扰第1载置台14a1以及第2载置台14a2地在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方移动。在以往的基板交换作业中，如前述那样，需要进行两次臂部32的伸缩动作，但根据前述的收纳部14a，仅以将臂部32伸长而将手部31定位于第1载置台14a1的下位置的状态，使手部31与臂部32一同旋转，就能够使位于第1载置台14a1的下位置的手部31定位于第2载置台14a2的下位置。由此，臂部32的伸缩动作成为一次，因此，能够抑制臂部32的伸缩动作，手部31的出入与以往的二次相比成为一次，得以省略，因此能够缩短基板输送时间。这样，能够使基板输送效率提高，增加基板处理张数，因此能够使基板处理装置10的生产性提高。
另外，对应于基板处理的进展，缓冲单元14与第2输送机器人15能够独立地向每个处理室17a的基板交换作业位置(缓冲单元14与第2输送机器人15交换基板W的位置)移动。在缓冲单元14固定于图13(1)的位置的情况下，若接下来需要基板交换的处理室17a是(A3)，则位于(2)的位置的第2输送机器人15返回(1)的位置而与固定的缓冲单元14进行基板交换作业，然后，向(3)的位置移动。然而，如前述那样缓冲单元14的位置并非固定，缓冲单元14能够移动。因此，在接下来需要基板交换的处理室17a是(A3)的情况下，第2输送机器人15仅从(2)的位置向(3)的位置与缓冲单元14一同移动即可，与缓冲单元14为固定的情况相比，第2输送机器人15的移动时间变短。由此，能够缩短到开始基板交换作业为止的等待时间，能够高效地实施基板交换作业、即基板输送。另外，即使取代在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方设置连通的空间，能够载置于缓冲单元14的基板W的张数减少，在第2输送机器人15进行各处理室17a中的基板交换作业的期间，缓冲单元14也能够移动而在与第1输送机器人12之间进行未处理的基板W的补充与处理完毕的基板W的交换。因此，能够缩短开始与第2输送机器人15的基板交换作业之前的等待时间，能够高效地实施基板交换作业、即基板输送。
另外，如本实施方式那样，多个处理室17a以列状排列的情况下，在设于各处理室17a排列的方向的第2机器人移动通路的一端、与即第1输送机器人12相反侧的端所设置的处理室17a(图1中的(A4))，是与定位于在与第1输送机器人12之间交换基板W的位置的缓冲单元14之间的距离最远的处理室。
这里，在缓冲单元14固定于与第1输送机器人12之间交换基板W的位置的情况下，与距缓冲单元14距离近的处理室17a比较，对于距缓冲单元14距离远的处理室17a来说，第2输送机器人15的移动时间变长。图33是表示第1处理室17a以及第2处理室17a的处理时间与第2输送机器人15的动作时间的相关的图。在图33中，A示出了缓冲单元14中的交换所花的时间，B示出了基于基板处理信息向接下来交换基板W的处理室17a的移动所花的时间，C示出了处理室17a中的基板交换所花的时间，D示出了从第1处理室17a向第2处理室17a的旋转输送所花的时间，E示出了处理室17a中的基板交换所花的时间，F示出了从交换了基板W的处理室17a向缓冲单元14的移动所花的时间。如图33的“比较例”所示，越是远离缓冲单元14的处理室17a，B与F的移动时间越长。因此，如“比较例”所示，存在如下情况；即使处理结束，第2输送机器人15有时也在其他处理室17a中进行基板交换，在结束了处理的处理室17a中，产生等待处理完毕的基板W的取出与未处理的基板W的安置的等待时间。特别是，在处理室17a中进行处理时间少的处理的情况下、或第1处理与第2处理的处理时间之差较大的情况下，等待时间增大，生产性降低。
如上述实施例那样，缓冲单元14能够从沿第2输送方向排列的各基板处理单元17的端部移动到端部。因此，如图33的“第1实施方式”所示，在进行处理室(A1)～(A4)中的各基板交换作业时，能够以与第2输送机器人15的移动时间最短的向处理室(A1)的移动时间相同的移动时间向其他各处理室17a输送基板W。另外，缓冲单元14在第2输送机器人15进行B～E的作业的期间，移动至第1输送机器人12的交接位置，进行未处理的基板W与处理结束的基板W的交换，并移动到下一个处理室17a的位置，因此第2输送机器人15的等待时间也能够减少。其结果，在规定的处理室17a中的处理时间中，在其他处理室17a中也结束基板交换作业，能够减少处理室17a中的处理等待时间，能够实现高效的输送。
另外，缓冲单元14以及第2输送机器人15设于第2移动机构16上。即，缓冲单元14以及第2输送机器人15设于同轴的移动机构(同轴上)。因此，与使缓冲单元14以及第2输送机器人15在不同轴上移动的情况相比，能够缩窄第2机器人移动通路。如果缩窄第2机器人移动通路，则能够缩短隔着第2机器人移动通路设置的第1处理室17a与第2处理室17a之间的距离。如上述那样，第1处理结束的润湿状态的基板W朝向第2处理室17a旋转地被输送。在该旋转输送时，离心力起作用，存在液体从基板W溅起而附着于装置内的可能性。因此，为了减少离心力，第2输送机器人15需要减慢旋转动作。然而，如果能够缩短第1处理室17a与第2处理室17a之间的距离，则能够减小第2输送机器人15的旋转半径，能够减少离心力的影响来进行旋转输送。因此，能够更快地进行旋转动作，能够缩短输送时间。
另外，在第2输送机器人15从第1处理室17a朝向第2处理室17a输送润湿状态的基板W时，若缓冲单元14被定位于接近第2输送机器人15的位置，则担心在第2输送机器人15旋转时，液体受离心力而溅起并附着于缓冲单元14内。若附着于缓冲单元14内，则有附着于其内部收纳的未处理的基板W、处理完毕的基板W并对产品品质带来负面影响的可能性。因此，第2输送机器人15的保持基板W的手部31向远离缓冲单元14的方向进行旋转动作。例如在图1中，缓冲单元14从第2输送机器人15观察时位于左边，因此第2输送机器人15以顺时针旋转的方式进行旋转动作。由此，能够防止液体向缓冲单元14内溅起地进行旋转输送，能够避免对基板W的产品品质带来负面影响。
另外，在使缓冲单元14、第2输送机器人15一同移动的情况下，也能够在它们的移动中进行基板W的交接。由此，与在移动中不执行基板W的交接的情况相比，能够加快基板交换作业的开始。因此，能够进一步缩短到开始基板交换作业为止的等待时间，能够高效地实施基板输送。
如以上说明的那样，根据第1实施方式，缓冲单元14的收纳部14a能够形成为，具有单独地支承基板W的第1载置台14a1以及第2载置台14a2，手部31从第1载置台14a1的上位置朝向下位置向下方向移动而将基板W置于第1载置台14a1，移动到第1载置台14a1的下位置的手部31从第1载置台14a1的下位置向第2载置台14a2的下位置横向移动，移动到第2载置台14a2的下位置的手部31从第2载置台14a2的下位置朝向上位置向上方向移动而从第2载置台14a2抬起基板W。因此，在基板交换作业中，手部31如前述那样，能够从第1载置台14a1的上位置朝向下位置向下方向移动，并从第1载置台14a1的下位置向第2载置台14a2的下位置横向移动，并从第2载置台14a2的下位置朝向上位置向上方向移动。此时，不需要臂部22、32的伸缩动作，能够抑制臂部22、32的伸缩动作。因此，手部31的出入与以往的二次相比被省略为一次，因此能够缩短基板输送时间。由此，能够使基板输送效率提高，增加基板处理张数，因此能够使基板处理装置10的生产性提高。
另外，基于关于基板W的处理的基板处理信息，缓冲单元14以及第2输送机器人15单独地移动。由此，缓冲单元14与第2输送机器人15能够独立且根据基板处理信息向处理室17a附近的基板交换作业位置(所希望位置)移动。因此，能够缩短到开始基板交换作业为止的等待时间，能够高效地实施基板输送，因此能够使基板处理装置10的使生产性提高。
＜第2实施方式＞
参照图34对第2实施方式进行说明。另外，在第2实施方式中，对与第1实施方式的不同点(第2移动机构)进行说明，省略其他说明。
如图34所示，第2实施方式的第2移动机构16在第2输送机器人15所移动的移动路径的上方将缓冲单元14所移动的移动路径定位，使缓冲单元14以及第2输送机器人15单独地移动以使缓冲单元14以及第2输送机器人15不会干扰。该第2移动机构16除了第1实施方式的直线导轨(第1移动轴)16a、移动基座16b以及移动基座16c之外，还具备直线导轨(第2移动轴)16d。
直线导轨16d设于顶面，是沿第2输送方向延伸的导轨。在该直线导轨16d上以能够沿直线导轨16d的延伸方向移动的方式设有缓冲单元14。缓冲单元14的移动基座16b安装于直线导轨16d，在移动基座16b经由作为悬挂部件发挥功能的支柱14b安装有收纳部14a。
直线导轨16a如第1实施方式中说明的那样设于地面。在该直线导轨16a上以能够沿直线导轨16a的延伸方向移动的方式设有第2输送机器人15。第2输送机器人15的移动基座16c安装于直线导轨16a。
如前述那样，缓冲单元14构成为能够在对于各处理室17a交换基板W时的第2输送机器人15的上方自由地移动的布局。该缓冲单元14的收纳部14a的高度形成为第1输送机器人12能够进行基板交换作业的高度，并且是即使收纳部14a沿直线导轨16a移动也不会碰撞于第2输送机器人15的高度。
另外，第2输送机器人15使用升降旋转部15d的升降机构(上下移动机构)，使第1臂单元15a以及第2臂单元15b的高度(手部高度)对准缓冲单元14的收纳部14a的高度，从而具有能够向缓冲单元14安置处理结束的基板W以及从缓冲单元14取出未处理的基板W的动作范围。
在基板交换的动作中，首先，根据前述的基板处理信息，若判断为接下来需要基板交换的处理室17a是(A1)，则位于(1)的位置的缓冲单元14从第1输送机器人12接受未处理的基板W，并在(1)的位置停留。另外，在本实施例中，第1输送机器人12与缓冲单元14交接基板W的位置即(1)的位置也成为在进行(A1)的处理室17a中的处理的情况下待机的位置，但也可以设为不同。在该情况下，缓冲单元14在进行(A1)的处理室17a中的处理的情况下向待机位置移动。
第2输送机器人15从缓冲单元14接受未处理的基板W，将基板W安置于(A1)的处理室17a，进行第1处理。
这里，至少在第2输送机器人15未向缓冲单元14进行基板W的交接的期间、例如进行(A1)的处理室17a中的第1处理的期间，缓冲单元14朝向第1输送机器人12与缓冲单元14交接基板W的位置(1)，从第1输送机器人12接受接下来进行处理的未处理的基板W。
若(A1)的处理室17a中的第1处理结束，则第2输送机器人15旋转180度，将基板W安置于(B1)的处理室17a，进行第2处理。
若(B1)的处理室17a中的第2处理结束，则第2输送机器人15从(B1)的处理室17a取出第2处理结束的基板W，向缓冲单元14交接，从缓冲单元14接受未处理的基板W。关于此时的动作，具体而言，第2输送机器人15将由第1臂单元15a保持的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。
接着，根据前述的基板处理信息，若判断为接下来需要基板交换的处理室17a是(A2)，则处于(1)的位置的缓冲单元14在基于第1输送机器人12的基板交换结束后，保持接下来进行处理的未处理的基板W，从(1)的位置向(2)的位置移动。此时，缓冲单元14的移动不与第2输送机器人15的动作干扰，因此缓冲单元14超过在(1)的位置进行基板交换作业的第2输送机器人15的上方而移动，在(2)的位置待机((1)→(2)的移动)。
若在之前的作业中结束(B1)的处理室17a的基板交换作业，则第2输送机器人15以用第1臂单元15a(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业的(2)的位置移动。在该位置，第2输送机器人15使第1臂单元15a上升至缓冲单元14的高度，将由第1臂单元15a保持的处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。被取出未处理的基板W的缓冲单元14从(2)的位置向(1)的位置移动((2)→(1)的移动)。
第2输送机器人15使保持未处理的基板W的第1臂单元15a下降至(A2)与(B2)的处理室17a间的基板输送高度，面向(A2)的处理室17a，利用第2臂单元15b(湿润手部)，从(A2)的处理室17a内取出第1处理结束的基板W，并且将由第1臂单元15a保持的未处理的基板W安置于(A2)的处理室17a内。若该第1处理结束的基板W的取出以及未处理的基板W的安置完成，则第2输送机器人15旋转180度，面向(B2)的处理室17a。在该状态下，第2输送机器人15利用第1臂单元15a从第2处理室17a取出第2处理结束的基板W，并且将由第2臂单元15b保持的第1处理结束的基板W安置于(B2)的处理室17a内。
第1输送机器人12利用第1臂单元12a，从返回到(1)的位置的缓冲单元14取出第2处理结束的基板W，另外，利用第2臂单元12b，将未处理的基板W置于缓冲单元14内(参照图5～图8)。若该第1输送机器人12对基板W的交接结束，则缓冲单元14基于前述的基板处理信息，向接下来进行基板交换作业的场所。在接下来需要基板交换的处理室17a是(A3)的情况下，缓冲单元14从(1)的位置向(3)的位置移动。由于该缓冲单元14的移动不与第2输送机器人15的动作干扰，因此缓冲单元14超过在(2)的位置进行基板交换作业的第2输送机器人15的上方地移动，在(3)的位置待机((1)→(3)的移动)。
第2输送机器人15若在之前的作业中结束(B2)的处理室17a的基板交换作业，则以用第1臂单元15a(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业的(3)的位置移动。在该位置，第2输送机器人15使第1臂单元15a上升至缓冲单元14的高度，将由第1臂单元15a保持的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，接着，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W(参照图9～图12)。然后，第2输送机器人15与前述的(A2)与(B2)的处理室17a中的基板交换作业相同地进行(A3)与(B3)的处理室17a中的基板交换作业。被取出未处理的基板W的缓冲单元14从(3)的位置向(1)的位置移动((3)→(1)的移动)。
第1输送机器人12从返回到(1)的位置的缓冲单元14取出处理结束的基板W，并且将未处理的基板W置于缓冲单元14内。若该第1输送机器人12对基板W的交接结束，则缓冲单元14基于前述的基板处理信息，向接下来进行基板交换作业的场所移动。在接下来需要基板交换的处理室17a是(A4)的情况下，缓冲单元14从(1)的位置向(4)的位置移动。由于该缓冲单元14的移动不与第2输送机器人15的动作干扰，因此缓冲单元14超过在(3)的位置进行基板交换作业的第2输送机器人15的上方地移动，在(4)的位置待机((1)→(4)的移动)。
第2输送机器人15若在之前的作业中结束(B3)的处理室17a的基板交换作业，则以用第1臂单元15a(干燥手部)保持第2处理结束的基板W的状态，向接下来进行基板交换作业(4)的位置移动。在该位置，第2输送机器人15使第1臂单元15a上升至缓冲单元14的高度，将由第1臂单元15a保持的第2处理结束的基板W置于缓冲单元14内，然后，利用第1臂单元15a从缓冲单元14取出未处理的基板W。然后，第2输送机器人15与前述的(A3)与(B3)的处理室17a中的基板交换作业相同地进行(A4)与(B4)的处理室17a中的基板交换作业。被取出未处理的基板W的缓冲单元14从(4)的位置向(1)的位置移动((4)→(1)的移动)。
在这样的基板处理工序中，缓冲单元14与第2输送机器人15独立，而且能够不干扰地向每个处理室17a的基板交换作业位置移动，因此与第1实施方式相同，能够缩短进行基板交换作业之前的等待时间，能够高效地实施基板交换作业、即基板输送。另外，由于缓冲单元14能够不与第2输送机器人15干扰地移动，因此能够使缓冲单元14向比第2输送机器人15靠前的处理室17a附近的基板交换作业位置移动。
如以上说明的那样，根据第2实施方式，能够获得与第1实施方式相同的效果。另外，通过分开地设置缓冲单元14的移动路径与第2输送机器人15的移动路径，使得缓冲单元14的移动与第2输送机器人15的移动不会干扰，因此能够使缓冲单元14与第2输送机器人15的移动自由度提高。因此，在进行第1处理以及第2处理的基板处理工序以外的各种基板处理工序中，也能够缩短到开始基板交换作业为止的等待时间，能够高效地实施基板输送，能够使基板处理装置10的生产性提高。
＜第3实施方式＞
参照图35对第3实施方式进行说明。另外，在第3实施方式中，对与第1实施方式的不同点(缓冲单元的收纳部)进行说明，省略其他说明。
如图35所示，第3实施方式的收纳部14a具备第1层叠收纳部51和第2层叠收纳部52。
第1层叠收纳部51以及第2层叠收纳部52被配置成彼此的高度不同且彼此的一部分重叠。在图35中，第1层叠收纳部51的高度比第2层叠收纳部52高。这些第1层叠收纳部51以及第2层叠收纳部52形成为，从第1层叠收纳部51向下方向移动的手部31不会干扰第2层叠收纳部52，而且，第1层叠收纳部51以及第2层叠收纳部52的下方空间相连。即，第1层叠收纳部51以及第2层叠收纳部52形成为，能够供手部31向第1层叠收纳部51的下位置(手部31的移动范围内最低的位置即旋转位置)移动，以机器人旋转轴为中心旋转，并从第1层叠收纳部51的下位置向第2层叠收纳部52的下位置横向移动。
第1层叠收纳部51利用一对支承壁51a将多个(图35中是4个)载置台14a1以层叠状态支承，按照每个载置台14a1收纳基板W。另外，第2层叠收纳部52与第1层叠收纳部51相同，利用一对支承壁52a将多个(图35中是4个)载置台14a2以层叠状态支承，按照每个载置台14a2收纳基板W。由于这些第1层叠收纳部51以及第2层叠收纳部52的高度不同，因此8个载置台14a1、14a2分开地设于高度不同的8个平面。
根据这种构成的收纳部14a，与第1实施方式相同，在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方具有连通的空间，手部31能够不与第1载置台14a1以及第2载置台14a2干扰地在第1载置台14a1以及第2载置台14a2的下方移动。在以往的基板交换作业中，如第1实施方式中说明的那样，臂部32的伸缩动作成为二次。然而，根据前述的收纳部14a，仅在将处理结束的基板W置于第1载置台14a1之后，保持着伸长臂部32地以将手部31定位于第1载置台14a1的下位置的定位状态，使手部31与臂部32一同旋转，就能够使位于第1载置台14a1的下位置的手部31定位于第2载置台14a2的下位置。在该基板交换作业中，无需使臂部32伸缩，就能够使手部31从第1载置台14a1的下位置移动到第2载置台14a2的下位置，臂部32的伸缩动作成为一次。因此，能够抑制臂部32的伸缩动作，因此能够使基板输送效率提高。
另外，关于第1层叠收纳部51与第2层叠收纳部52，第1层叠收纳部51的高度比第2层叠收纳部52的高度高，且彼此的一部分重叠以使从第1层叠收纳部51向下方向移动的手部31不会干扰。由此，能够将收纳部14a的横向宽度(水平方向的宽度)缩窄到从第1层叠收纳部51向下方向移动的手部31不会干扰的宽度。
如以上说明的那样，根据第3实施方式，能够获得与第1实施方式相同的效果。另外，第1层叠收纳部51与第2层叠收纳部52形成为，第1层叠收纳部51的高度比第2层叠收纳部52的高度高，且彼此的一部分重叠，以使从第1层叠收纳部51向下方向移动的手部31不会干扰。由此，能够将收纳部14a的横向宽度(水平方向的宽度)缩窄到从第1层叠收纳部51向下方向移动手部31不会干扰的宽度。
＜其他实施方式＞
在前述的说明中，作为缓冲单元14的缓冲间主体以及第2输送机器人15的机器人主体的移动机构，例示了使用采用了直线导轨16a的直线导轨的直线移动转换机构，但并不限于此，例如，也能够利用偏芯凸轮机构而并非直线导轨使缓冲间主体以及机器人主体移动。另外，虽然将地面的直线导轨16a作为缓冲间主体以及机器人主体的滑动轴，但也可以在地面设置两条直线导轨并分别设置缓冲间主体的滑动轴与机器人主体的滑动轴，使缓冲间主体以及机器人主体单独地移动。其中，在这种情况下，由于在地面设置两条直线导轨，因此相应地，装置在直线导轨排列的方向上大型化。因此，为了抑制装置向直线导轨排列的方向的大型化，期望的是以两条直线导轨成为位于上下的位置关系的方式设置两条直线导轨。
另外，在前述的说明中，例示了使用二种处理室17a，但并不限于此，例如，也可以使用三种处理室17a。在这种情况下，成为按照处理1→处理2→处理3的顺序进行处理、然后使处理结束的基板W返回缓冲单元14的作业。例如，虽然将进行处理1的处理室17a的数量设为2个，将进行处理2的处理室17a的数量设为4个，将进行处理3的处理室17a设为2个，这是因为，设想进行处理2的处理室17a的处理与处理1或者处理3相比需要2倍的时间，将台数加倍设定。
另外，在前述的说明中，缓冲单元14每当结束与第2输送机器人15的基板交接时，向进行与第1输送机器人12的基板交换的位置(1)移动，但并不限于此。例如，也可以是，如果缓冲单元14是能够保持多个基板W的多段的构成，则能够保持多个未处理基板W或多个处理结束基板W，在没有未处理基板W时，或缓冲单元14没有能够保持处理结束基板W的载置台14a1时，向进行与第1输送机器人12的基板交换的位置(1)移动。在这种情况下，能够减少缓冲单元14的第2输送方向上的往复次数。
另外，在前述的第2实施方式的说明中，第2输送机器人15使用升降旋转部15d的升降机构(上下移动机构)，配合于缓冲单元14的收纳部14a的高度，但并不限于此。例如，也可以是，缓冲单元14具有升降机构，第1输送机器人12与第2输送机器人15使缓冲单元14沿上下方向移动到能够向收纳部14a交接基板W的高度。在该情况下，基板W在第1输送机器人12与缓冲单元14、第2输送机器人15与缓冲单元14之间被交接时，缓冲单元14下降，除此以外上升而定位于不与第2输送机器人15干扰的高度。
另外，在前述的说明中，例示了缓冲单元14向第2输送方向移动，但并不限于此。例如，在图1的位置，缓冲单元14也可以固定配置于与第1输送机器人12进行基板W的交接位置。在这种情况下，第2输送机器人15为了与缓冲单元14进行基板W的交接，移动至缓冲单元14被固定配置的位置。
另外，在前述的说明中，例示了第1载置台14a1与第2载置台14a2沿与第2输送方向正交的方向排列放置，但并不限于此。例如，第1载置台14a1与第2载置台14a2也可以配置于手部31的旋转圆周上。即，载置于第1载置台14a1的基板W的中心至手部31的旋转中心(第2输送机器人15的机器人旋转轴)的距离、以及载置于第2载置台14a2的基板W的中心与手部31的旋转中心(第2输送机器人15的机器人旋转轴)的距离能够设为相同的距离。由此，手部31以臂部32伸长的状态，以机器人旋转轴为中心旋转，从第1载置台14a1的下位置向第2载置台14a2的下位置横向移动的情况下，也能够无需对第1载置台14a1与第2载置台14a2进行进一步的水平动作地进行基板W的交接动作。
以上，对本发明的几个实施方式进行了说明，但这些实施方式是作为例子而提示的，并不意图限定发明的范围。这些新的实施方式能够以其他各种方式加以实施，在不脱离发明主旨的范围内能够进行各种省略、置换、变更。这些实施方式以及其变形包含在发明的范围、主旨中，并且包含于技术方案所记载的发明和其等同的范围。

Claims (11)

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
交接台，具有单独地支承基板的第1载置台以及第2载置台；以及
输送部，具有保持上述基板的手部，在与上述交接台之间交换上述基板而输送上述基板，
上述交接台形成为能够实现：上述手部从上述第1载置台的上位置朝向下位置向下方向移动，将上述基板置于上述第1载置台，移动到上述第1载置台的下位置的上述手部从上述第1载置台的下位置向上述第2载置台的下位置横向移动，移动到上述第2载置台的下位置的上述手部从上述第2载置台的下位置朝向上位置向上方向移动，从上述第2载置台抬起上述基板。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述交接台具有将上述第1载置台以及上述第2载置台支承于同一平面内或者分别不同的平面内的支承体，
上述支承体形成为具有移动到上述第1载置台的下位置的上述手部能够从上述第1载置台的下位置向上述第2载置台的下位置沿横向移动的空间。
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述输送部使上述手部旋转而从上述第1载置台的下位置沿上述横向移动到上述第2载置台的下位置。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
具有载置有多个上述第1载置台的第1层叠收纳部和载置有多个上述第2载置台的第2层叠收纳部，
上述第1层叠收纳部和上述第2层叠收纳部被配置成相互的高度不同且相互的一部分重叠。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备：排列成两列的多个处理室；和使所述输送部在所述两列之间沿所述两列的列方向移动的移动机构，
上述第1载置台和上述第2载置台在与上述列方向正交的方向上被排列配置。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备移动机构，该移动机构基于与上述基板的处理相关的基板处理信息，使上述交接台以及上述输送部单独地移动。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，
还具备排列成二列的多个处理室，
上述移动机构以使上述交接台以及上述输送部在上述二列之间沿上述二列的列方向移动的方式使上述交接台以及上述输送部单独地移动。
8.一种利用基板处理装置处理基板的基板处理方法，该基板处理装置具备：交接台，具有单独地支承基板的第1载置台以及第2载置台；以及输送部，具有保持上述基板的手部，其特征在于，上述基板处理方法具有如下工序：
上述手部从上述第1载置台的上位置朝向下位置向下方向移动而将上述基板置于上述第1载置台；
移动到上述第1载置台的下位置的上述手部从上述第1载置台的下位置向上述第2载置台的下位置横向移动；以及
移动到上述第2载置台的下位置的上述手部从上述第2载置台的下位置朝向上位置向上方向移动而从上述第2载置台抬起上述基板。
9.根据权利要求8所述的基板处理方法，其特征在于，
上述手部旋转而从上述第1载置台的下位置沿上述横向移动至上述第2载置台的下位置。
10.根据权利要求8或9所述的基板处理方法，其特征在于，
具有如下工序：基于与上述基板的处理相关的基板处理信息，利用移动机构使上述交接台以及上述输送部单独地移动。
11.根据权利要求10所述的基板处理方法，其特征在于，
设有排列成二列的多个处理室，
在利用上述移动机构使上述交接台以及上述输送部单独地移动的情况下，以使上述交接台以及上述输送部在上述二列之间沿上述二列的列方向移动的方式使上述交接台以及上述输送部单独地移动。
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