JP2007294594A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】２台の基板ステージへの基板の供給を効率的に行って、露光転写された基板製造のタクトタイムを短縮することができる露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】露光装置ＰＥは、マスクステージ１０と、マスクステージ１０に対して相対的に移動可能な２つの基板ステージ１１，１２と、プリアライメントユニット１４と、プリアライメントユニット１４に対して対向配置された２つの基板ローダ１５，１６と、を備える。一方の基板ステージ１１を待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰに移動させて、基板ＷにマスクパターンＰを露光転写する間に、他方の基板ステージ１２を露光位置ＥＰから待機位置ＷＰ２に移動させた後、露光転写された基板Ｗを排出し、プリアライメントされた基板Ｗを基板ローダ１６により他方の基板ステージ１２に搬送し、且つ基板ローダ１５により基板Ｗをプリアライメントユニット１４に搬送する。
【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置及び露光方法に関し、より詳細には、半導体や、液晶ディスプレイパネルやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイを製造する場合に用いられる露光装置及び露光方法に関する。

従来の露光装置としては、マスクと基板を接近させた状態でマスクを介してパターン露光用の光を照射し、これにより、基板にマスクパターンを露光転写する（例えば、特許文献１及び２参照。）。

特許文献１に記載の露光装置は、マスクが配置される２つの枠体と、２つの枠体のそれぞれに対応して基板が載置される２つの基板ステージと、２つの基板ステージにそれぞれ対応して配置された２つのアライメント機構と、を備え、それぞれの枠体と基板ステージとを組み合わせた状態で、交互に露光位置に移動させて露光転写するステージ移動機構が知られている。これにより、ステージ移動機構は、２つの基板ステージでアライメントと露光とを同時に行って、タクトタイムの短縮を図っている。

また、特許文献２に記載の露光装置は、それぞれ基板を載置する複数の基板ステージと、露光位置における基板ステージの位置を検出する第１測定システムと、観測位置における基板ステージの位置を検出する第２測定システムと、を備え、複数の基板ステージを露光位置に交互に位置決めして露光転写する。これにより、２つの測定システムで基板ステージの位置を途切れることなく測定することにより、載置手段の位置を正確に測定する。
特開昭６３−８７７２５号公報 特許第３２０３７１９号公報

ところで、特許文献１及び２に記載の露光装置では、２つの基板ステージを利用することでタクトタイムの短縮を図っているが、いずれも、２つの基板ステージへの基板の搬送に関しては記載されておらず、更なる改善の余地があった。

本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、２つの基板ステージへの基板の搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる露光装置及び露光方法を提供することにある。

本発明の上記目的は、下記の構成及び方法により達成される。
（１） マスクを保持するマスクステージと、
マスクステージの下方に位置する露光位置と第１待機位置間で移動可能な第１基板ステージと、
露光位置と第２待機位置間で移動可能な第２基板ステージと、
露光位置に移動した第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光をマスクを介して照射する照射装置と、
第１及び第２基板ステージに供給される基板の位置をプリアライメントするプリアライメントユニットと、
プリアライメントユニットの側方に配置され、基板をプリアライメントユニットに搬送し、且つプリアライメントユニットでプリアライメントされた基板を第１基板ステージに搬送する第１基板ローダと、
プリアライメントユニットに対して第１基板ローダと対向配置され、基板をプリアライメントユニットに搬送し、且つプリアライメントユニットでプリアライメントされた基板を第２基板ステージに搬送する第２基板ローダと、
を備えることを特徴とする露光装置。

（２） （１）に記載の露光装置を用いた露光方法であって、
第１基板ステージを第１待機位置から露光位置に移動させて第１基板ステージに保持された基板にマスクのマスクパターンを露光転写する第１露光工程と、
プリアライメントユニットでプリアライメントされた基板を第２基板ローダにより第２基板ステージに搬送する第１搬送工程と、
基板を第１基板ローダによりプリアライメントユニットに供給して基板の位置を調整する第１プリアライメント工程と、
第２基板ステージを第２待機位置から露光位置に移動させて第２基板ステージに保持された基板にマスクのマスクパターンを露光転写する第２露光工程と、
プリアライメントユニットでプリアライメントされた基板を第１基板ローダにより第１基板ステージに搬送する第２搬送工程と、
基板を第２基板ローダによりプリアライメントユニットに供給して基板の位置を調整する第２プリアライメント工程と、
を有し、
第１搬送工程と第１プリアライメント工程の少なくとも一つは、第１露光工程と同時に行われ、且つ、
第２搬送工程と第２プリアライメント工程の少なくとも一つは、第２露光工程と同時に行われることを特徴とする露光方法。

（３） 第１露光工程で露光転写された基板を保持する第１基板ステージを露光位置から第１待機位置に移動させた後、第１基板ローダにより基板を排出させる第１排出工程と、
第２露光工程で露光転写された基板を保持する第２基板ステージを露光位置から第２待機位置に移動させた後、第２基板ローダにより基板を排出させる第２排出工程と、
をさらに備え、
第２排出工程は、第１露光工程と同時に行われ、且つ、第１排出工程は、第２露光工程と同時に行われることを特徴とする（２）に記載の露光方法。

（４） 第１基板ステージの第１待機位置から露光位置への移動は、第２基板ステージの露光位置から第２待機位置への移動と同期し、且つ
第２基板ステージの第２待機位置から露光位置への移動は、第１基板ステージの露光位置から第１待機位置への移動と同期することを特徴とする（２）または（３）に記載の露光方法。

本発明の露光装置によれば、マスクステージと、マスクステージに対して相対的に移動可能な第１及び第２基板ステージと、プリアライメントユニットと、プリアライメントユニットに対して対向配置された第１及び第２基板ローダと、を備えるので、第１及び第２基板ステージに対してプリアライメントユニットを共用することができ、露光装置の構成を簡略化しつつ、２つの基板ステージへの基板の搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる。

また、本発明の露光方法によれば、第１及び第２基板ステージの一方が待機位置から露光位置に移動して基板に露光転写する露光工程の間に、プリアライメントされた基板を他方の基板ステージに搬送する搬送工程と、基板をプリアライメントユニットに供給して位置を調整するプリアライメント工程の少なくとも一つが行われるので、基板の搬送時間を見かけ上短縮することができ、２つの基板ステージへの基板の搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる。

加えて、上記露光工程の間に、露光工程で露光転写された基板を保持する基板ステージを露光位置から待機位置に移動させた後、基板ローダにより基板を排出させる排出工程が行われるので、基板の搬送時間を見かけ上より短縮することができ、２つの基板ステージへの基板の搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる。

さらに、第１基板ステージの第１待機位置と露光位置間の移動は、第２基板ステージの第２待機位置と露光位置間の移動と同期するので、２つの基板ステージの基板の搬送が効率的に行われ、露光転写される基板のタクトタイムをより短縮することができる。

以下、本発明に係る露光装置及び露光方法の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。

図１は本発明の露光装置の全体構成を概略示す平面図、図２は露光装置の要部正面図、図３は基板ステージの側面図、図４は図１における基板ローダの側面図である。図１〜図３に示すように、露光装置ＰＥは、マスクステージ１０、第１基板ステージ１１、第２基板ステージ１２、照射装置１３、プリアライメントユニット１４、第１基板ローダ１５、第２基板ローダ１６、マスクローダ１７、及びマスクアライナ１８を備え、それぞれ基台２１上に載置されている。

マスクステージ１０は、基台２１上に配置された長方形のステージベース２３に設けられた複数の支柱２２に支持されて、ステージベース２３の上方に配設されている。複数の支柱２２は、第１及び第２基板ステージ１１，１２がＹ方向（図１中左右方向）に移動してマスクステージ１０の下方に進出可能なようにステージベース２３の上方にスペースを形成している。マスクステージ１０は、中央に矩形の開口２５ａを有して、マスクステージ１０に対してＸ，Ｙ，θ方向に位置調整可能に支持されたマスク保持部２５を備え、露光すべきパターンを有するマスクＭがこの開口２５ａに臨むようにしてマスク保持部２５に保持されている。また、マスクステージ１０には、マスク保持部２５に対するマスクＭの位置を検出するマスク用アライメントカメラ（図示せず）と、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを検出するギャップセンサ（図示せず）とが設けられている。

図２及び図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２は、被露光材としての基板Ｗを保持する基板保持部３１ａ，３１ｂを上面にそれぞれ有する。また、第１及び第２基板ステージ１１，１２の下方には、Ｙ軸テーブル３３、Ｙ軸送り機構３４、Ｘ軸テーブル３５、Ｘ軸送り機構３６、及びＺ−チルト調整機構３７を備える基板ステージ移動機構３２，３２がそれぞれ設けられる。各基板ステージ移動機構３２，３２は、ステージベース２３に対して第１及び第２基板ステージ１１，１２をＸ方向及びＹ方向に送り駆動するとともに、マスクＭと基板Ｗとの間の隙間を微調整するように、第１及び第２基板ステージ１１，１２をＺ軸方向に微動且つチルトする。

具体的に、Ｙ軸送り機構３４は、ステージベース２３とＹ軸テーブル３３との間に、リニアガイド３８とＹ軸送り駆動機構３９とを備える。ステージベース２３上には２本の案内レール４０がＹ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたスライダ４１が転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、２台のＹ軸ステージ３３，３３が、２本の案内レール４０に沿ってＹ軸方向に沿って移動可能に支持される。

また、ステージベース２３上には、モータ４２によって回転駆動されるボールねじ軸４３が、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対応してそれぞれ設けられており、ボールねじ軸４３には、Ｙ軸テーブル３３の裏面に取り付けられたボールねじナット４４が螺合されている。

また、Ｘ軸送り機構３６も、図３に示すように、Ｙ軸テーブル３３とＸ軸テーブル３５間に、リニアガイド４５とＸ軸送り駆動機構４６とが設けられている。Ｙ軸テーブル３３上には２本の案内レール４７がＸ軸方向に沿って平行に配置されており、Ｘ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたスライダ４８が転動体（図示せず）を介して跨架される。さらに、Ｙ軸テーブル３３上には、モータ４９によって回転駆動されるボールねじ軸５０が設けられており、ボールねじ軸５０には、Ｙ軸テーブル３５の裏面に取り付けられたボールねじナット５１が螺合されている。

一方、Ｚ−チルト調整機構３７は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、Ｘ軸テーブル３５の上面に設置したモータ５２によってボールねじ軸５３を回転駆動するとともに、ボールねじナット５４をくさび状の移動体に組み付け、このくさびの斜面を基板ステージ１１，１２の下面に突設したくさび５５の斜面と係合させている。

そして、このボールねじ軸５３を回転駆動させると、ボールねじナット５４がＸ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が組みつけられたくさび状の移動体の斜面により高精度の上下微動運動に変換される。この可動くさび機構は、Ｘ軸方向の一端側に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御される。

これにより、Ｙ軸送り機構３４は、各基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗを個別にマスクステージ１０の下方に配置された露光位置ＥＰに配置すべく、第１基板ステージ１１を第１待機位置ＷＰ１と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させ、第２基板ステージ１２を第２待機位置ＷＰ２と露光位置ＥＰ間で案内レール４０に沿ってＹ軸方向に移動させる。また、Ｘ軸送り機構３６及びＹ軸送り機構３４は、露光位置ＥＰにある基板保持部３１ａ，３１ｂをマスクＭに対してＸ、Ｙ方向にステップ移動させるように第１及び第２基板ステージ１１，１２を移動させる。
なお、Ｙ軸送り駆動機構３９、Ｘ軸送り駆動機構４６、及び可動くさび機構は、モータとボールねじ装置とを組み合わせているが、ステータと可動子とを有するリニアモータによって構成されてもよい。

また、図１〜図３に示すように、第１及び第２基板ステージ１１，１２には、各基板保持部３１ａ，３１ｂのＸ方向側部とＹ方向側部にそれぞれバーミラー６１，６２が取り付けられており、また、ステージベース２３のＹ軸方向の両側と、ステージベースのＸ軸方向の一側には、３台のレーザー干渉計６３，６４，６５が設けられている。これにより、レーザー干渉計６３，６４，６５からレーザー光をバーミラー６１，６２に照射し、バーミラー６１，６２により反射されたレーザー光を受光して、レーザー光とバーミラー６１，６２により反射されたレーザー光との干渉を測定し、第１及び第２ステージ１１，１２の位置を検出する。

図２に示すように、照明装置１３はマスク保持部２５の開口２５ａ上方に配置され、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ、凹面鏡、オプチカルインテグレータ、平面ミラー、球面ミラー、及び露光制御用のシャッター等を備えて構成される。照明装置１３は、露光位置に移動した第１及び第２基板ステージ１１，１２の基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗに、パターン露光用の光をマスクＭを介して照射する。これにより、基板Ｗには、マスクＭのマスクパターンＰが露光転写される。

プリアライメントユニット１４は、基台２１の外側に設置された基板カセット７０Ａ，７０Ｂから搬送された基板Ｗが、第１基板ステージ１１または第２基板ステージ１２に供給されるのに先立って、マスクＭに対する基板Ｗの位置が所定の位置となるようにプリアライメントを行うものであり、図中、マスクステージ１０の手前側に配置されている。プリアライメントユニット１４は、図示しないＸ軸送り機構、Ｙ軸送り機構、および回転機構を備え、プリアライメントユニット１４上に載置された基板Ｗの位置を所定の位置に調整する。

第１基板ローダ１５は、図１中プリアライメントユニット１４の右側方に配置され、第２基板ステージ１２に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送するようになっている。

第２基板ローダ１６は、プリアライメントユニット１４に対して第１基板ローダ１５と対向配置、即ち、図中プリアライメントユニット１４の左側に配置され、第１基板ステージ１１に供給される基板Ｗを保持してプリアライメントユニット１４へ搬送し、またプリアライメントされた基板Ｗをプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送するようになっている。

図４に示すように、第１及び第２基板ローダ１５，１６は、基台２１に固定されたコラム８１に複数の搬送部８２，８３が揺動自在に配設されるローダロボットである。複数の搬送部８２，８３は、昇降機構(図示せず。) によってコラム８１に沿って上下移動すると共に、それぞれサーボモータが配設されて互いに独立して駆動される。各搬送部８２，８３は、第１及び第２アーム８４，８５と、第１アーム８４の先端に、複数の棒状部材８６が平行して植設された基板載置台８７とを有する。そして、それぞれのサーボモータを制御して作動させることにより、基板載置台８７を昇降、回転、及び移動させて、基板載置台８７上の基板Ｗを搬送する。

具体的に、第１基板ローダ１５は、基板カセット７０Ａに収容された基板Ｗを基板載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを基板載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４から第１基板ステージ１１に搬送し、さらに、第１待機位置ＷＰ１に位置する第１基板ステージ１１上の露光転写後の基板Ｗを基板載置台８７上に載置して基板カセット７０Ａへ搬送する。

第２基板ローダ１６は、基板カセット７０Ｂに収容された基板Ｗを基板載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４へ搬送し、プリアライメントされた基板Ｗを基板載置台８７上に載置してプリアライメントユニット１４から第２基板ステージ１２に搬送し、さらに、第２待機位置ＷＰ２に位置する第２基板ステージ１２上の露光転写後の基板Ｗを基板載置台８７上に載置して基板カセット７０Ｂへ搬送する。

また、マスクローダ１７及びマスクアライナ１８は、第１基板ステージ１１に対して第１基板ローダ１５と対向配置されている。マスクローダ１７は、図４に示す第１及び第２基板ローダ１５，１６と略同様の構成を有し、基台２１の外側に設けられたマスクカセット９１からマスクＭを搬入し、マスクアライナ１８でプリアライメントされたマスクＭをマスクステージ１０に供給する。尚、マスクステージ１０へのマスクＭの供給は、マスクローダ１７によりマスクアライナ１８から直接、マスクステージ１０へ供給してもよいが、マスクローダ１７によりマスクアライナ１８から第１基板ステージ１１へ一度搬送し、次いで第１基板ステージ１１によってマスクステージ１０へ供給するようにしてもよい。また、マスクローダ１７の搬送部は、基板ローダ１５，１６と同様に複数備えてもよく、或は一つであってもよい。

次に、本発明の露光装置ＰＥによる露光方法について、図５から図７を参照して詳細に説明する。尚、説明の都合上、第１基板ステージ１１は基板Ｗを保持し、且つプリアライメントユニット１４にはプリアライメントされた基板Ｗが、既に載置されているものとして説明する。

図５に示すように、１枚目の基板Ｗを保持して第１待機位置ＷＰ１にある第１基板ステージ１１（図中一点鎖線で示す。）は、Ｙ軸送り機構３４を作動させることにより、露光位置ＥＰに移動する（矢印Ａ）。そして、図示しないギャップカメラを用いてマスクＭと基板Ｗとの間のギャップ調整を行った後、照明装置１３から１ショット目のパターン露光用の光がマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭに形成されたマスクパターンＰが基板Ｗに露光転写される。さらに、第１基板ステージ１１をステップ移動させ、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４，６５を用いてアライメント調整を行うとともに、ギャップ調整を行った後、２ショット目のパターン露光用の光によりマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写し、以後、同様にしてステップ露光を行う。（第１露光工程）。

なお、ギャップ調整後のマスクＭと基板Ｗの位置合わせをする場合は、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４を用いる代わりに、アライメントカメラを用いて行ってもよい。この場合、１ショット目の露光転写の際にも、ギャップ調整後、このアライメントカメラを用いて位置合わせをする場合がある。

上記露光転写が行われている間、プリアライメントされてプリアライメントユニット１４に載置されている２枚目の基板Ｗは、第２基板ローダ１６により矢印Ｂ方向に搬送されて第２待機位置ＷＰ２にある第２基板ステージ１２に保持される（第１搬送工程）。更に、第１基板ローダ１５は、基板カセット７０Ａに収容された３枚目の基板Ｗを受け取り、矢印Ｃ方向に搬送してプリアライメントユニット１４に供給し、基板Ｗの位置を所定の位置となるように調整する（第１プリアライメント工程）。

図６に示すように、１枚目の基板Ｗの露光転写完了後、第１基板ステージ１１は、露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１に移動し、第１基板ローダ１５は、第１基板ステージ１１から基板Ｗを受け取って、矢印Ｄ方向に搬送して基板カセット７０Ａに基板Ｗを排出する（第１排出工程）。

また、上記第１排出工程が開始するのと同時に、２枚目の基板Ｗの露光工程を開始する。即ち、第１基板ステージ１１が露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１に移動するのと同期して、２枚目の基板Ｗを保持している第２基板ステージ１２（図中一点鎖線で示す。）が、Ｙ軸送り機構３４を作動させることにより、第２待機位置ＷＰ２から露光位置ＥＰに移動する（矢印Ｅ）。その後、第１露光工程と同様に、図示しないギャップセンサを用いてマスクＭと基板Ｗとの間のギャップ調整を行った後、照明装置１３から１ショット目のパターン露光用の光がマスクＭを介して基板Ｗに照射され、マスクＭに形成されたマスクパターンＰが第２基板ステージ１２に保持された基板Ｗに露光転写される。さらに、第２基板ステージ１２をステップ移動させ、バーミラー６１，６２とレーザー干渉計６３，６４，６５を用いてアライメント調整を行うとともに、ギャップ調整を行った後、２ショット目のパターン露光用の光によりマスクパターンＰを基板Ｗに露光転写し、以後、同様にしてステップ露光を行う。（第２露光工程）。

また、第２露光工程が行われている間、既にプリアライメントされてプリアライメントユニット１４に載置されている３枚目の基板Ｗは、第１基板ローダ１５により矢印Ｆ方向に搬送されて第１待機位置ＷＰ１にある第１基板ステージ１１に保持される（第２搬送工程）。更に、第２基板ローダ１６は、基板カセット７０Ｂに収容された４枚目の基板Ｗを受け取り、矢印Ｇ方向に搬送してプリアライメントユニット１４に供給し、基板Ｗの位置が所定の位置となるように調整する（第２プリアライメント工程）。

そして、２枚目の基板Ｗの露光転写完了後、第２基板ステージ１２は、露光位置ＥＰから第２待機位置ＷＰ２に移動し、第２基板ローダ１６は、第２基板ステージ１２から基板Ｗを受け取って、基板カセット７０Ｂに排出する（第２排出工程）。また、この第２排出工程の開始と同時に、第２基板ステージ１２と同期させながら、第１基板ステージ１１を第１待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰへと移動して、第１露光工程を行う。その後、上述したように、第１露光工程が行われている間に、第２排出工程、第１搬送工程、第１プリアライメント工程が行われる。

図７は、第１及び第２基板ステージ１１，１２と第１及び第２基板ローダ１５，１６の露光動作時の位置を示す。

本実施形態では、第１及び第２基板ローダ１５，１６は、２つの搬送部８２，８３をそれぞれ有しているので、例えば、一方の搬送部８２で第１基板ステージ１１上の基板Ｗを基板カセット７０Ｂに排出させ、他方の搬送部８３でプリアライメントされた基板Ｗを第１基板ステージ１１に搬送することができ、第１搬送工程と第２排出工程を同時に行うことができる。ただし、各基板ローダ１５，１６が一つの搬送部のみ有する場合には、第２排出工程後、第１搬送工程を行えばよい。

以後、同様の操作を繰り返し行うことにより、複数の基板Ｗを順次搬送しながらマスクパターンＰが基板Ｗに露光転写される。

従って、本実施形態の露光装置ＰＥによれば、マスクステージ１０と、マスクステージ１０に対して相対的に移動可能な第１及び第２基板ステージ１１，１２と、プリアライメントユニット１４と、プリアライメントユニット１４に対して対向配置された第１及び第２基板ローダ１５，１６と、を備えるので、第１及び第２基板ステージ１１，１２に対してプリアライメントユニット１４を共用することができ、露光装置ＰＥの構成を簡略化しつつ、２つの基板ステージ１１，１２への基板Ｗの搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる。

また、本発明の露光方法によれば、第１及び第２基板ステージ１１，１２の一方が待機位置ＷＰ１，ＷＰ２から露光位置ＥＰに移動して基板Ｗに露光転写する露光工程の間に、他方の基板ステージ１１，１２を露光位置ＥＰから待機位置ＷＰ１，ＷＰ２に移動させた後、露光転写された基板Ｗを排出する排出工程と、プリアライメントされた基板Ｗを他方の基板ステージ１１，１２に搬送する搬送工程と、基板カセット７０Ａ，７０Ｂから供給される基板Ｗをプリアライメントユニット１４に供給して位置を調整するプリアライメント工程が行われるので、基板Ｗの搬送時間を見かけ上短縮することができ、２つの基板ステージ１１，１２への基板の搬送を効率的に行って、露光転写される基板のタクトタイムを短縮することができる。

さらに、第１基板ステージ１１の第１待機位置ＷＰ１から露光位置ＥＰへの移動は、第２基板ステージ１２の露光位置ＥＰから第２待機位置ＷＰ２への移動と同期し、且つ 第２基板ステージ１２の第２待機位置ＷＰ２から露光位置ＥＰへの移動は、第１基板ステージ１１の露光位置ＥＰから第１待機位置ＷＰ１への移動と同期するので、２つの基板ステージ１１，１２の基板の搬送が効率的に行われ、露光転写される基板のタクトタイムをより短縮することができる。

尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。

本発明の露光装置の全体構成を概略示す平面図である。 露光装置の要部正面図である。 基板ステージの側面図である。 図１における基板ローダの側面図である。 １枚目の基板が露光されると同時に、２枚目の基板が基板ステージに搬送され、且つ３枚目の基板がプリアライメントユニットに搬送される状態を示す説明図である。 ２枚目の基板が露光されると同時に、露光転写された１枚目の基板が排出され、３枚目の基板が基板ステージに搬送され、且つ４枚目の基板がプリアライメントユニットに搬送される状態を示す説明図である。 基板ステージ及び基板ローダの露光動作時の位置を示すグラフである。

符号の説明

１０ マスクステージ
１１ 第１基板ステージ
１２ 第２基板ステージ
１３ 照明装置
１４ プリアライメントユニット
１５ 第１基板ローダ
１６ 第２基板ローダ
７０Ａ，７０Ｂ 基板カセット
ＰＥ 露光装置
Ｍ マスク
Ｐ マスクパターン
Ｗ 基板
ＥＰ 露光位置
ＷＰ１ 第１待機位置
ＷＰ２ 第２待機位置

Claims (4)

1. マスクを保持するマスクステージと、
   該マスクステージの下方に位置する露光位置と第１待機位置間で移動可能な第１基板ステージと、
   前記露光位置と第２待機位置間で移動可能な第２基板ステージと、
   前記露光位置に移動した前記第１及び第２基板ステージに保持された基板に、パターン露光用の光を前記マスクを介して照射する照射装置と、
   前記第１及び第２基板ステージに供給される前記基板の位置をプリアライメントするプリアライメントユニットと、
   前記プリアライメントユニットの側方に配置され、前記基板を前記プリアライメントユニットに搬送し、且つ前記プリアライメントユニットでプリアライメントされた前記基板を前記第１基板ステージに搬送する第１基板ローダと、
   前記プリアライメントユニットに対して前記第１基板ローダと対向配置され、前記基板を前記プリアライメントユニットに搬送し、且つ前記プリアライメントユニットでプリアライメントされた前記基板を前記第２基板ステージに搬送する第２基板ローダと、
   を備えることを特徴とする露光装置。
2. 請求項１に記載の露光装置を用いた露光方法であって、
   前記第１基板ステージを前記第１待機位置から前記露光位置に移動させて前記第１基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのマスクパターンを露光転写する第１露光工程と、
   前記プリアライメントユニットでプリアライメントされた前記基板を前記第２基板ローダにより前記第２基板ステージに搬送する第１搬送工程と、
   前記基板を前記第１基板ローダにより前記プリアライメントユニットに供給して前記基板の位置を調整する第１プリアライメント工程と、
   前記第２基板ステージを第２待機位置から前記露光位置に移動させて前記第２基板ステージに保持された前記基板に前記マスクのマスクパターンを露光転写する第２露光工程と、
   前記プリアライメントユニットでプリアライメントされた前記基板を前記第１基板ローダにより前記第１基板ステージに搬送する第２搬送工程と、
   前記基板を前記第２基板ローダにより前記プリアライメントユニットに供給して前記基板の位置を調整する第２プリアライメント工程と、
   を有し、
   前記第１搬送工程と前記第１プリアライメント工程の少なくとも一つは、前記第１露光工程と同時に行われ、且つ、
   前記第２搬送工程と前記第２プリアライメント工程の少なくとも一つは、前記第２露光工程と同時に行われることを特徴とする露光方法。
3. 前記第１露光工程で露光転写された前記基板を保持する前記第１基板ステージを前記露光位置から前記第１待機位置に移動させた後、前記第１基板ローダにより前記基板を排出させる第１排出工程と、
   前記第２露光工程で露光転写された前記基板を保持する前記第２基板ステージを前記露光位置から前記第２待機位置に移動させた後、前記第２基板ローダにより前記基板を排出させる第２排出工程と、
   をさらに備え、
   前記第２排出工程は、前記第１露光工程と同時に行われ、且つ、前記第１排出工程は、前記第２露光工程と同時に行われることを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
4. 前記第１基板ステージの前記第１待機位置から前記露光位置への移動は、前記第２基板ステージの前記露光位置から前記第２待機位置への移動と同期し、且つ
   前記第２基板ステージの前記第２待機位置から前記露光位置への移動は、前記第１基板ステージの前記露光位置から前記第１待機位置への移動と同期することを特徴とする請求項２または３に記載の露光方法。

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