JP4543913B2 - 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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Claims (9)
- マスクと外径が500mmよりも大きい感光性基板とを所定の方向に同期移動させて、マスクのパターンを投影光学系を介して前記感光性基板上に露光する露光装置において、
前記マスクと前記感光性基板とのうちの一方を保持して移動する第1ステージの位置を計測する第1位置計測手段と、
前記第1位置計測手段により計測された前記第1ステージの位置に基づいて、前記マスクと前記感光性基板とのうちの他方を保持して移動する第2ステージの目標位置を算出する目標位置算出手段と、
前記目標位置算出手段により算出された前記第2ステージの目標位置に基づいて、前記第2ステージの位置を調整する調整手段と、
前記調整手段により調整された前記第2ステージの位置を計測する第2位置計測手段と、
前記目標位置算出手段により算出された前記第2ステージの目標位置と、前記第2位置計測手段により計測された前記第2ステージの位置との差分を算出する差分算出手段と、
前記差分算出手段により算出された前記差分に基づいて、前記投影光学系が有する前記投影光学系による前記マスクのパターンの前記感光性基板上における投影位置を補正する補正手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第1ステージは、前記感光性基板を保持して移動し、
前記第2ステージは、前記マスクを保持して移動することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記補正手段は、前記投影光学系を構成する光学部材の少なくとも1つを用いて、前記投影位置を前記走査方向へシフトすることにより補正することを特徴とする請求項1または請求項2記載の露光装置。
- 前記補正手段は、前記投影光学系を構成する光学部材の少なくとも1つを用いて、前記投影位置を前記走査方向と交差する方向へシフトすることにより補正することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記補正手段は、前記投影光学系を構成する光学部材の少なくとも1つを用いて、前記投影位置をローテーションすることにより補正することを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記投影光学系は、前記走査方向の前方側に配置された第1投影光学ユニットと前記走査方向の後方側に配置された第2投影光学ユニットとを備え、
前記補正手段による補正量を計測する補正量計測手段と、
前記補正量計測手段により計測された前記補正量と前記差分算出手段により算出された前記差分との第1の差分を算出する第1の差分算出手段と、
前記第1ステージの位置を計測する第1位置再計測手段と、
前記第1位置再計測手段により計測された前記第1ステージの位置に基づいて、前記第2ステージの目標位置を算出する目標位置再算出手段と、
前記目標位置再算出手段により算出された前記第2ステージの目標位置に基づいて、前記第2ステージの位置を調整する再調整手段と、
前記再調整手段により調整された前記第2ステージの位置を計測する第2位置再計測手段と、
前記目標位置再算出手段により算出された前記第2ステージの目標位置と、前記第2位置再計測手段により計測された前記第2ステージの位置との第2の差分を算出する第2の差分算出手段と、
前記第1の差分再算出手段により算出された前記第1の差分及び前記第2の差分算出手段により算出された前記第2の差分に基づいて、前記第2投影光学ユニットが有する前記第2投影光学ユニットによる前記マスクのパターンの前記感光性基板上における投影位置を補正する再補正手段と、
を更に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記補正量計測手段は、前記第1投影光学ユニット及び前記第2投影光学ユニットが有する前記補正手段による前記補正量を計測することを特徴とする請求項6記載の露光装置。
- 前記第1投影光学ユニット及び前記第2投影光学ユニットは、少なくとも1つの部分投影光学系により構成されており、
前記補正手段は、前記部分投影光学系のそれぞれに備えられていることを特徴とする請求項6または請求項7記載の露光装置。 - 請求項1乃至請求項8の何れか一項に記載の露光装置を用いてマスクのパターンを外径が500mmよりも大きい感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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